JPH07174857A - 不規則な表面に膜を付着させる方法およびそれによって製造された装置 - Google Patents
不規則な表面に膜を付着させる方法およびそれによって製造された装置Info
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- JPH07174857A JPH07174857A JP6145211A JP14521194A JPH07174857A JP H07174857 A JPH07174857 A JP H07174857A JP 6145211 A JP6145211 A JP 6145211A JP 14521194 A JP14521194 A JP 14521194A JP H07174857 A JPH07174857 A JP H07174857A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 不規則な形状の表面に順応するように薄い膜
を付着させるための方法が開示される。 【構成】 不規則な表面１１２に対する所望の位置に膜
１０５を配置してその膜を不規則な表面から突出した少
なくとも幾つかの突起に接触させ、次いで不規則な表面
に膜を圧着してその膜を実質的に全ての突起に順応する
ように付着させる工程が設けられる。かかる膜の圧着
は、薄い膜の両側に実質的に一様な差圧を加えてその膜
を不規則な表面に順応するように接触させることによっ
て達成される。この方法によって製造された撮像装置
は、不規則な表面を有するシンチレーター３３０および
それの不規則な表面に順応するように接触して配置され
たモノリシックな反射層３４０を含んでいる。
を付着させるための方法が開示される。 【構成】 不規則な表面１１２に対する所望の位置に膜
１０５を配置してその膜を不規則な表面から突出した少
なくとも幾つかの突起に接触させ、次いで不規則な表面
に膜を圧着してその膜を実質的に全ての突起に順応する
ように付着させる工程が設けられる。かかる膜の圧着
は、薄い膜の両側に実質的に一様な差圧を加えてその膜
を不規則な表面に順応するように接触させることによっ
て達成される。この方法によって製造された撮像装置
は、不規則な表面を有するシンチレーター３３０および
それの不規則な表面に順応するように接触して配置され
たモノリシックな反射層３４０を含んでいる。
Description
【０００１】
【発明の背景】本発明は、不規則な表面にコンフォーマ
ル・コンタクト(conformal contact)状態すなわち順応
しながら接触した状態に薄い膜を付着させる方法および
それによって製造された装置に関するものである。放射
線撮像装置のごとき各種の装置においては、不規則な形
状の表面上に薄い膜を付着させることが所望される。た
とえば、光検出器に対してシンチレータを光学的に結合
して成る放射線撮像装置においては、光検出器に隣接し
たシンチレータの表面とは反対側の表面上に反射材の層
を付着させ、それによりシンチレータ内で発生した光子
を光検出器に向けて反射させることが所望されるのであ
る。一般に、シンチレータの一方の表面は不規則な形状
を有している。すなわち、かかる表面からは突起が突出
しているために平坦でない。かかる突起は蒸着操作によ
って得られた針状または錐状の構造物であって、シンチ
レータ内で発生した光子の検出位置を入射放射線が吸収
された区域に限局するために役立つ。
ル・コンタクト(conformal contact)状態すなわち順応
しながら接触した状態に薄い膜を付着させる方法および
それによって製造された装置に関するものである。放射
線撮像装置のごとき各種の装置においては、不規則な形
状の表面上に薄い膜を付着させることが所望される。た
とえば、光検出器に対してシンチレータを光学的に結合
して成る放射線撮像装置においては、光検出器に隣接し
たシンチレータの表面とは反対側の表面上に反射材の層
を付着させ、それによりシンチレータ内で発生した光子
を光検出器に向けて反射させることが所望されるのであ
る。一般に、シンチレータの一方の表面は不規則な形状
を有している。すなわち、かかる表面からは突起が突出
しているために平坦でない。かかる突起は蒸着操作によ
って得られた針状または錐状の構造物であって、シンチ
レータ内で発生した光子の検出位置を入射放射線が吸収
された区域に限局するために役立つ。
【０００２】シンチレータの不規則な表面上に反射被膜
を付着させることには幾つかの困難が伴う。ヨウ化セシ
ウムをはじめとする多くのシンチレータ材料は大きい熱
膨張率を有しており、従って表面上に反射被膜を蒸着す
るための方法（たとえば、スパッタリング）に対して極
めて敏感である。かかる蒸着方法に付随する比較的高い
温度（たとえば、約３００〜４００℃以上の温度）はシ
ンチレータ材料中に亀裂を生じるが、それは光学的不連
続性を生み出してシンチレータの性能を低下させるので
ある。
を付着させることには幾つかの困難が伴う。ヨウ化セシ
ウムをはじめとする多くのシンチレータ材料は大きい熱
膨張率を有しており、従って表面上に反射被膜を蒸着す
るための方法（たとえば、スパッタリング）に対して極
めて敏感である。かかる蒸着方法に付随する比較的高い
温度（たとえば、約３００〜４００℃以上の温度）はシ
ンチレータ材料中に亀裂を生じるが、それは光学的不連
続性を生み出してシンチレータの性能を低下させるので
ある。
【０００３】シンチレータの表面上に配置された反射被
膜は、反射被膜を有しないシンチレータから成る装置に
比べ、光検出器によって検出される光子の数を顕著に増
加させることが望ましい（たとえば、捕獲される光子の
数が少なくとも1/3 以上増加することが望ましい）。ま
た、反射材とシンチレータ材料との間において光子が直
接に授受されるようにするため、反射被膜はシンチレー
タの不規則な表面に順応して配置される必要がある。す
なわち、シンチレータ材料と反射材との間には（たとえ
あるにしても）僅かな空隙しか存在しないようにする必
要がある。更にまた、反射材を付着させるのに伴い、シ
ンチレータ材料が熱的に劣化したり、あるいは針状また
は錘状の突起が機械的に変形したりする結果としてシン
チレータの構造が悪化してはならない。所望の光学的お
よび物理的特性を有する反射材はモノリシックな薄い膜
（ここで言う「モノリシック」とはシート状の実質的に
一様な材料を意味する）として入手することができると
は言え、シンチレータや薄い膜に損傷を与えることなく
シンチレータの不規則な形状の表面上に薄い膜を付着さ
せることには問題があったのである。
膜は、反射被膜を有しないシンチレータから成る装置に
比べ、光検出器によって検出される光子の数を顕著に増
加させることが望ましい（たとえば、捕獲される光子の
数が少なくとも1/3 以上増加することが望ましい）。ま
た、反射材とシンチレータ材料との間において光子が直
接に授受されるようにするため、反射被膜はシンチレー
タの不規則な表面に順応して配置される必要がある。す
なわち、シンチレータ材料と反射材との間には（たとえ
あるにしても）僅かな空隙しか存在しないようにする必
要がある。更にまた、反射材を付着させるのに伴い、シ
ンチレータ材料が熱的に劣化したり、あるいは針状また
は錘状の突起が機械的に変形したりする結果としてシン
チレータの構造が悪化してはならない。所望の光学的お
よび物理的特性を有する反射材はモノリシックな薄い膜
（ここで言う「モノリシック」とはシート状の実質的に
一様な材料を意味する）として入手することができると
は言え、シンチレータや薄い膜に損傷を与えることなく
シンチレータの不規則な形状の表面上に薄い膜を付着さ
せることには問題があったのである。
【０００４】不規則な形状の表面に順応するようにして
該表面上に比較的薄い膜（またはフィルム）を付着させ
る技術はまた、液晶装置の製造およびレンズ、反射器な
どのごとき部品上への光学被膜の設置に際しても有用で
ある。従って、不規則な表面に順応するようにして該表
面上に薄い膜を付着させるための方法を提供することが
本発明の目的の１つである。
該表面上に比較的薄い膜（またはフィルム）を付着させ
る技術はまた、液晶装置の製造およびレンズ、反射器な
どのごとき部品上への光学被膜の設置に際しても有用で
ある。従って、不規則な表面に順応するようにして該表
面上に薄い膜を付着させるための方法を提供することが
本発明の目的の１つである。
【０００５】本発明のもう１つの目的は、不規則な形状
の表面を有するシンチレータ上に横方向に沿って正確に
整列した状態で配置された薄膜状の反射被膜を有する撮
像装置の製造方法を提供することにある。本発明の更に
もう１つの目的は、不規則な表面に順応するようにして
該表面上に配置された薄い膜を有する撮像装置を提供す
ることにある。
の表面を有するシンチレータ上に横方向に沿って正確に
整列した状態で配置された薄膜状の反射被膜を有する撮
