JP3607317B2 - 真空製造チャック - Google Patents

Description

【０００１】
【関連出願】
本出願は、本出願と同日に出願され、本発明の被譲渡人に譲渡された係属中の米国特許出願（出願人控え番号ＲＤ−２１３１０）、発明の名称「不規則な形状を有する面に対する薄膜の同形沈積、及びこれにより形成された装置」と関連する。
【０００２】
【発明の背景】
放射作像装置のような多くの装置では、不規則な形状をした面に薄膜を適用することが望ましい。例えば、シンチレータが光センサに光学的に結合される放射作像装置では、光検出器に接している面と向かい合ったシンチレータの面に反射材料の層を適用して、シンチレータで発生された光子が光センサに向かって反射されるようにすることが望ましい。通常、シンチレータの一方の面は不規則な形状を成している、即ち、面から突起が伸びており、従って、面は平坦ではない。このような突起は、沈積過程によって得られる針形又はピラミッド形構造であって、配列内で発生された光子の検出を、入射した放射線がシンチレータ内に吸収された区域に局限するのに役立つ。
【０００３】
シンチレータの不規則な面に反射被覆（コーティング）を適用することは、多数の問題を伴う。沃化セシウムのような多くのシンチレータ材料は熱膨張係数が大きく、このため、スパッタリングによるように、反射被覆が面に沈積される方法の影響を極めて受け易い。このような沈積方法に伴う比較的高い温度（例えば、約３００℃〜４００℃よりも上の温度）により、シンチレータ材料にひび割れが生じ、このひび割れが光学的な不連続を発生させ、そのため、シンチレータの性能を劣化させる。
【０００４】
例えば、シンチレータの面上の反射被覆が、シンチレータが反射被覆を含んでいない構成の場合に比べて、光センサによって検出される光子の数を目立って増加させることが望ましい（例えば、捕捉される光子が少なくとも１／３又はそれ以上増加することが望ましい）。更に、反射被覆はシンチレータの不規則な形状と同形状になっており、このため、光子が反射層とシンチレータ材料との間で直接的に結合され、シンチレータ材料と反射材料との間のすき間の空所があるとしても、極く少なくすべきである。更に、反射材料を適用するために、材料を熱的に劣化させることにより、又はシンチレータの針形又はピラミッド形構造を機械的に変形させることにより、シンチレータ構造を劣化させてはならない。所望の光学的及び物理的な特性を有する反射材料は、モノリシックの薄膜（本明細書で用いる「モノリシック」とは、シート状の形状をした実質的に一様な材料を指す。）として入手し得るが、シンチレータ又は薄膜を損傷せずに、このような薄膜をシンチレータの不規則な形状の面に適用することには問題があった。
【０００５】
シンチレータ及びその他の光学的な部品を覆うために用いられるモノシリックの薄膜は、極めて薄い（例えば、約１．５２４ｍｍ（０．０６０インチ）又はそれ未満）であることが典型的であり、薄膜を損傷（例えば、ちぎれたり固まったり）させずに、又はそれを適用する不規則な面を損傷（例えば、面上の若干の突起を変形）させずに、適用することが困難である。
【０００６】
不規則な形状を有している面に比較的薄い膜（又は被膜（フィルム））を同形に沈積することは、液晶装置の製造、並びにレンズ及び反射器等のような部品に対する光学被覆の適用にも用途がある。従って、本発明の目的は、膜が不規則な面と同形になるように、薄膜を不規則な形状を有する面に沈積する装置を提供することである。
【０００７】
本発明の他の目的は、不規則な形状を有する面を有しているシンチレータの上に設けられた薄膜反射被覆を有している作像装置を製造する装置を提供することである。本発明の更に他の目的は、膜が工作物に関して横方向に精密に整合するように、薄膜を工作物に対する所望の位置に配設する装置を提供することである。
【０００８】
【発明の要約】
