JPH08201598A - 放射線像変換パネルとその製造方法 - Google Patents
放射線像変換パネルとその製造方法Info
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- JPH08201598A JPH08201598A JP899295A JP899295A JPH08201598A JP H08201598 A JPH08201598 A JP H08201598A JP 899295 A JP899295 A JP 899295A JP 899295 A JP899295 A JP 899295A JP H08201598 A JPH08201598 A JP H08201598A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 比較的低コストで大型のものも容易に得るこ
とができ、反射防止膜に汚れや傷が付いたとき反射防止
膜だけを更新することもできて、反射防止膜が励起光や
輝尽発光光の反射防止効果や透過性に優れて透明保護層
の光透過性を向上させ、環境変動やレーザ光に対する耐
久性にも優れると言う透明保護層表面に反射防止膜を有
する放射線像変換パネルの提供。 【構成】 支持体、輝尽性蛍光体を用いた蛍光体層、透
明保護層をこの順序で有する放射線像変換パネルにおい
て、透明保護層の表面に有機溶媒可溶性の反射防止膜が
形成されていて、該反射防止膜の表面層がフッ素樹脂か
ら成り、波長600〜900nmの範囲にある光の入射角０〜60
度での表面反射率と波長300〜500nmの範囲にある光の入
射角０〜60度での表面反射率が10％以下であることを特
徴とする放射線像変換パネル。
とができ、反射防止膜に汚れや傷が付いたとき反射防止
膜だけを更新することもできて、反射防止膜が励起光や
輝尽発光光の反射防止効果や透過性に優れて透明保護層
の光透過性を向上させ、環境変動やレーザ光に対する耐
久性にも優れると言う透明保護層表面に反射防止膜を有
する放射線像変換パネルの提供。 【構成】 支持体、輝尽性蛍光体を用いた蛍光体層、透
明保護層をこの順序で有する放射線像変換パネルにおい
て、透明保護層の表面に有機溶媒可溶性の反射防止膜が
形成されていて、該反射防止膜の表面層がフッ素樹脂か
ら成り、波長600〜900nmの範囲にある光の入射角０〜60
度での表面反射率と波長300〜500nmの範囲にある光の入
射角０〜60度での表面反射率が10％以下であることを特
徴とする放射線像変換パネル。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、輝尽性蛍光体を利用す
る放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネルと
その製造方法に関する。
る放射線像変換方法に用いられる放射線像変換パネルと
その製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】支持体、輝尽性蛍光体を用いた蛍光体
層、透明保護層をこの順序で有して、透明保護層の表面
に反射防止膜が形成されている放射線像変換パネルは、
特公平5-62719号公報によって知られている。その放射
線像変換パネルは、透明保護層の表面に真空蒸着やスパ
ッタリング等の方法によって無機弗化物や無機酸化物の
被膜を膜厚が放射線像変換パネルに蓄積記憶された放射
線像情報を輝尽発光光として取り出すための励起光の波
長λのn/4倍（ｎは奇数）となるように形成して反射防
止膜としたものである。
層、透明保護層をこの順序で有して、透明保護層の表面
に反射防止膜が形成されている放射線像変換パネルは、
特公平5-62719号公報によって知られている。その放射
線像変換パネルは、透明保護層の表面に真空蒸着やスパ
ッタリング等の方法によって無機弗化物や無機酸化物の
被膜を膜厚が放射線像変換パネルに蓄積記憶された放射
線像情報を輝尽発光光として取り出すための励起光の波
長λのn/4倍（ｎは奇数）となるように形成して反射防
止膜としたものである。
【０００３】従来の上述のような反射防止膜を有する放
射線像変換パネルは、反射防止膜形成のコストが高く付
き、しかも反射防止膜に汚れ等が付着したり傷が付いた
りすると取れないから、そのパネルは廃棄せざるを得な
いと言う問題がある。また、無機物の潮解性等の安定性
についての問題から屈折率の小さい無機物としてはMgF2
の1.38程度のものまでしか利用できず、そのため単層膜
では反射防止効果が小さいし、効果を上げるためには多
層膜化しなければならず、多層膜化すればコストが一層
高くなると言う問題もある。また、真空蒸着やスパッタ
リングで無機物の被膜を均一の厚さに形成するのが困難
であるから半切サイズなどの大面積化ができないし、さ
らに膜形成の際に膜の応力緩和がなされずクラックなど
の欠陥を発生させ、透明保護層の破壊まで引き起こすこ
とがあり得るから大面積化ができないと言う問題もあ
る。また、反射防止膜が吸水性等によって環境変動に対
する耐久性に乏しく、励起光のレーザ光に対する耐久性
も低くて剥離や白濁などが生じ易いと言う問題もある。
射線像変換パネルは、反射防止膜形成のコストが高く付
き、しかも反射防止膜に汚れ等が付着したり傷が付いた
りすると取れないから、そのパネルは廃棄せざるを得な
いと言う問題がある。また、無機物の潮解性等の安定性
についての問題から屈折率の小さい無機物としてはMgF2
の1.38程度のものまでしか利用できず、そのため単層膜
では反射防止効果が小さいし、効果を上げるためには多
層膜化しなければならず、多層膜化すればコストが一層
高くなると言う問題もある。また、真空蒸着やスパッタ
リングで無機物の被膜を均一の厚さに形成するのが困難
であるから半切サイズなどの大面積化ができないし、さ
らに膜形成の際に膜の応力緩和がなされずクラックなど
の欠陥を発生させ、透明保護層の破壊まで引き起こすこ
とがあり得るから大面積化ができないと言う問題もあ
る。また、反射防止膜が吸水性等によって環境変動に対
する耐久性に乏しく、励起光のレーザ光に対する耐久性
も低くて剥離や白濁などが生じ易いと言う問題もある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述のよう
な従来の反射防止膜を有する放射線像変換パネルの問題
を解消するためになされたものであり、比較的低コスト
で大型のものも容易に作成することができ、反射防止膜
に汚れや傷が付いたとき反射防止膜だけを更新すること
もできて、反射防止膜が励起光や輝尽発光光の反射防止
効果や透過性に優れて透明保護層の光透過性を向上させ
環境変動やレーザ光に対する耐久性にも優れる、保護層
表面に反射防止膜を有する放射線像変換パネルとその製
造方法の提供を目的とする。
な従来の反射防止膜を有する放射線像変換パネルの問題
を解消するためになされたものであり、比較的低コスト
で大型のものも容易に作成することができ、反射防止膜
に汚れや傷が付いたとき反射防止膜だけを更新すること
もできて、反射防止膜が励起光や輝尽発光光の反射防止
効果や透過性に優れて透明保護層の光透過性を向上させ
環境変動やレーザ光に対する耐久性にも優れる、保護層
表面に反射防止膜を有する放射線像変換パネルとその製
造方法の提供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、支持体、輝尽
性蛍光体を用いた蛍光体層、透明保護層をこの順序で有
する放射線像変換パネルにおいて、透明保護層の表面に
有機溶媒可溶性の反射防止膜が形成されていて、該反射
防止膜の表面層がフッ素樹脂から成り、波長600〜900nm
の範囲にある光の入射角０〜60度での表面反射率と波長
300〜500nmの範囲にある光の入射角０〜60度での表面反
射率が10％以下であることを特徴とする放射線像変換パ
ネル、及び、支持体、輝尽性蛍光体を用いた蛍光体層、
透明保護層をこの順序で有する放射線像変換パネルの製
造方法において、前記透明保護層の表面にフッ素樹脂の
有機溶媒溶液を塗布して乾燥し、波長600〜900nmの範囲
にある光の入射角０〜60度での表面反射率と波長300〜5
00nmの範囲にある光の入射角０〜60度での表面反射率が
10％以下であるフッ素樹脂表層を形成することを特徴と
する放射線像変換パネルの製造方法にあり、これらの構
成によって前記目的を達成する。
性蛍光体を用いた蛍光体層、透明保護層をこの順序で有
する放射線像変換パネルにおいて、透明保護層の表面に
有機溶媒可溶性の反射防止膜が形成されていて、該反射
防止膜の表面層がフッ素樹脂から成り、波長600〜900nm
の範囲にある光の入射角０〜60度での表面反射率と波長
300〜500nmの範囲にある光の入射角０〜60度での表面反
射率が10％以下であることを特徴とする放射線像変換パ
ネル、及び、支持体、輝尽性蛍光体を用いた蛍光体層、
