JPH07244164A - 真空製造チャック - Google Patents

真空製造チャック

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JPH07244164A
JPH07244164A JP6143719A JP14371994A JPH07244164A JP H07244164 A JPH07244164 A JP H07244164A JP 6143719 A JP6143719 A JP 6143719A JP 14371994 A JP14371994 A JP 14371994A JP H07244164 A JPH07244164 A JP H07244164A
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vacuum
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manufacturing
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 薄膜が工作物に関して横方向に精密に整合す
るように、薄膜を工作物に対する所望の位置に設けるこ
とのできる製造チャックを提供する。 【構成】 工作物110の不規則な形状の面112に薄
膜105を適用する製造チャック100が、工作物を選
択された製造位置に保持する基礎120と、基礎に結合
される上側チャック集成体160とを含んでいる。上側
チャック集成体は、組み立て室150内で工作物に向か
って変位可能なように可動に装着されているアプリケー
タ170を含んでいる。アプリケータは、合わさる面1
74を有しており、薄膜を解放して工作物上の所望の位
置に沈積することができる位置にアプリケータが配設さ
れるまで、薄膜を合わさる面上に選択的に保持するよう
に構成されている。基礎は、薄膜が不規則な形状の面と
同形状に接触するように薄膜を工作物に吸い付けるよ
う、工作物及び薄膜の両側に差圧を発生するように構成
されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【関連出願】本出願は、本出願と同日に出願され、本発
明の被譲渡人に譲渡された係属中の米国特許出願(出願
人控え番号RD−21310)、発明の名称「不規則な
形状を有する面に対する薄膜の同形沈積、及びこれによ
り形成された装置」と関連する。
【0002】
【発明の背景】放射作像装置のような多くの装置では、
不規則な形状をした面に薄膜を適用することが望まし
い。例えば、シンチレータが光センサに光学的に結合さ
れる放射作像装置では、光検出器に接している面と向か
い合ったシンチレータの面に反射材料の層を適用して、
シンチレータで発生された光子が光センサに向かって反
射されるようにすることが望ましい。通常、シンチレー
タの一方の面は不規則な形状を成している、即ち、面か
ら突起が伸びており、従って、面は平坦ではない。この
ような突起は、沈積過程によって得られる針形又はピラ
ミッド形構造であって、配列内で発生された光子の検出
を、入射した放射線がシンチレータ内に吸収された区域
に局限するのに役立つ。
【0003】シンチレータの不規則な面に反射被覆(コ
ーティング)を適用することは、多数の問題を伴う。沃
化セシウムのような多くのシンチレータ材料は熱膨張係
数が大きく、このため、スパッタリングによるように、
反射被覆が面に沈積される方法の影響を極めて受け易
い。このような沈積方法に伴う比較的高い温度(例え
ば、約300℃〜400℃よりも上の温度)により、シ
ンチレータ材料にひび割れが生じ、このひび割れが光学
的な不連続を発生させ、そのため、シンチレータの性能
を劣化させる。
【0004】例えば、シンチレータの面上の反射被覆
が、シンチレータが反射被覆を含んでいない構成の場合
に比べて、光センサによって検出される光子の数を目立
って増加させることが望ましい(例えば、捕捉される光
子が少なくとも1/3又はそれ以上増加することが望ま
しい)。更に、反射被覆はシンチレータの不規則な形状
