JPH01300203A - レーザ反射鏡 - Google Patents
レーザ反射鏡Info
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- JPH01300203A JPH01300203A JP13097388A JP13097388A JPH01300203A JP H01300203 A JPH01300203 A JP H01300203A JP 13097388 A JP13097388 A JP 13097388A JP 13097388 A JP13097388 A JP 13097388A JP H01300203 A JPH01300203 A JP H01300203A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 27
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 20
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 17
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 4
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 13
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 3
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N Fe2+ Chemical compound [Fe+2] CWYNVVGOOAEACU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
この発明は、CO2レーザ、COレーザなどの赤外レー
ザに用いられるレーザ反射鏡に関するものである。
ザに用いられるレーザ反射鏡に関するものである。
[従来の技術]
従来の赤外レーザ用反射鏡としては、大きく分けて2つ
のタイプがある。1つのタイプは、鏡面加工されたCu
またはMOの反射鏡基板を用いるものである。Cuは、
被加工性および熱伝導性等の性質に優れ、かつ赤外レー
ザの理論反射率も99%以上と高く、また素材価格も安
いため、最も多く用いられている材質である。Cuは鏡
面加工したままの状態で、レーザ反射鏡として使用され
ることもあるが、銅表面が酸化しやすいため、第2図に
示すように、Au薄膜2をめっきやイオンプレーティン
グなどの方法で、Cu基板1上に形成して使用している
。また、硬度を増加させるため、第3図に示すように、
Ni薄膜3をCu基板1上に形成し、このNi薄膜3上
にAu薄膜2を形成することも行なわれている。
のタイプがある。1つのタイプは、鏡面加工されたCu
またはMOの反射鏡基板を用いるものである。Cuは、
被加工性および熱伝導性等の性質に優れ、かつ赤外レー
ザの理論反射率も99%以上と高く、また素材価格も安
いため、最も多く用いられている材質である。Cuは鏡
面加工したままの状態で、レーザ反射鏡として使用され
ることもあるが、銅表面が酸化しやすいため、第2図に
示すように、Au薄膜2をめっきやイオンプレーティン
グなどの方法で、Cu基板1上に形成して使用している
。また、硬度を増加させるため、第3図に示すように、
Ni薄膜3をCu基板1上に形成し、このNi薄膜3上
にAu薄膜2を形成することも行なわれている。
MoもCuと同様に鏡面加工して用いられるが、他の材
質に比べ硬度が高いので、反射鏡として使用している際
にスパッタなどの汚れが付いても、ブラシ等で汚れを擦
り落とすことができるという特徴がある。MOの場合に
は、その硬度を維持するため、通常Auなどの薄膜を形
成しない。
質に比べ硬度が高いので、反射鏡として使用している際
にスパッタなどの汚れが付いても、ブラシ等で汚れを擦
り落とすことができるという特徴がある。MOの場合に
は、その硬度を維持するため、通常Auなどの薄膜を形
成しない。
もう1つのタイプのものは鏡面加工されたStやGeの
反射鏡基板を用いるものである。このタイプのレーザ反
射鏡では、金属基板の反射率をさらに向上させる目的で
、・・第4図に示すように、SiまたはGe基板4の上