透明保護層をこの順序で有する放射線像変換パネルの製
造方法において、前記透明保護層の表面にフッ素樹脂の
有機溶媒溶液を塗布して乾燥し、波長600〜900nmの範囲
にある光の入射角０〜60度での表面反射率と波長300〜5
00nmの範囲にある光の入射角０〜60度での表面反射率が
10％以下であるフッ素樹脂表層を形成することを特徴と
する放射線像変換パネルの製造方法にあり、これらの構
成によって前記目的を達成する。
【０００６】以下、本発明を図面を参照して説明する。
【０００７】図１及び図２はそれぞれ本発明の放射線像
変換パネルの例を示す断面図であり、図において、１は
支持体、２は放射線エネルギを蓄積記録して波長600〜9
00nmの励起光を入射されると波長300〜500nmの輝尽発光
光を放出する輝尽性蛍光体を用いた蛍光体層、３は透明
保護層、４は波長600〜900nmの範囲にある光の入射角０
〜60度での表面反射率と波長300〜500nmの範囲にある光
の入射角０〜60度での表面反射率が10％以下であるフッ
素樹脂表層を有する反射防止膜、５は蛍光体層２の側面
封鎖体である。このような放射線像変換パネルは、以下
述べるような方法によって製造することができる。
変換パネルの例を示す断面図であり、図において、１は
支持体、２は放射線エネルギを蓄積記録して波長600〜9
00nmの励起光を入射されると波長300〜500nmの輝尽発光
光を放出する輝尽性蛍光体を用いた蛍光体層、３は透明
保護層、４は波長600〜900nmの範囲にある光の入射角０
〜60度での表面反射率と波長300〜500nmの範囲にある光
の入射角０〜60度での表面反射率が10％以下であるフッ
素樹脂表層を有する反射防止膜、５は蛍光体層２の側面
封鎖体である。このような放射線像変換パネルは、以下
述べるような方法によって製造することができる。
【０００８】支持体１には従来の放射線像変換パネルの
支持体と同様の材料から成るものを用いることができ
る。そのような材料の例としては、セルロースアセテー
ト、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
アミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカーボネー
ト等のプラスチックフィルムやシート、アルミニウム、
アルミニウム合金などの金属シート、通常の紙、バライ
タ紙、レジンコート紙、二酸化チタンなどの顔料を含有
するピグメント紙、ポリビニルアルコール等をサイジン
グした紙などを挙げることができる。しかし、蛍光体層
２が結合剤による輝尽性蛍光体粒子の分散保持層から成
るものでは、支持体１が結合剤の溶媒に溶解しないもの
であることが好ましく、また反射防止膜４の更新を容易
になし得るようにする上では、反射防止膜４の溶媒に不
溶で透明保護層３にガラスを用いることを可能にするセ
ラミックスシートや金属シート若しくはプラスチックシ
ートから成る剛性の支持体１が好ましい。
支持体と同様の材料から成るものを用いることができ
る。そのような材料の例としては、セルロースアセテー
ト、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
アミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカーボネー
ト等のプラスチックフィルムやシート、アルミニウム、
アルミニウム合金などの金属シート、通常の紙、バライ
タ紙、レジンコート紙、二酸化チタンなどの顔料を含有
するピグメント紙、ポリビニルアルコール等をサイジン
グした紙などを挙げることができる。しかし、蛍光体層
２が結合剤による輝尽性蛍光体粒子の分散保持層から成
るものでは、支持体１が結合剤の溶媒に溶解しないもの
であることが好ましく、また反射防止膜４の更新を容易
になし得るようにする上では、反射防止膜４の溶媒に不
溶で透明保護層３にガラスを用いることを可能にするセ
ラミックスシートや金属シート若しくはプラスチックシ
ートから成る剛性の支持体１が好ましい。
【０００９】そして支持体１は、支持体１と蛍光体層２
の結合を強化するため、或いは放射線像変換パネルとし
ての感度若しくは画質の鮮鋭度や粒状性を向上させるた
めに、蛍光体層２を設ける側の表面にゼラチンなどの高
分子物質を塗布して接着性付与層としたり、或いは二酸
化チタンなどの光反射性物質からなる光反射層若しくは
カーボンブラック等の光吸収性物質からなる光吸収層を
設けるようにしてもよい。プラスチックから成る支持体
１では二酸化チタンやカーボンブラックが練り込まれて
いてもよい。更に、画像の鮮鋭度を向上させるために、
蛍光体層２の支持体１側の面が微細な凹凸面となるよう
に支持体１側に微細な凹凸を形成するようにしてもよ
い。
の結合を強化するため、或いは放射線像変換パネルとし
ての感度若しくは画質の鮮鋭度や粒状性を向上させるた
めに、蛍光体層２を設ける側の表面にゼラチンなどの高
分子物質を塗布して接着性付与層としたり、或いは二酸
化チタンなどの光反射性物質からなる光反射層若しくは
カーボンブラック等の光吸収性物質からなる光吸収層を
設けるようにしてもよい。プラスチックから成る支持体
１では二酸化チタンやカーボンブラックが練り込まれて
いてもよい。更に、画像の鮮鋭度を向上させるために、
蛍光体層２の支持体１側の面が微細な凹凸面となるよう
に支持体１側に微細な凹凸を形成するようにしてもよ
い。
【００１０】蛍光体層２は、輝尽性蛍光体粒子が結合剤
の溶媒溶液に分散した蛍光体分散液を上述のような支持
体１の表面に塗布して乾燥硬化させる方法、或いは輝尽
性蛍光体又はその組成物を真空蒸着やスパッタリング等
の気相堆積法により上述のような支持体１の表面に蒸着
堆積させる方法によって形成される。そして輝尽性蛍光
体の粒子或いは組成物としては、波長600〜900nmの励起
光により波長300〜500nmの輝尽発光光を放出する下記の
ような蛍光体の粒子又は組成物を用いることができる。
の溶媒溶液に分散した蛍光体分散液を上述のような支持
体１の表面に塗布して乾燥硬化させる方法、或いは輝尽
性蛍光体又はその組成物を真空蒸着やスパッタリング等
の気相堆積法により上述のような支持体１の表面に蒸着
堆積させる方法によって形成される。そして輝尽性蛍光
体の粒子或いは組成物としては、波長600〜900nmの励起
光により波長300〜500nmの輝尽発光光を放出する下記の
ような蛍光体の粒子又は組成物を用いることができる。
【００１１】米国特許第3,859,527号明細書に記載され
ているSrS：Ce、Sm、SrS：Eu、Sm、ThO2：Er及びLa2O
2S：Eu、Sm、特開昭55-12142号公報に記載されているZn
S：Cu、Pb、BaO・xAl2O3：Eu（但し、0.8＜ｘ≦10）及
びMIIO・xSiO2：Ａ（但し、ＭIIはMg、Ca、Sr、Zn、Cd
又はBaであり、ＡはCe、Tb、Eu、Tm、Pb、Tl、Bi又はMn
であり、ｘは0.5≦ｘ≦2.5である）、特開昭55-12143号
公報に記載されている（Ba1-x-y、Mgx、Cay）FX：aEu2+
（但し、ＸはCl及びBrのうちの少なくとも一つであり、
ｘ及びｙは、０＜ｘ＋ｙ≦0.6、かつｘｙ≠０であり、
ａは10-6≦ａ≦５×10-2である）、特開昭55-12144号公
報に記載されているLnOX：xA（但し、LnはLa、Ｙ、Gd及
びLuのうちの少なくとも一つ、ＸはCl及びBrのうちの少
なくとも一つ、ＡはCe及びTbのうちの少なくとも一つ、
そしてｘは０＜ｘ＜0.1である）、特開昭55-12145号公
報に記載されてる（Ba1-x、Ｍ2+ x）FX：yA（但し、Ｍ2+
はMg、Ca、Sr、Zn及びCdのうちの少なくとも一つ、Ｘは
Cl、Br及びＩのうちの少なくとも一つ、ＡはEu、Tb、C
e、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb及びErのうち少なくとも一
つ、そしてｘは０≦ｘ≦0.6、ｙは０≦ｙ≦0.2であ
る）、特開昭55-160078号公報に記載されているMIIFX・
xA：yLn（但し、ＭIIはBa、Ca、Sr、Mg、Zn及びCdのう
ちの少なくとも一種、ＡはBeO、MgO、CaO、SrO、BaO、Z
nO、Al2O3、Y2O3、La2O3、In2O3、SiO2、TlO2、ZrO2、G
eO2、SnO2、Nb2O5、Ta2O5及びThO2のうちの少なくとも
一種、LnはEu、Tb、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、
Sm及びGdのうちの少なくとも一種、ＸはCl、Br及びＩの
うちの少なくとも一種であり、ｘ及びｙはそれぞれ５×
10-5≦ｘ≦0.5及び０＜ｙ≦0.2である）の組成式で表さ
れる蛍光体、特開昭56-116777号公報に記載されている
（Ba1-x、MIIx）F2・aBaX2：yEu、zA（但し、ＭIIはベ
リリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウ
ム、亜鉛及びカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは
塩素、臭素及び沃素のうちの少なくとも一種、Ａはジル
コニウム及びスカンジウムのうちの少なくとも一種であ
り、ａ、ｘ、ｙ及びｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、０≦
ｘ≦１、10-6≦ｙ≦２×10-1及び０＜ｚ≦10-2である）
の組成式で表される蛍光体、特開昭57-23673号公報に記
載されている（Ba1-x、MIIx）F2・aBaX2：yEu、zB（但
し、ＭIIはベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ス
トロンチウム、亜鉛及びカドミウムのうちの少なくとも
一種、Ｘは塩素、臭素及び沃素のうちの少なくとも一種
であり、ａ、ｘ、ｙ及びｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、
０≦ｘ≦１、10-6≦ｙ≦２×10-1及び０＜ｚ≦２×10-1
である）の組成式で表される蛍光体、特開昭57-23675号
公報に記載されている（Ba1-x、MIIx）F2・aBaX2：yE
u、zA（但し、ＭIIはベリリウム、マグネシウム、カル
シウム、ストロンチウム、亜鉛及びカドミウムのうちの
少なくとも一種、Ｘは塩素、臭素及び沃素のうちの少な
くとも一種、Ａは砒素及び硅素のうちの少なくとも一種
であり、ａ、ｘ、ｙ及びｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、
０≦ｘ≦１、10-6≦ｙ≦２×10-1及び０＜ｚ≦５×101
である）の組成式で表される蛍光体、特開昭58-69281号
公報に記載されているMOX：xCe（但し、ＭはPr、Nd、P
m、Sm、Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb及びBiからなる群
より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、ＸはCl
及びBrのうちの何れか一方或いはその両方であり、ｘは
０＜ｘ＜0.1である）の組成式で表される蛍光体、特開
昭58-206678号公報に記載されているBa1-xMx/2Lx/2FX：
yEu2+（但し、ＭはLi、Na、Ｋ、Rb及びCsからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属を表し、Ｌは
Sc、Ｙ、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Gd、Tb、Dy、Ho、E
r、Tm、Yb、Lu、Al、Ga、In及びTlからなる群より選ば
れる少なくとも一種の三価金属を表し、ＸはCl、Br及び
Ｉからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンを
表し、そしてｘは10-2≦ｘ≦0.5、ｙは０＜ｙ≦0.1であ
る）の組成式で表される蛍光体、特開昭59-27980号公報
に記載されているBaFX・xA：yEu2+（但し、ＸはCl、Br
及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲ
ンであり、Ａはテトラフルオロホウ酸化合物の焼成物で
あり、そしてｘは10-6≦ｘ≦0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1であ
る）の組成式で表される蛍光体、特開昭59-47289号公報
に記載されているBaFX・xA：yEu2+（但し、ＸはCl、Br
及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲ
ンであり、Ａはヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフルオロ
チタン酸及びヘキサフルオロジルコニウム酸の一価若し
くは二価金属の塩からなるヘキサフルオロ化合物群より
選ばれる少なくとも一種の化合物の焼成物であり、そし
てｘは10-6≦ｘ≦0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1である）の組成
式で表される蛍光体、特開昭59-56479号公報に記載され
ているBaFX・xNaX′：aEu2+（但し、Ｘ及びＸ′は、そ
れぞれCl、Br及びＩのうちの少なくとも一種であり、ｘ
及びａはそれぞれ０＜ｘ≦２及び０＜ａ≦0.2である）
の組成式で表される蛍光体、特開昭59-56480号公報に記
載されているMIIFX・xNaX′：yEu2+：zA（但し、Ｍ
IIは、Ba、Sr及びCaからなる群より選ばれる少なくとも
一種のアルカリ土類金属であり、Ｘ及びＸ′はそれぞれ
Cl、Br及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンであり、ＡはＶ、Cr、Mn、Fe、Co及びNiより選
ばれる少なくとも一種の遷移金属であり、そしてｘは０
＜ｘ≦２、ｙは０＜ｙ≦0.2及びｚは０＜ｚ≦10-2であ
る）の組成式で表される蛍光体、特開昭59-75200号公報
に記載されているMIIFX・aMIX′・bMIIX″2・cM
IIIX′′′3・xA：yEu2+（但し、ＭIIはBa、Sr及びCaか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金
属であり、ＭIはLi、Na、Ｋ、Rb及びCsからなる群より
選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、ＭIIは
Be及びMgからなる群より選ばれる少なくとも一種の二価
金属であり、ＭIIIはAl、Ga、In及びTlからなる群より
選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、Ａは金属酸
化物であり、ＸはCl、Br及びＩからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンであり、Ｘ′、Ｘ″及び
Ｘ′′′は、Ｆ、Cl、Br及びＩからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンであり、そしてａは０≦ａ≦
２、ｂは０≦ｂ≦10-2、ｃは０≦ｃ≦10-2、かつａ＋ｂ
＋ｃ≧10-6であり、ｘは０＜ｘ＜0.5、ｙは０＜ｙ≦0.2
である）の組成式で表される蛍光体、一般式MIIX2・aM
IIX′2：xEu2+（但し、ＭIIはBa、Sr及びCaからなる群
より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であ
り、Ｘ及びＸ′はCl、Br及びＩからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンであって、且つＸ≠Ｘ′であ
り、そしてａは0.1≦ａ≦10.0、ｘは０＜ｘ＜0.2であ
る）で表される蛍光体、等が挙げられる。
ているSrS：Ce、Sm、SrS：Eu、Sm、ThO2：Er及びLa2O
2S：Eu、Sm、特開昭55-12142号公報に記載されているZn
S：Cu、Pb、BaO・xAl2O3：Eu（但し、0.8＜ｘ≦10）及
びMIIO・xSiO2：Ａ（但し、ＭIIはMg、Ca、Sr、Zn、Cd
又はBaであり、ＡはCe、Tb、Eu、Tm、Pb、Tl、Bi又はMn
であり、ｘは0.5≦ｘ≦2.5である）、特開昭55-12143号
公報に記載されている（Ba1-x-y、Mgx、Cay）FX：aEu2+
（但し、ＸはCl及びBrのうちの少なくとも一つであり、
ｘ及びｙは、０＜ｘ＋ｙ≦0.6、かつｘｙ≠０であり、
ａは10-6≦ａ≦５×10-2である）、特開昭55-12144号公
報に記載されているLnOX：xA（但し、LnはLa、Ｙ、Gd及
びLuのうちの少なくとも一つ、ＸはCl及びBrのうちの少
なくとも一つ、ＡはCe及びTbのうちの少なくとも一つ、
そしてｘは０＜ｘ＜0.1である）、特開昭55-12145号公
報に記載されてる（Ba1-x、Ｍ2+ x）FX：yA（但し、Ｍ2+
はMg、Ca、Sr、Zn及びCdのうちの少なくとも一つ、Ｘは
Cl、Br及びＩのうちの少なくとも一つ、ＡはEu、Tb、C
e、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb及びErのうち少なくとも一
つ、そしてｘは０≦ｘ≦0.6、ｙは０≦ｙ≦0.2であ
る）、特開昭55-160078号公報に記載されているMIIFX・
xA：yLn（但し、ＭIIはBa、Ca、Sr、Mg、Zn及びCdのう
ちの少なくとも一種、ＡはBeO、MgO、CaO、SrO、BaO、Z