と同形状になっており、このため、光子が反射層とシン
チレータ材料との間で直接的に結合され、シンチレータ
材料と反射材料との間のすき間の空所があるとしても、
極く少なくすべきである。更に、反射材料を適用するた
めに、材料を熱的に劣化させることにより、又はシンチ
レータの針形又はピラミッド形構造を機械的に変形させ
ることにより、シンチレータ構造を劣化させてはならな
い。所望の光学的及び物理的な特性を有する反射材料
は、モノリシックの薄膜(本明細書で用いる「モノリシ
ック」とは、シート状の形状をした実質的に一様な材料
を指す。)として入手し得るが、シンチレータ又は薄膜
を損傷せずに、このような薄膜をシンチレータの不規則
な形状の面に適用することには問題があった。
【0005】シンチレータ及びその他の光学的な部品を
覆うために用いられるモノシリックの薄膜は、極めて薄
い(例えば、約0.060インチ又はそれ未満)である
ことが典型的であり、薄膜を損傷(例えば、ちぎれたり
固まったり)させずに、又はそれを適用する不規則な面
を損傷(例えば、面上の若干の突起を変形)させずに、
適用することが困難である。
【0006】不規則な形状を有している面に比較的薄い
膜(又は被膜(フィルム))を同形に沈積することは、
液晶装置の製造、並びにレンズ及び反射器等のような部
品に対する光学被覆の適用にも用途がある。従って、本
発明の目的は、膜が不規則な面と同形になるように、薄
膜を不規則な形状を有する面に沈積する装置を提供する
ことである。
【0007】本発明の他の目的は、不規則な形状を有す
る面を有しているシンチレータの上に設けられた薄膜反
射被覆を有している作像装置を製造する装置を提供する
ことである。本発明の更に他の目的は、膜が工作物に関
して横方向に精密に整合するように、薄膜を工作物に対
する所望の位置に配設する装置を提供することである。
【0008】
【発明の要約】本発明によれば、工作物の不規則な形状
をした面に薄膜を適用する真空製造チャックが、選択さ
れた製造位置に工作物を保持するように構成されている
基礎と、基礎に着脱自在に結合されるように構成されて
いると共に基礎と当該上側チャック集成体との間に組み
立て室を形成するように基礎に気密シール(封じ)され
ている上側チャック集成体とを含んでいる。上側チャッ
ク集成体は、この上側チャック集成体内に可動に取り付
けられていると共に工作物に向けて選択的に変位させら
れるように構成されているアプリケータを含んでいる。
アプリケータは、薄膜を工作物に関して位置決めするた
めに薄膜を解放自在に保持するように構成されている合
わさる面を含んでいる。製造チャックは更に、組み立て
室の内部と組み立て室の外部との間に差圧を発生するこ
と等により、アプリケータを工作物に関する組み立て室
内での所望の位置に選択的に変位させる手段と、薄膜が
不規則な形状をした面と同形状に接触するよう吸い付け
られるように、(薄膜をその上に載せた)工作物の両側
に差圧を発生すること等により、工作物の不規則な形状
をした面に薄膜を吸い付ける手段とを含んでいる。真空
源又は逃がし口に弁を介して選択的に結合されている真
空パイプが、この差圧を発生するために用いられてい
る。
【0009】本発明の新規と考えられる特徴は、特許請
求の範囲に具体的に記載してあるが、本発明自体の構
成、作用、並びにその他の目的及び利点は、以下図面に
ついて説明するところから最もよく理解されよう。図面
全体にわたり、同様な部分には同じ参照番号を用いてい
る。
【0010】
【実施例】本発明による製造チャック100が、基礎1
20と、基礎120に着脱自在に結合されている上側チ
ャック集成体160とを含んでいる。本発明によれば、
比較的薄い膜105を工作物110の不規則な面112
上に配設して、面の不規則な形状と一致するようにする
ことができる。本明細書で用いる「膜」とは、典型的に
はモノリシックである、即ちシート状の材料のように実
質的に一体であって、典型的には柔軟である(半ば剛性
の材料を含んでいる)多孔質及び非多孔質の材料を指
す。「比較的薄い」とは、約0.0005インチ〜0.