本発明によれば、工作物の不規則な形状をした面に薄膜を適用する真空製造チャックが、選択された製造位置に工作物を保持するように構成されている基礎と、基礎に着脱自在に結合されるように構成されていると共に基礎と当該上側チャック集成体との間に組み立て室を形成するように基礎に気密シール（封じ）されている上側チャック集成体とを含んでいる。上側チャック集成体は、この上側チャック集成体内に可動に取り付けられていると共に工作物に向けて選択的に変位させられるように構成されているアプリケータを含んでいる。アプリケータは、薄膜を工作物に関して位置決めするために薄膜を解放自在に保持するように構成されている合わさる面を含んでいる。製造チャックは更に、組み立て室の内部と組み立て室の外部との間に差圧を発生すること等により、アプリケータを工作物に関する組み立て室内での所望の位置に選択的に変位させる手段と、薄膜が不規則な形状をした面と同形状に接触するよう吸い付けられるように、（薄膜をその上に載せた）工作物の両側に差圧を発生すること等により、工作物の不規則な形状をした面に薄膜を吸い付ける手段とを含んでいる。真空源又は逃がし口に弁を介して選択的に結合されている真空パイプが、この差圧を発生するために用いられている。
【０００９】
本発明の新規と考えられる特徴は、特許請求の範囲に具体的に記載してあるが、本発明自体の構成、作用、並びにその他の目的及び利点は、以下図面について説明するところから最もよく理解されよう。図面全体にわたり、同様な部分には同じ参照番号を用いている。
【００１０】
【実施例】
本発明による製造チャック１００が、基礎１２０と、基礎１２０に着脱自在に結合されている上側チャック集成体１６０とを含んでいる。本発明によれば、比較的薄い膜１０５を工作物１１０の不規則な面１１２上に配設して、面の不規則な形状と一致するようにすることができる。本明細書で用いる「膜」とは、典型的にはモノリシックである、即ちシート状の材料のように実質的に一体であって、典型的には柔軟である（半ば剛性の材料を含んでいる）多孔質及び非多孔質の材料を指す。「比較的薄い」とは、約０．０１２７ｍｍ〜１．５２４ｍｍ（約０．０００５インチ〜０．０６０インチ）の間の厚さを有する材料を指す。「不規則な面」とは、突起が伸び出しており（又はその代わりに、面がその中に凹みを有していると考えてもよい）、滑かでない面を指す。「同形状に配設する」等という用語は、材料を面の突起（又は凹み）の周りに沈積して、適用された材料が不規則な面の少なくとも所望の部分と実質的に直接的に接触しており、面と適用された材料との間に実質的にすき間の空所がないことを言う。
【００１１】
基礎１２０は基部１２２を含んでおり、基部１２２は、基部１２２の内面１２４上に配設されている工作物１１０にわたって真空に引くことができるように構成されている。例えば、真空パイプ（又は鉛管）１２６が基部１２２に設けられていると共に、内面１２４上のオリフィス１２７に結合されている。パイプ１２６は更に、制御弁１２８を介して真空源１３０に結合されており、こうして、工作物１１０の下側を真空に引くこと（例えば、工作物１１０の下側の区域内の周囲圧力を下げること）により、不規則な面１１２にわたって差圧を発生させる手段になっている。オリフィス１２７は内面１２４のうち、工作物１１０の区域に対応する一部にわたって設けられていることが典型的であり、このため、発生される差圧は工作物のこの区域にわたって実質的に一様である。制御弁１２８は典型的には、三方弁で構成されており、三方弁は又、鉛管１２６内の逃がし口に結合されており、所望のときに工作物１１０にわたって圧力を等化することができるようになっている。この代わりに、別々の２つの弁、即ち真空源に結合するための１つの弁と、逃がすための１つの弁とを用いてもよい。
【００１２】
図１に示すように、基礎１２０は更に、整合集成体１４０を含んでおり、整合集成体１４０は、基部１２２から取り外し自在であるが、基部１２２にしっかりと取り付けることのできるように、例えば掛金、クランプ、ねじ、ボルト及びナット等（図に示していない）によって基部１２２に着脱自在に結合されている。Ｏリングのようなシール（封じ）１４２が整合集成体１４０と基部１２２との間に配設されており、両者を結合したときに、基部及び整合集成体が気密に結合されるようになっている。本明細書で用いる「気密に結合される」とか、「気密シール」とかの用語は、実質的に空気に対して密であって、密封された境界にわたって差圧を発生することのできるようなシールを言う。
【００１３】
整合集成体１４０は更に、工作物１１０を基部１２２に関して、従って、これから更に詳しく説明するように、その上に薄膜１０５が配設されている上側チャック集成体１６０に関して、選択された位置に整合させるように構成されている整合案内部１４５を含んでいる。図１に示すように、整合案内部１４５は、整合集成体１４０から伸びているフィンガを含んでいる。この代わりに、整合方式として、整合集成体１４０にある溝又は凹みを、工作物１１０を受け入れて所望の製造位置、即ち、後で更に詳しく説明するが、アプリケータ１７０から薄膜を受け取るように工作物が配置されている内面１２４上の位置に整合させるように構成してもよい。