nO、Al2O3、Y2O3、La2O3、In2O3、SiO2、TlO2、ZrO2、G
eO2、SnO2、Nb2O5、Ta2O5及びThO2のうちの少なくとも
一種、LnはEu、Tb、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、
Sm及びGdのうちの少なくとも一種、ＸはCl、Br及びＩの
うちの少なくとも一種であり、ｘ及びｙはそれぞれ５×
10-5≦ｘ≦0.5及び０＜ｙ≦0.2である）の組成式で表さ
れる蛍光体、特開昭56-116777号公報に記載されている
（Ba1-x、MIIx）F2・aBaX2：yEu、zA（但し、ＭIIはベ
リリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウ
ム、亜鉛及びカドミウムのうちの少なくとも一種、Ｘは
塩素、臭素及び沃素のうちの少なくとも一種、Ａはジル
コニウム及びスカンジウムのうちの少なくとも一種であ
り、ａ、ｘ、ｙ及びｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、０≦
ｘ≦１、10-6≦ｙ≦２×10-1及び０＜ｚ≦10-2である）
の組成式で表される蛍光体、特開昭57-23673号公報に記
載されている（Ba1-x、MIIx）F2・aBaX2：yEu、zB（但
し、ＭIIはベリリウム、マグネシウム、カルシウム、ス
トロンチウム、亜鉛及びカドミウムのうちの少なくとも
一種、Ｘは塩素、臭素及び沃素のうちの少なくとも一種
であり、ａ、ｘ、ｙ及びｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、
０≦ｘ≦１、10-6≦ｙ≦２×10-1及び０＜ｚ≦２×10-1
である）の組成式で表される蛍光体、特開昭57-23675号
公報に記載されている（Ba1-x、MIIx）F2・aBaX2：yE
u、zA（但し、ＭIIはベリリウム、マグネシウム、カル
シウム、ストロンチウム、亜鉛及びカドミウムのうちの
少なくとも一種、Ｘは塩素、臭素及び沃素のうちの少な
くとも一種、Ａは砒素及び硅素のうちの少なくとも一種
であり、ａ、ｘ、ｙ及びｚはそれぞれ0.5≦ａ≦1.25、
０≦ｘ≦１、10-6≦ｙ≦２×10-1及び０＜ｚ≦５×101
である）の組成式で表される蛍光体、特開昭58-69281号
公報に記載されているMOX：xCe（但し、ＭはPr、Nd、P
m、Sm、Eu、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb及びBiからなる群
より選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、ＸはCl
及びBrのうちの何れか一方或いはその両方であり、ｘは
０＜ｘ＜0.1である）の組成式で表される蛍光体、特開
昭58-206678号公報に記載されているBa1-xMx/2Lx/2FX：
yEu2+（但し、ＭはLi、Na、Ｋ、Rb及びCsからなる群よ
り選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属を表し、Ｌは
Sc、Ｙ、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Gd、Tb、Dy、Ho、E
r、Tm、Yb、Lu、Al、Ga、In及びTlからなる群より選ば
れる少なくとも一種の三価金属を表し、ＸはCl、Br及び
Ｉからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンを
表し、そしてｘは10-2≦ｘ≦0.5、ｙは０＜ｙ≦0.1であ
る）の組成式で表される蛍光体、特開昭59-27980号公報
に記載されているBaFX・xA：yEu2+（但し、ＸはCl、Br
及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲ
ンであり、Ａはテトラフルオロホウ酸化合物の焼成物で
あり、そしてｘは10-6≦ｘ≦0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1であ
る）の組成式で表される蛍光体、特開昭59-47289号公報
に記載されているBaFX・xA：yEu2+（但し、ＸはCl、Br
及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲ
ンであり、Ａはヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフルオロ
チタン酸及びヘキサフルオロジルコニウム酸の一価若し
くは二価金属の塩からなるヘキサフルオロ化合物群より
選ばれる少なくとも一種の化合物の焼成物であり、そし
てｘは10-6≦ｘ≦0.1、ｙは０＜ｙ≦0.1である）の組成
式で表される蛍光体、特開昭59-56479号公報に記載され
ているBaFX・xNaX′：aEu2+（但し、Ｘ及びＸ′は、そ
れぞれCl、Br及びＩのうちの少なくとも一種であり、ｘ
及びａはそれぞれ０＜ｘ≦２及び０＜ａ≦0.2である）
の組成式で表される蛍光体、特開昭59-56480号公報に記
載されているMIIFX・xNaX′：yEu2+：zA（但し、Ｍ
IIは、Ba、Sr及びCaからなる群より選ばれる少なくとも
一種のアルカリ土類金属であり、Ｘ及びＸ′はそれぞれ
Cl、Br及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種の
ハロゲンであり、ＡはＶ、Cr、Mn、Fe、Co及びNiより選
ばれる少なくとも一種の遷移金属であり、そしてｘは０
＜ｘ≦２、ｙは０＜ｙ≦0.2及びｚは０＜ｚ≦10-2であ
る）の組成式で表される蛍光体、特開昭59-75200号公報
に記載されているMIIFX・aMIX′・bMIIX″2・cM
IIIX′′′3・xA：yEu2+（但し、ＭIIはBa、Sr及びCaか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金
属であり、ＭIはLi、Na、Ｋ、Rb及びCsからなる群より
選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり、ＭIIは
Be及びMgからなる群より選ばれる少なくとも一種の二価
金属であり、ＭIIIはAl、Ga、In及びTlからなる群より
選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、Ａは金属酸
化物であり、ＸはCl、Br及びＩからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンであり、Ｘ′、Ｘ″及び
Ｘ′′′は、Ｆ、Cl、Br及びＩからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンであり、そしてａは０≦ａ≦
２、ｂは０≦ｂ≦10-2、ｃは０≦ｃ≦10-2、かつａ＋ｂ
＋ｃ≧10-6であり、ｘは０＜ｘ＜0.5、ｙは０＜ｙ≦0.2
である）の組成式で表される蛍光体、一般式MIIX2・aM
IIX′2：xEu2+（但し、ＭIIはBa、Sr及びCaからなる群
より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であ
り、Ｘ及びＸ′はCl、Br及びＩからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンであって、且つＸ≠Ｘ′であ
り、そしてａは0.1≦ａ≦10.0、ｘは０＜ｘ＜0.2であ
る）で表される蛍光体、等が挙げられる。
【００１２】尚、上記一般式MIIX2・aMIIX′2：xEu2+で
表される蛍光体には、bMIX″（但し、ＭIはRb及びCsか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属で
あり、Ｘ″はＦ、Cl、Br及びＩからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂは０＜ｂ≦
10.0である）：cKX″・dMgX′′′2・eMIIIX′′′′3
（但し、ＭIIIはSc、Ｙ、La、Gd及びLuからなる群より
選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、Ｘ″、
Ｘ′′′及びＸ′′′′は何れもＦ、Cl、Br及びＩから
なる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、
そしてｃ、ｄ及びｅはそれぞれ０≦ｃ≦2.0、０≦ｄ≦
2.0、０≦ｅ≦2.0であって、かつ２×10-5≦ｃ＋ｄ＋ｅ
である）、yB（但し、ｙは２×10-4≦ｙ≦２×10-1であ
る）、及びfA（但し、ＡはSiO2及びP2O5からなる群より
選ばれる少なくとも一種の酸化物であり、そしてｆは10