060インチの間の厚さを有する材料を指す。「不規則
な面」とは、突起が伸び出しており(又はその代わり
に、面がその中に凹みを有していると考えてもよい)、
滑かでない面を指す。「同形状に配設する」等という用
語は、材料を面の突起(又は凹み)の周りに沈積して、
適用された材料が不規則な面の少なくとも所望の部分と
実質的に直接的に接触しており、面と適用された材料と
の間に実質的にすき間の空所がないことを言う。
【0011】基礎120は基部122を含んでおり、基
部122は、基部122の内面124上に配設されてい
る工作物110にわたって真空に引くことができるよう
に構成されている。例えば、真空パイプ(又は鉛管)1
26が基部122に設けられていると共に、内面124
上のオリフィス127に結合されている。パイプ126
は更に、制御弁128を介して真空源130に結合され
ており、こうして、工作物110の下側を真空に引くこ
と(例えば、工作物110の下側の区域内の周囲圧力を
下げること)により、不規則な面112にわたって差圧
を発生させる手段になっている。オリフィス127は内
面124のうち、工作物110の区域に対応する一部に
わたって設けられていることが典型的であり、このた
め、発生される差圧は工作物のこの区域にわたって実質
的に一様である。制御弁128は典型的には、三方弁で
構成されており、三方弁は又、鉛管126内の逃がし口
に結合されており、所望のときに工作物110にわたっ
て圧力を等化することができるようになっている。この
代わりに、別々の2つの弁、即ち真空源に結合するため
の1つの弁と、逃がすための1つの弁とを用いてもよ
い。
【0012】図1に示すように、基礎120は更に、整
合集成体140を含んでおり、整合集成体140は、基
部122から取り外し自在であるが、基部122にしっ
かりと取り付けることのできるように、例えば掛金、ク
ランプ、ねじ、ボルト及びナット等(図に示していな
い)によって基部122に着脱自在に結合されている。
Oリングのようなシール(封じ)142が整合集成体1
40と基部122との間に配設されており、両者を結合
したときに、基部及び整合集成体が気密に結合されるよ
うになっている。本明細書で用いる「気密に結合され
る」とか、「気密シール」とかの用語は、実質的に空気
に対して密であって、密封された境界にわたって差圧を
発生することのできるようなシールを言う。
【0013】整合集成体140は更に、工作物110を
基部122に関して、従って、これから更に詳しく説明
するように、その上に薄膜105が配設されている上側
チャック集成体160に関して、選択された位置に整合
させるように構成されている整合案内部145を含んで
いる。図1に示すように、整合案内部145は、整合集
成体140から伸びているフィンガを含んでいる。この
代わりに、整合方式として、整合集成体140にある溝
又は凹みを、工作物110を受け入れて所望の製造位
置、即ち、後で更に詳しく説明するが、アプリケータ1
70から薄膜を受け取るように工作物が配置されている
内面124上の位置に整合させるように構成してもよ
い。
【0014】本発明によれば、基部122は、異なる整
合集成体140を(一度に1つずつ)基部に取り付ける
ことができるように構成されており、こうして、寸法の
異なる工作物を整合させるために合った整合集成体を基
部122にそれぞれ取り付けることができるようになっ
ている。この代わりに、基部122及び整合集成体14
0を単一の集成体(即ち、整合集成体140は基部12
2から着脱自在でない)で構成してもよい。基部及び整
合集成体は典型的には、ステンレス鋼等の金属、又はこ
れから説明する差圧に耐えるのに十分な強度及び剛性を
有している複合材料で構成されている。
【0015】整合集成体は典型的には更に、真空ポート
146と、逃がしポート148とを含んでおり、真空ポ
ート146は、制御弁147を介して真空源130に結
合されている。制御弁147は典型的には三方弁であっ
て、整合集成体140の壁の両側の圧力を等化するよう
に逃がしポート148に結合されるよう構成されてい
る。三方弁の代わりに別々の2つの弁を用いてもよい。
真空源130は真空ポンプ等で構成されており、利用さ
れる真空の程度は、製造チャックの寸法に応じた設計事
項である。ここで説明するようなシンチレータに光学被
