JPH0473602A - レーザ光用反射鏡 - Google Patents
レーザ光用反射鏡Info
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- JPH0473602A JPH0473602A JP7495390A JP7495390A JPH0473602A JP H0473602 A JPH0473602 A JP H0473602A JP 7495390 A JP7495390 A JP 7495390A JP 7495390 A JP7495390 A JP 7495390A JP H0473602 A JPH0473602 A JP H0473602A
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- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910001020 Au alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 25
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims description 5
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 22
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 4
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
この発明はＣＯ２レーザ（波長１０６μｍ）の光学系に
用いる反射鏡の表面反射膜構造に関するものである。
用いる反射鏡の表面反射膜構造に関するものである。
「従来の技術」
Ｃ０２レーザの光学系に用いる反射鏡として従来からＣ
ｕ （銅）或いはＡｅ（アルミニュウム）を基板とした
鏡が用いられている。ところがＣｕは比重が大きく重い
のでレーザ加工用ヘッドやスキャニング用ミラーとして
用いると加工命令に対する応答速度が遅くなるという欠
点があり、最近はＡｊ？製のものが多く用いられる。
ｕ （銅）或いはＡｅ（アルミニュウム）を基板とした
鏡が用いられている。ところがＣｕは比重が大きく重い
のでレーザ加工用ヘッドやスキャニング用ミラーとして
用いると加工命令に対する応答速度が遅くなるという欠
点があり、最近はＡｊ？製のものが多く用いられる。
そしてＡｅ製の場合には下記のようなものが用いられて
いる。
いる。
（１）鏡面加工したＡｌ （アルミニュウム）の基板を
そのまま反射鏡として使用する。
そのまま反射鏡として使用する。
（２）鏡面加工したＡｅ基板の表面に、第２図のように
、直接Ａｕ （金）を蒸着した鏡を使用する。
、直接Ａｕ （金）を蒸着した鏡を使用する。
（３）鏡面加工したＡｌ？基板の表面に、第３図のよう
に、中間層としてＣｒ （クローム）膜を形成して付着
力を強化し、その上にＡｕを蒸着した鏡を使用する。
に、中間層としてＣｒ （クローム）膜を形成して付着
力を強化し、その上にＡｕを蒸着した鏡を使用する。
（４） １基板上に、第４図に示すように、Ｎ１メツ
キを施し、該表面をポリッシュして鏡面に仕上げた後Ａ
ｕメツキまたはＡｕを蒸着した鏡を使用する。
キを施し、該表面をポリッシュして鏡面に仕上げた後Ａ
ｕメツキまたはＡｕを蒸着した鏡を使用する。
「発明が解決しようとする課題」
前記の従来のＡｌ基板を用いた反射鏡はＡＪＩ’基板の
みで高い反射率を得るためにＡｌ基板の上にＡｕコート
を施したものである。
みで高い反射率を得るためにＡｌ基板の上にＡｕコート
を施したものである。
ところが前記のいずれの方法でＡｕ膜を施した反射鏡も
Ａｕ膜が基板に対して十分な付着強度を有していないた
め、ＣＯ２レーザを照射中やメインテナンス（拭上、拭
き取り）の際にＡｕ膜の剥離が生ずる欠点がある。その
ため使用できる期間、寿命が短いという課題があった。
Ａｕ膜が基板に対して十分な付着強度を有していないた
め、ＣＯ２レーザを照射中やメインテナンス（拭上、拭
き取り）の際にＡｕ膜の剥離が生ずる欠点がある。その
ため使用できる期間、寿命が短いという課題があった。
「課題を解決するための手段」
本発明者はＡｌ上へＭｏ（モリブデン）膜を付着させる
とその膜の付着力はＯｒ、Ｎｉ等に比し強度が高く且つ
膜の硬さが十分に大きいこと、さらにＡｕ膜をＭｏ（モ
リブデン）膜の上に施すとそれが十分な付着力を有する
ことに着目して本発明をなしたものである。
とその膜の付着力はＯｒ、Ｎｉ等に比し強度が高く且つ
膜の硬さが十分に大きいこと、さらにＡｕ膜をＭｏ（モ
リブデン）膜の上に施すとそれが十分な付着力を有する
ことに着目して本発明をなしたものである。
すなわち本発明は、第１図に示すように、鏡面加工した
Ａｌ或いはＡｅ合金基板の鏡面上に先ずＭｏ（モリブデ