-4≦ｆ≦２×10-1である）で示される添加物がMIIX2・a
MIIX′2１モル当たり以下の割合で含まれていてもよ
い。
表される蛍光体には、bMIX″（但し、ＭIはRb及びCsか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属で
あり、Ｘ″はＦ、Cl、Br及びＩからなる群より選ばれる
少なくとも一種のハロゲンであり、そしてｂは０＜ｂ≦
10.0である）：cKX″・dMgX′′′2・eMIIIX′′′′3
（但し、ＭIIIはSc、Ｙ、La、Gd及びLuからなる群より
選ばれる少なくとも一種の三価金属であり、Ｘ″、
Ｘ′′′及びＸ′′′′は何れもＦ、Cl、Br及びＩから
なる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり、
そしてｃ、ｄ及びｅはそれぞれ０≦ｃ≦2.0、０≦ｄ≦
2.0、０≦ｅ≦2.0であって、かつ２×10-5≦ｃ＋ｄ＋ｅ
である）、yB（但し、ｙは２×10-4≦ｙ≦２×10-1であ
る）、及びfA（但し、ＡはSiO2及びP2O5からなる群より
選ばれる少なくとも一種の酸化物であり、そしてｆは10
-4≦ｆ≦２×10-1である）で示される添加物がMIIX2・a
MIIX′2１モル当たり以下の割合で含まれていてもよ
い。
【００１３】以上の蛍光体のうち、二価ユーロビウム賦
活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体、二価ユ
ーロビウム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体
及び希土類元素賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体
は高輝度の輝尽発光を示すので特に好ましい。しかし、
本発明に用いられる輝尽性蛍光体は上述の蛍光体に限ら
れるものではなく、放射線を照射した後に波長600〜900
nmの励起光を照射すると波長300〜500nmの輝尽発光光を
放出する蛍光体であればいかなるものであってもよい。
活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体、二価ユ
ーロビウム賦活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体
及び希土類元素賦活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体
は高輝度の輝尽発光を示すので特に好ましい。しかし、
本発明に用いられる輝尽性蛍光体は上述の蛍光体に限ら
れるものではなく、放射線を照射した後に波長600〜900
nmの励起光を照射すると波長300〜500nmの輝尽発光光を
放出する蛍光体であればいかなるものであってもよい。
【００１４】分散タイプの蛍光体層２の結合剤の例とし
ては、ゼラチン等の蛋白質、デキストラン等のポリサッ
カライド又はアラビアゴムのような天然高分子物質、及
びポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニトロセル
ロース、エチルセルロース、塩化ビニリデン・塩化ビニ
ルコポリマー、ポリアルキル(メタ)アクリレート、塩化
ビニル・酢酸ビニルコポリマー、ポリウレタン、セルロ
ースアセテートブチレート、ポリビニルアルコール、線
状ポリエステル等のような合成高分子物質等により代表
される結合剤を挙げることができ、これらの結合剤が架
橋剤によって架橋されていてもよい。このような結合剤
のなかで好ましいのは、支持体１に不作用の溶媒を用い
ることができる結合剤や反射防止膜４の溶媒に不溶の結
合剤である。
ては、ゼラチン等の蛋白質、デキストラン等のポリサッ
カライド又はアラビアゴムのような天然高分子物質、及
びポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニトロセル
ロース、エチルセルロース、塩化ビニリデン・塩化ビニ
ルコポリマー、ポリアルキル(メタ)アクリレート、塩化
ビニル・酢酸ビニルコポリマー、ポリウレタン、セルロ
ースアセテートブチレート、ポリビニルアルコール、線
状ポリエステル等のような合成高分子物質等により代表
される結合剤を挙げることができ、これらの結合剤が架
橋剤によって架橋されていてもよい。このような結合剤
のなかで好ましいのは、支持体１に不作用の溶媒を用い
ることができる結合剤や反射防止膜４の溶媒に不溶の結
合剤である。
【００１５】上述のような結合剤の溶媒としては、メタ
ノール、エタノール、n-プロパノール、n-ブタノール等
の低級アルコール；メチレンクロライド、エチレンクロ
ライド等の塩素原子含有炭化水素；アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン；酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルとの低級脂肪酸と低級
アルコールとのエステル；ジオキサン、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル等のエーテル；これらの混合物を挙げること
ができる。そこで、支持体１にプラスチックシートを用
いたときは、支持体１に不作用の溶媒とそれに応じた結
合剤を用いることが好ましい。
ノール、エタノール、n-プロパノール、n-ブタノール等
の低級アルコール；メチレンクロライド、エチレンクロ
ライド等の塩素原子含有炭化水素；アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン；酢酸
メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルとの低級脂肪酸と低級
アルコールとのエステル；ジオキサン、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチ
ルエーテル等のエーテル；これらの混合物を挙げること
ができる。そこで、支持体１にプラスチックシートを用
いたときは、支持体１に不作用の溶媒とそれに応じた結
合剤を用いることが好ましい。
【００１６】結合剤と輝尽性蛍光体との混合比は、目的
とする放射線像変換パネルの特性、蛍光体の種類などに
よって異なるが、一般には１：１乃至１：100（重量
比）の範囲から選ばれ、そして特に１：８乃至１：40
（重量比）の範囲から選ぶことが好ましい。そして、溶
媒により蛍光体を分散した結合剤溶液の塗布液を調製す
るが、塗布液には蛍光体粒子の分散性を向上させるため
の分散剤、蛍光体層２中の結合剤と蛍光体粒子の結合力
を向上させるための可塑剤等種々の添加剤を混合しても
よい。用いられる分散剤の例としては、フタル酸、ステ
アリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤などを挙げる
ことができる。又可塑剤の例としては、燐酸トリフェニ
ル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフェニル等の燐酸エステ
ル；フタル酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチル等の
フタル酸エステル；グリコール酸エチルフタリルエチ
ル、グリコール酸ブチルフタリルブチル等のグリコール
酸エステル；そして、トリエチレングリコールとアジピ
ン酸とのポリエステル、ジエチレングリコールとコハク
酸とのポリエステル等のポリエチレングリコールと脂肪
族二塩基酸とのポリエステルなどを挙げることができ
る。
とする放射線像変換パネルの特性、蛍光体の種類などに
よって異なるが、一般には１：１乃至１：100（重量
比）の範囲から選ばれ、そして特に１：８乃至１：40
（重量比）の範囲から選ぶことが好ましい。そして、溶
媒により蛍光体を分散した結合剤溶液の塗布液を調製す
るが、塗布液には蛍光体粒子の分散性を向上させるため
の分散剤、蛍光体層２中の結合剤と蛍光体粒子の結合力
を向上させるための可塑剤等種々の添加剤を混合しても
よい。用いられる分散剤の例としては、フタル酸、ステ
アリン酸、カプロン酸、親油性界面活性剤などを挙げる
ことができる。又可塑剤の例としては、燐酸トリフェニ
ル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフェニル等の燐酸エステ
ル；フタル酸ジエチル、フタル酸ジメトキシエチル等の
フタル酸エステル；グリコール酸エチルフタリルエチ
ル、グリコール酸ブチルフタリルブチル等のグリコール
酸エステル；そして、トリエチレングリコールとアジピ
ン酸とのポリエステル、ジエチレングリコールとコハク
酸とのポリエステル等のポリエチレングリコールと脂肪
族二塩基酸とのポリエステルなどを挙げることができ
る。
【００１７】上記のようにして調製された蛍光体と結合