覆層を適用するための製造チャックでは、水銀柱約20
インチまでの真空源が満足し得る。
【0016】上側チャック集成体160は、上側チャッ
ク集成体160と整合集成体140との間に組み立て室
150を形成するように、整合集成体140に気密シー
ルされるよう構成されている。Oリングのようなシール
162が上側チャック集成体160と整合集成体140
との間に配設されており、2つの集成体が結合されてい
る継目を気密シールしている。
【0017】上側チャック集成体160は、枠(フレー
ム)164と、アプリケータ170とを含んでいる。ア
プリケータ170は、アプリケータ170が組み立て室
150内で工作物110に向かって選択的に変位させら
れるように、可撓性継手165によって枠164内に位
置決めされている。上側チャック集成体160は、工作
物110に向かってのアプリケータの変位が所定の軸線
に沿って、薄膜105が工作物110と横方向に精密に
整合するように構成されている。この精密な横方向の整
合が可能であるのは、アプリケータ170が整合集成体
140内に位置決めされていると共に上側チャック集成
体160が製造チャックを形成するために基礎120に
結合されているときに、工作物110がアプリケータ1
70に関して既知の選択された位置に配設されているか
らである。本明細書で用いる「横方向の整合」とは、膜
/工作物の平面内で工作物に関して薄膜が整合するよう
に、工作物の上方に薄膜が位置決めされることを言う。
例えば、可撓性継手165は、枠164内でのアプリケ
ータ170の性能が維持されるように、アプリケータ1
70を枠164の側壁に沿って移動させることができる
ように構成されている。アプリケータ170は、組み立
て室150と向かい合って設けられている合わさる面1
74を有している真空チャック172を含んでいる。合
わさる面174は典型的には、ステンレス鋼のような焼
結材料、複合体等の層で構成されており、滑かな平面状
の面176を含んでいる。本明細書で用いる「焼結材
料」とは、ガスがその中を通過することができるように
する細かい気孔を有している滑かな面を有する材料を言
う。これらの気孔の寸法は0.5μm〜100μmの範
囲内であってもよいが、典型的な気孔の寸法は約10μ
m又はそれ未満である。
【0018】上側チャック集成体160は更に、真空鉛
管177を含んでおり、真空鉛管177は、(典型的に
は三方弁で構成されている)制御弁178を介して真空
源130に結合されていると共に、合わさる面174を
構成している焼結材料を通して吸い込むことにより、差
圧を発生するように構成されている。制御弁178は更
に、逃がし配管179に連結されており、合わさる面1
76の両側の圧力を等化することができるようにしてい
る。アプリケータ170は典型的には、組み立て室の可
視的な検査ができるように、重合体等のような実質的に
透明な材料で構成されている。この代わりに、又はこの
他に、基礎120及び上側チャック集成体160にのぞ
きポートを設けて、工作物110に関するアプリケータ
170の位置を可視的に決定するようにしてもよい。
【0019】本発明の真空製造チャックの動作が、図2
(A)〜図2(C)に例示されている。これから説明す
るように、薄膜105が工作物110の不規則な面11
2に適用される。処理しようとする工作物に適切な整合
集成体を選択し、基部122に結合して、所望の整合寸
法を有している基礎120を形成する。工作物110
は、基礎内の選択された位置に配設されるように、整合
集成体140内に嵌まっている。例えば、整合集成体1
40は、整合案内部145が工作物110を基礎内の選
択された位置、典型的にはそれが載っかる基部122の
内面124の面に実質的に中心合わせされた位置に整合
するように配設されており、且つ可撓性の膜をその上に
配設することができるような位置に不規則な面112を
配設するように選択されている。工作物120は典型的
には、光センサ配列及びシンチレータをその上に載せた
基板を有している作像装置の配列を含んでいる。シンチ
レータの不規則な面112は典型的には、面からの多数
の針形又はピラミッド形の突起を含んでおり、その上に
同形状の反射層を沈積しようとするものである。
【0020】反射材料等の薄膜のような薄膜105は、
それを適用しようとする不規則な面112の区域の寸法
