JP2017151167A - 調光フィルム、合わせガラス及び調光フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】製造過程において、スペーサーを作製した後、配向層を作製する過程で発生するスペーサーの異常を防止する。【解決手段】少なくとも配向層２３Ａ、２３Ｂを備えてなる第１及び第２の積層体１３、１２により液晶層１４を挟持し、前記第１及び又は第２の積層体１３、１２に設けられた駆動用電極２２Ｂ、２２Ａによる駆動により前記液晶層１４に係る液晶分子１４Ａの配向を制御して透過光を制御する調光フィルム１０において、前記第１及び又は第２の積層体１３、１２は、透明フィルム材による基材２１Ｂ、２１Ａに、前記液晶層１４の厚みを保持するスペーサー２４、前記液晶層１４の液晶分子を配向させる配向層２３Ｂ、２３Ａが順次設けられる。前記スペーサー２４が、配向層２３Ｂ、２３Ａの塗工液の主溶剤に３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下である。【選択図】図２

Description

本発明は、例えば窓に貼り付けて外来光の透過を制御する電子ブラインド等に利用可能な調光フィルム、この調光フィルムを使用した合わせガラスに関する。

従来、例えば窓に貼り付けて外来光の透過を制御する電子ブラインド等に利用可能な調光フィルムに関する工夫が種々に提案されている（特許文献１、２）。このような調光フィルムの１つに、液晶を利用したものがある。この液晶を利用した調光フィルムは、透明電極を作製した透明板材により液晶材料を挟持して液晶セルが作製され、この液晶セルを直線偏光板により挟持して作成される。これによりこの調光フィルムは、液晶に印加する電界の可変により液晶の配向を可変して外来光を遮光したり透過したりし、さらには透過光量を可変したりし、これらにより外来光の透過を制御する。

このような調光フィルムは、液晶セルを構成する透明基材にスペーサーを設け、このスペーサーにより液晶層を一定の厚みに保持するように構成される。またスペーサーを作製した後、ポリイミド等の薄膜を作製してラビング処理することにより配向層を作製し、この配向層により液晶材料の配向を規制する。またスペーサーには、画像表示パネルで広く利用されている構成が適用され、例えばフォトレジストにより作製する構成、透明樹脂剤によるビーズ固定材料によりいわゆるビーズスペーサーを固定して配置する構成等が適用される。

ところで種々に実験したところ、調光フィルムでは、製造過程においてスペーサーに異常が発生する問題がある。具体的に、このスペーサーの異常は、スペーサーが剥離したり、移動したりしてスペーサーの配置パターンが乱れる現象であり、スペーサーを作製した後、配向層を作製する過程で発生する。スペーサーの配置パターンの乱れが著しくなると、調光フィルムでは、液晶層の厚みを均一かつ一定に維持することが困難になり、その結果、透過率が局所的に変化したりする問題がある。

特開平０３−４７３９２号公報 特開平０８−１８４２７３号公報

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、製造過程において、スペーサーを作製した後、配向層を作製する過程で発生するスペーサーの異常を防止することを目的とする。

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究を重ね、配向層に係る塗工液の主溶剤に対するスペーサー、ビーズ固定材料の体積変化を一定範囲とする、との着想に至り、本発明を完成するに至った。

具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する。

（１） 少なくとも配向層を備えてなる第１及び第２の積層体により液晶層を挟持し、前記第１及び又は第２の積層体に設けられた駆動用電極による駆動により前記液晶層に係る液晶分子の配向を制御して透過光を制御する調光フィルムにおいて、
前記第１及び又は第２の積層体は、
透明フィルム材による基材に、前記液晶層の厚みを保持するスペーサー、前記液晶層の液晶分子を配向させる配向層が順次設けられ、
前記スペーサーが、
前記配向層の塗工液の主溶剤に３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下である調光フィルム。

（１）によれば、塗工液の塗布によって、スペーサーが著しく痩せ細ったり、著しく膨潤したりしないことにより、スペーサーを配置する面に対するスペーサーの密着力を維持することができ、製造過程において、スペーサーを作製した後、配向層を作製する過程で発生するスペーサーの異常を防止することができる。

（２） （１）において、
前記主溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ブチルセロソルブ、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）の何れかである調光フィルム。

（２）によれば、より具体的構成により、スペーサーを作製した後、配向層を作製する過程で発生するスペーサーの異常を防止することができる。

（３） 少なくとも配向層を備えてなる第１及び第２の積層体により液晶層を挟持し、前記第１及び又は第２の積層体に設けられた駆動用電極による駆動により前記液晶層に係る液晶分子の配向を制御して透過光を制御する調光フィルムにおいて、
前記第１及び又は第２の積層体は、
透明フィルム材による基材に、前記駆動用電極、前記液晶層の厚みを保持するスペーサー、前記液晶層の液晶分子を配向させる配向層が順次設けられ、
前記スペーサーが、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ブチルセロソルブ、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）の何れに対しても、３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下である調光フィルム。