【００１４】
本発明によれば、基部１２２は、異なる整合集成体１４０を（一度に１つずつ）基部に取り付けることができるように構成されており、こうして、寸法の異なる工作物を整合させるために合った整合集成体を基部１２２にそれぞれ取り付けることができるようになっている。この代わりに、基部１２２及び整合集成体１４０を単一の集成体（即ち、整合集成体１４０は基部１２２から着脱自在でない）で構成してもよい。基部及び整合集成体は典型的には、ステンレス鋼等の金属、又はこれから説明する差圧に耐えるのに十分な強度及び剛性を有している複合材料で構成されている。
【００１５】
整合集成体は典型的には更に、真空ポート１４６と、逃がしポート１４８とを含んでおり、真空ポート１４６は、制御弁１４７を介して真空源１３０に結合されている。制御弁１４７は典型的には三方弁であって、整合集成体１４０の壁の両側の圧力を等化するように逃がしポート１４８に結合されるよう構成されている。三方弁の代わりに別々の２つの弁を用いてもよい。真空源１３０は真空ポンプ等で構成されており、利用される真空の程度は、製造チャックの寸法に応じた設計事項である。ここで説明するようなシンチレータに光学被覆層を適用するための製造チャックでは、水銀柱約５０．８ｃｍ（２０インチ）までの真空源が満足し得る。
【００１６】
上側チャック集成体１６０は、上側チャック集成体１６０と整合集成体１４０との間に組み立て室１５０を形成するように、整合集成体１４０に気密シールされるよう構成されている。Ｏリングのようなシール１６２が上側チャック集成体１６０と整合集成体１４０との間に配設されており、２つの集成体が結合されている継目を気密シールしている。
【００１７】
上側チャック集成体１６０は、枠（フレーム）１６４と、アプリケータ１７０とを含んでいる。アプリケータ１７０は、アプリケータ１７０が組み立て室１５０内で工作物１１０に向かって選択的に変位させられるように、可撓性継手１６５によって枠１６４内に位置決めされている。上側チャック集成体１６０は、工作物１１０に向かってのアプリケータの変位が所定の軸線に沿って、薄膜１０５が工作物１１０と横方向に精密に整合するように構成されている。この精密な横方向の整合が可能であるのは、アプリケータ１７０が整合集成体１４０内に位置決めされていると共に上側チャック集成体１６０が製造チャックを形成するために基礎１２０に結合されているときに、工作物１１０がアプリケータ１７０に関して既知の選択された位置に配設されているからである。本明細書で用いる「横方向の整合」とは、膜／工作物の平面内で工作物に関して薄膜が整合するように、工作物の上方に薄膜が位置決めされることを言う。例えば、可撓性継手１６５は、枠１６４内でのアプリケータ１７０の性能が維持されるように、アプリケータ１７０を枠１６４の側壁に沿って移動させることができるように構成されている。アプリケータ１７０は、組み立て室１５０と向かい合って設けられている合わさる面１７４を有している真空チャック１７２を含んでいる。合わさる面１７４は典型的には、ステンレス鋼のような焼結材料、複合体等の層で構成されており、滑かな平面状の面１７６を含んでいる。本明細書で用いる「焼結材料」とは、ガスがその中を通過することができるようにする細かい気孔を有している滑かな面を有する材料を言う。これらの気孔の寸法は０．５μｍ〜１００μｍの範囲内であってもよいが、典型的な気孔の寸法は約１０μｍ又はそれ未満である。
【００１８】
上側チャック集成体１６０は更に、真空鉛管１７７を含んでおり、真空鉛管１７７は、（典型的には三方弁で構成されている）制御弁１７８を介して真空源１３０に結合されていると共に、合わさる面１７４を構成している焼結材料を通して吸い込むことにより、差圧を発生するように構成されている。制御弁１７８は更に、逃がし配管１７９に連結されており、合わさる面１７６の両側の圧力を等化することができるようにしている。アプリケータ１７０は典型的には、組み立て室の可視的な検査ができるように、重合体等のような実質的に透明な材料で構成されている。この代わりに、又はこの他に、基礎１２０及び上側チャック集成体１６０にのぞきポートを設けて、工作物１１０に関するアプリケータ１７０の位置を可視的に決定するようにしてもよい。
