JPH0588309B2 - - Google Patents
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- JPH0588309B2 JPH0588309B2 JP28973488A JP28973488A JPH0588309B2 JP H0588309 B2 JPH0588309 B2 JP H0588309B2 JP 28973488 A JP28973488 A JP 28973488A JP 28973488 A JP28973488 A JP 28973488A JP H0588309 B2 JPH0588309 B2 JP H0588309B2
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、複合硬質材料及びその製造方法に関
し、特に耐摩耗性の優れた複合硬質材料及びその
製造方法に係わる。
し、特に耐摩耗性の優れた複合硬質材料及びその
製造方法に係わる。
［従来の技術及び課題］
TiC，TiNを初めとしてTi（Ｃ・Ｎ）、（Ti，
Hf）Ｎ、（Ti，Zr）Ｎ等の耐摩耗性を有する硬質
材料を高速度鋼、超硬合金に被覆した複合硬質材
料は耐摩耗部品、切削工具等で長年に亙つて工業
的に利用されてきている。しかしながら、工業的
利用の面から更に苛酷な使用条件に耐える複合硬
質材料が要望されている。
Hf）Ｎ、（Ti，Zr）Ｎ等の耐摩耗性を有する硬質
材料を高速度鋼、超硬合金に被覆した複合硬質材
料は耐摩耗部品、切削工具等で長年に亙つて工業
的に利用されてきている。しかしながら、工業的
利用の面から更に苛酷な使用条件に耐える複合硬
質材料が要望されている。
上述した要望から、３元系の複合材料に止まら
ず更に４元系へと多元系への開発が進んでいる。
その中で（Ti，Al，Ｖ）Ｎ系の複合材料はAl，
Ｖ成分を含むため、耐摩耗性に優れており、該複
合材料を基材被覆した複合硬質材料は、従来の複
合硬質材料（例えば基材上にTiNを被覆したも
の）に比べてクレータ及びフランク摩耗量が少な
いため、有望な切削工具用材料と考えられてい
る。
ず更に４元系へと多元系への開発が進んでいる。
その中で（Ti，Al，Ｖ）Ｎ系の複合材料はAl，
Ｖ成分を含むため、耐摩耗性に優れており、該複
合材料を基材被覆した複合硬質材料は、従来の複
合硬質材料（例えば基材上にTiNを被覆したも
の）に比べてクレータ及びフランク摩耗量が少な
いため、有望な切削工具用材料と考えられてい
る。
しかしながら、（Ti，Al，Ｖ）Ｎの組成の複合
被膜を所望の基材上に直接被覆すると、基材と複
合被膜との化学組成、結晶構造の相違からそれら
の界面での構成ギヤツプにより密着性が不十分と
なつたり、熱膨張係数のギヤツプにより熱応力下
で界面から複合被膜が剥離する等の問題があつ
た。
被膜を所望の基材上に直接被覆すると、基材と複
合被膜との化学組成、結晶構造の相違からそれら
の界面での構成ギヤツプにより密着性が不十分と
なつたり、熱膨張係数のギヤツプにより熱応力下
で界面から複合被膜が剥離する等の問題があつ
た。
本発明は、上記従来の課題を解決するためにな
されたもので、耐摩耗性の優れた（Ti，Al，Ｖ）
Ｎ組成を有する複合被膜を基材上にそれら界面で
のクラツクや剥離発生等を招くことなく良好に密
着させた複合硬質材料、並びにかかる複合硬質材
料を簡単な工程により製造し得る方法を提供しよ
うとするものである。
されたもので、耐摩耗性の優れた（Ti，Al，Ｖ）
Ｎ組成を有する複合被膜を基材上にそれら界面で
のクラツクや剥離発生等を招くことなく良好に密
着させた複合硬質材料、並びにかかる複合硬質材
料を簡単な工程により製造し得る方法を提供しよ
うとするものである。
［課題を解決するための手段］
本発明は、基材上に、該基材側からAl量又は
Ｖ量を段階的もしくは連続的に増加させた（Ti，
Al，Ｖ）Ｎ系の組成構造を有する複合被膜を被
覆したことを特徴とする複合硬質材料である。
Ｖ量を段階的もしくは連続的に増加させた（Ti，
Al，Ｖ）Ｎ系の組成構造を有する複合被膜を被
覆したことを特徴とする複合硬質材料である。
上記基材としては、例えば高速度鋼、超硬合
