JPH05228677A - レ−ザ反射鏡 - Google Patents
レ−ザ反射鏡Info
- Publication number
- JPH05228677A JPH05228677A JP4061125A JP6112592A JPH05228677A JP H05228677 A JPH05228677 A JP H05228677A JP 4061125 A JP4061125 A JP 4061125A JP 6112592 A JP6112592 A JP 6112592A JP H05228677 A JPH05228677 A JP H05228677A
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- JP
- Japan
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- molybdenum
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- Laser Beam Processing (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 炭酸ガスレ−ザのスキャナ−光学系に用いら
れる反射鏡はこれを揺動してレ−ザ光を左右に走査する
必要がある。レ−ザ光が照射された対象に接近して設け
られるので、対象物から溶融物が飛散することもあるか
ら、これが付着しにくくしかも機械的強度があって耐熱
性があることが望まれる。 【構成】 レ−ザ反射鏡として、ＳｉまたはＳｉＣを基
板とし、この上にクロム層、金層、モリブデン層を形成
している。モリブデン層はスパッタリング法で形成す
る。溶融物が付着し難い。付着しても容易に除去でき
る。
れる反射鏡はこれを揺動してレ−ザ光を左右に走査する
必要がある。レ−ザ光が照射された対象に接近して設け
られるので、対象物から溶融物が飛散することもあるか
ら、これが付着しにくくしかも機械的強度があって耐熱
性があることが望まれる。 【構成】 レ−ザ反射鏡として、ＳｉまたはＳｉＣを基
板とし、この上にクロム層、金層、モリブデン層を形成
している。モリブデン層はスパッタリング法で形成す
る。溶融物が付着し難い。付着しても容易に除去でき
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、産業用炭酸ガスレ−
ザを用いた溶接、表面改質のための機械のうちスキャナ
−光学系のレ−ザ反射鏡に関する。炭酸ガスレ−ザは、
量子効率が高く、高出力の光が得られる。高出力のレ−
ザ光を金属、絶縁体、半導体等に照射して、これらの対
象物の切断、熱処理、表面改質等を行うことができる。
ザを用いた溶接、表面改質のための機械のうちスキャナ
−光学系のレ−ザ反射鏡に関する。炭酸ガスレ−ザは、
量子効率が高く、高出力の光が得られる。高出力のレ−
ザ光を金属、絶縁体、半導体等に照射して、これらの対
象物の切断、熱処理、表面改質等を行うことができる。
【０００２】
【従来の技術】炭酸ガスレ−ザの光を対象物に照射して
これを加工する場合、光を左右に振って照射領域を拡げ
るようにする。対象物はこの振動とは直角の方向に移動
させることが多い。光を左右に振るためには、レンズま
たは反射鏡が用いられる。光を左右に走査する機構をス
キャナという。スキャナがレンズを用いるものであれ
ば、レンズを面方向に左右に揺動させれば良い。反射鏡
の場合は、２枚の反射鏡を用い炭酸ガスレ−ザの光を２
度反射させる。ここでは反射鏡を用いる場合を問題にす
る。レ−ザ反射鏡であるから、炭酸ガスレ−ザの光に対
して反射率が高いということが必要である。その他にも
色々な要求がある。反射光が左右に振れるようにしなけ
ればならないが、特別な工夫を凝らし揺動運動を不要と
するものがある。これは面の法線と回転の中心線がΘだ
け異なる反射鏡と、面の法線と回転の中心線が２Θだけ
異なる反射鏡とを組合わせたものである。両方の反射鏡
を位相を合致させながら回転させると、反射光が左右に
揺動するようになる。このように回転運動だけの場合は
反射鏡の慣性はあまり問題にならない。しかし多くの場
合、より直接的に反射鏡を、面に含まれる一つの直径を
中心として一定振幅で揺動するようにする。揺動の振幅
をΘとすると、光の走査の振幅は２Θになる。