（３）によれば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ブチルセロソルブ、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）の何れかが主溶剤である塗工液の塗布によって、スペーサーが著しく痩せ細ったり、著しく膨潤したりしないようにすることができ、これによりスペーサーを配置する面に対するスペーサーの密着力を維持することができ、その結果、製造過程において、スペーサーを作製した後、配向層を作製する過程で発生するスペーサーの異常を防止することができる。

（４） 少なくとも配向層を備えてなる第１及び第２の積層体により液晶層を挟持し、前記第１及び又は第２の積層体に設けられた駆動用電極による駆動により前記液晶層に係る液晶分子の配向を制御して透過光を制御する調光フィルムにおいて、
前記第１又は第２の積層体は、
透明フィルム材による基材に、前記液晶層の厚みを保持するスペーサー、前記液晶層の液晶分子を配向させる配向層が順次設けられ、
前記スペーサーが、ビーズスペーサーであり、
透明樹脂剤によるビーズ固定材料により前記基材の表面に固定して配置され、
前記ビーズ固定材料が、
前記配向層の塗工液の主溶剤に３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下である調光フィルム。

（４）によれば、塗工液の塗布によって、ビーズ固定材料が著しく減少したり、著しく膨潤したりしないことにより、ビーズスペーサーを配置する面に対するビーズスペーサーの保持力を維持することができ、これにより製造過程において、スペーサーを作製した後、配向層を作製する過程で発生する、スペーサーが剥離したりするスペーサーの異常を防止することができる。

（５） （４）において、
前記主溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ブチルセロソルブ、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）の何れかである調光フィルム。

（５）によれば、より具体的構成により、スペーサーを作製した後、配向層を作製する過程で発生するスペーサーの異常を防止することができる。

（６） 少なくとも配向層を備えてなる第１及び第２の積層体により液晶層を挟持し、前記第１及び又は第２の積層体に設けられた駆動用電極による駆動により前記液晶層に係る液晶分子の配向を制御して透過光を制御する調光フィルムにおいて、
前記第１又は第２の積層体は、
透明フィルム材による基材に、前記液晶層の厚みを保持するスペーサー、前記液晶層の液晶分子を配向させる配向層が順次設けられ、
前記スペーサーが、ビーズスペーサーであり、
透明樹脂剤によるビーズ固定材料により前記基材の表面に固定して配置され、
前記ビーズ固定材料が、
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ブチルセロソルブ、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）の何れに対しても、３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下である調光フィルム。

（６）によれば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ブチルセロソルブ、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）の何れかが主溶剤である塗工液の塗布によって、ビーズ固定材料が著しく減少したり、著しく膨潤したりしないことにより、ビーズスペーサーを配置する面に対するビーズスペーサーの保持力を維持することができ、これにより製造過程において、スペーサーを作製した後、配向層を作製する過程で発生する、スペーサーが剥離したりするスペーサーの異常を防止することができる。

（７） （１）、（２）、（３）、（４）、（５）、（６）の何れかに記載の調光フィルムを板ガラスにより挟持して形成された合わせガラス。

（７）によれば、スペーサーの異常を防止して合わせガラスを構成することができる。

（８） 少なくとも配向層を備えてなる第１の積層体を作製する第１の積層体作製工程と、
少なくとも配向層を備えてなる第２の積層体を作製する第２の積層体作製工程と、
液晶層を挟持して前記第１及び第２の積層体を積層して封止する封止工程とを備え、
前記第１及び又は第２の積層体作製工程は、
透明フィルム材による基材に、前記液晶層の厚みを保持するスペーサーを作製するスペーサー作製工程と、
前記スペーサー作製工程によりスペーサーを作製した前記基材に配向層の塗工液を塗工して配向層を作製する配向層作製工程とを備え、
前記スペーサー作製工程は、
前記配向層の塗工液の主溶剤に３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下であるように前記スペーサーを作製する調光フィルムの製造方法。

（８）によれば、塗工液の塗布によって、スペーサーが著しく痩せ細ったり、著しく膨潤したりしないことにより、スペーサーを配置する面に対するスペーサーの密着力を維持することができ、製造過程において、スペーサーを作製した後、配向層を作製する過程で発生するスペーサーの異常を防止することができる。