像装置の製造方法を提供することにある。本発明の更に
もう１つの目的は、不規則な表面に順応するようにして
該表面上に配置された薄い膜を有する撮像装置を提供す
ることにある。
【０００６】本発明の更にもう１つの目的は、シンチレ
ータ材料中において発生した光子の大部分を集める効率
的な放射線撮像装置を提供することにある。
ータ材料中において発生した光子の大部分を集める効率
的な放射線撮像装置を提供することにある。
【０００７】
【発明の概要】本発明に従えば、不規則な表面に順応し
ながら接触した状態で薄い膜を付着させるための方法が
提供される。かかる方法は、不規則な表面を有する加工
物に対する所望の位置に薄い膜を配置してその膜を加工
物の不規則な表面から突出した少なくとも幾つかの突起
に接触させ、次いで加工物に薄い膜を圧着してその膜を
加工物の不規則な表面に存在する実質的に全ての突起に
順応するように付着させる工程を含んでいる。加工物に
薄い膜を圧着する工程は、薄い膜の両側に実質的に一様
な差圧を加えてその膜を加工物の不規則な表面に順応す
るように接触させることによって実施される。
ながら接触した状態で薄い膜を付着させるための方法が
提供される。かかる方法は、不規則な表面を有する加工
物に対する所望の位置に薄い膜を配置してその膜を加工
物の不規則な表面から突出した少なくとも幾つかの突起
に接触させ、次いで加工物に薄い膜を圧着してその膜を
加工物の不規則な表面に存在する実質的に全ての突起に
順応するように付着させる工程を含んでいる。加工物に
薄い膜を圧着する工程は、薄い膜の両側に実質的に一様
な差圧を加えてその膜を加工物の不規則な表面に順応す
るように接触させることによって実施される。
【０００８】所望の位置に薄い膜を配置する工程は、薄
い膜を比較的平坦な状態に維持しながらアプリケータの
合せ面に着座させる差圧の作用下でアプリケータ上にそ
の膜を保持し、加工物に対してアプリケータを移動させ
て所望の位置にその膜を配置し、次いでアプリケータか
らその膜を解放する工程を有する。撮像装置の製造に際
しては、加工物は不規則な表面を有するシンチレータか
ら成り、そして薄い膜はシンチレータ上に配置すべき反
射被膜（または反射層）から成るのが通例である。
い膜を比較的平坦な状態に維持しながらアプリケータの
合せ面に着座させる差圧の作用下でアプリケータ上にそ
の膜を保持し、加工物に対してアプリケータを移動させ
て所望の位置にその膜を配置し、次いでアプリケータか
らその膜を解放する工程を有する。撮像装置の製造に際
しては、加工物は不規則な表面を有するシンチレータか
ら成り、そして薄い膜はシンチレータ上に配置すべき反
射被膜（または反射層）から成るのが通例である。
【０００９】本発明に従って製造された撮像装置は、不
規則な表面を有するシンチレータと、不規則な表面から
突出した実質的に全ての突起の少なくとも上方部分に順
応するようにして不規則な表面上に配置された反射膜と
を含んでいる。なお、かかるシンチレータは反射膜の反
対側の表面上に配置された光検出器に結合されているの
が通例である。
規則な表面を有するシンチレータと、不規則な表面から
突出した実質的に全ての突起の少なくとも上方部分に順
応するようにして不規則な表面上に配置された反射膜と
を含んでいる。なお、かかるシンチレータは反射膜の反
対側の表面上に配置された光検出器に結合されているの
が通例である。
【００１０】新規であると信じられる本発明の特徴は前
記特許請求の範囲内に詳細に記載されている。とは言
え、本発明の構成や実施方法並びに追加の目的や利点
は、添付の図面と共に以下の説明を参照することによっ
て最も良く理解されよう。なお、図面全体を通じ、同じ
参照番号は同じ構成要素を表わしている。
記特許請求の範囲内に詳細に記載されている。とは言
え、本発明の構成や実施方法並びに追加の目的や利点
は、添付の図面と共に以下の説明を参照することによっ
て最も良く理解されよう。なお、図面全体を通じ、同じ
参照番号は同じ構成要素を表わしている。
【００１１】
【詳しい説明】先ず図１を見ると、本発明の製造方法に
おいて有利に使用されかつ本発明に関する以下の説明中
において言及される加工用チャック１００が示されてい
る。かかる加工用チャック１００は基礎構造物１２０お
よび上部チャックアセンブリ１６０から成っていて、後
者は前者に対して着脱自在に結合されている。本発明に
従えば、加工物１１０の不規則な表面１１２の形状に順
応するようにして比較的薄い膜１０５を配置することが
できる。ここで言う「膜」とは、通例はシート材料のご
とくにモノリシックな状態（すなわち、実質的に一体を
成す状態）にあり、かつ通例は柔軟な状態（半硬質の状
態を含む）にある多孔質および無孔質の材料を意味す
る。また、「比較的薄い」とは約０．０００５〜０．０
６０インチの範囲内の厚さを有する材料を意味し、そし
て「不規則な表面」とは表面から突出した突起を有する
ため（見方を変えれば表面にくぼみを有するため）に平
滑でないような表面を意味する。更にまた、「順応する
ように配置する」などの表現は表面の突起（またはくぼ
み）に沿って材料を配置することを意味するのであっ
て、不規則な表面と配置された材料との間に実質的に空
隙が存在しないようにして該材料が不規則な表面の少な
くとも所望部分に対して直接に接触していることを意味
する。
おいて有利に使用されかつ本発明に関する以下の説明中
において言及される加工用チャック１００が示されてい
る。かかる加工用チャック１００は基礎構造物１２０お
よび上部チャックアセンブリ１６０から成っていて、後
者は前者に対して着脱自在に結合されている。本発明に
従えば、加工物１１０の不規則な表面１１２の形状に順
応するようにして比較的薄い膜１０５を配置することが
できる。ここで言う「膜」とは、通例はシート材料のご
とくにモノリシックな状態（すなわち、実質的に一体を
成す状態）にあり、かつ通例は柔軟な状態（半硬質の状
態を含む）にある多孔質および無孔質の材料を意味す
る。また、「比較的薄い」とは約０．０００５〜０．０
６０インチの範囲内の厚さを有する材料を意味し、そし
て「不規則な表面」とは表面から突出した突起を有する
ため（見方を変えれば表面にくぼみを有するため）に平
滑でないような表面を意味する。更にまた、「順応する
ように配置する」などの表現は表面の突起（またはくぼ
み）に沿って材料を配置することを意味するのであっ
て、不規則な表面と配置された材料との間に実質的に空
隙が存在しないようにして該材料が不規則な表面の少な
くとも所望部分に対して直接に接触していることを意味
する。
【００１２】基礎構造物１２０は台板１２２を含んでい
て、それの内面１２４上に配置された加工物１１０の全
域にわたって真空を生み出し得るように構成されてい
る。たとえば、台板１２２中には排気管１２６が配置さ
れ、そして内面１２４上のオリフィス１２７に連結され
ている。更にまた、排気管１２６は制御弁１２８を介し
て真空排気装置１３０に連結されている結果、加工物１
１０の下側を排気すること（たとえば、加工物１１０の
下側の空間の圧力を低下させること）により、不規則な
表面の両側に差圧を生み出すための手段を構成する。通
例、オリフィス１２７は加工物１１０の面積に対応した
内面１２４の一部分にわたって配置されているから、生
み出される差圧は加工物１１０の面積全体にわたって実
質的に一様である。制御弁１２８は、所望に応じて加工
物１１０の両側の圧力を均等化するため通気管にも連結
された三方弁から成るのが通例である。あるいはまた、
一方は真空排気装置に連結されかつ他方は通気管に連結
されている２個の独立した弁を使用することもできる。
て、それの内面１２４上に配置された加工物１１０の全
域にわたって真空を生み出し得るように構成されてい
る。たとえば、台板１２２中には排気管１２６が配置さ
れ、そして内面１２４上のオリフィス１２７に連結され
ている。更にまた、排気管１２６は制御弁１２８を介し
て真空排気装置１３０に連結されている結果、加工物１
１０の下側を排気すること（たとえば、加工物１１０の
下側の空間の圧力を低下させること）により、不規則な
表面の両側に差圧を生み出すための手段を構成する。通
例、オリフィス１２７は加工物１１０の面積に対応した
内面１２４の一部分にわたって配置されているから、生
み出される差圧は加工物１１０の面積全体にわたって実
質的に一様である。制御弁１２８は、所望に応じて加工
物１１０の両側の圧力を均等化するため通気管にも連結
された三方弁から成るのが通例である。あるいはまた、
一方は真空排気装置に連結されかつ他方は通気管に連結
されている２個の独立した弁を使用することもできる。
【００１３】図１に示されるごとく、基礎構造物１２０
は台板１２２に対して着脱自在に結合された位置合せア
センブリ１４０をも含んでいる。かかる位置合せアセン
ブリ１４０は、たとえばラッチ、クランプ、ねじ、ボル
トナットなどのごとき留め金具（図示せず）により、台