剤を含有する塗布液を、支持体１の表面に均一に塗布す
ることにより塗膜を形成する。この塗布は、通常の塗布
手段例えば、ドクターブレード、ロールコーター、ナイ
フコーター等を用いることにより行うことができる。
剤を含有する塗布液を、支持体１の表面に均一に塗布す
ることにより塗膜を形成する。この塗布は、通常の塗布
手段例えば、ドクターブレード、ロールコーター、ナイ
フコーター等を用いることにより行うことができる。
【００１８】次いで、形成された塗膜を徐々に加熱する
ことにより乾燥して蛍光体層２とする。蛍光体層２の層
厚は、目的とする放射線変換パネルの特性、蛍光体の種
類、結合剤と蛍光体との混合比などによって異なるが、
通常は20μm乃至１mmの範囲とし、好ましくは50乃至500
μmの範囲とする。
ことにより乾燥して蛍光体層２とする。蛍光体層２の層
厚は、目的とする放射線変換パネルの特性、蛍光体の種
類、結合剤と蛍光体との混合比などによって異なるが、
通常は20μm乃至１mmの範囲とし、好ましくは50乃至500
μmの範囲とする。
【００１９】尚、分散タイプの蛍光体層２は必ずしも上
記のように支持体１上に塗布液を直接塗布して形成する
必要はなく、例えば別にガラス板、金属板、プラスチッ
クシート等のシート上に塗布液を塗布し乾燥することに
より蛍光体層２を形成した後、これを支持体１上に押圧
するか、或いは接着剤を用いるなどして支持体１と蛍光
体層２とを接合してもよい。
記のように支持体１上に塗布液を直接塗布して形成する
必要はなく、例えば別にガラス板、金属板、プラスチッ
クシート等のシート上に塗布液を塗布し乾燥することに
より蛍光体層２を形成した後、これを支持体１上に押圧
するか、或いは接着剤を用いるなどして支持体１と蛍光
体層２とを接合してもよい。
【００２０】蒸着堆積タイプの蛍光体層２は、10-5Toll
以上の真空槽内で蒸発皿に前述のような蛍光体を瞬時蒸
発量ずつ供給しながら支持体１上に蒸着堆積させるか、
蛍光体の組成物を沸点によって蒸発皿を分け組成割合に
応じた蒸発量で蒸発させることにより支持体１上に蛍光
体として蒸着堆積させる従来公知の真空蒸着法や、10-5
Toll以下の低圧ガス雰囲気中で前述のような蛍光体をタ
ーゲットとしてプラズマ流を当て支持体１上に蒸着堆積
させる従来公知のスパッタリング法等によって形成され
る。この蛍光体層２は、層厚方向に結晶構造が成長して
いるから、分散タイプの蛍光体層２に比較すると画像の
鮮鋭性が優れ、又結合剤を含まないから同じ層厚で比較
して感度も優れ、感度を同様にすれば一層画像の鮮鋭性
が向上する。層厚は感度と鮮鋭性のバランスの点から50
乃至500μmの範囲が好ましい。また支持体１に、蛍光体
層２側の表面が蒸着堆積する蛍光体層２を微細な柱状蛍
光体の並立から成る層とする溝で小面積の分布面にされ
た支持体１を用いると、画像の鮮鋭性は一層向上する。
以上の真空槽内で蒸発皿に前述のような蛍光体を瞬時蒸
発量ずつ供給しながら支持体１上に蒸着堆積させるか、
蛍光体の組成物を沸点によって蒸発皿を分け組成割合に
応じた蒸発量で蒸発させることにより支持体１上に蛍光
体として蒸着堆積させる従来公知の真空蒸着法や、10-5
Toll以下の低圧ガス雰囲気中で前述のような蛍光体をタ
ーゲットとしてプラズマ流を当て支持体１上に蒸着堆積
させる従来公知のスパッタリング法等によって形成され
る。この蛍光体層２は、層厚方向に結晶構造が成長して
いるから、分散タイプの蛍光体層２に比較すると画像の
鮮鋭性が優れ、又結合剤を含まないから同じ層厚で比較
して感度も優れ、感度を同様にすれば一層画像の鮮鋭性
が向上する。層厚は感度と鮮鋭性のバランスの点から50
乃至500μmの範囲が好ましい。また支持体１に、蛍光体
層２側の表面が蒸着堆積する蛍光体層２を微細な柱状蛍
光体の並立から成る層とする溝で小面積の分布面にされ
た支持体１を用いると、画像の鮮鋭性は一層向上する。
【００２１】尚、支持体１上に形成された蛍光体層２の
上面は、必要に応じて研摩等により平面に加工する。支
持体１と共に蛍光体層２を物理的及び化学的に保護する
透明保護層３には、従来の放射線画像変換パネルの保護
層と同様に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド、ポリメチルメタ
クリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマ
ール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル
・酢酸ビニルコポリマー等のプラスチックフィルムやプ
ラスチックシート、或いは図２の例では上記ポリマーの
適当な溶媒による溶液を蛍光体層２上に塗布して乾燥し
た塗膜も用いることができるが、不透湿性に優れると共
に透明保護層３上の反射防止膜４の形成及び更新が透明
保護層３や支持体１等他の構成部材を損傷させることな
く容易に行い得る上で、ガラスシートを用いることが好
ましく、特に強度に優れたパイレックスガラスシートを
用いるのが好ましい。そして透明保護層３の厚さは、透
明保護層３がプラスチックフィルムや塗膜の場合は励起
光や輝尽発光光の透過性を重視してグレアを防止するよ
うに数10μm以下にもできるが、ガラスの場合は透明性
が高くてグレアが生じにくい反面、割れ易いので取り扱
い性、強度を重視して１〜1.75mm程度とするのが好まし
い。
上面は、必要に応じて研摩等により平面に加工する。支
持体１と共に蛍光体層２を物理的及び化学的に保護する
透明保護層３には、従来の放射線画像変換パネルの保護
層と同様に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ン、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド、ポリメチルメタ
クリレート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマ
ール、ポリカーボネート、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル
・酢酸ビニルコポリマー等のプラスチックフィルムやプ
ラスチックシート、或いは図２の例では上記ポリマーの
適当な溶媒による溶液を蛍光体層２上に塗布して乾燥し
た塗膜も用いることができるが、不透湿性に優れると共
に透明保護層３上の反射防止膜４の形成及び更新が透明
保護層３や支持体１等他の構成部材を損傷させることな
く容易に行い得る上で、ガラスシートを用いることが好
ましく、特に強度に優れたパイレックスガラスシートを
用いるのが好ましい。そして透明保護層３の厚さは、透
明保護層３がプラスチックフィルムや塗膜の場合は励起
光や輝尽発光光の透過性を重視してグレアを防止するよ
うに数10μm以下にもできるが、ガラスの場合は透明性
が高くてグレアが生じにくい反面、割れ易いので取り扱
い性、強度を重視して１〜1.75mm程度とするのが好まし
い。
【００２２】反射防止膜４は上述のような透明保護層３
の表面に、先にポリイミド、ポリオレフィン等の樹脂溶
液を塗布乾燥して下引き膜を形成した後、または下引き
膜を形成することなく、表１に示したような低屈折率で
有機溶媒可溶のアセタール化変性フッ素樹脂またはエー
テル化フッ素樹脂のパーフルオロ-2-ブチルハイドロフ
ラン、パーフルオロトリブチルアミン或いはそれ等の混
合溶媒等の溶媒により調製した塗布液を塗布して乾燥す
ることにより形成される。
の表面に、先にポリイミド、ポリオレフィン等の樹脂溶
液を塗布乾燥して下引き膜を形成した後、または下引き
膜を形成することなく、表１に示したような低屈折率で
有機溶媒可溶のアセタール化変性フッ素樹脂またはエー
テル化フッ素樹脂のパーフルオロ-2-ブチルハイドロフ
ラン、パーフルオロトリブチルアミン或いはそれ等の混
合溶媒等の溶媒により調製した塗布液を塗布して乾燥す
ることにより形成される。
【００２３】
【表１】
【００２４】ここで下引き膜は、反射防止膜４の透明保
護層３に対する接着性の向上や透明保護層３の光透過性
向上のために設けられるものであるが、パネルのコスト
を上昇させるだけでなく、反射防止膜４の更新も面倒に
するから、省略する方が好ましい。
護層３に対する接着性の向上や透明保護層３の光透過性
向上のために設けられるものであるが、パネルのコスト
を上昇させるだけでなく、反射防止膜４の更新も面倒に
するから、省略する方が好ましい。
【００２５】そして、反射防止膜４をフッ素樹脂層の単
層膜であって、波長600〜900nmや300〜500nmの光の入射
角０〜60°での表面反射率が10％以下であり、透明保護
層３の光透過性を向上させる膜厚が50nm〜１μmの範囲
にあるものとするために、フッ素樹脂は表１のテフロン
ＡＦやサイトップのような主鎖に環構造を有するアモル
ファスフッ素樹脂が好ましく、またフッ素樹脂や溶剤の
複数種の混用も含めた選択により、塗布液を粘度が10cp