金、サーメツト等からなるものを挙げることがで
きる。
金、サーメツト等からなるものを挙げることがで
きる。
また、本発明方法は基材上にTi，Al及びＶ又
はそれら金属の合金を蒸着すると同時にイオン源
より窒素イオンを照射するイオンミキシング法に
より該基材側からAl量又はＶ量を段階的もしく
は連続的に増加させた（Ti，Al，Ｖ）Ｎ系の組
成構造を有する複合被膜を形成することを特徴と
する複合硬質材料の製造方法である。
はそれら金属の合金を蒸着すると同時にイオン源
より窒素イオンを照射するイオンミキシング法に
より該基材側からAl量又はＶ量を段階的もしく
は連続的に増加させた（Ti，Al，Ｖ）Ｎ系の組
成構造を有する複合被膜を形成することを特徴と
する複合硬質材料の製造方法である。
上記Ti，Al，Ｖの蒸着手段としては、ターゲ
ツトを利用したイオンビームスパツタ法と、電子
ビームによる真空蒸着を挙げることができる。前
者の方法では、所定の化学組成を有するTi−Al
−Ｖ合金ターゲツトを利用してもよく、或いは
Ti，Al及びＶの単体の金属ターゲツトに順次ス
パツタイオンビームを照射して合金膜を基材表面
に蒸着してもよい。この場合、スパツタイオンビ
ームの加速電圧、ビーム電流を調節したり、ター
ゲツトにイオンビームを照射する時間を調節する
ことにより蒸着組成を制御することが可能とな
る。また、電子ビームを用いる真空蒸着法の場合
はトリプルハース方式で電子ビームによりTiと
AlとＶを蒸着するが、TiとAlとＶとを連続的に
蒸着することも可能であり、適当な時間間隔をお
いて蒸着することも可能であり、組成制御も可能
である。
ツトを利用したイオンビームスパツタ法と、電子
ビームによる真空蒸着を挙げることができる。前
者の方法では、所定の化学組成を有するTi−Al
−Ｖ合金ターゲツトを利用してもよく、或いは
Ti，Al及びＶの単体の金属ターゲツトに順次ス
パツタイオンビームを照射して合金膜を基材表面
に蒸着してもよい。この場合、スパツタイオンビ
ームの加速電圧、ビーム電流を調節したり、ター
ゲツトにイオンビームを照射する時間を調節する
ことにより蒸着組成を制御することが可能とな
る。また、電子ビームを用いる真空蒸着法の場合
はトリプルハース方式で電子ビームによりTiと
AlとＶを蒸着するが、TiとAlとＶとを連続的に
蒸着することも可能であり、適当な時間間隔をお
いて蒸着することも可能であり、組成制御も可能
である。
前記イオン源より照射する窒素イオンは、蒸着
と独立して操作することが可能である。このた
め、蒸着量と窒素イオンの相対的な組成比率は自
由に調節でき、目的とする所定比率の（Ti，Al，
Ｖ）Ｎの被膜を形成することが可能であり、組成
を段階的もしくは連続的に制御することが可能で
ある。
と独立して操作することが可能である。このた
め、蒸着量と窒素イオンの相対的な組成比率は自
由に調節でき、目的とする所定比率の（Ti，Al，
Ｖ）Ｎの被膜を形成することが可能であり、組成
を段階的もしくは連続的に制御することが可能で
ある。
［作用］
本発明によれば、基材上に、該基材側からAl
量又はＶ量を段階的もしくは連続的に増加させた
（Ti，Al，Ｖ）Ｎ系の組成構造を有する複合被膜
を被覆することによつて、基材と接する複合被膜
の界面での極端な組成の落差に起因する複合被膜
のクラツクや剥離等の発生を防止できると共に基
材に対する密着性を向上できる。また、（Ti，
Al，Ｖ）Ｎ系の組成構造を有する複合被膜にお
いて、Al量リツチ側ではAl量の増大に伴つてフ
ランク摩耗が少なくなるが、反面クレータ摩耗が
多くなる傾向がある。一方、Ｖ量リツチ側ではＶ
量の増大に伴つてクレータ摩耗が少なくなるが、
反面フランク摩耗が多くなる傾向がある。このよ
うなことから、複合被膜中のAl量又はＶ量を基
材側から段階的もしくは連続的に増加させること
によつて、単一の（Ti，Al，Ｖ）Ｎ組成構造を
有する複合被膜の前記欠点を補つて総合的に安定
した耐摩耗性を有する複合被膜を基材上に被覆し
た複合硬質材料を得ることができる。
量又はＶ量を段階的もしくは連続的に増加させた
（Ti，Al，Ｖ）Ｎ系の組成構造を有する複合被膜
を被覆することによつて、基材と接する複合被膜