板１２２に固定状態で取付けると共に台板１２２から取
外すことができる。位置合せアセンブリ１４０と台板１
２２との間には、合体時に両者が気密状態で結合される
ようにＯリングのごとき封止手段１４２が配置されてい
る。なお、「気密状態で結合する」、「気密封止する」
などの表現は、封止された境界部の両側において差圧を
生み出すことができるような実質的に気密の封止状態を
意味する。
は台板１２２に対して着脱自在に結合された位置合せア
センブリ１４０をも含んでいる。かかる位置合せアセン
ブリ１４０は、たとえばラッチ、クランプ、ねじ、ボル
トナットなどのごとき留め金具（図示せず）により、台
板１２２に固定状態で取付けると共に台板１２２から取
外すことができる。位置合せアセンブリ１４０と台板１
２２との間には、合体時に両者が気密状態で結合される
ようにＯリングのごとき封止手段１４２が配置されてい
る。なお、「気密状態で結合する」、「気密封止する」
などの表現は、封止された境界部の両側において差圧を
生み出すことができるような実質的に気密の封止状態を
意味する。
【００１４】位置合せアセンブリ１４０はまた、台板１
２２に対する所定の位置、従って下記に一層詳しく記載
されるごとくにして薄い膜１０５を保持した上部チャッ
クアセンブリ１６０に対する所定の位置に加工物１１０
を配置するために役立つ位置合せガイド１４５をも含ん
でいる。図１に示されるごとく、位置合せガイド１４５
は位置合せアセンブリ１４０から延びる指状体から成っ
ている。あるいはまた、加工物１１０を受入れ、そして
所望の加工位置（すなわち、下記に一層詳しく記載され
るごとくにして加工物１１０がアプリケータ１７０から
薄い膜を受取るような内面１２４上の位置）にそれを配
置するために役立つ位置合せアセンブリ１４０の溝また
は切込みを位置合せ手段として使用することもできる。
２２に対する所定の位置、従って下記に一層詳しく記載
されるごとくにして薄い膜１０５を保持した上部チャッ
クアセンブリ１６０に対する所定の位置に加工物１１０
を配置するために役立つ位置合せガイド１４５をも含ん
でいる。図１に示されるごとく、位置合せガイド１４５
は位置合せアセンブリ１４０から延びる指状体から成っ
ている。あるいはまた、加工物１１０を受入れ、そして
所望の加工位置（すなわち、下記に一層詳しく記載され
るごとくにして加工物１１０がアプリケータ１７０から
薄い膜を受取るような内面１２４上の位置）にそれを配
置するために役立つ位置合せアセンブリ１４０の溝また
は切込みを位置合せ手段として使用することもできる。
【００１５】本発明に従えば、台板１２２は様々な位置
合せアセンブリ１４０を（１度に１個ずつ）それに取付
けることができるように構成されている。従って、様々
な寸法の加工物の位置合せのために作製された位置合せ
アセンブリのそれぞれを台板１２２に取付けることがで
きるのである。あるいはまた、台板１２２および位置合
せアセンブリ１４０が単一の集合体を成すようにするこ
と（すなわち、位置合せアセンブリ１４０が台板１２２
から取外せないように構成すること）も可能である。
合せアセンブリ１４０を（１度に１個ずつ）それに取付
けることができるように構成されている。従って、様々
な寸法の加工物の位置合せのために作製された位置合せ
アセンブリのそれぞれを台板１２２に取付けることがで
きるのである。あるいはまた、台板１２２および位置合
せアセンブリ１４０が単一の集合体を成すようにするこ
と（すなわち、位置合せアセンブリ１４０が台板１２２
から取外せないように構成すること）も可能である。
【００１６】位置合せアセンブリ１４０はまた、制御弁
１４７を介して真空排気装置１３０に連結された排気管
１４６をも含むのが通例である。かかる制御弁１４７
は、位置合せアセンブリ１４０の側壁の両側の圧力を均
等化するため通気管にも連結された三方弁から成るのが
通例である。なお、三方弁の代りに２個の独立した弁を
使用することもできる。真空排気装置１３０は真空ポン
プなどから成っていて、得られる真空の程度は加工用チ
ャックのサイズに応じて設計時に決定される。本明細書
中に記載されるようなシンチレータ上に光学被膜を設置
するための加工用チャックに関しては、水銀柱約２０イ
ンチまでの真空を生み出す真空排気装置を使用すれば十
分である。
１４７を介して真空排気装置１３０に連結された排気管
１４６をも含むのが通例である。かかる制御弁１４７
は、位置合せアセンブリ１４０の側壁の両側の圧力を均
等化するため通気管にも連結された三方弁から成るのが
通例である。なお、三方弁の代りに２個の独立した弁を
使用することもできる。真空排気装置１３０は真空ポン
プなどから成っていて、得られる真空の程度は加工用チ
ャックのサイズに応じて設計時に決定される。本明細書
中に記載されるようなシンチレータ上に光学被膜を設置
するための加工用チャックに関しては、水銀柱約２０イ
ンチまでの真空を生み出す真空排気装置を使用すれば十
分である。
【００１７】上部チャックアセンブリ１６０は、位置合
せアセンブリ１４０に気密封止されて両者間に組立室１
５０を形成するように構成されている。上部チャックア
センブリ１６０と位置合せアセンブリ１４０との間に
は、両者の合体時に接合部を気密封止するために役立つ
Ｏリングのごとき封止手段１６２が配置されている。上
部チャックアセンブリ１６０はフレーム１６４およびた
わみ継手１６５を介してそれの内側に取付けられたアプ
リケータ１７０から成る結果、アプリケータ１７０は組
立室１５０内において加工物１１０に向かって選択的に
移動させることができる。上部チャックアセンブリ１６
０は、加工物１１０に向かうアプリケータ１７０の移動
が所定の軸線に沿って起こり、従って薄い膜１０５が横
方向において加工物１１０と正確に整列するように構成
されている。かかる正確な横方向整列は、加工物１１０
を位置合せアセンブリ１４０内に配置しかつ上部チャッ
クアセンブリ１６０を基礎構造物１２０に固定して加工
用チャックを組立てた場合、加工物１１０がアプリケー
タ１７０に対する既知の所定位置に配置されることによ
って達成される。ここで言う「横方向整列」とは、膜／
加工物の平面内において薄い膜が加工物と整列するよう
にして薄い膜を加工物上に配置することを意味する。た
とえば、たわみ継手１６５はフレーム１６４の内部にお
けるアプリケータ１７０の配置状態を維持しながらフレ
ーム１６４の側壁に沿ってアプリケータ１７０を移動さ
せ得るように構成されている。アプリケータ１７０は、
組立室１５０に対面するように配置された合せ面１７４
を有する真空チャック１７２から成っている。合せ面１
７４は、平滑で平坦な表面１７６を有する焼結材料（た
とえば、ステンレス鋼、複合材料など）の層から成るの
が通例である。ここで言う「焼結材料」とは、気体の通
過を許すような微細な気孔を内部に有する表面の平滑な
材料を意味する。かかる気孔の孔径は０．５〜１００μ
ｍの範囲内にあればよいが、通例は約１０μｍ以下であ
る。
せアセンブリ１４０に気密封止されて両者間に組立室１
５０を形成するように構成されている。上部チャックア
センブリ１６０と位置合せアセンブリ１４０との間に
は、両者の合体時に接合部を気密封止するために役立つ
Ｏリングのごとき封止手段１６２が配置されている。上
部チャックアセンブリ１６０はフレーム１６４およびた
わみ継手１６５を介してそれの内側に取付けられたアプ
リケータ１７０から成る結果、アプリケータ１７０は組
立室１５０内において加工物１１０に向かって選択的に
移動させることができる。上部チャックアセンブリ１６
０は、加工物１１０に向かうアプリケータ１７０の移動
が所定の軸線に沿って起こり、従って薄い膜１０５が横
方向において加工物１１０と正確に整列するように構成
されている。かかる正確な横方向整列は、加工物１１０
を位置合せアセンブリ１４０内に配置しかつ上部チャッ
クアセンブリ１６０を基礎構造物１２０に固定して加工
用チャックを組立てた場合、加工物１１０がアプリケー
タ１７０に対する既知の所定位置に配置されることによ
って達成される。ここで言う「横方向整列」とは、膜／
加工物の平面内において薄い膜が加工物と整列するよう
にして薄い膜を加工物上に配置することを意味する。た
とえば、たわみ継手１６５はフレーム１６４の内部にお
けるアプリケータ１７０の配置状態を維持しながらフレ
ーム１６４の側壁に沿ってアプリケータ１７０を移動さ
せ得るように構成されている。アプリケータ１７０は、
組立室１５０に対面するように配置された合せ面１７４
を有する真空チャック１７２から成っている。合せ面１
７４は、平滑で平坦な表面１７６を有する焼結材料（た
とえば、ステンレス鋼、複合材料など）の層から成るの
が通例である。ここで言う「焼結材料」とは、気体の通
過を許すような微細な気孔を内部に有する表面の平滑な
材料を意味する。かかる気孔の孔径は０．５〜１００μ
ｍの範囲内にあればよいが、通例は約１０μｍ以下であ
る。