【００１９】
本発明の真空製造チャックの動作が、図２（Ａ）〜図２（Ｃ）に例示されている。これから説明するように、薄膜１０５が工作物１１０の不規則な面１１２に適用される。処理しようとする工作物に適切な整合集成体を選択し、基部１２２に結合して、所望の整合寸法を有している基礎１２０を形成する。工作物１１０は、基礎内の選択された位置に配設されるように、整合集成体１４０内に嵌まっている。例えば、整合集成体１４０は、整合案内部１４５が工作物１１０を基礎内の選択された位置、典型的にはそれが載っかる基部１２２の内面１２４の面に実質的に中心合わせされた位置に整合するように配設されており、且つ可撓性の膜をその上に配設することができるような位置に不規則な面１１２を配設するように選択されている。工作物１２０は典型的には、光センサ配列及びシンチレータをその上に載せた基板を有している作像装置の配列を含んでいる。シンチレータの不規則な面１１２は典型的には、面からの多数の針形又はピラミッド形の突起を含んでおり、その上に同形状の反射層を沈積しようとするものである。
【００２０】
反射材料等の薄膜のような薄膜１０５は、それを適用しようとする不規則な面１１２の区域の寸法と実質的に対応する寸法を有しているモノリシックのシート状の材料に整形されている。薄膜１０５は典型的には、シート状の材料を含んでおり、シート状の材料は、合わさる面１７４の滑かな平面状の面１７６の上に配設されていると共に、上側製造チャック集成体１６０を基礎１２０と結合したときに、工作物１１０に関して所望の整合状態を達成するように整合案内部に対応して整合している。
【００２１】
本発明によれば、薄いシート１０５が滑かな平面状の面１７６上に保持されるように、薄膜の前後に差圧を発生することにより、薄いシート１０５が合わさる面１７４に関して所望の整合状態に保持されている。例えば、真空鉛管１７７を真空源１３０に結合して、合わさる面１７４に真空をかけ、こうして、周囲圧力が薄膜１０５を合わさる面１７４に押さえ付けることができるようにする。合わさる面１７４を構成している焼結材料の気孔は比較的小さい（例えば、約０．５μｍ〜１０μｍ）ので、薄膜１０５は比較的平坦な形状を維持している。即ち、薄膜の両側の差圧が比較的一様であり、薄膜が変形しない。
【００２２】
作像装置の配列を製造する際、薄膜１０５は典型的には、配列上のシンチレータ材料の不規則な面１１２に適用すべき光学反射材で構成されている。薄膜１０５を構成している多層光学反射材は典型的には、（合わさる面１７４から離して設けられている）接着剤層と、光学反射層とを含んでいる。このような材料の一例（「オプティクラッド」と呼ばれる）は、拡散反射体となるようにその中に酸化チタンを混合した接着剤層と、プラスチックの支持体に載せた銀、金等のような鏡面反射体とを含んでおり、これは、本発明の被譲渡人に譲渡された米国特許番号第４７２０４２６号に更に詳しく記載されている。拡散反射層（即ち、ＴｉＯ₂と混合した接着剤材料）が存在することにより、鏡面のみの反射層に比べて光学的な性能が改善される。オプティクラッドの接着剤／拡散反射材層の厚さは、約５μｍであり、銀及びプラスチックの反射層の厚さは、約２ミルである。
【００２３】
上側チャック集成体は、例えば図１に示すように、その間に組み立て室１５０を形成するように基礎１２０内に配設されている。可撓性継手１６５が組み立て室１５０を気密シールするように構成されていると共に、工作物１１０に向かって（及び工作物１１０から遠去かる向きに）アプリケータ１７０を変位させることができるように構成されている。本発明によれば、アプリケータ１７０は、薄膜１０５が工作物１１０の不規則な面に関して所望の位置に配設されるように、選択的に変位させられる。本明細書で用いる「所望の位置」とは、その薄膜の一部が、工作物の不規則な面からの少なくともいくつかの突起と、このような突起を損傷したり変形することなく、物理的に接触するように薄膜を位置決めすると共に、この薄膜が、これから説明するように本発明に従って、不規則な面と同形状の接触をするように引き付けられる位置に来るよう薄膜を位置決めすることを言う。所望の位置は又、工作物の面に対する薄膜の横方向の精密な整合を反映している。更に、この横方向の精密な整合により、面と接触するときに工作物に結合し始めるような粘着面又は接着面を有している薄膜を適用することができる（粘着面は、薄膜と工作物との間の最初の接触が行われた後に、不規則な面の横方向に薄膜を移動させることをできなくする）。