の界面での極端な組成の落差に起因する複合被膜
のクラツクや剥離等の発生を防止できると共に基
材に対する密着性を向上できる。また、（Ti，
Al，Ｖ）Ｎ系の組成構造を有する複合被膜にお
いて、Al量リツチ側ではAl量の増大に伴つてフ
ランク摩耗が少なくなるが、反面クレータ摩耗が
多くなる傾向がある。一方、Ｖ量リツチ側ではＶ
量の増大に伴つてクレータ摩耗が少なくなるが、
反面フランク摩耗が多くなる傾向がある。このよ
うなことから、複合被膜中のAl量又はＶ量を基
材側から段階的もしくは連続的に増加させること
によつて、単一の（Ti，Al，Ｖ）Ｎ組成構造を
有する複合被膜の前記欠点を補つて総合的に安定
した耐摩耗性を有する複合被膜を基材上に被覆し
た複合硬質材料を得ることができる。
更に、本発明によれば組成制御、組成の段階的
もしくは連続的な制御が容易なイオンミキシング
法を採用することによつて、既述したような耐摩
耗性を有する複合被膜を基材上に対してクラツク
等を発生せずに良好に密着、被覆した複合硬質材
料を簡単に製造することができる。
もしくは連続的な制御が容易なイオンミキシング
法を採用することによつて、既述したような耐摩
耗性を有する複合被膜を基材上に対してクラツク
等を発生せずに良好に密着、被覆した複合硬質材
料を簡単に製造することができる。
［実施例］
以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
実施例 １
まず、基材としての30×30×２mmの寸法の高速
度鋼板及びTi板を用意し、これらの板をイオン
照射と蒸着機能を備えた真空チヤンバ内のホルダ
に夫々保持した。つづいて、このチヤンバ内を５
×10-6torrに真空引きした後、イオン源から加速
電圧5kVのArイオンを引き出し、前記板に照射
して表面清浄化のための前処理を施した。次い
で、Ti，Al及びＶをトリプルハース方式の電子
ビーム蒸着法で、まず前記高速度鋼板又はTi板
にTiを3.0Å／sec、Ｖを0.16Å／secの蒸着速度
で蒸着しながら、Alを0.10〜0.84Å／secの蒸着
速度で次第に蒸着速度を増大させて、Ti−Al−
Ｖの組成変化がなされた連続膜を形成すると同時
にイオン源から窒素イオンを加速電圧10kV、イ
オン電流密度0.25mA／cm2の条件で引き出し、該
連続膜に照射して厚さ4μmの複合窒化物膜を形成
して複合硬質材料を製造した。この複合硬質材料
の複合窒化物膜の最上層の組成は｛1/2（75at％
Ti−21at％Al−4at％Ｖ）｝50at％Ｎであること
が薄膜用Ｘ線回折及びＸ線マイクロアナライザ分
析で確認された。
度鋼板及びTi板を用意し、これらの板をイオン
照射と蒸着機能を備えた真空チヤンバ内のホルダ
に夫々保持した。つづいて、このチヤンバ内を５
×10-6torrに真空引きした後、イオン源から加速
電圧5kVのArイオンを引き出し、前記板に照射
して表面清浄化のための前処理を施した。次い
で、Ti，Al及びＶをトリプルハース方式の電子
ビーム蒸着法で、まず前記高速度鋼板又はTi板
にTiを3.0Å／sec、Ｖを0.16Å／secの蒸着速度
で蒸着しながら、Alを0.10〜0.84Å／secの蒸着
速度で次第に蒸着速度を増大させて、Ti−Al−
Ｖの組成変化がなされた連続膜を形成すると同時
にイオン源から窒素イオンを加速電圧10kV、イ
オン電流密度0.25mA／cm2の条件で引き出し、該
連続膜に照射して厚さ4μmの複合窒化物膜を形成
して複合硬質材料を製造した。この複合硬質材料
の複合窒化物膜の最上層の組成は｛1/2（75at％
Ti−21at％Al−4at％Ｖ）｝50at％Ｎであること
が薄膜用Ｘ線回折及びＸ線マイクロアナライザ分
析で確認された。
比較例 １
前記実施例１と同様な前処理を施した高速度鋼
板及びTi板に電子ビームによるトリプルハース
方式と窒素イオンの照射により厚さ4μmの｛1/2
（75at％Ti−21at％Al−4at％Ｖ）｝50at％Ｎの組
成を持つ複合被膜を直接形成して複合硬質材料を
製造した。なお、各金属の蒸着速度はTiを3.0
Å／sec，Alを0.84Å／sec，Ｖを0.16Å／secと