【００１８】上部チャックアセンブリ１６０はまた、
（通例は三方弁から成る）制御弁１７８を介して真空排
気装置１３０に連結された排気管１７７をも含んでい
る。かかる排気管１７７は、合せ面１７４を構成する焼
結材料を通して吸引を行うことによって差圧を生み出す
ために役立つ。制御弁１７８はまた、表面１７６の両側
における圧力を均等化するため通気管１７８にも連結さ
れている。アプリケータ１７０は、組立室１５０の目視
検査を可能にするため、実質的に透明な材料（たとえ
ば、重合体など）から成るのが通例である。あるいはま
た、加工物１１０に対するアプリケータ１７０の位置を
目視によって確認するため、基礎構造物１２０および上
部チャックアセンブリ１６０に覗き窓を設けることもで
きる。
（通例は三方弁から成る）制御弁１７８を介して真空排
気装置１３０に連結された排気管１７７をも含んでい
る。かかる排気管１７７は、合せ面１７４を構成する焼
結材料を通して吸引を行うことによって差圧を生み出す
ために役立つ。制御弁１７８はまた、表面１７６の両側
における圧力を均等化するため通気管１７８にも連結さ
れている。アプリケータ１７０は、組立室１５０の目視
検査を可能にするため、実質的に透明な材料（たとえ
ば、重合体など）から成るのが通例である。あるいはま
た、加工物１１０に対するアプリケータ１７０の位置を
目視によって確認するため、基礎構造物１２０および上
部チャックアセンブリ１６０に覗き窓を設けることもで
きる。
【００１９】図２乃至４に示される本発明の方法に従え
ば、下記に記載されるごとくにして加工物１１０の不規
則な表面１１２上に薄い膜１０５が付着させられる。処
理すべき加工物１１０に適合した位置合せアセンブリを
選択して台板１２２に結合することにより、所望の取付
寸法を有する基礎構造物１２０が形成される。位置合せ
アセンブリ１４０に加工物１１０を嵌合すれば、それは
基礎構造物１２０内の所定の位置に配置されることにな
る。たとえば、位置合せガイド１４５が基礎構造物１２
０内の所定の位置（通例は台板１２２の内面１２４のほ
ぼ中央に位置しかつ不規則な表面１１２上に薄い膜１０
５を配置し得るような位置）に加工物１１０を配置する
ために役立つような位置合せアセンブリ１４０が選択さ
れる。通例、加工物１１０は基体上に光検出器列および
シンチレータを配置して成る撮像装置である。シンチレ
ータの不規則な表面１１２は多数の針状または錐状突起
を有するのが通例であって、それらの突起に順応するよ
うに反射層を付着させることが所望されるのである。
ば、下記に記載されるごとくにして加工物１１０の不規
則な表面１１２上に薄い膜１０５が付着させられる。処
理すべき加工物１１０に適合した位置合せアセンブリを
選択して台板１２２に結合することにより、所望の取付
寸法を有する基礎構造物１２０が形成される。位置合せ
アセンブリ１４０に加工物１１０を嵌合すれば、それは
基礎構造物１２０内の所定の位置に配置されることにな
る。たとえば、位置合せガイド１４５が基礎構造物１２
０内の所定の位置（通例は台板１２２の内面１２４のほ
ぼ中央に位置しかつ不規則な表面１１２上に薄い膜１０
５を配置し得るような位置）に加工物１１０を配置する
ために役立つような位置合せアセンブリ１４０が選択さ
れる。通例、加工物１１０は基体上に光検出器列および
シンチレータを配置して成る撮像装置である。シンチレ
ータの不規則な表面１１２は多数の針状または錐状突起
を有するのが通例であって、それらの突起に順応するよ
うに反射層を付着させることが所望されるのである。
【００２０】反射材のフィルムなどから成る薄い膜１０
５は、それを付着させるべき不規則な表面１１２の領域
の寸法と実質的に一致した寸法を有するモノリシックな
シート材料として形成される。次いで、位置合せガイド
１４５に対応した位置を占めるようにして薄い膜１０５
を合せ面１７４の平滑で平坦な表面１７６上に配置すれ
ば、上部チャックアセンブリ１６０を基礎構造物１２０
に結合した場合に薄い膜１０５は加工物１１０に対して
所望の整列状態を示すことになる。
５は、それを付着させるべき不規則な表面１１２の領域
の寸法と実質的に一致した寸法を有するモノリシックな
シート材料として形成される。次いで、位置合せガイド
１４５に対応した位置を占めるようにして薄い膜１０５
を合せ面１７４の平滑で平坦な表面１７６上に配置すれ
ば、上部チャックアセンブリ１６０を基礎構造物１２０
に結合した場合に薄い膜１０５は加工物１１０に対して
所望の整列状態を示すことになる。
【００２１】本発明に従えば、薄い膜１０５の両側に差
圧を生み出してそれを平滑で平坦な表面１７６上に保持
することにより、薄い膜１０５は合せ面１７４に対する
所望の位置に維持される。たとえば、排気管１７７を真
空排気装置１３０に連結して合せ面１７４を排気するこ
とにより、大気圧の作用下で薄い膜１０５が合せ面１７
４上に保持される。合せ面１７４を構成する焼結材料中
の気孔は比較的小さい（たとえば、約０．５〜１０μｍ
の孔径を有する）から、薄い膜１０５は比較的平坦な状
態に維持される。すなわち、薄い膜１０５の両側に加わ
る差圧は比較的一様であり、従って薄い膜は変形しない
のである。
圧を生み出してそれを平滑で平坦な表面１７６上に保持
することにより、薄い膜１０５は合せ面１７４に対する
所望の位置に維持される。たとえば、排気管１７７を真
空排気装置１３０に連結して合せ面１７４を排気するこ
とにより、大気圧の作用下で薄い膜１０５が合せ面１７
４上に保持される。合せ面１７４を構成する焼結材料中
の気孔は比較的小さい（たとえば、約０．５〜１０μｍ
の孔径を有する）から、薄い膜１０５は比較的平坦な状
態に維持される。すなわち、薄い膜１０５の両側に加わ
る差圧は比較的一様であり、従って薄い膜は変形しない
のである。
【００２２】撮像装置の製造に際しては、薄い膜１０５
はかかる装置のシンチレータ材料の不規則な表面１１２
上に付着させるべき光学反射膜から成るのが通例であ
る。薄い膜１０５を構成する多層光学反射膜は、通例、
（合せ面１７４から遠い側に配置された）接着剤層およ
び光学反射層から成っている。かかる材料の一例とし
て、拡散反射層を成すように酸化チタンを混入した接着
剤層およびプラスチック支持体上に配置された鏡面反射
層（たとえば、銀、金などの層）から成る（「オプチク
ラッド(Opticlad)」として知られる）ものが挙げられ
る。この材料は、米国特許第４７２０４２６号明細書中
に一層詳しく記載されている。拡散反射層（すなわち、
ＴｉＯ2 を混入した接着剤層）の存在は、単独の鏡面反
射層に比べて光学的性能の向上をもたらす。オプチクラ
ッド中の接着剤層／拡散反射層は約５μｍの厚さを有し
ており、また銀−プラスチック鏡面反射層は約２ミルの
厚さを有している。
はかかる装置のシンチレータ材料の不規則な表面１１２
上に付着させるべき光学反射膜から成るのが通例であ
る。薄い膜１０５を構成する多層光学反射膜は、通例、
（合せ面１７４から遠い側に配置された）接着剤層およ
び光学反射層から成っている。かかる材料の一例とし
て、拡散反射層を成すように酸化チタンを混入した接着
剤層およびプラスチック支持体上に配置された鏡面反射
層（たとえば、銀、金などの層）から成る（「オプチク
ラッド(Opticlad)」として知られる）ものが挙げられ
る。この材料は、米国特許第４７２０４２６号明細書中
に一層詳しく記載されている。拡散反射層（すなわち、
ＴｉＯ2 を混入した接着剤層）の存在は、単独の鏡面反
射層に比べて光学的性能の向上をもたらす。オプチクラ
ッド中の接着剤層／拡散反射層は約５μｍの厚さを有し
ており、また銀−プラスチック鏡面反射層は約２ミルの
厚さを有している。
【００２３】上部チャックアセンブリ１６０は、たとえ
ば図１に示されるごとく、基礎構造物１２０との間に組
立室１５０を形成するようにして基礎構造物１２０上に
配置されている。たわみ継手１６５は、組立室１５０を
気密封止すると共に、アプリケータ１７０を加工物１１
０に向けて（または加工物１１０から遠去かるように）
移動させるために役立つ。本発明に従えば、アプリケー
タ１７０は加工物１１０の不規則な表面に対する所望の
位置に薄い膜１０５を配置するようにして選択的に移動
させられる。ここで言う「所望の位置」とは、加工物１
１０の不規則な表面から突出した突起の損傷または変形
を引起こすことなしに薄い膜の一部が少なくとも幾つか
の突起に対して物理的に接触し、かつ下記に記載される
ごとく本発明に従って不規則な表面に順応するように薄
い膜を圧着し得る位置を占めるようにして薄い膜が配置
された状態を意味する。「所望の位置」はまた、加工物
の表面に対して薄い膜が正確な横方向整列状態にあるこ
とをも意味する。かかる正確な横方向整列状態はまた、
加工物に接触すると直ちに付着し始める粘着性の表面を
有する薄い膜の使用を可能にする。なお、粘着性の表面
を使用した場合、薄い膜と加工物との初期接触後にその