に、AuまたはAg薄膜5を形成し、この薄膜の上にT
hF4やZn5eの誘電体薄膜を多数層積層した誘電体
多層膜6を形成して使用している。
反射鏡基板を用いるものである。このタイプのレーザ反
射鏡では、金属基板の反射率をさらに向上させる目的で
、・・第4図に示すように、SiまたはGe基板4の上
に、AuまたはAg薄膜5を形成し、この薄膜の上にT
hF4やZn5eの誘電体薄膜を多数層積層した誘電体
多層膜6を形成して使用している。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、このような従来のレーザ反射鏡には、以
下に述べるような種々の欠点があった。
下に述べるような種々の欠点があった。
まず、Cuを基板とするレーザ反射鏡では、CUの硬度
が低いため、使用中表面がtηれた場合にガーゼ等で拭
き取ろうとすると、表面に傷がついたり、あるいは表面
のAu薄膜が剥がれてしまい、反射性能が劣化してしま
うという欠点があった。
が低いため、使用中表面がtηれた場合にガーゼ等で拭
き取ろうとすると、表面に傷がついたり、あるいは表面
のAu薄膜が剥がれてしまい、反射性能が劣化してしま
うという欠点があった。
また、MoをW仮とするレーザ反射鏡は、Cuに比べる
と硬度がはるかに高く、使用の際汚れが付いても傷をつ
けることなくガーゼ等で拭き取ることが可能であるが、
材料は高価であり、また研磨仕上げによらなければ鏡面
加工することができず、非球面を形成する際に、超精密
切削加工ができないという欠点があった。
と硬度がはるかに高く、使用の際汚れが付いても傷をつ
けることなくガーゼ等で拭き取ることが可能であるが、
材料は高価であり、また研磨仕上げによらなければ鏡面
加工することができず、非球面を形成する際に、超精密
切削加工ができないという欠点があった。
Cu9Moはそれぞれ比重が8.76.10゜22と重
いため、これらを基板とするレーザ反射鏡は取付けに<
<、作業性が悪いという欠点もあった。
いため、これらを基板とするレーザ反射鏡は取付けに<
<、作業性が悪いという欠点もあった。
また、SiまたはGeJi板上にAuまたはAg薄膜を
形成しその上に誘電体多層膜を形成したレーザ反射鏡の
場合には、誘電体多層膜が、銅基板上に金薄膜を形成し
たものより、さらに剥がれやすく、使用の際表面が〆り
れてこれを除去しようとすると、誘電体多層膜が容易に
剥がれてしまうという欠点があった。
形成しその上に誘電体多層膜を形成したレーザ反射鏡の
場合には、誘電体多層膜が、銅基板上に金薄膜を形成し
たものより、さらに剥がれやすく、使用の際表面が〆り
れてこれを除去しようとすると、誘電体多層膜が容易に
剥がれてしまうという欠点があった。
この発明の目的は、かかる従来のレーザ反射鏡の欠点を
解消し、安価かつ軽量で、しかも表面の汚れを落として
も表面を傷つけることのないレーザ反射鏡を提供するこ
とにある。
解消し、安価かつ軽量で、しかも表面の汚れを落として
も表面を傷つけることのないレーザ反射鏡を提供するこ
とにある。
[課題を解決するための手段および作用]この発明のレ
ーザ反射鏡は、アルミニウムまたはアルミニウムを主成
分とする合金からなる反射鏡基板の上に、モリブデンの
薄膜を形成したことを特徴としている。
ーザ反射鏡は、アルミニウムまたはアルミニウムを主成
分とする合金からなる反射鏡基板の上に、モリブデンの
薄膜を形成したことを特徴としている。
第1図は、この発明の一実施例であって、10はA旦基
板、11はMO薄膜を示している。
板、11はMO薄膜を示している。
この発明では、反射鏡基板にアルミニウムまたはその合
金を使用しているので、被加工性が良く、研磨による鏡
面加工はもちろんのことながら、超精密旋盤による放物
面などの非球面の鏡面加工仕上げも可能である。また、
アルミニウムまたはその合金を反射鏡基板に用いている
ので、安価に製造することができる。さらに、アルミニ
ウムまたはその合金を基板に用いているので、熱伝導性
に優れており、レーザ反射鏡として使用する際に水冷に
よる反射鏡の冷却効果を最大限に発揮させることができ
る。すなわち、レーザによる反射鏡の温度上昇を小さく
抑えることができ、熱膨張による形状変化を非常に小さ
くすることができるので、レーザビームのモードを極め
て安定化させることができる。
金を使用しているので、被加工性が良く、研磨による鏡