し、窒素イオンの照射を加速電圧10kV、イオン
電流密度0.25mA／cm2の条件で行なつた。
板及びTi板に電子ビームによるトリプルハース
方式と窒素イオンの照射により厚さ4μmの｛1/2
（75at％Ti−21at％Al−4at％Ｖ）｝50at％Ｎの組
成を持つ複合被膜を直接形成して複合硬質材料を
製造した。なお、各金属の蒸着速度はTiを3.0
Å／sec，Alを0.84Å／sec，Ｖを0.16Å／secと
し、窒素イオンの照射を加速電圧10kV、イオン
電流密度0.25mA／cm2の条件で行なつた。
しかして、真空チヤンバから取出した本実施例
１及び比較例１の複合硬質材料を切断し、断面を
SEMで観察した。その結果、比較例１の複合硬
質材料では基材として高速度鋼板を用いた場合、
基材と複合被膜の界面付近で複合被膜内に僅かで
あるがマイクロクラツクの発生が認められ、また
基材としてTi板を用いた場合、基材と複合被膜
の界面付近で複合被膜の剥離が多少認められた。
これに対し、本実施例１の複合硬質材料では高速
度鋼板、Ti板いずれにおいても、これら板と複
合被膜との界面にも何等の欠陥も観察されず良好
な被覆構造を有することが確認された。
１及び比較例１の複合硬質材料を切断し、断面を
SEMで観察した。その結果、比較例１の複合硬
質材料では基材として高速度鋼板を用いた場合、
基材と複合被膜の界面付近で複合被膜内に僅かで
あるがマイクロクラツクの発生が認められ、また
基材としてTi板を用いた場合、基材と複合被膜
の界面付近で複合被膜の剥離が多少認められた。
これに対し、本実施例１の複合硬質材料では高速
度鋼板、Ti板いずれにおいても、これら板と複
合被膜との界面にも何等の欠陥も観察されず良好
な被覆構造を有することが確認された。
実施例 ２
一般的なCVD法によりTiN膜が被覆された超
硬合金チツプをイオン照射と蒸着機能を備えた真
空チヤンバ内のホルダに保持した。つづいて、こ
のチヤンバ内を５×10-6torrに真空引きした後、
イオン源から加速電圧5kVのArイオンを引き出
し、前記チツプ表面に５分間照射して表面清浄化
のための前処理を施した。ひきつづき、同一の回
転体に取付けられたTi，Al，Ｖの夫々の単体タ
ーゲツトを所定の時間間隔をもつて回転し、これ
にスパツタイオン源より加速電圧3.5kV、イオン
電流2.0Aで引出したArイオンを照射して前記チ
ツプにスパツタ蒸着すると同時に他のイオン源か
ら窒素イオンを加速電圧10kV、イオン電流密度
0.25mA／cm2の条件で引き出し、該スパツタ蒸着
膜に照射して厚さ4μmの（Ti，Al，Ｖ）Ｎの組
成を有する複合窒化物膜を形成して複合硬質材料
を製造した。なお、各金属のスパツタ蒸着量は
Arイオン照射時間を所定の値にコントロールし、
Ti，Alターゲツトに対して一定の照射時間とし、
Ｖターゲツトに対して成膜の初期から次第にスパ
ツタ量を増加せしめて最終的には所定の一定値に
コントロールして複合被膜を形成した。得られた
複合硬質材料の断面を研磨し、複合被膜のＸ線マ
イクロアナライザ分析及びオージエ分析による線
分析を行なつたところ、基材としてのチツプとの
界面からＶ量が増加していることが判明し、定量
分析により最上層が｛1/2（75at％Ti−21at％Al
−4at％Ｖ）｝50at％Ｎの組成となつていることが
確認された。
硬合金チツプをイオン照射と蒸着機能を備えた真
空チヤンバ内のホルダに保持した。つづいて、こ
のチヤンバ内を５×10-6torrに真空引きした後、
イオン源から加速電圧5kVのArイオンを引き出
し、前記チツプ表面に５分間照射して表面清浄化
のための前処理を施した。ひきつづき、同一の回
転体に取付けられたTi，Al，Ｖの夫々の単体タ
ーゲツトを所定の時間間隔をもつて回転し、これ
にスパツタイオン源より加速電圧3.5kV、イオン
電流2.0Aで引出したArイオンを照射して前記チ
ツプにスパツタ蒸着すると同時に他のイオン源か
ら窒素イオンを加速電圧10kV、イオン電流密度
0.25mA／cm2の条件で引き出し、該スパツタ蒸着
膜に照射して厚さ4μmの（Ti，Al，Ｖ）Ｎの組
成を有する複合窒化物膜を形成して複合硬質材料
を製造した。なお、各金属のスパツタ蒸着量は