膜を加工物の表面に沿って移動させることは不可能であ
る。
ば図１に示されるごとく、基礎構造物１２０との間に組
立室１５０を形成するようにして基礎構造物１２０上に
配置されている。たわみ継手１６５は、組立室１５０を
気密封止すると共に、アプリケータ１７０を加工物１１
０に向けて（または加工物１１０から遠去かるように）
移動させるために役立つ。本発明に従えば、アプリケー
タ１７０は加工物１１０の不規則な表面に対する所望の
位置に薄い膜１０５を配置するようにして選択的に移動
させられる。ここで言う「所望の位置」とは、加工物１
１０の不規則な表面から突出した突起の損傷または変形
を引起こすことなしに薄い膜の一部が少なくとも幾つか
の突起に対して物理的に接触し、かつ下記に記載される
ごとく本発明に従って不規則な表面に順応するように薄
い膜を圧着し得る位置を占めるようにして薄い膜が配置
された状態を意味する。「所望の位置」はまた、加工物
の表面に対して薄い膜が正確な横方向整列状態にあるこ
とをも意味する。かかる正確な横方向整列状態はまた、
加工物に接触すると直ちに付着し始める粘着性の表面を
有する薄い膜の使用を可能にする。なお、粘着性の表面
を使用した場合、薄い膜と加工物との初期接触後にその
膜を加工物の表面に沿って移動させることは不可能であ
る。
【００２４】アプリケータ１７０の移動は、通例、アプ
リケータ１７０の両側に差圧を加えることによって制御
される。そのためには、たとえば、真空排気装置１３０
（図１）に連結された排気管１４６中の制御弁１４７を
選択的に調節することによって組立室１５０内の圧力を
低下させればよい。こうして生じた差圧は、図３に示さ
れるごとく、アプリケータ１７０を加工物１１０に向け
て移動させ、そして薄い膜１０５を加工物１１０に対す
る所望の位置に配置する。あるいはまた、空気圧装置
（たとえば、アプリケータ１７０に連結されたピスト
ン）、電気的装置（たとえば、電気機械的な電動機／作
動器装置）または手動による移動を使用することもでき
る。薄い膜１１０を所望の位置に移動させる操作の確認
は、たとえば、加工用チャックの実質的に透明な部分を
通してアプリケータ１７０および加工物１１０を観察す
ることによって視覚的に行うことができる。あるいはま
た、所望の位置への薄い膜１１０の配置を容易にするた
め、光学的センサ（たとえば、レーザ位置合せ装置）ま
たは電気的センサを使用することもできる。
リケータ１７０の両側に差圧を加えることによって制御
される。そのためには、たとえば、真空排気装置１３０
（図１）に連結された排気管１４６中の制御弁１４７を
選択的に調節することによって組立室１５０内の圧力を
低下させればよい。こうして生じた差圧は、図３に示さ
れるごとく、アプリケータ１７０を加工物１１０に向け
て移動させ、そして薄い膜１０５を加工物１１０に対す
る所望の位置に配置する。あるいはまた、空気圧装置
（たとえば、アプリケータ１７０に連結されたピスト
ン）、電気的装置（たとえば、電気機械的な電動機／作
動器装置）または手動による移動を使用することもでき
る。薄い膜１１０を所望の位置に移動させる操作の確認
は、たとえば、加工用チャックの実質的に透明な部分を
通してアプリケータ１７０および加工物１１０を観察す
ることによって視覚的に行うことができる。あるいはま
た、所望の位置への薄い膜１１０の配置を容易にするた
め、光学的センサ（たとえば、レーザ位置合せ装置）ま
たは電気的センサを使用することもできる。
【００２５】薄い膜１０５が加工物１１０の不規則な表
面１１２上における所望の位置に配置された後、薄い膜
１０５が合せ面１７４から解放される。そのためには、
薄い膜１０５の両側の圧力を均等化して薄い膜１０５が
合せ面１７４上にもはや保持されないようにすればよ
い。圧力の均等化は、排気管１７７から真空排気装置１
３０を切離しかつ制御弁１７８を通気位置に合わせるこ
とによって達成される。次いで、アプリケータ１７０を
加工物１１０に向けて移動させている差圧を解除してア
プリケータ１７０を加工物１１０から遠去ければ、アプ
リケータ１７０を基礎構造物１２０から取外すことがで
きる。かかる運動のための駆動力は空気圧、電気、人力
などから得ることができる。なお、上部チャックアセン
ブリ１６０全体を基礎構造物１２０から取外すこともで
きる。
面１１２上における所望の位置に配置された後、薄い膜
１０５が合せ面１７４から解放される。そのためには、
薄い膜１０５の両側の圧力を均等化して薄い膜１０５が
合せ面１７４上にもはや保持されないようにすればよ
い。圧力の均等化は、排気管１７７から真空排気装置１
３０を切離しかつ制御弁１７８を通気位置に合わせるこ
とによって達成される。次いで、アプリケータ１７０を
加工物１１０に向けて移動させている差圧を解除してア
プリケータ１７０を加工物１１０から遠去ければ、アプ
リケータ１７０を基礎構造物１２０から取外すことがで
きる。かかる運動のための駆動力は空気圧、電気、人力
などから得ることができる。なお、上部チャックアセン
ブリ１６０全体を基礎構造物１２０から取外すこともで
きる。
【００２６】次に、図４に示されるごとく、薄い膜１０
５が加工物１１０の不規則な表面１１２に順応して接触
するように圧着される。ここで言う「圧着」とは、不規
則な表面１１２から突出した突起に応じて薄い膜１０５
を部分的に変形させ、それによって薄い膜１０５が不規
則な表面１１２の凹凸に実質的に順応して接触するよう
にすることを意味する。不規則な表面１１２に対する薄
い膜１０５の圧着は、通例、薄い膜１０５の両側に差圧
を加えてそれを不規則な表面１１２に順応して接触させ
ることによって達成される。薄い膜１０５を圧着するた
めの差圧は、排気管１２６を真空排気装置１３０に連結
して加工物１１０の下方および内部の圧力を低下させる
ことによって生み出される。その結果として薄い膜１０
５に加わる差圧がそれを不規則な表面１１２に順応して
接触させることになる。加わる差圧の大きさは制御弁１
２８によって調節される。更にまた、薄い膜１０５の損
傷を防止するため、薄い膜１０５を覆うように保護ブラ
ンケット１９０を配置することもできる。かかる保護ブ
ランケット１９０は、加えられた差圧が薄い膜１０５に
対して実質的に一様に加えられるように圧力を伝達し、
それによって不規則な表面１１２に対する薄い膜１０５
の順応性を高めるために役立つ。
５が加工物１１０の不規則な表面１１２に順応して接触
するように圧着される。ここで言う「圧着」とは、不規
則な表面１１２から突出した突起に応じて薄い膜１０５
を部分的に変形させ、それによって薄い膜１０５が不規
則な表面１１２の凹凸に実質的に順応して接触するよう
にすることを意味する。不規則な表面１１２に対する薄
い膜１０５の圧着は、通例、薄い膜１０５の両側に差圧
を加えてそれを不規則な表面１１２に順応して接触させ
ることによって達成される。薄い膜１０５を圧着するた
めの差圧は、排気管１２６を真空排気装置１３０に連結
して加工物１１０の下方および内部の圧力を低下させる
ことによって生み出される。その結果として薄い膜１０
５に加わる差圧がそれを不規則な表面１１２に順応して
接触させることになる。加わる差圧の大きさは制御弁１
２８によって調節される。更にまた、薄い膜１０５の損
傷を防止するため、薄い膜１０５を覆うように保護ブラ
ンケット１９０を配置することもできる。かかる保護ブ
ランケット１９０は、加えられた差圧が薄い膜１０５に
対して実質的に一様に加えられるように圧力を伝達し、
それによって不規則な表面１１２に対する薄い膜１０５
の順応性を高めるために役立つ。
【００２７】上記のごとく、（たとえば、シンチレータ
上に使用される光学被覆材のごとき）薄い膜１０５は、
薄い膜１０５が不規則な表面１１２に密着するようにす
るため、不規則な表面１１２に向かって配置された接着
剤層を含むのが通例である。薄い膜１０５が加工物１１
０の不規則な表面１１２に順応して接触するように圧着
された後、保護ブランケット１９０が除去され、そして
薄い膜１０５の接着剤層の硬化およびその他の部品の設
置のための加工処理が加工物１１０に施される。撮像装
置（たとえば、放射線撮像装置）の場合、かかる追加の
部品としては、該装置に追加の保護（たとえば、湿気や
物理的取扱いに由来する損傷からの保護）を施すため、
該装置上にシーラント層として配置されるアルミニウム
などの保護シートが挙げられる。本発明に基づく加工用
チャックおよび製造方法は、かかる部品を設置するため
にも同様にして使用することができる。
上に使用される光学被覆材のごとき）薄い膜１０５は、
薄い膜１０５が不規則な表面１１２に密着するようにす
るため、不規則な表面１１２に向かって配置された接着
剤層を含むのが通例である。薄い膜１０５が加工物１１
０の不規則な表面１１２に順応して接触するように圧着
された後、保護ブランケット１９０が除去され、そして
薄い膜１０５の接着剤層の硬化およびその他の部品の設