と実質的に対応する寸法を有しているモノリシックのシ
ート状の材料に整形されている。薄膜105は典型的に
は、シート状の材料を含んでおり、シート状の材料は、
合わさる面174の滑かな平面状の面176の上に配設
されていると共に、上側製造チャック集成体160を基
礎120と結合したときに、工作物110に関して所望
の整合状態を達成するように整合案内部に対応して整合
している。
【0021】本発明によれば、薄いシート105が滑か
な平面状の面176上に保持されるように、薄膜の前後
に差圧を発生することにより、薄いシート105が合わ
さる面174に関して所望の整合状態に保持されてい
る。例えば、真空鉛管177を真空源130に結合し
て、合わさる面174に真空をかけ、こうして、周囲圧
力が薄膜105を合わさる面174に押さえ付けること
ができるようにする。合わさる面174を構成している
焼結材料の気孔は比較的小さい(例えば、約0.5μm
〜10μm)ので、薄膜105は比較的平坦な形状を維
持している。即ち、薄膜の両側の差圧が比較的一様であ
り、薄膜が変形しない。
【0022】作像装置の配列を製造する際、薄膜105
は典型的には、配列上のシンチレータ材料の不規則な面
112に適用すべき光学反射材で構成されている。薄膜
105を構成している多層光学反射材は典型的には、
(合わさる面174から離して設けられている)接着剤
層と、光学反射層とを含んでいる。このような材料の一
例(「オプティクラッド」と呼ばれる)は、拡散反射体
となるようにその中に酸化チタンを混合した接着剤層
と、プラスチックの支持体に載せた銀、金等のような鏡
面反射体とを含んでおり、これは、本発明の被譲渡人に
譲渡された米国特許番号第4720426号に更に詳し
く記載されている。拡散反射層(即ち、TiO2 と混合
した接着剤材料)が存在することにより、鏡面のみの反
射層に比べて光学的な性能が改善される。オプティクラ
ッドの接着剤/拡散反射材層の厚さは、約5μmであ
り、銀及びプラスチックの反射層の厚さは、約2ミルで
ある。
【0023】上側チャック集成体は、例えば図1に示す
ように、その間に組み立て室150を形成するように基
礎120内に配設されている。可撓性継手165が組み
立て室150を気密シールするように構成されていると
共に、工作物110に向かって(及び工作物110から
遠去かる向きに)アプリケータ170を変位させること
ができるように構成されている。本発明によれば、アプ
リケータ170は、薄膜105が工作物110の不規則
な面に関して所望の位置に配設されるように、選択的に
変位させられる。本明細書で用いる「所望の位置」と
は、その薄膜の一部が、工作物の不規則な面からの少な
くともいくつかの突起と、このような突起を損傷したり
変形することなく、物理的に接触するように薄膜を位置
決めすると共に、この薄膜が、これから説明するように
本発明に従って、不規則な面と同形状の接触をするよう
に引き付けられる位置に来るよう薄膜を位置決めするこ
とを言う。所望の位置は又、工作物の面に対する薄膜の
横方向の精密な整合を反映している。更に、この横方向
の精密な整合により、面と接触するときに工作物に結合
し始めるような粘着面又は接着面を有している薄膜を適
用することができる(粘着面は、薄膜と工作物との間の
最初の接触が行われた後に、不規則な面の横方向に薄膜
を移動させることをできなくする)。
【0024】アプリケータ170の変位は典型的には、
アプリケータの両側に差圧を加えることによって、例え
ば真空源130(図1)に結合されている真空パイプ1
46内の真空制御弁147を選択的に制御することによ
り組み立て室150内の圧力を下げることによって制御
される。この差圧により、アプリケータ170が工作物
110に向かって変位し、図2(B)に示すように、薄
膜を工作物110に対する所望の位置に配設することが
できる。この代わりに、(アプリケータに結合されてい
るピストンのような)空気圧装置、(電気機械的なモー
タ/作動装置のような)電気装置、又は手作業の変位を
利用してもよい。薄膜110が所望の位置に配置された
ことの判定は、例えば製造チャック集成体の実質的に透
明な部分を介してアプリケータ及び工作物を観察するこ
とにより、可視的に行うことができる。この代わりに、
薄膜を所望の位置に配設する助けとして、この他の光学
的な(例えば、レーザ整合システム)又は電気的なセン