これを加工する場合、光を左右に振って照射領域を拡げ
るようにする。対象物はこの振動とは直角の方向に移動
させることが多い。光を左右に振るためには、レンズま
たは反射鏡が用いられる。光を左右に走査する機構をス
キャナという。スキャナがレンズを用いるものであれ
ば、レンズを面方向に左右に揺動させれば良い。反射鏡
の場合は、２枚の反射鏡を用い炭酸ガスレ−ザの光を２
度反射させる。ここでは反射鏡を用いる場合を問題にす
る。レ−ザ反射鏡であるから、炭酸ガスレ−ザの光に対
して反射率が高いということが必要である。その他にも
色々な要求がある。反射光が左右に振れるようにしなけ
ればならないが、特別な工夫を凝らし揺動運動を不要と
するものがある。これは面の法線と回転の中心線がΘだ
け異なる反射鏡と、面の法線と回転の中心線が２Θだけ
異なる反射鏡とを組合わせたものである。両方の反射鏡
を位相を合致させながら回転させると、反射光が左右に
揺動するようになる。このように回転運動だけの場合は
反射鏡の慣性はあまり問題にならない。しかし多くの場
合、より直接的に反射鏡を、面に含まれる一つの直径を
中心として一定振幅で揺動するようにする。揺動の振幅
をΘとすると、光の走査の振幅は２Θになる。
【０００３】このように反射鏡を揺動させるときは単純
な回転運動とは異なり、運動方向が切り変わるときに大
きい慣性力が発生する。これに打ち勝つように揺動機構
部が作られなくてはならない。モ−タ、リンク、カムな
どが十分に強力でなければならない。しかし反射鏡自体
が軽く慣性モ−メントが小さいことが望ましい。また強
い炭酸ガスレ−ザの光に耐えなければならない。振動を
繰り返さなければならないので堅牢でなければならな
い。光が強力であるし対象物と反射鏡は接近しているの
で、加工時に対象物から溶融物が飛散し、これが反射鏡
に付着することがある。レ−ザ反射鏡はそれゆえ溶融飛
散物が付着してもこれによって特性が劣化しないもので
ある必要がある。
な回転運動とは異なり、運動方向が切り変わるときに大
きい慣性力が発生する。これに打ち勝つように揺動機構
部が作られなくてはならない。モ−タ、リンク、カムな
どが十分に強力でなければならない。しかし反射鏡自体
が軽く慣性モ−メントが小さいことが望ましい。また強
い炭酸ガスレ−ザの光に耐えなければならない。振動を
繰り返さなければならないので堅牢でなければならな
い。光が強力であるし対象物と反射鏡は接近しているの
で、加工時に対象物から溶融物が飛散し、これが反射鏡
に付着することがある。レ−ザ反射鏡はそれゆえ溶融飛
散物が付着してもこれによって特性が劣化しないもので
ある必要がある。
【０００４】従来はアルミ（Ａｌ）またはシリコン（Ｓ
ｉ）を基板とし、金（Ａｕ）またはモリブデン（Ｍｏ）
をコ−テイングしたものがレ−ザ反射鏡として用いられ
ている。これらは慣性が小さく、堅牢である等の点では
前記の要求を満たすものであるが、しかし対象物からの
溶融物の飛散付着に対しては尚十分な特性を持っていな
い。
ｉ）を基板とし、金（Ａｕ）またはモリブデン（Ｍｏ）
をコ−テイングしたものがレ−ザ反射鏡として用いられ
ている。これらは慣性が小さく、堅牢である等の点では
前記の要求を満たすものであるが、しかし対象物からの
溶融物の飛散付着に対しては尚十分な特性を持っていな
い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】たとえばＡｌ、Ｓｉ基
板の上に金をコ−テイングしたものは加工処理時のスパ
ッタ物質が鏡面に付着し易い。溶融物がミラ−表面に付
いた場合反射率が低下する。これを削り取ればよいので
あるが、金コ−テイング層は柔らかいので削り取ったり
研磨したりして再生処理をすることができない。Ａｌ、
Ｓｉ基板の上にモリブデンをコ−テイングしたものは、
膜そのものの耐久性は良好である。また高融点材料であ
るから、対象物からの溶融物が飛散しても付着しないと
いう長所がある。しかしモリブデンはＳｉ、Ａｌ基板に
対して付着性に難点がある。そのままでは基板に付き難
いし、たとえ付着しても剥離し易い。モリブデンは高融
点金属であるから、通常の蒸着は使えずイオンプレ−テ
イングや、スパッタリングを用いるがいずれの方法でも
膜の基板への付着性に難がある。
板の上に金をコ−テイングしたものは加工処理時のスパ
ッタ物質が鏡面に付着し易い。溶融物がミラ−表面に付