【００２４】
アプリケータ１７０の変位は典型的には、アプリケータの両側に差圧を加えることによって、例えば真空源１３０（図１）に結合されている真空パイプ１４６内の真空制御弁１４７を選択的に制御することにより組み立て室１５０内の圧力を下げることによって制御される。この差圧により、アプリケータ１７０が工作物１１０に向かって変位し、図２（Ｂ）に示すように、薄膜を工作物１１０に対する所望の位置に配設することができる。この代わりに、（アプリケータに結合されているピストンのような）空気圧装置、（電気機械的なモータ／作動装置のような）電気装置、又は手作業の変位を利用してもよい。薄膜１１０が所望の位置に配置されたことの判定は、例えば製造チャック集成体の実質的に透明な部分を介してアプリケータ及び工作物を観察することにより、可視的に行うことができる。この代わりに、薄膜を所望の位置に配設する助けとして、この他の光学的な（例えば、レーザ整合システム）又は電気的なセンサを用いることができる。
【００２５】
薄膜１０５が工作物１１０の不規則な面１１２上の所望の位置に配設された後に、薄膜の両側の圧力を等化させて、薄膜がもはや合わさる面１７４に対して押し付けられなくなるようにすることにより、薄膜は合わさる面１７４から解放される。この圧力の等化は、真空源１３０を真空パイプ１７７から切り離し、制御弁１７８を逃がし位置へ変えることによって行われる。アプリケータ１７０を工作物１１０の方に近付ける差圧を解除し、その後、アプリケータを工作物１１０から遠去け、基礎１２０から取り出すことができる。このような移動のための動力は、空気圧、電気的、手作業等であってもよい。上側チャック集成体１６０全体を基礎１２０から取り外すことができる。
【００２６】
図２（Ｃ）に示すように、次に薄膜１０５を工作物１１０の不規則な面１１２と同形状に接触するように引き付ける。本明細書で用いる「引き付ける」とは、薄膜を不規則な面１１２から伸び出している突起の周りに部分的に変形させて、膜材料が面の不規則な特徴と実質的に同形状になるようにすることを言う。薄膜１０５は典型的には、薄膜１０５の両側に差圧を加えて、薄膜を不規則な面１１２と同形状に接触するように押圧することによって、不規則な面１１２に引き付けられる。薄膜を引き付けるための差圧は、真空パイプ１２６を真空源１３０に結合して、工作物１１０の下側及び内部の周囲圧力を下げることによって発生される。この結果、薄膜１０５に対して、薄膜１０５を不規則な面１１２と強制的に同形状に接触させる差圧が生じる。加えられる差圧の大きさは真空制御弁１２８を用いて制御される。更に、薄膜の損傷を回避するため、薄膜１０５の上に保護ブランケット１９０を配設することができる。保護ブランケット１９０は、圧力が薄膜に実質的に一様に加えられて、薄膜１０５を不規則な面と同形状にする作用を高めるように、加えられた差圧を伝達するように構成されている。
【００２７】
前に述べたように、シンチレータに用いられる光学被覆のような薄膜１０５は典型的には、不規則な面の方に設けられている接着剤層を含んでおり、薄膜がこの不規則な面に結合されるようになっている。薄膜が工作物１１０の不規則な面と同形状に接触するように吸い付けられた後に、保護ブラケット１９０を取り外し、工作物を更に処理して、薄膜の接着剤の硬化及び他の部品の適用ができるようにする。放射作像装置のような作像装置の場合、このような他の部品は、配列を湿気や物理的な取扱いによる損傷から封ずるように、更に配列に対する保護作用をする密封層として配列の上に配設されているアルミニウム等の保護シートを含んでいることがある。本発明による製造チャック及び方法は、このような部品の適用にも同じように用いることができる。
【００２８】
本発明に従って、シンチレータの不規則な面（例えば、約１０μｍ又はそれ未満の突起）と同形状の薄膜の光学反射層を有している作像装置配列は、反射被覆を有していないシンチレータ、又はスパッタリング等のような方法によってシンチレータの上に直接的に沈積された反射被覆を有しているシンチレータに比べて、性能が改善されている。例えば、本発明に従って作成された配列は、反射被覆を有していないシンチレータに結合された同じような光センサ配列よりも、シンチレータ内で発生された光子を約４５％余分に光センサ配列内で検出することが証明された。
【００２９】