（９） 少なくとも配向層を備えてなる第１の積層体を作製する第１の積層体作製工程と、
少なくとも配向層を備えてなる第２の積層体を作製する第２の積層体作製工程と、
液晶層を挟持して前記第１及び第２の積層体を積層して封止する封止工程とを備え、
前記第１又は第２の積層体作製工程は、
透明フィルム材による基材に、前記液晶層の厚みを保持するスペーサーを配置するスペーサー配置工程と、
前記スペーサー配置工程によりスペーサーを配置した前記基材に配向層の塗工液を塗工して配向層を作製する配向層作製工程とを備え、
前記スペーサー配置工程は、
透明樹脂剤によるビーズ固定材料によりビーズスペーサーを前記基材の表面に固定して前記スペーサーを配置し、
前記ビーズ固定材料が、
前記配向層の塗工液の主溶剤に３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下であるように前記スペーサーを配置する調光フィルムの製造方法。

（９）によれば、塗工液の塗布によって、ビーズ固定材料が著しく減少したり、著しく膨潤したりしないことにより、ビーズスペーサーを配置する面に対するビーズスペーサーの保持力を維持することができ、これにより製造過程において、スペーサーを作製した後、配向層を作製する過程で発生する、スペーサーが剥離したりするスペーサーの異常を防止することができる。

本発明によれば、液晶を利用した調光フィルムに関して、製造過程において、スペーサーを作製した後、配向層を作製する過程で発生するスペーサーの異常を防止することができる。

本発明の第１実施形態に係る合わせガラスを示す図である。 図１の合わせガラスに使用される調光フィルムを示す図である。 図２の調光フィルムの動作の説明に供する図である。 図２の調光フィルムの製造工程を示すフローチャートである。 図２の調光フィルムの説明に供する図表である。

〔第１実施形態〕
〔合わせガラス〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る合わせガラスを示す断面図である。この合わせガラス１は、例えば車両のウインドウに適用される合わせガラスであり、中間層４及び５をそれぞれ介して板ガラス２及び３により調光フィルム１０を挟持して構成される。ここで板ガラス２、３は、この種の合わせガラスに適用可能な種々の材料を広く適用することができる。また中間層４、５は、調光フィルム１０と板ガラス２、３との接着層として機能する構成であり、この種の合わせガラスに適用される種々の構成を広く適用することができ、例えば熱線遮蔽材としての機能を備えるようにしてもよい。

合わせガラス１は、板ガラス２、３にそれぞれ中間層４、５を設けて調光フィルム１０と積層した後、加熱して加圧することにより、中間層４、５を介して板ガラス２、３、調光フィルム１０を一体化すると共に、全体を所望の曲面形状に整形する。これにより合わせガラス１は、例えば車両のリアウインド等に適用可能に作製され、調光フィルム１０により透過光を制御できるように構成される。なおこれにより合わせガラス１の製造工程は、それぞれ中間層４、５を設けた板ガラス２、３を調光フィルム１０と積層する積層工程、その結果得られる積層体を加熱、加圧する加熱加圧工程を備える。

〔調光フィルム〕
図２は、調光フィルムを示す断面図である。この調光フィルム１０は、フィルム形状により形成され、合わせガラスに使用される場合の他、例えば調光を図る部位に貼り付けて使用される。なおこのような調光を図る部位に貼り付けて使用される場合は、例えば建築物の窓ガラス、ショーケース、屋内の透明パーテーション等に配置して透過、遮光を切り替える場合等である。

この調光フィルム１０は、液晶を利用して透過光を制御する調光フィルムであり、フィルム形状による第１及び第２の積層体である下側積層体１３及び上側積層体１２により液晶層１４を挟持して液晶セル１５が作製され、この液晶セル１５を直線偏光板１６、１７により挟持して作成される。ここでこの実施形態において、液晶層１４の駆動には、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）方式が適用されるものの、例えばＶＡ（Ｖｉｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）方式、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｃｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式等、種々の方式を適用することができる。調光フィルム１０には、液晶層１４の厚みを一定に保持するためのスペーサー２４が上側積層体１２及び又は下側積層体１３に設けられる。直線偏光板１６、１７は、それぞれ液晶セル１５側に光学補償に供する位相差フィルム１８、１９が設けられる。積層体１２、１３は、それぞれ基材２１Ａ、２１Ｂに電極２２Ａ、２２Ｂ、配向層２３Ａ、２３Ｂを順次作成して形成される。なお位相差フィルム１８、１９は、必要に応じて省略してもよい。

これによりこの調光フィルム１０は、電極２２Ａ、２２Ｂの印加電圧の可変により、図３に示すように、外来光Ｌ１の透過を制御し、透明状態と非透明状態とで状態を切り替えるように構成される。なお図３（Ａ）は、電極２２Ａ、２２Ｂ間に電圧を印加しない状態を示し、図３（Ｂ）は、電極２２Ａ、２２Ｂに電圧を印加した状態を示し、これによりこの実施形態では、いわゆるノーマリーホワイトにより液晶層１４を駆動する。なおこれに代えてノーマリーブラックにより駆動するようにしてもよい。またＩＰＳ方式を適用する場合、電極２２Ａ、２２Ｂは、配向層２３Ａ又は２３Ｂ側に纏めて作製されることは言うまでも無く、これに対応するように積層体１２、１３が構成されることになる。