置のための加工処理が加工物１１０に施される。撮像装
置（たとえば、放射線撮像装置）の場合、かかる追加の
部品としては、該装置に追加の保護（たとえば、湿気や
物理的取扱いに由来する損傷からの保護）を施すため、
該装置上にシーラント層として配置されるアルミニウム
などの保護シートが挙げられる。本発明に基づく加工用
チャックおよび製造方法は、かかる部品を設置するため
にも同様にして使用することができる。
【００２８】次の図５には、本発明に従って製造された
放射線撮像装置３００の代表的な部分の断面図が示され
ている。かかる撮像装置３００は、基体３１０およびそ
の上に配置された光検出器列３２０を含んでいる。光検
出器列３２０は、アドレス線やスイッチング素子（たと
えば、薄膜トランジスタ）に接続されて所望の感光性能
を示す１群のホトダイオードなどから成るのが通例であ
る。かかる光検出器列３２０の実例は、「遮断層を有す
る高感度かつ高解像度の固体Ｘ線撮像装置」と称する米
国特許第５１８７３６９号および「高い集光効率を有す
る光検出器−シンチレータ放射線撮像装置」と称する米
国特許第５２０８４６０号の明細書中に開示されてい
る。光検出器列３２０上に配置されたシンチレータ３３
０は不規則な上面３３４を有していて、シンチレータ３
３０の上面３３４からは多数の突起３３２が突出してい
る。かかる突起３３２は針状または錘状の形状を有して
いて、上面３３４からの高さＨは約２〜５μｍの範囲内
にある。シンチレータ３３０はヨウ化セシウム、ヨウ化
ナトリウムなどのごとき材料から成るのが通例であり、
またシンチレータ材料中に含まれる典型的なドーパント
はタリウム、ナトリウムなどである。
放射線撮像装置３００の代表的な部分の断面図が示され
ている。かかる撮像装置３００は、基体３１０およびそ
の上に配置された光検出器列３２０を含んでいる。光検
出器列３２０は、アドレス線やスイッチング素子（たと
えば、薄膜トランジスタ）に接続されて所望の感光性能
を示す１群のホトダイオードなどから成るのが通例であ
る。かかる光検出器列３２０の実例は、「遮断層を有す
る高感度かつ高解像度の固体Ｘ線撮像装置」と称する米
国特許第５１８７３６９号および「高い集光効率を有す
る光検出器−シンチレータ放射線撮像装置」と称する米
国特許第５２０８４６０号の明細書中に開示されてい
る。光検出器列３２０上に配置されたシンチレータ３３
０は不規則な上面３３４を有していて、シンチレータ３
３０の上面３３４からは多数の突起３３２が突出してい
る。かかる突起３３２は針状または錘状の形状を有して
いて、上面３３４からの高さＨは約２〜５μｍの範囲内
にある。シンチレータ３３０はヨウ化セシウム、ヨウ化
ナトリウムなどのごとき材料から成るのが通例であり、
またシンチレータ材料中に含まれる典型的なドーパント
はタリウム、ナトリウムなどである。
【００２９】本発明に従い、モノリシックなシート材料
から成る薄い光学反射膜３４０がシンチレータ３３０の
上面３３４に順応するように配置されている。かかる光
学反射膜３４０は接着剤層３４２および反射層３４４か
ら成っている。接着剤層３４２はまた、シンチレータ３
３０の上面３３４から飛び出す光子を反射してシンチレ
ータ材料中に戻す作用を助けるため、所定の濃度に分散
させた拡散反射材（たとえば、酸化チタン粉末）をも含
んでいる。接着剤層３４２は、シンチレータ３３０の上
面３３４に実質的に密着して配置されている。すなわ
ち、シンチレータ３３０の突起３３２と光学反射膜３４
０との間には実質的に間隙が存在しないので、両者間に
おいて良好な光学的結合が達成され、従って各々の錘状
突起は光学的に見て効果的に隔離されている（つまり、
突起間における光の伝達は最少限に抑えられる）。接着
剤層３４２の厚さおよび展性並びに突起３３２の高さＨ
に応じ、光学反射膜３４０は図５に示されるごとくシン
チレータ３３０の上面３３４のほぼ全体に密着して配置
される。たとえば、本発明に従えば、厚さ約５μｍの接
着剤層を有する薄い光学反射膜は高さ５μｍ以下の針状
突起を有するシンチレータの上面全体に順応して配置さ
れる。シンチレータを用いた撮像装置においては、（本
明細書中に記載された接着剤層／拡散反射層のごとき）
光学的結合材料が不規則な表面の全体を被覆することが
望ましい。しかし、その他の装置においては、このよう
な完全な順応被覆は必ずしも必要でないのであって、薄
い膜は突起の上方部分のみを被覆するようにして不規則
な表面上に配置されていればよい。 本発明に従ってシ
ンチレータの不規則な表面に順応して配置された薄い光
学反射膜を有する撮像装置は、反射被膜を有しないシン
チレータまたはスパッタリングなどの方法によってシン
チレータ上に直接に設置された反射被膜を有するシンチ
レーションに比べて性能の向上を示す。たとえば、本発
明に従って製造された撮像装置中の光検出器列は、反射
被膜を有しないシンチレータに結合された同様な光検出
器列に比べ、シンチレータ中において発生した光子を約
４５％も多く検出することが判明した。
から成る薄い光学反射膜３４０がシンチレータ３３０の
上面３３４に順応するように配置されている。かかる光
学反射膜３４０は接着剤層３４２および反射層３４４か
ら成っている。接着剤層３４２はまた、シンチレータ３
３０の上面３３４から飛び出す光子を反射してシンチレ
ータ材料中に戻す作用を助けるため、所定の濃度に分散
させた拡散反射材（たとえば、酸化チタン粉末）をも含
んでいる。接着剤層３４２は、シンチレータ３３０の上
面３３４に実質的に密着して配置されている。すなわ
ち、シンチレータ３３０の突起３３２と光学反射膜３４
０との間には実質的に間隙が存在しないので、両者間に
おいて良好な光学的結合が達成され、従って各々の錘状
突起は光学的に見て効果的に隔離されている（つまり、
突起間における光の伝達は最少限に抑えられる）。接着
剤層３４２の厚さおよび展性並びに突起３３２の高さＨ
に応じ、光学反射膜３４０は図５に示されるごとくシン
チレータ３３０の上面３３４のほぼ全体に密着して配置
される。たとえば、本発明に従えば、厚さ約５μｍの接
着剤層を有する薄い光学反射膜は高さ５μｍ以下の針状
突起を有するシンチレータの上面全体に順応して配置さ
れる。シンチレータを用いた撮像装置においては、（本
明細書中に記載された接着剤層／拡散反射層のごとき）
光学的結合材料が不規則な表面の全体を被覆することが
望ましい。しかし、その他の装置においては、このよう
な完全な順応被覆は必ずしも必要でないのであって、薄
い膜は突起の上方部分のみを被覆するようにして不規則
な表面上に配置されていればよい。 本発明に従ってシ
ンチレータの不規則な表面に順応して配置された薄い光
学反射膜を有する撮像装置は、反射被膜を有しないシン
チレータまたはスパッタリングなどの方法によってシン
チレータ上に直接に設置された反射被膜を有するシンチ
レーションに比べて性能の向上を示す。たとえば、本発
明に従って製造された撮像装置中の光検出器列は、反射
被膜を有しないシンチレータに結合された同様な光検出
器列に比べ、シンチレータ中において発生した光子を約
４５％も多く検出することが判明した。
【００３０】以上、特定の実施の態様に関連して本発明
を記載したが、それ以外にも数多くの変更態様が可能で
あることは当業者にとって自明であろう。それ故、本発
明の精神に反しない限り、かかる変更態様の全てが前記
特許請求の範囲によって包括されることを理解すべきで
ある。
を記載したが、それ以外にも数多くの変更態様が可能で
あることは当業者にとって自明であろう。それ故、本発
明の精神に反しない限り、かかる変更態様の全てが前記
特許請求の範囲によって包括されることを理解すべきで
ある。
【図１】加工物の不規則な表面に順応するようにして該
表面上に薄い膜を付着させるため本発明の方法において
使用される加工用チャックの断面図である。
表面上に薄い膜を付着させるため本発明の方法において
使用される加工用チャックの断面図である。
【図２】本発明の製造方法を構成する一工程を示す断面
図である。
図である。
【図３】本発明の製造方法を構成する一工程を示す断面
図である。
図である。
【図４】本発明の製造方法を構成する一工程を示す断面
図である。
図である。
【図５】本発明に従って製造された放射線撮像装置の代
表的な部分を示す略図である。
表的な部分を示す略図である。
１００ 加工用チャック １０５ 薄い膜 １１０ 加工物 １１２ 不規則な表面 １２０ 基礎構造物 １２２ 台板 １２４ 内面 １２６ 排気管 １２８ 制御弁 １３０ 真空排気装置 １４０ 位置合せアセンブリ １４２ 封止手段 １４６ 排気管 １４７ 制御弁 １４８ 通気管 １５０ 組立室 １６０ 上部チャックアセンブリ １６２ 封止手段 １６４ フレーム １６５ たわみ継手 １７０ アプリケータ １７２ 真空チャック １７４ 合せ面 １７６ 平滑で平坦な表面 １７７ 排気管 １７８ 制御弁 １９０ 保護ブランケット ３００ 放射線撮像装置 ３１０ 基体 ３２０ 光検出器列 ３３０ シンチレータ ３３２ 突起 ３３４ 上面 ３４０ 光学反射膜 ３４２ 接着剤層 ３４４ 反射層