s以下で、しかも固形分重量比率が１％以上のものにす
るのが好ましい。また反射防止膜４は、図１の例では、
蛍光体層２の設けられた支持体１と結合する前の透明保
護層３に対して設けて、透明保護層３の外面だけでな
く、蛍光体層２との間に空隙を挟む内面にも設けること
が透明保護層３の光透過性を向上させてグレアを防止す
る上で好ましい。それに対して、図２の例では透明保護
層３を蛍光体層２の上面に接して設けているので、反射
防止膜４を外面側に設けるだけでよい。
層膜であって、波長600〜900nmや300〜500nmの光の入射
角０〜60°での表面反射率が10％以下であり、透明保護
層３の光透過性を向上させる膜厚が50nm〜１μmの範囲
にあるものとするために、フッ素樹脂は表１のテフロン
ＡＦやサイトップのような主鎖に環構造を有するアモル
ファスフッ素樹脂が好ましく、またフッ素樹脂や溶剤の
複数種の混用も含めた選択により、塗布液を粘度が10cp
s以下で、しかも固形分重量比率が１％以上のものにす
るのが好ましい。また反射防止膜４は、図１の例では、
蛍光体層２の設けられた支持体１と結合する前の透明保
護層３に対して設けて、透明保護層３の外面だけでな
く、蛍光体層２との間に空隙を挟む内面にも設けること
が透明保護層３の光透過性を向上させてグレアを防止す
る上で好ましい。それに対して、図２の例では透明保護
層３を蛍光体層２の上面に接して設けているので、反射
防止膜４を外面側に設けるだけでよい。
【００２６】反射防止膜４の塗布液の塗布、乾燥は従来
公知のナイフコーティング、ドクターコーティング、ロ
ールコーティング等で塗布して、焼付炉で乾燥する方法
により行われる。このようにして形成された反射防止膜
４は、波長300〜500nmや600〜900nmの光の入射角０〜60
度での表面反射率が10％以下であって、この反射防止膜
４を設けていない保護層３よりも保護層３の上記範囲の
波長の光の透過率を向上させる。
公知のナイフコーティング、ドクターコーティング、ロ
ールコーティング等で塗布して、焼付炉で乾燥する方法
により行われる。このようにして形成された反射防止膜
４は、波長300〜500nmや600〜900nmの光の入射角０〜60
度での表面反射率が10％以下であって、この反射防止膜
４を設けていない保護層３よりも保護層３の上記範囲の
波長の光の透過率を向上させる。
【００２７】図１の例では、支持体１に蛍光体層２の外
側を囲う支持体１と同様の材料から成る枠状の側面封鎖
体５を接着剤により結合し、次いで側面封鎖体５の上面
に反射防止膜４付きの保護層３を側面封鎖体５の枠孔を
塞ぐように接着剤で結合する。また図２の例では、上述
の図１の例と同様の順序で側面封鎖体５や反射防止膜４
付きの保護層３を設けてもよいが、蛍光体層２の上面に
保護層３を接着剤で接着して設け、保護層３が反射防止
膜４付きでないときは次に保護層３の上面に反射防止膜
を形成し、その前又は後に保護層３に用いられるような
ポリマーの比較的高粘度の溶液を蛍光体層２の周りの支
持体１と保護層３の間隙に充填して乾燥することにより
側面封鎖体５を形成する方法によってもよい。保護層３
や側面封鎖体５の接着剤には従来公知のものが適当に用
いられ、不透湿膜を形成するものが好ましい。
側を囲う支持体１と同様の材料から成る枠状の側面封鎖
体５を接着剤により結合し、次いで側面封鎖体５の上面
に反射防止膜４付きの保護層３を側面封鎖体５の枠孔を
塞ぐように接着剤で結合する。また図２の例では、上述
の図１の例と同様の順序で側面封鎖体５や反射防止膜４
付きの保護層３を設けてもよいが、蛍光体層２の上面に
保護層３を接着剤で接着して設け、保護層３が反射防止
膜４付きでないときは次に保護層３の上面に反射防止膜
を形成し、その前又は後に保護層３に用いられるような
ポリマーの比較的高粘度の溶液を蛍光体層２の周りの支
持体１と保護層３の間隙に充填して乾燥することにより
側面封鎖体５を形成する方法によってもよい。保護層３
や側面封鎖体５の接着剤には従来公知のものが適当に用
いられ、不透湿膜を形成するものが好ましい。
【００２８】以上によって、反射防止膜４付きの保護層
３が励起光や輝尽発光光の透過性に優れて、鮮鋭性に優
れた放射線像の再生を可能とする放射線像変換パネルを
半切サイズ以上の大サイズのものも低コストで得ること
ができ、保護層３の外面の反射防止膜４に傷や汚れが付
いたような場合は、その反射防止膜４を容易に更新する
こともできる。
３が励起光や輝尽発光光の透過性に優れて、鮮鋭性に優
れた放射線像の再生を可能とする放射線像変換パネルを
半切サイズ以上の大サイズのものも低コストで得ること
ができ、保護層３の外面の反射防止膜４に傷や汚れが付
いたような場合は、その反射防止膜４を容易に更新する
こともできる。
【００２９】次に、本発明の具体的実施例を比較例と共
に示す。
に示す。
【００３０】
実施例１ 図１に示した支持体１に厚さ0.5mmのガラス状セラミッ
クシートを用い、その表面の周縁部をマスクした内側面
に、結合剤のニトロセルロースの１重量部に対して輝尽
性蛍光体のRbBr：Tl粉末10重量部、分散剤のオレイン酸
0.2重量部及び溶媒のメチルエチルケトンとトルエンの
混合溶媒で調製した粘度が略50cpsの塗布液をナイフコ
ートにより塗布し乾燥して、厚さ300μmの蛍光体層２を
形成する。次いで支持体１の表面のマスクで塗布液の塗
布をしなかった周縁部に厚さ500μmのポリイミドフィル
ムから成る枠状の側面封鎖体５をエポキシ樹脂系接着剤
により接着する。別途、厚さ１mmのパイレックスガラス
を透明保護層３として、その両面に、表１のデュポン社
製テフロンＡＦのパーフルオロ-2-ブチルハイドロフラ
ンを溶媒とした粘度８cps、ＮＶ2.0％の塗布液を支持体
１に蛍光体層２を設けたのと同様の方法で塗布し乾燥し
て、それぞれ膜厚200nmの反射防止膜４を形成する。そ
の透明保護層３のマスクで塗布液の塗布をしなかった表
面の周縁部を側面封鎖体５の表面にエポキシ樹脂系接着
剤により接着して図１の放射線像変換パネルを得た。
クシートを用い、その表面の周縁部をマスクした内側面
に、結合剤のニトロセルロースの１重量部に対して輝尽
性蛍光体のRbBr：Tl粉末10重量部、分散剤のオレイン酸
0.2重量部及び溶媒のメチルエチルケトンとトルエンの
混合溶媒で調製した粘度が略50cpsの塗布液をナイフコ
ートにより塗布し乾燥して、厚さ300μmの蛍光体層２を
形成する。次いで支持体１の表面のマスクで塗布液の塗
布をしなかった周縁部に厚さ500μmのポリイミドフィル
ムから成る枠状の側面封鎖体５をエポキシ樹脂系接着剤
により接着する。別途、厚さ１mmのパイレックスガラス
を透明保護層３として、その両面に、表１のデュポン社
製テフロンＡＦのパーフルオロ-2-ブチルハイドロフラ
ンを溶媒とした粘度８cps、ＮＶ2.0％の塗布液を支持体
１に蛍光体層２を設けたのと同様の方法で塗布し乾燥し
て、それぞれ膜厚200nmの反射防止膜４を形成する。そ
の透明保護層３のマスクで塗布液の塗布をしなかった表
面の周縁部を側面封鎖体５の表面にエポキシ樹脂系接着
剤により接着して図１の放射線像変換パネルを得た。
【００３１】実施例２ 反射防止膜４を形成するための塗布液に表１の旭硝子
(株)製のサイトップのパーフルオロトリブチルアミンを
溶媒とした粘度15cps、ＮＶ1.0％の溶液を用いた以外は
実施例１と同様の条件で図１の放射線像変換パネルを得
た。
(株)製のサイトップのパーフルオロトリブチルアミンを
溶媒とした粘度15cps、ＮＶ1.0％の溶液を用いた以外は
実施例１と同様の条件で図１の放射線像変換パネルを得
た。
【００３２】比較例１ 保護層３に反射防止膜４を設けなかったこと以外は実施
例１と同様に放射線像変換パネルを作製した。
例１と同様に放射線像変換パネルを作製した。
【００３３】比較例２ 保護層３の両面の厚さ200mmの反射防止膜を真空蒸着に
よりZrO2、SiO2、ＭｇＦ２の層を略等しい厚さで順に上
に重ねて形成したものとした以外は実施例１と同様に放
射線像変換パネルを作製した。
よりZrO2、SiO2、ＭｇＦ２の層を略等しい厚さで順に上
に重ねて形成したものとした以外は実施例１と同様に放
射線像変換パネルを作製した。
【００３４】比較例３ 保護層３の両面の厚さ２００ｎｍの反射防止膜を真空蒸
着により形成したMgF2層とした以外は実施例１と同様に
放射線像変換パネルを作製した。
着により形成したMgF2層とした以外は実施例１と同様に
放射線像変換パネルを作製した。
【００３５】以上の各パネルについて、出力200mWの半
導体レーザの波長780nmの光の入射角60度での保護層側
反射率％と、パネルに支持体側から同じ強度の放射線を
入射し、1.0秒後に保護層側から同じ強度の波長780nmの
励起光を入射して保護層３側に放出された波長300〜500
nmの輝尽発光光のエネルギーを比較例１のパネルのそれ
を１として示した相対感度と、矩形パルスの励起光を走