ン）の膜（層）を作成し、その上にＡｕもしくはＡｕ合
金の層を形成した反射鏡である。この場合Ｍｏ中間膜の
厚さは００１〜２μｍがよい。
Ａｌ或いはＡｅ合金基板の鏡面上に先ずＭｏ（モリブデ
ン）の膜（層）を作成し、その上にＡｕもしくはＡｕ合
金の層を形成した反射鏡である。この場合Ｍｏ中間膜の
厚さは００１〜２μｍがよい。
膜の形成は表面への付着性がよく且つ膜厚の制御が容易
である真空蒸着、イオンプレーティング、スパッター等
のドライプロセスを用いて行うのがよい。
である真空蒸着、イオンプレーティング、スパッター等
のドライプロセスを用いて行うのがよい。
Ａｌ表面へのＭｏ層の付着力は十分に強く、またＭｏ層
の硬度も大きいのでＡｌとＭｏ層の界面での剥離は殆ど
なく、さらにＣＯ２レーザ加工作業に使用中に被加工物
から光生ずるスパッター（微粉末）に対して十分な耐力
がある。それ故被加工物のレーザ光によるスパッター微
粉はＡｕ層に付着するのみでＭｏ膜は損傷を受けない。
の硬度も大きいのでＡｌとＭｏ層の界面での剥離は殆ど
なく、さらにＣＯ２レーザ加工作業に使用中に被加工物
から光生ずるスパッター（微粉末）に対して十分な耐力
がある。それ故被加工物のレーザ光によるスパッター微
粉はＡｕ層に付着するのみでＭｏ膜は損傷を受けない。
また表面のＡｕ膜のＭｏ層に対する付着力も十分であり
、鏡面を拭く清掃作業によってもＡｕ層が剥離せず長寿
命に使用できる。さらに、たとえＡｕ層が拭き取り磨耗
等により剥離する事があって表面にＭ。
、鏡面を拭く清掃作業によってもＡｕ層が剥離せず長寿
命に使用できる。さらに、たとえＡｕ層が拭き取り磨耗
等により剥離する事があって表面にＭ。
層が現われてもレーザ波長１０６μｍに対してＭ、。
は９８３％の反射率を有する事からすぐさま、レーザ出
力の低下、使用不能な状態におち入らない。
力の低下、使用不能な状態におち入らない。
「実施例」
厚さ１０Ｍ、直径６０＋ｎｍφの純Ａｌ基板を単結晶タ
イヤモンドバイトを用いて切削加工して鏡面を得た。こ
の基板をワークとしてイオンプレーティング法により表
面にＭｏ膜、Ａｕ膜を形成した。
イヤモンドバイトを用いて切削加工して鏡面を得た。こ
の基板をワークとしてイオンプレーティング法により表
面にＭｏ膜、Ａｕ膜を形成した。
先ず純度が９９９９％のＭｏ金属をソースとし、４ Ｘ
１０ Ｔｏｒｒの真空チャンバー中でＥＢガンによ
り電子線を照射してソースを溶融した。ソースからＥＢ
ガンにより蒸発した原子に対してイオン化電圧を加え、
蒸発原子の一部をイオン化し、一方Ａｌ基板にはバイア
ス電圧を印加してイオン化原子を高速度で基板表面に入
射させてＭｏ膜を形成させた。
１０ Ｔｏｒｒの真空チャンバー中でＥＢガンによ
り電子線を照射してソースを溶融した。ソースからＥＢ
ガンにより蒸発した原子に対してイオン化電圧を加え、
蒸発原子の一部をイオン化し、一方Ａｌ基板にはバイア
ス電圧を印加してイオン化原子を高速度で基板表面に入
射させてＭｏ膜を形成させた。
その際のイオンプレーティング条件は以下の通りである
。
。
イオン化電圧 １３Ｖ
基板印加電圧 １．２Ｖ
蒸着速度 ００８４μｍｍ１ｎであり、Ｍ
ｏ層の膜厚が０３２μｍとした。
ｏ層の膜厚が０３２μｍとした。
次いでこのＭｏ膜の上にＡｕ膜を同様のイオンプレーテ
ィング法により形成した。
ィング法により形成した。
Ａｕソースとしては９９９９％の純度のものを用いて、
以下の条件によった。
以下の条件によった。
イオン化電圧 ７０ Ｖ
基板印加電圧 １．２■
蒸着速度 ００７２μｍ／ｍｉｎであり、
Ｍｏ層の膜厚が０３０μｍとした。
Ｍｏ層の膜厚が０３０μｍとした。
このようにして製造したミラーをＣＯ２レーザ加工機の
加工ヘッドの折り返しミラーとして使用したところ、従
来のＡｌ基板のミラーに比しＭｏ層があるので加工際か
らのスパッターは単にＡｕ層を損傷したのみであった。
加工ヘッドの折り返しミラーとして使用したところ、従
来のＡｌ基板のミラーに比しＭｏ層があるので加工際か
らのスパッターは単にＡｕ層を損傷したのみであった。
そしてそのミラーを１０００ Ｈｒ使用してもＡｕ膜の
剥離等は発生しなかった。またその後、純水を含ませた
スポンジを用いた拭上によるひようめクリーニング作業
によっても剥離は生じなかった。
剥離等は発生しなかった。またその後、純水を含ませた
スポンジを用いた拭上によるひようめクリーニング作業
によっても剥離は生じなかった。
そしてこの人ｌ基板の反射鏡はＣｕ基板のミラーに比し
重量が１／３となり、その結果加工ヘッドが軽量化され
て加工命令に対する応答速度が速くなり加工効率が１０
％程度上昇した。
重量が１／３となり、その結果加工ヘッドが軽量化され
て加工命令に対する応答速度が速くなり加工効率が１０
％程度上昇した。
「発明の効果」
以上に説明したように、本発明のレーザ光用反射鏡は高
い反射率を有し、且つ軽量であり、また非常に硬質でし
かもＡｌ基板及び表面のＡｕ層ｆこ対して十分な付着力