Claims (29)
- 【請求項１】 不規則な表面に順応しながら接触した状
態で膜を付着させるための方法において、（ａ）不規則
な表面を有する加工物に対する所望の位置に膜を配置し
て前記膜を前記加工物の前記不規則な表面から突出した
少なくとも幾つかの突起に接触させ、次いで（ｂ）前記
加工物に前記膜を圧着して前記膜を前記加工物の前記不
規則な表面に存在する実質的に全ての突起に順応するよ
うに付着させる両工程を含むことを特徴とする方法。 - 【請求項２】 前記加工物に前記膜を圧着する前記工程
（ｂ）が、前記薄い膜の両側に実質的に一様な差圧を加
えて前記薄い膜を前記不規則な表面に順応するように接
触させる工程を有する請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 前記所望の位置に前記膜を配置する前記
工程（ａ）が、（ａ１）前記薄い膜の両側に差圧を維持
することによって前記薄い膜を比較的平坦な状態に維持
するように構成されたアプリケータ上に前記薄い膜を保
持し、（ａ２）前記加工物に対して前記薄い膜を所定の
横方向整列状態に維持しながら前記加工物に対して前記
アプリケータを移動させて前記薄い膜を前記所望の位置
に配置し、次いで（ａ３）前記アプリケータから前記薄
い膜を解放する工程を有する請求項２記載の方法。 - 【請求項４】 前記アプリケータ上に前記薄い膜を保持
する前記工程（ａ１）が、前記アプリケータの合せ面上
に前記薄い膜を配置し、次いで前記アプリケータ内を排
気して前記薄い膜を差圧により前記合せ面に着座させる
工程を有する請求項３記載の方法。 - 【請求項５】 前記合せ面が多孔質材料から成ってい
て、前記多孔質材料中の気孔が前記薄い膜を差圧の作用
下で前記多孔質材料に接触させて比較的平坦な状態に維
持するために役立つ請求項４記載の方法。 - 【請求項６】 前記加工物に対して前記アプリケータを
移動させて前記薄い膜を前記所望の位置に配置する前記
工程（ａ２）が、前記加工物を所定の位置に保持するよ
うに構成された基礎構造物に対して前記アプリケータを
気密状態で結合することにより、組立室を形成すると共
に前記薄い膜が前記加工物に対して所定の整列状態を示
すように前記アプリケータを前記基礎構造物に対して位
置合せし、次いで前記組立室内において前記アプリケー
タの前記合せ面を移動させて前記薄い膜を前記所望の位
置に配置する工程を有する請求項５記載の方法。 - 【請求項７】 前記アプリケータの前記合せ面を前記組
立室内に移動させる前記工程が、前記組立室を排気して
前記アプリケータの両側に差圧を生み出すことにより、
前記所定の整列状態を維持しながら前記合せ面を前記加
工物に向けて移動させる工程を有する請求項６記載の方
法。 - 【請求項８】 前記加工物に前記膜を圧着する前記工程
（ｂ）が、前記基礎構造物の一部分を排気して前記薄い
膜の両側に実質的に一様な差圧を生み出すことにより、
前記薄い膜を前記不規則な表面に順応するように接触さ
せる工程を有する請求項７記載の方法。 - 【請求項９】 前記基礎構造物の一部分を排気して前記
薄い膜の両側に実質的に一様な差圧を生み出すのに先立
ち、前記加工物に対する前記所望の位置に配置された前
記薄い膜上に保護ブランケットを配置する工程が更に含
まれている請求項８記載の方法。 - 【請求項１０】 前記加工物が一群の撮像装置部材を含
む請求項９記載の方法。 - 【請求項１１】 前記一群の撮像装置部材が前記不規則
な表面を呈するように配置された一群のシンチレータか
ら成る請求項１０記載の方法。 - 【請求項１２】 前記薄い膜が反射被膜材料から成る請
求項１１記載の方法。 - 【請求項１３】 前記反射被膜材料が接着剤層および反
射層を含む請求項１２記載の方法。 - 【請求項１４】 前記反射被膜材料上にシーラント層を
設置する工程が更に含まれている請求項１３記載の方
法。 - 【請求項１５】 不規則な表面を有するシンチレータ
と、前記シンチレータの前記不規則な表面から突出した
実質的に全ての突起の少なくとも上方部分に順応するよ
うにして前記シンチレータの前記不規則な表面上に配置
された反射膜とを含むことを特徴とする撮像装置。 - 【請求項１６】 前記反射膜が前記シンチレータの前記
不規則な表面のほぼ全体に接触している結果、前記シン
チレータと前記反射膜との間においては光が直接に伝達
される請求項１５記載の撮像装置。 - 【請求項１７】 前記反射膜が接着剤層および反射層を
含む請求項１６記載の撮像装置。 - 【請求項１８】 前記接着剤層が前記不規則な表面に実
質的に順応して配置されている請求項１７記載の撮像装
置。 - 【請求項１９】 前記接着剤層が拡散反射材を含有する
請求項１８記載の撮像装置。 - 【請求項２０】 前記不規則な表面に順応して配置され
た前記反射膜がモノリシックなものである請求項１９記
載の撮像装置。 - 【請求項２１】 前記シンチレータがヨウ化セシウムか
ら成る請求項２０記載の撮像装置。 - 【請求項２２】 前記シンチレータに対して光学的に結
合された少なくとも１個の光検出器が設けられている請
求項２１記載の撮像装置。 - 【請求項２３】 シンチレータの不規則な表面から突出
した実質的に全ての突起に沿って薄い膜を配置すること
によって前記薄い膜と前記シンチレータとの間において
光が直接に伝達されるようにするため、前記シンチレー
タの前記不規則な表面に順応するようにして前記薄い膜
を配置する工程を含む方法によって製造されたことを特
徴とする撮像装置。 - 【請求項２４】 前記シンチレータの前記不規則な表面
に順応するようにして前記薄い膜を配置する前記工程
が、前記シンチレータに対して前記薄い膜を所定の横方
向整列状態に維持しながら前記シンチレータに対する所
望の位置に前記薄い膜を配置し、次いで前記薄い膜の両
側に実質的に一様な差圧を加えて前記薄い膜を前記シン
チレータの前記不規則な表面に順応するように接触させ
る工程を有する請求項２３記載の撮像装置。 - 【請求項２５】 前記所望の位置に前記薄い膜を配置す
る前記工程が、前記薄い膜の両側に差圧を維持すること
によって前記薄い膜を合せ面上に着座させながら比較的
平坦な状態に維持するように構成されたアプリケータの
前記合せ面上に前記薄い膜を保持し、前記シンチレータ
の前記不規則な表面に対して前記アプリケータを移動さ
せて前記薄い膜を前記所望の位置に配置し、次いで前記
アプリケータの前記合せ面から前記薄い膜を解放する工
程を有する請求項２４記載の撮像装置。 - 【請求項２６】 前記シンチレータの前記不規則な表面
に対して前記アプリケータを移動させて前記薄い膜を前
記所望の位置に配置する前記工程が、前記シンチレータ
を所定の位置に保持するように構成された基礎構造物に
対して前記アプリケータを結合することにより、組立室
を形成すると共に前記薄い膜が前記シンチレータの前記
不規則な表面に対して所定の整列状態を示すように前記
アプリケータを前記基礎構造物に対して位置合せし、次
いで前記組立室内において前記アプリケータの前記合せ
面を移動させて前記薄い膜を前記所望の位置に配置する
工程を有する請求項２５記載の撮像装置。 - 【請求項２７】 前記薄い膜を前記シンチレータの前記
不規則な表面に順応するように接触させる前記工程が、
前記基礎構造物の一部分を排気して前記薄い膜の両側に
実質的に一様な差圧を生み出すことにより、前記薄い膜
を前記不規則な表面に順応するように接触させる工程を
有する請求項２６記載の撮像装置。 - 【請求項２８】 前記基礎構造物の一部分を排気して前
記薄い膜の両側に実質的に一様な差圧を生み出すのに先
立ち、前記シンチレータに対する前記所望の位置に配置
された前記薄い膜上に柔軟なシートを配置する工程が更
に含まれている請求項２７記載の撮像装置。 - 【請求項２９】 前記シンチレータがヨウ化セシウムお
よびヨウ化ナトリウムから成る群より選ばれた材料から
成る請求項２８記載の撮像装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US8411193A | 1993-07-01 | 1993-07-01 | |
| US084111 | 1993-07-01 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07174857A true JPH07174857A (ja) | 1995-07-14 |
Family
ID=22182944
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6145211A Withdrawn JPH07174857A (ja) | 1993-07-01 | 1994-06-28 | 不規則な表面に膜を付着させる方法およびそれによって製造された装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6328838B1 (ja) |