面加工はもちろんのことながら、超精密旋盤による放物
面などの非球面の鏡面加工仕上げも可能である。また、
アルミニウムまたはその合金を反射鏡基板に用いている
ので、安価に製造することができる。さらに、アルミニ
ウムまたはその合金を基板に用いているので、熱伝導性
に優れており、レーザ反射鏡として使用する際に水冷に
よる反射鏡の冷却効果を最大限に発揮させることができ
る。すなわち、レーザによる反射鏡の温度上昇を小さく
抑えることができ、熱膨張による形状変化を非常に小さ
くすることができるので、レーザビームのモードを極め
て安定化させることができる。
さらに、アルミニウムの比重は、モリブデンに比べ約4
分の1、銅に比べ約3分の1であるので、従来のレーザ
反射鏡に比べ軽量化させることかできる。このため、レ
ーザ反射鏡の取付けや取り外しの作業性が向上する。ま
た、NC装置等により、レーザ三次元、二次元加工機に
このレーザ反射鏡を装着した場合、レーザ反射鏡が軽量
であるため従来に比べ慣性力を減らすことができ、従来
よりも位置制御性を向上させ、また駆動系の小型化も図
ることができる。
分の1、銅に比べ約3分の1であるので、従来のレーザ
反射鏡に比べ軽量化させることかできる。このため、レ
ーザ反射鏡の取付けや取り外しの作業性が向上する。ま
た、NC装置等により、レーザ三次元、二次元加工機に
このレーザ反射鏡を装着した場合、レーザ反射鏡が軽量
であるため従来に比べ慣性力を減らすことができ、従来
よりも位置制御性を向上させ、また駆動系の小型化も図
ることができる。
この発明のレーザ反射鏡では、反射鏡基板の上にモリブ
デンの薄膜を形成しているので、モリブデンを基数とし
たレーザ反射鏡と同様に、その表面の硬度か高くなる。
デンの薄膜を形成しているので、モリブデンを基数とし
たレーザ反射鏡と同様に、その表面の硬度か高くなる。
すなわち、ビッカース硬度で250程度になる。したが
って、反射鏡を使用中、スパッタやミストの焼き付き等
が生じても、トリクレンやアルコールなどの溶媒中で拭
き取り、表面を洗浄することができる。また、ナイロン
ブラシ等でスパッタ等の汚れを除去することもできる。
って、反射鏡を使用中、スパッタやミストの焼き付き等
が生じても、トリクレンやアルコールなどの溶媒中で拭
き取り、表面を洗浄することができる。また、ナイロン
ブラシ等でスパッタ等の汚れを除去することもできる。
また、モリブデンの融点は2610℃と高いので、使用
時にスパッタや異物等が付き、レーザの照射により焼き
付きや蒸発を起こしても、モリブデンが溶けることがな
く、損傷を生じるおそれがない。
時にスパッタや異物等が付き、レーザの照射により焼き
付きや蒸発を起こしても、モリブデンが溶けることがな
く、損傷を生じるおそれがない。
この発明において、モリブデンの薄膜は、たとえばイオ
ンプレーティングにより形成することができる。また、
モリブデンの薄膜の厚みは、0゜1〜20μmの範囲内
であることが好ましい。0゜1μmより厚みが少ないと
、モリブデンを基板としたレーザ反射鏡のような硬度を
期待することができず、また20μmより厚くしても厚
みに比例した、より顕著な効果が得られなくなるからで
ある。
ンプレーティングにより形成することができる。また、
モリブデンの薄膜の厚みは、0゜1〜20μmの範囲内
であることが好ましい。0゜1μmより厚みが少ないと
、モリブデンを基板としたレーザ反射鏡のような硬度を
期待することができず、また20μmより厚くしても厚
みに比例した、より顕著な効果が得られなくなるからで
ある。
[実施例コ
純度99.98%のアルミニウムを用いて、直径40m
m焦点距$150mmの軸外し放射面鏡の基板を5PD
T加工で切削し、Ra−0,07μm1面精度λ/20
(λ−10.6μm)とした。
m焦点距$150mmの軸外し放射面鏡の基板を5PD
T加工で切削し、Ra−0,07μm1面精度λ/20
(λ−10.6μm)とした。
次に、この軸外し放射面鏡の基板の上に、純度99.9
9%のモリブデンベレットを原料にして、イオンプレー
ティング法により厚み5μmのモリブデン薄膜を形成し
た。得られた放物面鏡のc。
9%のモリブデンベレットを原料にして、イオンプレー
ティング法により厚み5μmのモリブデン薄膜を形成し
た。得られた放物面鏡のc。
2レーザの反射率は98.2%であり、表面のビッカー
