JPS63282701A - レ−ザ用ミラ− - Google Patents
レ−ザ用ミラ−Info
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- JPS63282701A JPS63282701A JP62117060A JP11706087A JPS63282701A JP S63282701 A JPS63282701 A JP S63282701A JP 62117060 A JP62117060 A JP 62117060A JP 11706087 A JP11706087 A JP 11706087A JP S63282701 A JPS63282701 A JP S63282701A
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- Pending
Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的］
（産業上の利用分野）
本発明はレーザ用ミラーに関し、更に詳しくは、ミラー
性能が低下することな（Ｃｕ製ミラーに比べて長寿命化
を図ることができる新規なレーザ用ミラーに間する。
性能が低下することな（Ｃｕ製ミラーに比べて長寿命化
を図ることができる新規なレーザ用ミラーに間する。
（従来の技術）
例えばＣＯ２レーザは、既に研究室のレベルから抜は出
し、切断、溶接、焼入れなどを行なう生産加ニジステム
として実際の生産ラインに導入されはじめている。
し、切断、溶接、焼入れなどを行なう生産加ニジステム
として実際の生産ラインに導入されはじめている。
この場合、レーザ発振器で出力されたレーザ光はミラー
でその進路を変えられながらワークテーブル上の被加工
物にまで伝送される。このときに用いられるミラーにと
っては、その鏡面反射率が高いことが必要で、出力の小
さいレーザの場合は通常鏡面加工を施したＣｕ製ミラー
が用いられている。
でその進路を変えられながらワークテーブル上の被加工
物にまで伝送される。このときに用いられるミラーにと
っては、その鏡面反射率が高いことが必要で、出力の小
さいレーザの場合は通常鏡面加工を施したＣｕ製ミラー
が用いられている。
（発明が解決しようとする問題点）
しかしながら、このＣｕ製ミラーには次のような問題が
発生してその解決が求められている。
発生してその解決が求められている。
それはＣｕが軟質金属であるということに基づいて発生
する問題である。
する問題である。
例えばレーザ発振器からレーザ光を連続発振して所定の
加工を行なう場合Ｃｕ製ミラーにはレーザ光が連続的に
または間欠的に照射されるが、そのときＣｕ製ミラーに
は光反射率に代表される特性の劣化が起る。とくにＣＯ
２レーザが大出力の場合は、ミラー面の金属組織の変化
や酸化の進行などにより表面粗さが悪化して光反射率は
低下する。
加工を行なう場合Ｃｕ製ミラーにはレーザ光が連続的に
または間欠的に照射されるが、そのときＣｕ製ミラーに
は光反射率に代表される特性の劣化が起る。とくにＣＯ
２レーザが大出力の場合は、ミラー面の金属組織の変化
や酸化の進行などにより表面粗さが悪化して光反射率は
低下する。
また、実際の生産ラインを取り囲む環境には例えば微細
鉄粉のような粉塵が飛散しており、これら粉塵がミラー
面に付着することが多く、そのことによってミラー面の
粗化が起って光反射率の低下を招くことも多い。
鉄粉のような粉塵が飛散しており、これら粉塵がミラー
面に付着することが多く、そのことによってミラー面の
粗化が起って光反射率の低下を招くことも多い。
このような状態になると、通常はミラーを取り外し、そ
のミラー面の付着物を払拭したりまたは表面を再度研磨
したりする処置が施されるが、しかしＣｕ製ミラーは前
述したように軟質であるため、上記の払拭処置を施すと
そのミラー面が損傷して光反射率の低下を招く、そしで
そもそちがこのような処置を施すためには、その都度生
産ラインを停止しミラー収納部を分解するという作業を
行なわなければならず、全体の操業率の低下を招く。
のミラー面の付着物を払拭したりまたは表面を再度研磨
したりする処置が施されるが、しかしＣｕ製ミラーは前
述したように軟質であるため、上記の払拭処置を施すと
そのミラー面が損傷して光反射率の低下を招く、そしで
そもそちがこのような処置を施すためには、その都度生
産ラインを停止しミラー収納部を分解するという作業を
行なわなければならず、全体の操業率の低下を招く。
本発明は、このような問題を解消し、そのミラー性能は
低下することな〈従来のＣｕ製ミラーの約２倍の使用寿
命を有する新規なレーザ用ミラーの提供を目的とする。
低下することな〈従来のＣｕ製ミラーの約２倍の使用寿
命を有する新規なレーザ用ミラーの提供を目的とする。
［発明の構成］
（問題点を解消するための手段拳作用）本発明者らは、
Ｃｕ製ミラーにおける上記問題はＣｕが軟質金属という
問題に起因することに着目し、したがってこのミラー面
にミラー面の光反射率を阻害しない程度に高融点で高硬
度の材料の薄膜を形成することを着想し、その材料とし
てＭｏ、Ｗが好適であるとの事実を見出し本発明のミラ
ーを開発するに到った。
Ｃｕ製ミラーにおける上記問題はＣｕが軟質金属という
問題に起因することに着目し、したがってこのミラー面
にミラー面の光反射率を阻害しない程度に高融点で高硬
度の材料の薄膜を形成することを着想し、その材料とし
てＭｏ、Ｗが好適であるとの事実を見出し本発明のミラ
ーを開発するに到った。
すなわち、本発明のレーザ用ミラーは、ミラー基体と、
該ミラー基体の鏡面に形成されたＭＯまたはＷの薄膜と
から成ることを特徴とする。
該ミラー基体の鏡面に形成されたＭＯまたはＷの薄膜と
から成ることを特徴とする。
本発明のミラーにおいて、ベースとなるミラー基体は従
来から用いられているＣｕ製ミラーを用いることが可能
である。すなわち、それは無酸素銅の塊に研削加工を施
して所定形状のミラーとし、そのミラー面に対しては例
えばグイヤモンド研削を施して鏡面状態に仕上げたもの
である。
来から用いられているＣｕ製ミラーを用いることが可能
である。すなわち、それは無酸素銅の塊に研削加工を施
して所定形状のミラーとし、そのミラー面に対しては例
えばグイヤモンド研削を施して鏡面状態に仕上げたもの
である。
このミラー基体のミラー面にはＭＯまたはＷの薄膜が形