Arイオン照射時間を所定の値にコントロールし、
Ti，Alターゲツトに対して一定の照射時間とし、
Ｖターゲツトに対して成膜の初期から次第にスパ
ツタ量を増加せしめて最終的には所定の一定値に
コントロールして複合被膜を形成した。得られた
複合硬質材料の断面を研磨し、複合被膜のＸ線マ
イクロアナライザ分析及びオージエ分析による線
分析を行なつたところ、基材としてのチツプとの
界面からＶ量が増加していることが判明し、定量
分析により最上層が｛1/2（75at％Ti−21at％Al
−4at％Ｖ）｝50at％Ｎの組成となつていることが
確認された。
比較例 ２
前記実施例２と同様に表面清浄化処理された
TiN膜が被覆された超硬合金チツプにスパツタ
蒸着と窒素イオンの照射により厚さ4μmの｛1/2
（75at％Ti−21at％Al−4at％Ｖ）｝50at％Ｎ組成
を有する複合窒化物膜のみを形成して複合硬質材
料を製造した。
TiN膜が被覆された超硬合金チツプにスパツタ
蒸着と窒素イオンの照射により厚さ4μmの｛1/2
（75at％Ti−21at％Al−4at％Ｖ）｝50at％Ｎ組成
を有する複合窒化物膜のみを形成して複合硬質材
料を製造した。
しかして、本実施例２及び比較例２の複合硬質
材料によりＨＢ＝280のSNCM8鋼をＶ＝220m／
〓，ｆ＝0.28mm／rev，ｔ＝1.5mm（１回の切削時
での切り込み量）の条件で切削した時の耐摩耗性
を調べた。その結果、本実施例２の複合硬質材料
では10分間でＶＢ＝0.10mmであつたが、比較例２
の複合硬質材料では10分間でＶＢ＝0.25mmと劣つ
ていた。
材料によりＨＢ＝280のSNCM8鋼をＶ＝220m／
〓，ｆ＝0.28mm／rev，ｔ＝1.5mm（１回の切削時
での切り込み量）の条件で切削した時の耐摩耗性
を調べた。その結果、本実施例２の複合硬質材料
では10分間でＶＢ＝0.10mmであつたが、比較例２
の複合硬質材料では10分間でＶＢ＝0.25mmと劣つ
ていた。
実施例 ３
超硬合金チツプをイオン照射と蒸着機能を備え
た真空チヤンバ内のホルダに夫々保持した。つづ
いて、このチヤンバ内を５×10-6torrに真空引き
した後、イオン源から加速電圧5kVのArイオン
を引き出し、前記チツプに５分間照射して表面清
浄化のための前処理を施した。次いで、Ti，Al
及びＶをトリプルハース方式の電子ビーム蒸着法
で超硬合金チツプ表面に蒸着すると同時にイオン
源から引出した窒素イオンを照射するイオンミキ
シング法により複合窒化物膜を形成して複合硬質
材料を製造した。なお、各金属の蒸着速度はTi
を3.0Å／sec，Ｖを0.16Å／secの一定速度で、
Alは最初0.28Å／secの速度で続いて0.56Å／sec
の速度で最後に0.84Å／Secの速度の３段階の成
膜を行なつて３層膜を形成し、窒素イオンの照射
は加速電圧10kV、イオン電流密度0.25mA／cm2の
条件で行なつた。
た真空チヤンバ内のホルダに夫々保持した。つづ
いて、このチヤンバ内を５×10-6torrに真空引き
した後、イオン源から加速電圧5kVのArイオン
を引き出し、前記チツプに５分間照射して表面清
浄化のための前処理を施した。次いで、Ti，Al
及びＶをトリプルハース方式の電子ビーム蒸着法
で超硬合金チツプ表面に蒸着すると同時にイオン
源から引出した窒素イオンを照射するイオンミキ
シング法により複合窒化物膜を形成して複合硬質
材料を製造した。なお、各金属の蒸着速度はTi
を3.0Å／sec，Ｖを0.16Å／secの一定速度で、
Alは最初0.28Å／secの速度で続いて0.56Å／sec
の速度で最後に0.84Å／Secの速度の３段階の成
膜を行なつて３層膜を形成し、窒素イオンの照射
は加速電圧10kV、イオン電流密度0.25mA／cm2の
条件で行なつた。
形成された複合被膜の断面をEPMAによる分
析を行なつたところ、上記３つの層はチツプ側か
ら｛1/2（75at％Ti−7at％Al−4at％Ｖ）｝50at
％Ｎ、｛1/2（75at％Ti−14at％Al−4at％Ｖ）｝
50at％Ｎ、｛1/2（75at％Ti−21at％Al−4at％
Ｖ）｝50at％Ｎに相当する組成を有する複合窒化