サを用いることができる。
【0025】薄膜105が工作物110の不規則な面1
12上の所望の位置に配設された後に、薄膜の両側の圧
力を等化させて、薄膜がもはや合わさる面174に対し
て押し付けられなくなるようにすることにより、薄膜は
合わさる面174から解放される。この圧力の等化は、
真空源130を真空パイプ177から切り離し、制御弁
178を逃がし位置へ変えることによって行われる。ア
プリケータ170を工作物110の方に近付ける差圧を
解除し、その後、アプリケータを工作物110から遠去
け、基礎120から取り出すことができる。このような
移動のための動力は、空気圧、電気的、手作業等であっ
てもよい。上側チャック集成体160全体を基礎120
から取り外すことができる。
【0026】図2(C)に示すように、次に薄膜105
を工作物110の不規則な面112と同形状に接触する
ように引き付ける。本明細書で用いる「引き付ける」と
は、薄膜を不規則な面112から伸び出している突起の
周りに部分的に変形させて、膜材料が面の不規則な特徴
と実質的に同形状になるようにすることを言う。薄膜1
05は典型的には、薄膜105の両側に差圧を加えて、
薄膜を不規則な面112と同形状に接触するように押圧
することによって、不規則な面112に引き付けられ
る。薄膜を引き付けるための差圧は、真空パイプ126
を真空源130に結合して、工作物110の下側及び内
部の周囲圧力を下げることによって発生される。この結
果、薄膜105に対して、薄膜105を不規則な面11
2と強制的に同形状に接触させる差圧が生じる。加えら
れる差圧の大きさは真空制御弁128を用いて制御され
る。更に、薄膜の損傷を回避するため、薄膜105の上
に保護ブランケット190を配設することができる。保
護ブランケット190は、圧力が薄膜に実質的に一様に
加えられて、薄膜105を不規則な面と同形状にする作
用を高めるように、加えられた差圧を伝達するように構
成されている。
【0027】前に述べたように、シンチレータに用いら
れる光学被覆のような薄膜105は典型的には、不規則
な面の方に設けられている接着剤層を含んでおり、薄膜
がこの不規則な面に結合されるようになっている。薄膜
が工作物110の不規則な面と同形状に接触するように
吸い付けられた後に、保護ブラケット190を取り外
し、工作物を更に処理して、薄膜の接着剤の硬化及び他
の部品の適用ができるようにする。放射作像装置のよう
な作像装置の場合、このような他の部品は、配列を湿気
や物理的な取扱いによる損傷から封ずるように、更に配
列に対する保護作用をする密封層として配列の上に配設
されているアルミニウム等の保護シートを含んでいるこ
とがある。本発明による製造チャック及び方法は、この
ような部品の適用にも同じように用いることができる。
【0028】本発明に従って、シンチレータの不規則な
面(例えば、約10μm又はそれ未満の突起)と同形状
の薄膜の光学反射層を有している作像装置配列は、反射
被覆を有していないシンチレータ、又はスパッタリング
等のような方法によってシンチレータの上に直接的に沈
積された反射被覆を有しているシンチレータに比べて、
性能が改善されている。例えば、本発明に従って作成さ
れた配列は、反射被覆を有していないシンチレータに結
合された同じような光センサ配列よりも、シンチレータ
内で発生された光子を約45%余分に光センサ配列内で
検出することが証明された。
【0029】このため、本発明の製造チャックは、薄膜
が工作物の面の上に適合して配設されるように、不規則
な形状を有している面の特徴を有する工作物と横方向に
精密に整合して、薄膜、例えば、手作業では操作も配置
も容易にはできない膜を適用するのに有利に利用され
る。本発明のある特徴のみを図面に示して説明したが、
当業者には種々の改変及び変更が考えられよう。従っ
て、特許請求の範囲は、本発明の要旨の範囲内に含まれ
るこのようなすべての改変及び変更を包括するものであ
ることを承知されたい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による製造チャックの断面図である。
【図2】図2(A)〜図2(C)は薄膜を適用する際の
ある工程を示す断面図であって、本発明の製造チャック
の動作を示す図である。
【符号の説明】