いた場合反射率が低下する。これを削り取ればよいので
あるが、金コ−テイング層は柔らかいので削り取ったり
研磨したりして再生処理をすることができない。Ａｌ、
Ｓｉ基板の上にモリブデンをコ−テイングしたものは、
膜そのものの耐久性は良好である。また高融点材料であ
るから、対象物からの溶融物が飛散しても付着しないと
いう長所がある。しかしモリブデンはＳｉ、Ａｌ基板に
対して付着性に難点がある。そのままでは基板に付き難
いし、たとえ付着しても剥離し易い。モリブデンは高融
点金属であるから、通常の蒸着は使えずイオンプレ−テ
イングや、スパッタリングを用いるがいずれの方法でも
膜の基板への付着性に難がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のレ−ザ反射鏡
は、シリコン（Ｓｉ）または炭化ケイ素（ＳｉＣ）を基
板とし、この上にクロム（Ｃｒ）層、金（Ａｕ）層、モ
リブデン（Ｍｏ）層をこの順に積層したものである。３
層のコ−テイング層の各膜厚は、 Ｃｒ ０．０１〜０．０５μｍ Ａｕ ０．１〜 ０．５ μｍ Ｍｏ ０．７〜 １．５ μｍ とする。この範囲で良いが特に最適の膜厚は、 Ｃｒ ０．０３μｍ Ａｕ ０．３ μｍ Ｍｏ １ μｍ である。モリブデン膜はスパッタリングによって成膜す
るのが良い。
は、シリコン（Ｓｉ）または炭化ケイ素（ＳｉＣ）を基
板とし、この上にクロム（Ｃｒ）層、金（Ａｕ）層、モ
リブデン（Ｍｏ）層をこの順に積層したものである。３
層のコ−テイング層の各膜厚は、 Ｃｒ ０．０１〜０．０５μｍ Ａｕ ０．１〜 ０．５ μｍ Ｍｏ ０．７〜 １．５ μｍ とする。この範囲で良いが特に最適の膜厚は、 Ｃｒ ０．０３μｍ Ａｕ ０．３ μｍ Ｍｏ １ μｍ である。モリブデン膜はスパッタリングによって成膜す
るのが良い。
【０００７】
【作用】基板は軽量で堅牢しかも金属膜のコ−テイング
し易いシリコン、または炭化ケイ素としている。基板が
軽量であるので、揺動運動させるときに慣性モ−メント
が小さくなる。基板の上に直接にモリブデンをコ−テイ
ングしようとしても付着性が悪い。前述のようにイオン
プレ−テイングやスパッタ法を用いてもモリブデンはシ
リコン、炭化ケイ素基板の上に付き難い。モリブデン層
を安定に付着させるために金層を設けている。金層を基
板に直接付けるとこれも剥離しやすいので、グル−層と
してクロム層を基板上に設けている。つまりクロムが金
の付着性を向上させ、金がモリブデンの付着性を増強し
ているのである。モリブデンを直接に基板に付けると境
界面で大きい応力が発生するが、本発明では、クロム、
金の２層を介しているから、応力が緩和される。
し易いシリコン、または炭化ケイ素としている。基板が
軽量であるので、揺動運動させるときに慣性モ−メント
が小さくなる。基板の上に直接にモリブデンをコ−テイ
ングしようとしても付着性が悪い。前述のようにイオン
プレ−テイングやスパッタ法を用いてもモリブデンはシ
リコン、炭化ケイ素基板の上に付き難い。モリブデン層
を安定に付着させるために金層を設けている。金層を基
板に直接付けるとこれも剥離しやすいので、グル−層と
してクロム層を基板上に設けている。つまりクロムが金
の付着性を向上させ、金がモリブデンの付着性を増強し
ているのである。モリブデンを直接に基板に付けると境
界面で大きい応力が発生するが、本発明では、クロム、
金の２層を介しているから、応力が緩和される。
【０００８】クロムは単なるグル−層であるから薄くて
良い。といっても０．０１μｍ以上は必要である。これ
より薄いと金層が安定に付かない。厚すぎるとコスト高
になるので望ましくない。製作コストの点から上限は
０．０５μｍ程度である。これ以上でももちろん機械的
強度は問題ない。金層はモリブデンを強固に付着させる
ために０．１μｍ以上なければならない。０．３μｍ程
度が最適である。コストの点から上限は０．５μｍ程度
である。モリブデンは機械的強度を十分に持たせるため
には厚いほうが良い。最低でも０．７μｍあるのが望ま
しい。しかし厚すぎるのも製作コストの点で望ましくな
いから１．５μｍ程度が上限である。勿論これらの値を
越えたものでも機械的強度、化学的、熱的な強度は十分
である。モリブデンの成膜はスパッタリングを用いる。
スパッタによって形成された膜は、モリブデンのバルク
と同じ反射特性を持つからである。炭酸ガスレ−ザを照
射したとき、モリブデン層がこれを良く反射する。幾分