物膜であることが確認された。
析を行なつたところ、上記３つの層はチツプ側か
ら｛1/2（75at％Ti−7at％Al−4at％Ｖ）｝50at
％Ｎ、｛1/2（75at％Ti−14at％Al−4at％Ｖ）｝
50at％Ｎ、｛1/2（75at％Ti−21at％Al−4at％
Ｖ）｝50at％Ｎに相当する組成を有する複合窒化
物膜であることが確認された。
比較例 ３
超硬合金チツプに電子ビームによるトリプルハ
ース方式と窒素イオンの照射により厚さ4μmの
｛1/2（75at％Ti−21at％Al−4at％Ｖ）｝50at％
Ｎの組成を持つ複合被膜を直接形成して複合硬質
材料を製造した。なお、各金属の蒸着速度はTi
を3.0Å／sec，Alを0.84Å／sec，Ｖを0.16Å／
secとし、窒素イオンの照射を加速電圧10kV、イ
オン電流密度0.25〓／cm2の条件で行なつた。
ース方式と窒素イオンの照射により厚さ4μmの
｛1/2（75at％Ti−21at％Al−4at％Ｖ）｝50at％
Ｎの組成を持つ複合被膜を直接形成して複合硬質
材料を製造した。なお、各金属の蒸着速度はTi
を3.0Å／sec，Alを0.84Å／sec，Ｖを0.16Å／
secとし、窒素イオンの照射を加速電圧10kV、イ
オン電流密度0.25〓／cm2の条件で行なつた。
しかして、本実施例３及び比較例３の複合硬質
材料によりＨＢ＝280のSNCM8鋼をＶ＝220m／
〓，ｆ＝0.28mm／rev，ｔ＝1.5mm（１回の切削時
での切り込み量）の条件で切削した時の耐摩耗性
を調べた。その結果、本実施例３の複合硬質材料
では10分間でＶＢ＝0.15mmであつたが、比較例３
の複合硬質材料では10分間でＶＢ＝0.25mmと劣つ
ていた。
材料によりＨＢ＝280のSNCM8鋼をＶ＝220m／
〓，ｆ＝0.28mm／rev，ｔ＝1.5mm（１回の切削時
での切り込み量）の条件で切削した時の耐摩耗性
を調べた。その結果、本実施例３の複合硬質材料
では10分間でＶＢ＝0.15mmであつたが、比較例３
の複合硬質材料では10分間でＶＢ＝0.25mmと劣つ
ていた。
なお、上記実施例では基材上に該基材側から
Al量又はＶ量を段階的もしくは連続的に増大さ
せた（Ti，Al，Ｖ）Ｎ系の組成構造を有する複
合被膜を被覆した複合硬質材料について説明した
が、基材の種類や結晶構造等により該基材側から
Al量又はＶ量を段階的もしくは連続的に減少さ
せた（Ti，Al，Ｖ）Ｎ系の組成構造を有する複
合被膜を基材上に被覆したり、Al量又はＶ量を
段階的もしくは連続的に増減させた複合被膜を基
材上に被覆してもよい。
Al量又はＶ量を段階的もしくは連続的に増大さ
せた（Ti，Al，Ｖ）Ｎ系の組成構造を有する複
合被膜を被覆した複合硬質材料について説明した
が、基材の種類や結晶構造等により該基材側から
Al量又はＶ量を段階的もしくは連続的に減少さ
せた（Ti，Al，Ｖ）Ｎ系の組成構造を有する複
合被膜を基材上に被覆したり、Al量又はＶ量を
段階的もしくは連続的に増減させた複合被膜を基
材上に被覆してもよい。
［発明の効果］
以上詳述した如く、本発明によれば耐摩耗性の
優れた（Ti，Al，Ｖ）Ｎ組成を有する複合被膜
を基材上にそれら界面でのクラツクや剥離発生等
を招くことなく良好に密着させた耐摩耗部品や切
削工具等に好適な複合硬質材料、並びにかかる複
合硬質材料を簡単な工程により製造し得る方法を
提供できる。
優れた（Ti，Al，Ｖ）Ｎ組成を有する複合被膜
を基材上にそれら界面でのクラツクや剥離発生等
を招くことなく良好に密着させた耐摩耗部品や切
削工具等に好適な複合硬質材料、並びにかかる複
合硬質材料を簡単な工程により製造し得る方法を
提供できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基材上に、該基材側からAl量又はＶ量を段
階的もしくは連続的に増加させた（Ti，Al，Ｖ）
Ｎ系の組成構造を有する複合被膜を被覆したこと
を特徴とする複合硬質材料。 ２ 基材上にTi，Al及びＶ又はこれら金属合金
を蒸着すると同時にイオン源より窒素イオンを照
射するイオンミキシング法により該基材側から
Al量又はＶ量を段階的もしくは連続的に増加さ
