JP5146307B2 - 半導体装置 - Google Patents
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Description
図5に示すように、従来の固体撮像装置100Aは、半導体基板101に形成され、半導体基板101の受光側表面である主面に複数のマイクロレンズ103が設けられた撮像領域102と、前記主面における撮像領域102の外周領域に形成された周辺回路領域104Aと、周辺回路領域104Aと接続された複数の電極部104Bとを含む固体撮像素子100を備えている。
まず、本発明の一実施形態に係る半導体装置の構造について、図面を参照しながら説明する。
本発明の一実施形態に係る半導体装置10は、図1に示すように、半導体基板11の図面上方の主面(以下、表面と言う)に設けられた、AlまたはCu等の金属を主材料として形成された内部電極12と、内部電極12上の一部を除外して半導体基板11の表面を覆う保護膜13とを備える。ここで、保護膜13は、一般的にパッシベーションと呼ばれ、SiN等の無機材料から成る。
(主要部の詳細な構造)
次に、図2〜図4を用いて、半導体装置10の主要部である保護膜13の具体的な形状について説明する。説明の便宜上、以下では、内部電極12上の一部において保護膜13が設けられない部分を開口14と呼ぶ。
図2では、4個の開口14が、貫通電極17が内部電極12の裏面に接する領域である接続領域24よりも外側に(つまり、上面視で接続領域24を取り囲む位置に)設けられ、開口14はそれぞれ長方形の形状を有している。なお、図2の上面図では、見易さのため、接着層21の図示を省略している。
図3(A)に示す開口14では、図2に示す開口14の形状である長方形のコーナー部を曲線形状に変更することで、開口14のコーナー部にかかる応力集中をより緩和した形状としている。
11 半導体基板
12 内部電極
13 保護膜
14 開口
17 貫通電極
18 金属配線
19 絶縁層
20 外部電極
21 接着層
22 透明基板
23 保護膜
24 接続領域
100 固体撮像素子
100A 固体撮像装置
101 半導体基板
102 撮像領域
103 マイクロレンズ
104A 周辺回路領域
104B 電極部
105 接着部材
106 透明基板
107 貫通電極
108 金属配線
109 絶縁樹脂層
110 開口
111 外部電極
Claims (11)
- 半導体基板と、
前記半導体基板を厚み方向に貫通して設けられた貫通電極と、
前記半導体基板の第一の主面の前記貫通電極が到達する部分に設けられ、前記貫通電極と電気的に接続された内部電極と、
前記内部電極の一部を除外して前記内部電極および前記第一の主面を覆う無機材料からなる保護膜と、
前記半導体基板の前記第一の主面とは反対側の第二の主面に設けられ、前記貫通電極と電気的に接続された金属配線と
を備え、
前記内部電極は前記貫通電極と直接接触するように形成されており、
前記内部電極上において前記保護膜に複数の開口が設けられており、
前記複数の開口は、上面視で前記貫通電極を取り囲むように配置されている
ことを特徴とする半導体装置。 - 前記複数の開口の形状は円形である
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記複数の開口の形状は多角形である
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。 - 前記多角形のコーナー部は曲線形状を有する
ことを特徴とする請求項3に記載の半導体装置。 - さらに、前記内部電極上において、前記保護膜上にもう1つの保護膜が設けられている
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の半導体装置。 - 前記もう1つの保護膜は、前記開口を介して前記内部電極と接している
ことを特徴とする請求項5に記載の半導体装置。 - 前記もう1つの保護膜は有機材料からなる
ことを特徴とする請求項5または6に記載の半導体装置。 - 前記もう1つの保護膜は無機材料からなる
ことを特徴とする請求項5または6に記載の半導体装置。 - さらに、前記金属配線の一部を除外して前記第二の主面を覆う絶縁層を備える
ことを特徴とする請求項1〜8のいずれか一つに記載の半導体装置。 - さらに、前記金属配線の前記絶縁層で覆われていない部分に設けられ、前記金属配線と電気的に接続された外部電極を備える
ことを特徴とする請求項9に記載の半導体装置。 - 請求項1〜10のいずれか1項に記載の半導体装置の前記金属配線または前記外部電極を、配線基板の表面に設けられた配線に電気的に接続してなる電子機器。
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