かは吸収されるから反射鏡は強く加熱される。しかし最
外層がモリブデンであるから熱によって劣化し難い。ま
た酸化されるということもない。レ−ザ光によって対象
物の一部が溶融し飛散して反射鏡に当たってもモリブデ
ンが最外層でありこれに付着しない。従って反射率が低
下するという惧れがない。たとえ付着してもモリブデン
は堅固であるので、溶着物を削り取ったり研磨して取っ
たりすることができる。
良い。といっても０．０１μｍ以上は必要である。これ
より薄いと金層が安定に付かない。厚すぎるとコスト高
になるので望ましくない。製作コストの点から上限は
０．０５μｍ程度である。これ以上でももちろん機械的
強度は問題ない。金層はモリブデンを強固に付着させる
ために０．１μｍ以上なければならない。０．３μｍ程
度が最適である。コストの点から上限は０．５μｍ程度
である。モリブデンは機械的強度を十分に持たせるため
には厚いほうが良い。最低でも０．７μｍあるのが望ま
しい。しかし厚すぎるのも製作コストの点で望ましくな
いから１．５μｍ程度が上限である。勿論これらの値を
越えたものでも機械的強度、化学的、熱的な強度は十分
である。モリブデンの成膜はスパッタリングを用いる。
スパッタによって形成された膜は、モリブデンのバルク
と同じ反射特性を持つからである。炭酸ガスレ−ザを照
射したとき、モリブデン層がこれを良く反射する。幾分
かは吸収されるから反射鏡は強く加熱される。しかし最
外層がモリブデンであるから熱によって劣化し難い。ま
た酸化されるということもない。レ−ザ光によって対象
物の一部が溶融し飛散して反射鏡に当たってもモリブデ
ンが最外層でありこれに付着しない。従って反射率が低
下するという惧れがない。たとえ付着してもモリブデン
は堅固であるので、溶着物を削り取ったり研磨して取っ
たりすることができる。
【０００９】
【実施例】光学研磨したシリコン単結晶基板（１．５イ
ンチφ、厚み４ｍｍ）に真空蒸着法によって、クロムと
金の２層をコ−テイングした。クロムと金の加熱は抵抗
加熱によって行った。真空度は、５×１０-4Ｐａ（５×
１０-6ｍｂ）である。クロム膜厚は０．０３μｍであ
る。金の膜厚は０．３μｍであった。この後、ＤＣスパ
ッタ装置でモリブデン膜の成膜を行った。市販のスパッ
タ装置はバイアス電圧の加え方によってＲＦ方式のもの
とＤＣ方式のものがある。ここではＤＣ方式のものを用
いた。始めに金コ−ト膜を−１００Ｖ〜−６００Ｖのバ
イアスを掛けて逆スパッタした。これは金層を清浄化す
るためである。ついでアルゴンガスを導入し、圧力を
１．７〜６．５×１０-1Ｐａ（１．３〜５×１０-3Ｔｏ
ｒｒ）に設定し、１０〜３０Å／秒（１〜３ｎｍ／秒）
の速度で成膜した。膜厚は約１μｍであった。こうして
Ｓｉ基板の上にＣｒ、Ａｕ、Ｍｏの３層コ−テイングが
できた。
ンチφ、厚み４ｍｍ）に真空蒸着法によって、クロムと
金の２層をコ−テイングした。クロムと金の加熱は抵抗
加熱によって行った。真空度は、５×１０-4Ｐａ（５×
１０-6ｍｂ）である。クロム膜厚は０．０３μｍであ
る。金の膜厚は０．３μｍであった。この後、ＤＣスパ
ッタ装置でモリブデン膜の成膜を行った。市販のスパッ
タ装置はバイアス電圧の加え方によってＲＦ方式のもの
とＤＣ方式のものがある。ここではＤＣ方式のものを用
いた。始めに金コ−ト膜を−１００Ｖ〜−６００Ｖのバ
イアスを掛けて逆スパッタした。これは金層を清浄化す
るためである。ついでアルゴンガスを導入し、圧力を
１．７〜６．５×１０-1Ｐａ（１．３〜５×１０-3Ｔｏ
ｒｒ）に設定し、１０〜３０Å／秒（１〜３ｎｍ／秒）
の速度で成膜した。膜厚は約１μｍであった。こうして
Ｓｉ基板の上にＣｒ、Ａｕ、Ｍｏの３層コ−テイングが
できた。
【００１０】製作されたＳｉ基板レ−ザ反射鏡をスコッ
チテ−プテストによって膜強度評価を行った。これはス
コッチテ−プを膜面に張り付けて引き剥がし、膜が剥離
するかどうかを調べる簡易な膜強度試験である。この試
験に於いて膜剥離は起こらなかった。つまり膜強度は十
分であるということである。レ−ザ光を当てて温度の上
昇から熱吸収を求めるレ−ザカロリメトリ法によって吸
収率を調べた。吸収率は１．９％であった。これを反射
率に直すと９８．１％Ｒということになる。これはバル
クのモリブデンの反射率とほぼ同一である。従って炭酸
ガスレ−ザの光に対して高反射率の鏡面となる。厚い