ス硬度は245であった。
ス硬度は245であった。
この放物面鏡を、出力5kwのCO2レーザ加工機の加
工ヘッドに取付け、鉄系材料の切断工程に使用した。使
用につれて、放物面鏡の表面ではスパッタや工場雰囲気
中のミストの焼き付きを生じた。このような放物面鏡の
表面に付着したスパッタやミストを、水中でナイロンブ
ラシにより擦ったところ、はぼ完全に除去することがで
きた。
工ヘッドに取付け、鉄系材料の切断工程に使用した。使
用につれて、放物面鏡の表面ではスパッタや工場雰囲気
中のミストの焼き付きを生じた。このような放物面鏡の
表面に付着したスパッタやミストを、水中でナイロンブ
ラシにより擦ったところ、はぼ完全に除去することがで
きた。
この後、放物面鏡の反射率および面積度をa1定したと
ころ、初期の値と同じλ/20および98゜2%の値が
得られた。
ころ、初期の値と同じλ/20および98゜2%の値が
得られた。
またこの実施例で用いた放物面鏡は、従来使用していた
Cuの放物面鏡に比べ、重量が約3分の1であり、取付
は取外しの作業性が大幅に向上することが確認された。
Cuの放物面鏡に比べ、重量が約3分の1であり、取付
は取外しの作業性が大幅に向上することが確認された。
さらに、放物面鏡を取付けた加工ヘッドを移動させて加
工する、二次元NC制御CO2レーザ加T機に、上述の
実施例の放物面鏡を取付けた。加工ヘッドの移動速度に
対するNC指令位置の追随性を測定したところ、従来の
Cuの放物面鏡を取付けた場合には3m/秒で±0.3
mmであったものが、3m/秒で±0.1mmとなり、
従来よりもはるかに追随性が向上することが明らかにな
った。
工する、二次元NC制御CO2レーザ加T機に、上述の
実施例の放物面鏡を取付けた。加工ヘッドの移動速度に
対するNC指令位置の追随性を測定したところ、従来の
Cuの放物面鏡を取付けた場合には3m/秒で±0.3
mmであったものが、3m/秒で±0.1mmとなり、
従来よりもはるかに追随性が向上することが明らかにな
った。
[発明の効果]
以上説明したように、この発明のレーザ反射鏡は、安価
で軽量なアルミニウムまたはアルミニウムを主成分とす
る合金を反射鏡基板に使用するため、低価格でかつ軽量
化を図ることができる。また、この発明のレーザ反射鏡
では、モリブデンの薄膜が反射鏡基板の上に形成されて
いるため、表面の硬度が硬く、反射鏡使用の際に汚れが
付着しても、表面を損傷させることなくこの〆9れを除
去することができる。
で軽量なアルミニウムまたはアルミニウムを主成分とす
る合金を反射鏡基板に使用するため、低価格でかつ軽量
化を図ることができる。また、この発明のレーザ反射鏡
では、モリブデンの薄膜が反射鏡基板の上に形成されて
いるため、表面の硬度が硬く、反射鏡使用の際に汚れが
付着しても、表面を損傷させることなくこの〆9れを除
去することができる。
したがって、この発明のレーザ反射鏡は、CO2レーザ
やCOレーザなどの赤外レーザ用のレーザ反射鏡として
使用すると特に有用である。
やCOレーザなどの赤外レーザ用のレーザ反射鏡として
使用すると特に有用である。
第1図は、この発明の一実施例を示す断面図である。第
2図は、従来のレーザ反射鏡の一例を示す断面図である
。第3図は、従来のレーザ反射鏡の他の例を示す断面図
である。第4図は、従来のレーザ反射鏡のさらに他の例
を示す断面図である。 図において、10はAQ、基板、11はMo薄膜を示す
。 特許出願人 住友電気工業株式会社 。 (ほか2名)、i’=’−1’
2図は、従来のレーザ反射鏡の一例を示す断面図である
。第3図は、従来のレーザ反射鏡の他の例を示す断面図
である。第4図は、従来のレーザ反射鏡のさらに他の例
を示す断面図である。 図において、10はAQ、基板、11はMo薄膜を示す
。 特許出願人 住友電気工業株式会社 。 (ほか2名)、i’=’−1’
Claims (5)
- (1)アルミニウムまたはアルミニウムを主成分とする
合金からなる反射鏡基板の上に、モリブデンの薄膜を形
成したことを特徴とする、レーザ反射鏡。 - (2)前記反射鏡基板が鏡面加工されていることを特徴
とする、請求項1記載のレーザ反射鏡。 - (3)前記反射鏡基板が、超精密切削法により鏡面加工
されていることを特徴とする、請求項2記載のレーザ反
射鏡。 - (4)前記モリブデンの薄膜がイオンプレーティングに