このため、本発明の製造チャックは、薄膜が工作物の面の上に適合して配設されるように、不規則な形状を有している面の特徴を有する工作物と横方向に精密に整合して、薄膜、例えば、手作業では操作も配置も容易にはできない膜を適用するのに有利に利用される。本発明のある特徴のみを図面に示して説明したが、当業者には種々の改変及び変更が考えられよう。従って、特許請求の範囲は、本発明の要旨の範囲内に含まれるこのようなすべての改変及び変更を包括するものであることを承知されたい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による製造チャックの断面図である。
【図２】図２（Ａ）〜図２（Ｃ）は薄膜を適用する際のある工程を示す断面図であって、本発明の製造チャックの動作を示す図である。
【符号の説明】
１００ 製造チャック
１０５ 薄膜
１１０ 工作物
１１２ 不規則な面
１２０ 基礎
１２２ 基部
１２６、１４６、１７７ 真空パイプ
１２８ 制御弁
１４０ 整合集成体
１４２ シール
１４５ 整合案内部
１５０ 組み立て室
１６０ 上側チャック集成体
１７０ アプリケータ
１７４ 合わさる面

Claims (10)

1. 工作物の表面に突起変形を生じさせること無しに工作物の不規則な形状の面に薄膜を適用するための真空製造チャックであって、
   前記工作物を選択された工作物製造位置に保持するように構成されている基礎と、
   組み立て室が前記基礎と当該上側チャック集成体との間に形成されるように、前記基礎に着脱自在に装着されるように構成されている上側チャック集成体とを備えており、
   該上側チャック集成体は、更に枠と該枠内で可動に設けられているアプリケータを含んでおり、
   該アプリケータは、前記組み立て室に向かって設けられている、ほぼ平坦な合わさる面を有していると共に前記薄膜を前記合わさる面上に保持するように構成され、かつ、前記薄膜を前記合わさる面から選択的に解放するように構成されており、
   さらに、前記薄膜を前記工作物の前記不規則な形状の面の上の所望の位置に選択的に設けることができるように、該アプリケータは、前記工作物に近接して配置されるように前記組み立て室内で移動可能であると共に、前記工作物上に前記薄膜を配設するための整合案内部に横方向に整合しており、
   該真空製造チャックはさらに、前記合わさる面に設けられた多孔質材料を介して選択的に吸い込みを行う、前記合わさる面に結合される真空パイプと、前記工作物が配置された前記組み立て室の内部に対し選択的に吸い込みを行う、前記基礎に結合される真空パイプとを含む、
   真空製造チャック。
2. 前記アプリケータは、実質的に透明な材料を含んでいる請求項１に記載の真空製造チャック。
3. 前記基礎は、基部と、整合枠集成体とを含んでおり、該整合枠集成体は、前記整合案内部を含んでおり、前記整合枠集成体は、前記基部に着脱自在に結合されていると共に気密シールされている請求項１に記載の真空製造チャック。
4. 前記工作物に対する前記アプリケータの配置が制御されるように、前記組み立て室の内部と前記組み立て室の外部との間の差圧を選択的に制御するように設けられている弁を備える真空パイプを含む請求項３に記載の真空製造チャック。
5. 前記上側組み立て集成体と前記基礎との間に設けられている気密シールを更に含んでいる請求項４に記載の真空製造チャック。
6. 前記気密シールは、Ｏリングを含んでいる請求項５に記載の真空製造チャック。
7. 前記アプリケータを選択的に変位させる手段は、空気圧装置と、電気装置と、手動装置と、真空装置とから成っている群から選択されている請求項１に記載の製造チャック。
8. 複数の整合枠集成体を含んでおり、前記基部は、一度に１つの選択された整合枠集成体に結合されるように構成されており、前記整合枠集成体の各々は、選択された寸法の工作物を前記選択された製造位置に位置決めするように構成されている整合案内部を有している請求項３に記載の製造チャック。
9. 前記工作物に関する前記アプリケータの変位を可視的に決定することができるように構成されている実質的に透明な部分を含んでいる請求項８に記載の製造チャック。
10. 前記アプリケータは、約１．５２４ｍｍ（０．０６０インチ）又はそれ未満の厚さを有している薄膜を解放自在に保持するように構成されている請求項９に記載の製造チャック。

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