（約１μｍ）モリブデンの外層に覆われているから熱の
放射に良く耐えるし、溶融物が付かない。たとえ付いて
もこれは簡単に取れる。つまり長い期間に渡って高反射
率を維持できる。
チテ−プテストによって膜強度評価を行った。これはス
コッチテ−プを膜面に張り付けて引き剥がし、膜が剥離
するかどうかを調べる簡易な膜強度試験である。この試
験に於いて膜剥離は起こらなかった。つまり膜強度は十
分であるということである。レ−ザ光を当てて温度の上
昇から熱吸収を求めるレ−ザカロリメトリ法によって吸
収率を調べた。吸収率は１．９％であった。これを反射
率に直すと９８．１％Ｒということになる。これはバル
クのモリブデンの反射率とほぼ同一である。従って炭酸
ガスレ−ザの光に対して高反射率の鏡面となる。厚い
（約１μｍ）モリブデンの外層に覆われているから熱の
放射に良く耐えるし、溶融物が付かない。たとえ付いて
もこれは簡単に取れる。つまり長い期間に渡って高反射
率を維持できる。
【００１１】図１は本発明のレ−ザ反射鏡の概略断面図
である。基板はＳｉまたはＳｉＣである。第１層はクロ
ム、第２層は金、第３層はモリブデンである。図２は炭
酸ガスレ−ザ加工装置の光学系の概略構成図である。レ
−ザ光は第１の反射鏡によって反射されこれが第２の反
射鏡によって反射される。この光がト−チノズルを通
り、対象物に当たり切断、熱処理等適当な作用を及ぼ
す。第２のレ−ザ反射鏡が面に含まれる直径の廻りに微
小振幅で揺動するので対象物面上を走査することができ
る。軽量の基板（Ｓｉの密度＝２．３３ｇ／ｃｍ2 、Ｓ
ｉＣの密度＝３．１２ｇ／ｃｍ2 ）を用いるから揺動の
際に慣性が小さい。
である。基板はＳｉまたはＳｉＣである。第１層はクロ
ム、第２層は金、第３層はモリブデンである。図２は炭
酸ガスレ−ザ加工装置の光学系の概略構成図である。レ
−ザ光は第１の反射鏡によって反射されこれが第２の反
射鏡によって反射される。この光がト−チノズルを通
り、対象物に当たり切断、熱処理等適当な作用を及ぼ
す。第２のレ−ザ反射鏡が面に含まれる直径の廻りに微
小振幅で揺動するので対象物面上を走査することができ
る。軽量の基板（Ｓｉの密度＝２．３３ｇ／ｃｍ2 、Ｓ
ｉＣの密度＝３．１２ｇ／ｃｍ2 ）を用いるから揺動の
際に慣性が小さい。
【００１２】
【発明の効果】本発明のレ−ザ反射鏡は、炭酸ガスレ−
ザの光を良く反射し、熱に対しても強い。モリブデンが
最外層であるから、耐熱性が良い。レ−ザ光が対象物に
当たると溶融物が飛散することもあるがこれが鏡面に当
たっても付着しにくい。つまり鏡面が汚れない。従って
反射率が低下しない。たとえ溶融物が付いても削り取る
ことができる。柔らかい金層の場合はこのようなことは
できなかった。モリブデンは機械的強度も大きいので衝
撃、摩擦などがあっても損耗しない。モリブデンを直接
基板につけると剥離しやすいが本発明では金層の上につ
けているので応力が緩和され容易に剥離しない。金はク
ロムを介して基板に付けるので付着力が大きい。このよ
うな訳で長い期間に渡って反射率の低下が少なく、長寿
命のレ−ザ反射鏡を提供することができる。
ザの光を良く反射し、熱に対しても強い。モリブデンが
最外層であるから、耐熱性が良い。レ−ザ光が対象物に
当たると溶融物が飛散することもあるがこれが鏡面に当
たっても付着しにくい。つまり鏡面が汚れない。従って
反射率が低下しない。たとえ溶融物が付いても削り取る
ことができる。柔らかい金層の場合はこのようなことは
できなかった。モリブデンは機械的強度も大きいので衝
撃、摩擦などがあっても損耗しない。モリブデンを直接
基板につけると剥離しやすいが本発明では金層の上につ
けているので応力が緩和され容易に剥離しない。金はク
ロムを介して基板に付けるので付着力が大きい。このよ
うな訳で長い期間に渡って反射率の低下が少なく、長寿
命のレ−ザ反射鏡を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のレ−ザ反射鏡の構成を示す断面図。
【図２】炭酸ガスレ−ザの光学系を示す略図。
Claims (2)
- 【請求項１】 炭酸ガスレ−ザの光を対象物に照射し対
象物を加工しまたは熱処理する機構の光学系に使用され
る反射鏡であって、シリコン（Ｓｉ）または炭化ケイ素
（ＳｉＣ）の基板と、この上に形成されたクロム（Ｃ
ｒ）層と、クロム層の上に形成された金（Ａｕ）層と、