より形成されていることを特徴とする、請求項1記載の
レーザ反射鏡。 - (5)前記モリブデンの薄膜の厚みが、0.1〜20μ
mであることを特徴とする、請求項1記載のレーザ反射
鏡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63130973A JPH0715522B2 (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | レーザ用非球面鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63130973A JPH0715522B2 (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | レーザ用非球面鏡 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01300203A true JPH01300203A (ja) | 1989-12-04 |
JPH0715522B2 JPH0715522B2 (ja) | 1995-02-22 |
Family
ID=15046931
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63130973A Expired - Lifetime JPH0715522B2 (ja) | 1988-05-27 | 1988-05-27 | レーザ用非球面鏡 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0715522B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01312504A (ja) * | 1988-06-13 | 1989-12-18 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レーザ反射鏡の製造方法 |
JPH03171001A (ja) * | 1989-11-30 | 1991-07-24 | Toshiba Corp | 反射鏡 |
US5663001A (en) * | 1991-01-11 | 1997-09-02 | Alusuisse Technology & Management Ltd. | Aluminum surfaces |
CN107380072A (zh) * | 2017-07-27 | 2017-11-24 | 信利光电股份有限公司 | 一种电致变色后视镜结构 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5652701U (ja) * | 1979-09-27 | 1981-05-09 |
-
1988
- 1988-05-27 JP JP63130973A patent/JPH0715522B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5652701U (ja) * | 1979-09-27 | 1981-05-09 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01312504A (ja) * | 1988-06-13 | 1989-12-18 | Sumitomo Electric Ind Ltd | レーザ反射鏡の製造方法 |
JPH03171001A (ja) * | 1989-11-30 | 1991-07-24 | Toshiba Corp | 反射鏡 |
US5663001A (en) * | 1991-01-11 | 1997-09-02 | Alusuisse Technology & Management Ltd. | Aluminum surfaces |
CN107380072A (zh) * | 2017-07-27 | 2017-11-24 | 信利光电股份有限公司 | 一种电致变色后视镜结构 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0715522B2 (ja) | 1995-02-22 |
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