成される。薄膜形成法としては公知の方法を適用できる
が、ミラー面を清浄化しながら硬い薄膜を形成できると
いう点でスパッタ法が好適である。
成される。薄膜形成法としては公知の方法を適用できる
が、ミラー面を清浄化しながら硬い薄膜を形成できると
いう点でスパッタ法が好適である。
この場合の薄膜の厚みが薄すぎるとＭｏ、Ｗ薄膜形成の
効果が充分に発揮されず、またその厚みが厚すぎるとミ
ラー面との間で剥離現象が起りやすくなりまたミラーの
光反射率にも悪影響を及ぼすようになるので、通常は数
百人から２００ＯＡの範囲に厚みを制御することが好ま
しい。
効果が充分に発揮されず、またその厚みが厚すぎるとミ
ラー面との間で剥離現象が起りやすくなりまたミラーの
光反射率にも悪影響を及ぼすようになるので、通常は数
百人から２００ＯＡの範囲に厚みを制御することが好ま
しい。
また、本発明のミラーは上記したＭｏまたはＷ薄膜の上
に更に光反射率が優れるＡｕの薄膜を形成したものであ
ってもよい。
に更に光反射率が優れるＡｕの薄膜を形成したものであ
ってもよい。
（発明の実施例）
無酸素銅のブロックに研削加工を施して直径５０鳳■厚
み１５璽璽のミラーディスクを製作した。このディスク
の片面にダイヤモンド研削加工を施して鏡面度０．０６
４の鏡面仕上げをした。
み１５璽璽のミラーディスクを製作した。このディスク
の片面にダイヤモンド研削加工を施して鏡面度０．０６
４の鏡面仕上げをした。
ついでこのディスクをスパッタ装置にセットしその鏡面
個所にＭＯをスパッタした。スパッタ条件は、直流０．
２４Ａ 、４５０Ｖ 、５Ｘ１０’ＴｏｒｒのＡｒ気流
中、スパッタ時間３０分であった。
個所にＭＯをスパッタした。スパッタ条件は、直流０．
２４Ａ 、４５０Ｖ 、５Ｘ１０’ＴｏｒｒのＡｒ気流
中、スパッタ時間３０分であった。
鏡面には厚み約１５０ＯＡのＭｏ薄膜が形成された。
このミラーを５ＫＷＣＯ２レーザ装置に組込んで連続発
振の使用テストに供した。設計基準の光反射率を保持す
る時間は約２０００時間であった。
振の使用テストに供した。設計基準の光反射率を保持す
る時間は約２０００時間であった。
比較のため、Ｍｏ薄膜を形成しないＣｕ製ミラーについ
ても同様のテストを行なったところ、その使用寿命は約
１２００時間であった。
ても同様のテストを行なったところ、その使用寿命は約
１２００時間であった。
［発明の効果］
以上の説明で明らかなように、本発明のミラーはレーザ
の連続発振においてもその光反射率の低下は小さく、し
たがって使用寿命が従来のＣｕ製ミラーの場合の約２倍
と長くその工業的価値は大である。
の連続発振においてもその光反射率の低下は小さく、し
たがって使用寿命が従来のＣｕ製ミラーの場合の約２倍
と長くその工業的価値は大である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、ミラー基体と、該ミラー基体の鏡面に形成されたモ
リブデンまたはタングステンの薄膜とから成ることを特
徴とするレーザ用ミラー。 ２、該薄膜の上に更に金の薄膜が形成されている特許請
求の範囲第１項記載のレーザ用ミラー。 ３、該ミラー基体が銅製である特許請求の範囲第１項記
載のレーザ用ミラー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62117060A JPS63282701A (ja) | 1987-05-15 | 1987-05-15 | レ−ザ用ミラ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62117060A JPS63282701A (ja) | 1987-05-15 | 1987-05-15 | レ−ザ用ミラ− |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63282701A true JPS63282701A (ja) | 1988-11-18 |
Family
ID=14702433
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62117060A Pending JPS63282701A (ja) | 1987-05-15 | 1987-05-15 | レ−ザ用ミラ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63282701A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0371990A (ja) * | 1989-08-07 | 1991-03-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | レーザ用反射ミラー |
| JPH03171001A (ja) * | 1989-11-30 | 1991-07-24 | Toshiba Corp | 反射鏡 |
| JP2008171745A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Casio Comput Co Ltd | 輻射防止膜、反応装置、燃料電池装置、電子機器、熱線反射膜、及び断熱容器 |
-
1987
- 1987-05-15 JP JP62117060A patent/JPS63282701A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0371990A (ja) * | 1989-08-07 | 1991-03-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | レーザ用反射ミラー |
| JPH03171001A (ja) * | 1989-11-30 | 1991-07-24 | Toshiba Corp | 反射鏡 |
| JP2008171745A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Casio Comput Co Ltd | 輻射防止膜、反応装置、燃料電池装置、電子機器、熱線反射膜、及び断熱容器 |
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