せた（Ti，Al，Ｖ）Ｎ系の組成構造を有する複
合被膜を形成することを特徴とする複合硬質材料
の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28973488A JPH02138458A (ja) | 1988-11-16 | 1988-11-16 | 複合硬質材料及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28973488A JPH02138458A (ja) | 1988-11-16 | 1988-11-16 | 複合硬質材料及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02138458A JPH02138458A (ja) | 1990-05-28 |
| JPH0588309B2 true JPH0588309B2 (ja) | 1993-12-21 |
Family
ID=17747062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28973488A Granted JPH02138458A (ja) | 1988-11-16 | 1988-11-16 | 複合硬質材料及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02138458A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011161585A (ja) * | 2010-02-12 | 2011-08-25 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 表面被覆切削工具 |
| JP2011161590A (ja) * | 2010-02-12 | 2011-08-25 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 表面被覆切削工具 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04103755A (ja) * | 1990-08-23 | 1992-04-06 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 表面被覆鋼製品及びその製造方法 |
| JPH09256138A (ja) * | 1996-03-19 | 1997-09-30 | Kobe Steel Ltd | 耐酸化性および耐摩耗性に優れたＴｉ基合金部材 |
| JP4528373B2 (ja) * | 1997-02-20 | 2010-08-18 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 被覆工具およびその製造方法 |
| GB2425780B (en) * | 2005-04-27 | 2007-09-05 | Univ Sheffield Hallam | PVD coated substrate |
-
1988
- 1988-11-16 JP JP28973488A patent/JPH02138458A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011161585A (ja) * | 2010-02-12 | 2011-08-25 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 表面被覆切削工具 |
| JP2011161590A (ja) * | 2010-02-12 | 2011-08-25 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 表面被覆切削工具 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02138458A (ja) | 1990-05-28 |
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