JP2017157751A5 - - Google Patents

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上記目的を達成するための請求項1では、一面(10a)を有し、一面側に複数の接続部(19〜21)が形成された第1基板(10)と、一面(30a)および当該一面と反対側の他面(30b)を有し、当該一面が第1基板の一面と接合されることで第1基板上に積層され、複数の接続部をそれぞれ露出させる複数の貫通孔が第1基板との積層方向に沿って形成された第2基板(30)と、複数の貫通孔(36)のそれぞれに配置され、複数の接続部とそれぞれ電気的に接続される複数の貫通電極(38)と、複数の貫通電極を一体的に覆う保護膜(41)とを備え、貫通電極および保護膜は、貫通孔の壁面に沿った形状で配置されており、保護膜は、第1基板の一面に対する法線方向から視たとき、複数の貫通孔の開口部をそれぞれ囲む複数の枠状のスリット(41d)が形成され、スリットよりも内縁側の領域とスリットよりも外縁側の領域とがスリットによって分離されている。

Claims (1)

  1. 一面(10a)を有し、前記一面側に複数の接続部(19〜21)が形成された第1基板(10)と、
    一面(30a)および当該一面と反対側の他面(30b)を有し、当該一面が前記第1基板の一面と接合されることで前記第1基板上に積層され、前記複数の接続部をそれぞれ露出させる複数の貫通孔(36)が前記第1基板との積層方向に沿って形成された第2基板(30)と、
    前記複数の貫通孔のそれぞれに配置され、前記複数の接続部とそれぞれ電気的に接続される複数の貫通電極(38)と、
    前記複数の貫通電極を一体的に覆う保護膜(41)と、を備え、
    前記貫通電極および前記保護膜は、前記貫通孔の壁面に沿った形状で配置されており、
    前記保護膜は、前記第1基板の一面に対する法線方向から視たとき、前記複数の貫通孔の開口部をそれぞれ囲む複数の枠状のスリット(41d)が形成され、前記スリットよりも内縁側の領域と前記スリットよりも外縁側の領域とが前記スリットによって分離されている半導体装置。
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019067937A (ja) 2017-10-02 2019-04-25 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 半導体装置、半導体装置の製造方法、及び、電子機器
JP7340965B2 (ja) 2019-06-13 2023-09-08 キヤノン株式会社 半導体装置およびその製造方法
EP3790046A1 (en) * 2019-09-03 2021-03-10 Ams Ag Through-substrate via and method for manufacturing a through-substrate via

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4088120B2 (ja) * 2002-08-12 2008-05-21 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
JP4966487B2 (ja) * 2004-09-29 2012-07-04 オンセミコンダクター・トレーディング・リミテッド 半導体装置及びその製造方法
JP4937842B2 (ja) * 2007-06-06 2012-05-23 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置およびその製造方法
KR100945504B1 (ko) 2007-06-26 2010-03-09 주식회사 하이닉스반도체 스택 패키지 및 그의 제조 방법
US8334599B2 (en) * 2008-08-21 2012-12-18 Qimonda Ag Electronic device having a chip stack
WO2010061551A1 (ja) 2008-11-25 2010-06-03 パナソニック株式会社 半導体装置および電子機器
JP5146307B2 (ja) * 2008-12-26 2013-02-20 パナソニック株式会社 半導体装置
JP4659875B2 (ja) * 2008-11-25 2011-03-30 パナソニック株式会社 半導体装置
JP2011165983A (ja) 2010-02-10 2011-08-25 Seiko Epson Corp 配線基板の製造方法、導体パターン形成用インクセットおよび配線基板
JP5622433B2 (ja) * 2010-04-28 2014-11-12 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置およびその製造方法
JP2012009473A (ja) 2010-06-22 2012-01-12 Panasonic Corp 半導体装置及びその製造方法
EP2463896B1 (en) 2010-12-07 2020-04-15 IMEC vzw Method for forming through-substrate vias surrounded by isolation trenches with an airgap and corresponding device
JP2012253182A (ja) * 2011-06-02 2012-12-20 Panasonic Corp 半導体装置及びその製造方法
JP2013098308A (ja) 2011-10-31 2013-05-20 Elpida Memory Inc 半導体ウェハ、半導体装置及びその製造方法
JP5948924B2 (ja) * 2012-02-09 2016-07-06 セイコーエプソン株式会社 半導体装置、半導体装置の製造方法、回路装置、回路装置の製造方法、電子機器
KR102094924B1 (ko) * 2013-06-27 2020-03-30 삼성전자주식회사 관통전극을 갖는 반도체 패키지 및 그 제조방법
JP6098412B2 (ja) * 2013-07-23 2017-03-22 株式会社デンソー 半導体装置
JP5783297B2 (ja) 2013-08-06 2015-09-24 株式会社デンソー 力学量センサ
JP6335099B2 (ja) * 2014-11-04 2018-05-30 東芝メモリ株式会社 半導体装置および半導体装置の製造方法

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