100 製造チャック 105 薄膜 110 工作物 112 不規則な面 120 基礎 122 基部 126、146、177 真空パイプ 128 制御弁 140 整合集成体 142 シール 145 整合案内部 150 組み立て室 160 上側チャック集成体 170 アプリケータ 174 合わさる面

Claims (25)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 工作物の不規則な形状の面に薄膜を適用
    するための真空製造チャックであって、 前記工作物を選択された工作物製造位置に保持するよう
    に構成されている基礎と、 組み立て室が前記基礎と当該上側チャック集成体との間
    に形成されるように、前記基礎に着脱自在に装着される
    ように構成されている上側チャック集成体とを備えてお
    り、 該上側チャック集成体は、前記組み立て室に向かって設
    けられている合わさる面を有していると共に前記薄膜を
    前記合わさる面上に選択的に保持するように構成されて
    いるアプリケータを含んでおり、該アプリケータは、前
    記薄膜を前記工作物の前記不規則な形状の面の上の所望
    の位置に選択的に設けることができるように、前記薄膜
    を前記合わさる面から選択的に解放するように構成され
    ている真空製造チャック。
  2. 【請求項2】 前記アプリケータは、前記組み立て室内
    で前記工作物に関する選択された位置へ変位するよう
    に、前記上側チャック集成体に可動に装着されており、
    前記選択された位置は、前記工作物に関する前記アプリ
    ケータの選択された横方向の整合及び垂直な配置を含ん
    でいる請求項1に記載の真空製造チャック。
  3. 【請求項3】 前記上側チャック集成体は、枠を含んで
    おり、前記アプリケータは、該アプリケータが前記枠に
    関して所望の横方向の整合を有するように、前記枠内で
    可動に設けられている請求項2に記載の真空製造チャッ
    ク。
  4. 【請求項4】 前記アプリケータは、前記合わさる面に
    結合されている真空パイプを含んでおり、前記合わさる
    面は、多孔質材料を含んでおり、前記アプリケータは、
    前記真空パイプが少なくともいくつかの気孔を介して吸
    い込みを行うように設けられるよう構成されている請求
    項3に記載の真空製造チャック。
  5. 【請求項5】 前記合わさる面は、実質的に平坦である
    請求項4に記載の真空製造チャック。
  6. 【請求項6】 前記アプリケータは、実質的に透明な材
    料を含んでいる請求項5に記載の真空製造チャック。
  7. 【請求項7】 前記基礎は、前記工作物がその上に設け
    られている前記組み立て室の内面に吸い込みをかけるよ
    うに構成されている第1の真空パイプを含んでおり、該
    第1の真空パイプは、真空源と逃がし口とに選択的に結
    合可能である請求項5に記載の真空製造チャック。
  8. 【請求項8】 前記工作物を前記選択された工作物製造
    位置に選択的に位置決めするように構成されている整合
    案内部を更に含んでいる請求項7に記載の真空製造チャ
    ック。
  9. 【請求項9】 前記組み立て室に吸い込みをかけること
    ができるように構成されている第2の真空パイプを更に
    含んでいる請求項8に記載の真空製造チャック。
  10. 【請求項10】 前記第2の真空パイプは、真空源と逃
    がし口とに選択的に結合可能である請求項9に記載の真
    空製造チャック。
  11. 【請求項11】 前記基礎は、基部と、整合枠集成体と
    を含んでおり、該整合枠集成体は、前記整合案内部を含
    んでおり、前記整合枠集成体は、前記基部に着脱自在に
    結合されていると共に気密シールされている請求項10
    に記載の真空製造チャック。
  12. 【請求項12】 前記第2の真空パイプは、前記工作物
    に対する前記アプリケータの配置が制御されるように、
    前記組み立て室の内部と前記組み立て室の外部との間の
    差圧を選択的に制御するように設けられている弁を含ん
    でいる請求項11に記載の真空製造チャック。
  13. 【請求項13】 前記上側組み立て集成体と前記基礎と