金層の上に形成されたモリブデン（Ｍｏ）層とよりなる
ことを特徴とするレ−ザ反射鏡。 - 【請求項２】 炭酸ガスレ−ザの光を対象物に照射し対
象物を加工しまたは熱処理する機構の光学系に使用され
る反射鏡であって、シリコン（Ｓｉ）または炭化ケイ素
（ＳｉＣ）の基板と、この上に形成された厚みが０．０
１〜０．０５μｍのクロム（Ｃｒ）層と、クロム層の上
に形成された厚みが０．１〜 ０．５μｍの金（Ａｕ）
層と、金層の上に形成された厚みが０．７〜 １．５μ
ｍのモリブデン（Ｍｏ）層とよりなることを特徴とする
レ−ザ反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4061125A JPH05228677A (ja) | 1992-02-17 | 1992-02-17 | レ−ザ反射鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4061125A JPH05228677A (ja) | 1992-02-17 | 1992-02-17 | レ−ザ反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05228677A true JPH05228677A (ja) | 1993-09-07 |
Family
ID=13162050
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4061125A Pending JPH05228677A (ja) | 1992-02-17 | 1992-02-17 | レ−ザ反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05228677A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0856827A1 (en) * | 1997-02-04 | 1998-08-05 | Pittway Corporation | Photodetector with coated reflector |
| JP2009116263A (ja) * | 2007-11-09 | 2009-05-28 | Mitsubishi Electric Corp | レーザ光用光学ミラー |
| WO2011029603A1 (de) * | 2009-09-09 | 2011-03-17 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V | Substrat aus einer aluminium-silizium-legierung oder kristallinem silizium, metallspiegel, verfahren zu dessen herstellung sowie dessen verwendung |
| CN102094179A (zh) * | 2010-12-30 | 2011-06-15 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | RB-SiC基底反射镜表面改性层结构及制备方法 |
| DE102019003900A1 (de) | 2018-06-14 | 2019-12-19 | Fanuc Corporation | Galvanometerspiegel und lasermaschine |
| US10518408B2 (en) | 2016-05-27 | 2019-12-31 | UBTECH Robotics Corp. | Robot joint structure |
| JP2022528291A (ja) * | 2019-06-07 | 2022-06-09 | バイストロニック レーザー アクチェンゲゼルシャフト | 加工物のレーザ加工のための機械加工装置および加工物のレーザ加工のための方法 |
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-
1992
- 1992-02-17 JP JP4061125A patent/JPH05228677A/ja active Pending
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