を有するＭｏ層を中間層として有しているので耐環境性
が良く、レーザ加工機のヘッドの折り返しミラーとして
用いて加工命令に対する応答が速くすることができ、ス
パッターに対する損傷も少なく、照射だけではＡｕ層の
剥離はなく長寿命であり、拭上によるクリーニング作業
によってもＡｕ層の剥離がない等の利点を有する有効な
ものである。
い反射率を有し、且つ軽量であり、また非常に硬質でし
かもＡｌ基板及び表面のＡｕ層ｆこ対して十分な付着力
を有するＭｏ層を中間層として有しているので耐環境性
が良く、レーザ加工機のヘッドの折り返しミラーとして
用いて加工命令に対する応答が速くすることができ、ス
パッターに対する損傷も少なく、照射だけではＡｕ層の
剥離はなく長寿命であり、拭上によるクリーニング作業
によってもＡｕ層の剥離がない等の利点を有する有効な
ものである。
第１図は本発明の反射鏡の構造を示す断面図、第２〜５
図はそれぞれ従来の反射鏡の構造を示す断面図である。 １ ： ｉ’基板 ３ ： Ｍｏ中間層 ５：Ｎｌ中間層 ２：Ａｕ膜 ４ ： Ｃｒ中間層
図はそれぞれ従来の反射鏡の構造を示す断面図である。 １ ： ｉ’基板 ３ ： Ｍｏ中間層 ５：Ｎｌ中間層 ２：Ａｕ膜 ４ ： Ｃｒ中間層
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ＣＯ＿２レーザに対して用いる全反射鏡において、
基板としてＡｌ、もしくはＡｌ合金を用い、鏡面加工し
た基板上にＭｏの中間層を形成してその上にＡｕ或いは
Ａｕ合金の膜を形成したことを特徴とするレーザ光用反
射鏡 ２、Ｍｏ中間層の厚さが０．０１〜２μｍであることを
特徴とする請求項１記載のレーザ光用反射鏡 ３、鏡面加工したＡｌ、もしくはＡｌ合金基板上にＭｏ
層を形成し、その上にＡｕ或いはＡｕ合金の層を真空蒸
着、イオンプレーティング、スパッター法等のドライプ
ロセスを用いて形成したことを特徴とするレーザ光用反
射鏡
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7495390A JPH0473602A (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | レーザ光用反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7495390A JPH0473602A (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | レーザ光用反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0473602A true JPH0473602A (ja) | 1992-03-09 |
Family
ID=13562200
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7495390A Pending JPH0473602A (ja) | 1990-03-23 | 1990-03-23 | レーザ光用反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0473602A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0633125A1 (en) * | 1993-07-01 | 1995-01-11 | General Electric Company | Fabrication chuck |
| JP2008171745A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Casio Comput Co Ltd | 輻射防止膜、反応装置、燃料電池装置、電子機器、熱線反射膜、及び断熱容器 |
-
1990
- 1990-03-23 JP JP7495390A patent/JPH0473602A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0633125A1 (en) * | 1993-07-01 | 1995-01-11 | General Electric Company | Fabrication chuck |
| US5410791A (en) * | 1993-07-01 | 1995-05-02 | General Electric Company | Fabrication chuck |
| JP2008171745A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Casio Comput Co Ltd | 輻射防止膜、反応装置、燃料電池装置、電子機器、熱線反射膜、及び断熱容器 |
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