    の間に設けられている気密シールを更に含んでいる請求
    項12に記載の真空製造チャック。
  14. 【請求項14】 前記気密シールは、Oリングを含んで
    いる請求項13に記載の真空製造チャック。
  15. 【請求項15】 工作物の不規則な形状の面に薄膜を適
    用するための製造チャックであって、 前記工作物を選択された製造位置に保持するように構成
    されている基礎と、 該基礎と当該上側チャック集成体との間に組み立て室を
    形成するように、前記基礎に着脱自在に結合されるよう
    に構成されていると共に該基礎に気密シールされるよう
    に構成されている上側チャック集成体であって、該上側
    チャック集成体は、該上側チャック集成体内に可動に装
    着されていると共に前記工作物に向かって選択的に変位
    するように構成されているアプリケータを含んでおり、
    該アプリケータは、前記組み立て室内で前記工作物に向
    かって設けられている合わさる面を含んでおり、前記薄
    膜を前記工作物に関して位置決めするように選択的に保
    持するよう構成されている、上側チャック集成体と、 前記アプリケータを前記工作物に関する前記組み立て室
    内の所望の位置に選択的に変位させる手段と、 前記薄膜を前記工作物の不規則な形状の面に吸い付ける
    手段とを備えた製造チャック。
  16. 【請求項16】 前記薄膜を前記工作物に吸い付ける手
    段は、前記工作物の下方に設けられている前記基礎の部
    分と前記組み立て室との間に差圧を発生するように、前
    記基礎に設けられている吸い付け真空パイプを含んでい
    る請求項15に記載の製造チャック。
  17. 【請求項17】 前記吸い付け真空パイプは、前記基礎
    のうち、前記工作物より下方に設けられている部分に実
    質的に一様な差圧を発生するように構成されている請求
    項16に記載の製造チャック。
  18. 【請求項18】 前記吸い付け真空パイプは、該真空パ
    イプを真空源と逃がし口とに選択的に結合するように構
    成されている弁を含んでいる請求項17に記載の製造チ
    ャック。
  19. 【請求項19】 前記アプリケータを選択的に変位させ
    る手段は、空気圧装置と、電気装置と、手動装置と、真
    空装置とから成っている群から選択されている請求項1
    8に記載の製造チャック。
  20. 【請求項20】 前記合わさる面は、実質的に平坦な多
    孔質材料を含んでおり、前記アプリケータは、前記合わ
    さる面の気孔を介して吸い込みをかけるように設けられ
    ている真空パイプを含んでいる請求項19に記載の製造
    チャック。
  21. 【請求項21】 前記上側チャック集成体は、前記基礎
    に関して選択された横方向の整合状態で設けられるよう
    に構成されている請求項20に記載の製造チャック。
  22. 【請求項22】 前記基礎は、基部と、該基部に着脱自
    在に結合されていると共に気密シールされている整合枠
    集成体とを含んでおり、該整合枠は、前記工作物を前記
    選択された製造位置に位置決めするように構成されてい
    る整合案内部を含んでいる請求項21に記載の製造チャ
    ック。
  23. 【請求項23】 複数の整合枠集成体を含んでおり、 前記基部は、一度に1つの選択された整合枠集成体に結
    合されるように構成されており、前記整合枠集成体の各
    々は、選択された寸法の工作物を前記選択された製造位
    置に位置決めするように構成されている整合案内部を有
    している請求項22に記載の製造チャック。
  24. 【請求項24】 前記工作物に関する前記アプリケータ
    の変位を可視的に決定することができるように構成され
    ている実質的に透明な部分を含んでいる請求項23に記
    載の製造チャック。
  25. 【請求項25】 前記アプリケータは、約0.060イ
    ンチ又はそれ未満の厚さを有している薄膜を解放自在に
    保持するように構成されている請求項24に記載の製造
    チャック。
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