査して入射し、輝尽発光光の１サイクル分出力に対する
励起光の消灯間出力の比が与えるグレア含有率％と、パ
ネルの前記輝尽発光光エネルギー、グレア含有率、60度
反射率等の変化から推定される耐久性とを求めた結果を
表２に示す。
導体レーザの波長780nmの光の入射角60度での保護層側
反射率％と、パネルに支持体側から同じ強度の放射線を
入射し、1.0秒後に保護層側から同じ強度の波長780nmの
励起光を入射して保護層３側に放出された波長300〜500
nmの輝尽発光光のエネルギーを比較例１のパネルのそれ
を１として示した相対感度と、矩形パルスの励起光を走
査して入射し、輝尽発光光の１サイクル分出力に対する
励起光の消灯間出力の比が与えるグレア含有率％と、パ
ネルの前記輝尽発光光エネルギー、グレア含有率、60度
反射率等の変化から推定される耐久性とを求めた結果を
表２に示す。
【００３６】
【表２】
【００３７】表２から、実施例１，２の本発明の放射線
像変換パネルが比較例１〜３の従来の放射線像変換パネ
ルよりも感度及び画像の鮮鋭性が優れて、耐久性も倍以
上優れていることが明らかである。
像変換パネルが比較例１〜３の従来の放射線像変換パネ
ルよりも感度及び画像の鮮鋭性が優れて、耐久性も倍以
上優れていることが明らかである。
【００３８】尚、本発明は上述の実施例１，２に限定さ
れるものではないことは先に全体的な実施例で述べた通
りである。
れるものではないことは先に全体的な実施例で述べた通
りである。
【００３９】
【発明の効果】本発明によれば、透明保護層表面に反射
防止膜を有する放射線像変換パネルを比較的低コストで
大型のものも容易に得ることができ、反射防止膜に汚れ
や傷が付いたとき反射防止膜だけを更新することができ
て、反射防止膜が励起光や輝尽発光光の反射防止効果や
透過性に優れて透明保護層の光透過性を向上させ、そし
て環境変動やレーザ光に対する耐久性にも優れることか
ら、放射線像変換パネルが感度に優れて鮮鋭性に優れた
画像の再生を可能にすると言う顕著な効果が得られる。
防止膜を有する放射線像変換パネルを比較的低コストで
大型のものも容易に得ることができ、反射防止膜に汚れ
や傷が付いたとき反射防止膜だけを更新することができ
て、反射防止膜が励起光や輝尽発光光の反射防止効果や
透過性に優れて透明保護層の光透過性を向上させ、そし
て環境変動やレーザ光に対する耐久性にも優れることか
ら、放射線像変換パネルが感度に優れて鮮鋭性に優れた
画像の再生を可能にすると言う顕著な効果が得られる。
【図１】本発明の放射線像変換パネルの例を示す断面図
である。
である。
【図２】本発明の放射線像変換パネルの例を示す断面図
である。
である。
１ 支持体 ２ 蛍光体層 ３ 透明保護層 ４ 反射防止膜 ５ 側面封鎖体
Claims (5)
- 【請求項１】 支持体、輝尽性蛍光体を用いた蛍光体
層、透明保護層をこの順序で有する放射線像変換パネル
において、透明保護層の表面に有機溶媒可溶性の反射防
止膜が形成されていて、該反射防止膜の表面層がフッ素
樹脂から成り、波長600〜900nmの範囲にある光の入射角
０〜60度での表面反射率と波長300〜500nmの範囲にある
光の入射角０〜60度での表面反射率が10％以下であるこ
とを特徴とする放射線像変換パネル。 - 【請求項２】 前記支持体が剛性を有する板状体であ
り、透明保護層がガラスである請求項１記載の放射線像
変換パネル。 - 【請求項３】 前記フッ素樹脂表層が主鎖に環構造を有
する非晶質フッ素樹脂からなる請求項１記載の放射線像
変換パネル。 - 【請求項４】 前記フッ素樹脂表層の層厚が50nm〜１μ
mの範囲にある請求項１記載の放射線像変換パネル。 - 【請求項５】 支持体、輝尽性蛍光体を用いた蛍光体
層、透明保護層をこの順序で有する放射線像変換パネル
の製造方法において、前記透明保護層の表面にフッ素樹
脂の有機溶媒溶液を塗布して乾燥し、波長600〜900nmの
範囲にある光の入射角０〜60度での表面反射率と波長30
0〜500nmの範囲にある光の入射角０〜60度での表面反射
率が10％以下であるフッ素樹脂表層を形成することを特
徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP899295A JPH08201598A (ja) | 1995-01-24 | 1995-01-24 | 放射線像変換パネルとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP899295A JPH08201598A (ja) | 1995-01-24 | 1995-01-24 | 放射線像変換パネルとその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08201598A true JPH08201598A (ja) | 1996-08-09 |
Family
ID=11708192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP899295A Pending JPH08201598A (ja) | 1995-01-24 | 1995-01-24 | 放射線像変換パネルとその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08201598A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001141895A (ja) * | 1999-11-09 | 2001-05-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線像変換パネル |
| JP2002533737A (ja) * | 1998-12-23 | 2002-10-08 | デュール デンタル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディトゲゼルシャフト | Ｘ線像のための平板記憶素子 |
| US7375349B2 (en) | 2003-11-19 | 2008-05-20 | Fujifilm Corporation | Radiation-image conversion panel and process of producing the same |
| WO2020179322A1 (ja) * | 2019-03-01 | 2020-09-10 | 東レ株式会社 | シンチレータパネル、放射線検出器、およびシンチレータパネルの製造方法 |
-
1995
- 1995-01-24 JP JP899295A patent/JPH08201598A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002533737A (ja) * | 1998-12-23 | 2002-10-08 | デュール デンタル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディトゲゼルシャフト | Ｘ線像のための平板記憶素子 |
| JP4979849B2 (ja) * | 1998-12-23 | 2012-07-18 | ミヒャエル トームス | Ｘ線像のための平板記憶素子及び平板記憶素子を製造する方法 |
| JP2001141895A (ja) * | 1999-11-09 | 2001-05-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 放射線像変換パネル |
| US7375349B2 (en) | 2003-11-19 | 2008-05-20 | Fujifilm Corporation | Radiation-image conversion panel and process of producing the same |
| WO2020179322A1 (ja) * | 2019-03-01 | 2020-09-10 | 東レ株式会社 | シンチレータパネル、放射線検出器、およびシンチレータパネルの製造方法 |
| JPWO2020179322A1 (ja) * | 2019-03-01 | 2020-09-10 | ||
| CN113498481A (zh) * | 2019-03-01 | 2021-10-12 | 东丽株式会社 | 闪烁体面板、放射线检测器和闪烁体面板的制造方法 |
| TWI821527B (zh) * | 2019-03-01 | 2023-11-11 | 日商東麗股份有限公司 | 閃爍器面板、放射線檢測器、及閃爍器面板之製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040427 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050913 |