| EP (1) | EP0633124B1 (ja) |
| JP (1) | JPH07174857A (ja) |
| DE (1) | DE69416460D1 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6573506B2 (en) | 1998-06-18 | 2003-06-03 | Hamamatsu Photonics K.K. | Scintillator panel and radiation image sensor |
| US6762420B2 (en) | 1998-06-18 | 2004-07-13 | Hamamatsu Photonics K.K. | Organic film vapor deposition method and a scintillator panel |
| US6867418B2 (en) | 2000-01-13 | 2005-03-15 | Hamamatsu Photonics K.K. | Radiation image sensor and scintillator panel |
| US6891164B2 (en) | 2000-01-13 | 2005-05-10 | Hamamatsu Photonics K.K. | Radiation image sensor and scintillator panel |
| JP2017161407A (ja) * | 2016-03-10 | 2017-09-14 | コニカミノルタ株式会社 | シンチレータおよび放射線検出器 |
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| US6146578A (en) * | 1997-10-09 | 2000-11-14 | Lear Corporation | Method for molding headliners |
| JP4374657B2 (ja) | 1999-06-08 | 2009-12-02 | アイシン精機株式会社 | シートリクライニング装置 |
| JP4398065B2 (ja) * | 2000-05-19 | 2010-01-13 | 浜松ホトニクス株式会社 | 放射線検出器 |
| JP4234304B2 (ja) * | 2000-05-19 | 2009-03-04 | 浜松ホトニクス株式会社 | 放射線検出器 |
| US6847041B2 (en) * | 2001-02-09 | 2005-01-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Scintillator panel, radiation detector and manufacture methods thereof |
| KR100434493B1 (ko) * | 2001-10-05 | 2004-06-05 | 삼성전자주식회사 | 원자층 증착 장치 및 그 구동 방법 |
| JP3693972B2 (ja) * | 2002-03-19 | 2005-09-14 | 富士通株式会社 | 貼合せ基板製造装置及び基板貼合せ方法 |
| ATE454976T1 (de) | 2004-06-28 | 2010-01-15 | Alpla Werke | Herstellverfahren und extrusionsblasmaschine für kunststoffbehälter |
| SG11201810824UA (en) * | 2016-06-03 | 2019-01-30 | Applied Materials Inc | Effective and novel design for lower particle count and better wafer quality by diffusing the flow inside the chamber |
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| FR2287048A1 (fr) * | 1974-10-04 | 1976-04-30 | Commissariat Energie Atomique | Dispositif pour ameliorer les proprietes optiques d'un assemblage scintillateur-photocathode |
| FR2360989A1 (fr) * | 1976-08-03 | 1978-03-03 | Thomson Csf | Intensificateur d'image radiologique, et son procede de fabrication |
| DE7637031U1 (ja) * | 1976-11-25 | 1977-03-10 | Fa. Willi Illbruck, 5090 Leverkusen | |
| EP0303730A3 (en) * | 1983-11-09 | 1989-04-26 | Siemens Aktiengesellschaft | Scintillation crystal for a radiation detector and method for producing same |
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| DE3507667A1 (de) * | 1985-03-05 | 1987-08-27 | Irbit Research & Consulting Ag | Vorrichtung zum ueberziehen von schaumstoffplatten |
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| US5179284A (en) * | 1991-08-21 | 1993-01-12 | General Electric Company | Solid state radiation imager having a reflective and protective coating |
-
1994
- 1994-06-23 DE DE69416460T patent/DE69416460D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-06-23 EP EP94304581A patent/EP0633124B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-06-28 JP JP6145211A patent/JPH07174857A/ja not_active Withdrawn
- 1994-10-28 US US08/330,642 patent/US6328838B1/en not_active Expired - Fee Related
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| US6867418B2 (en) | 2000-01-13 | 2005-03-15 | Hamamatsu Photonics K.K. | Radiation image sensor and scintillator panel |
| US6891164B2 (en) | 2000-01-13 | 2005-05-10 | Hamamatsu Photonics K.K. | Radiation image sensor and scintillator panel |
| US7064335B2 (en) | 2000-01-13 | 2006-06-20 | Hamamatsu Photonics K.K. | Radiation image sensor and scintillator panel |
| JP2017161407A (ja) * | 2016-03-10 | 2017-09-14 | コニカミノルタ株式会社 | シンチレータおよび放射線検出器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69416460D1 (de) | 1999-03-25 |
| EP0633124B1 (en) | 1999-02-10 |
| US6328838B1 (en) | 2001-12-11 |
| EP0633124A1 (en) | 1995-01-11 |
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