なお調光フィルム１０は、例えば建築物の窓ガラス、ショーケース、屋内の透明パーテーション等に貼り付けて使用する場合等においては、直線偏光板１６及び又は１７の、液晶セル１５とは逆側の面に、ハードコート層等による保護層が設けられる。

ここで基材２１Ａ、２１Ｂは、液晶セル１５に適用可能な可撓性を有する各種の透明フィルム材を適用することができ、この実施形態では、両面にハードコート層が作製されてなるポリカーボネートによるフィルム材が適用される。電極２２Ａ、２２Ｂは、駆動用電極であり、液晶層１４にほぼ均一な電界を印加可能であって、透明と知覚される種々の構成を適用することができるものの、この実施形態では、透明電極材であるＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）による透明導電膜を基材２１Ａ、２１Ｂの全面に作製して形成される。なお上述したように、ＩＰＳ方式等においては、電極は所望の形状によりパターンニングされて作製される。

配向層２３Ａ、２３Ｂは、ポリイミド等の配向層に適用可能な各種材料層が適用され、この材料層の表面にラビングロールを使用したラビング処理により微細なライン状凹凸形状を作製して形成される。なおこのようなラビング処理による配向層に代えて、ラビング処理により作製した微細なライン状凹凸形状を賦型処理により作製して配向層を作製してもよく、また光配向層により作製してもよい。

スペーサー２４は、各種の樹脂材料を広く適用することができるものの、この実施形態ではフォトレジストにより作製される。スペーサー２４は、いわゆるビーズスペーサーを適用してもよく、この場合、透明樹脂剤によるビーズ固定材料により、電極表面に、又は基材表面にビーズスペーサーを固定して配置される。ビーズスペーサーによりスペーサーを構成する場合、スペーサーは積層体１２、１３の何れかに１方に配置される。なお液晶セル１５は、液晶層１４を囲むように、シール剤２５が配置され、このシール剤２５により液晶の漏出が防止される。

〔製造工程〕
図４は、液晶セル１５の製造工程を示すフローチャートである。液晶セル１５は、電極作製工程ＳＰ１において、基材２１Ａ及び２１ＢにＩＴＯによる透明電極２２Ａ、２２Ｂが作製される。続くスペーサー作製工程ＳＰ３において、スペーサー２４に係る塗工液（フォトレジスト）を塗工した後、乾燥、露光して現像することにより、スペーサー２４が作製される。なお積層体１２、１３の一方のみにスペーサー２４を作製する場合、スペーサー２４を作製しない場合の基材については、スペーサー作製工程ＳＰ３が省略される。

続いて液晶セル１５は、配向層材料層作製工程ＳＰ４において、配向層２３Ａ、２３Ｂに係る塗工液が塗工されて乾燥、硬化されることにより、配向層２３Ａ、２３Ｂの材料層が形成される。続いて液晶セル１５は、ラビング工程ＳＰ５において、ラビングロールを使用したラビング処理により、配向層材料層の表面に微細なライン状凹凸形状が作製されて配向層２３Ａ、２３Ｂが作製される。これらによりこの実施形態では、少なくとも配向層を備えてなる第１の積層体を作製する第１の積層体作製工程と、少なくとも配向層を備えてなる第２の積層体を作製する第２の積層体作製工程とが構成される。

続いて液晶セル１５は、封止工程ＳＰ６において、積層体１２、１３の一方に、液晶層１４を囲む形状によりシール剤２５が設けられると共に、このシール剤２５により囲まれた箇所に液晶材料が配置され、積層体１２、１３の他方を持ち来して積層体１２、１３により液晶材料を挟持するように積層し、この状態で加圧して紫外線の照射等によりシール剤を硬化させる。これにより液晶セル１５が作製される。

なお液晶セル１５は、基材２１Ａ、２１Ｂがロールに巻き取られた長尺フィルム形態により提供され、これら工程ＳＰ２〜ＳＰ６の全て、又はこれら工程ＳＰ２〜ＳＰ６のうちの一部が、ロールから基材２１Ａ、２１Ｂを引き出して搬送しながら実行される。なおこれにより液晶セル１５は、必要に応じて、途中の工程から枚葉の処理により各工程が実行されることになる。

〔スペーサーの詳細構成〕
ここでこの実施形態では、図４に示す工程によりフォトレジストを使用して円柱形状又は円錐台形状によりスペーサー２４が形成される。しかしながらこのようにして調光フィルムを作製する場合、スペーサー２４を作製した後、配向層の塗工液を塗工して配向層を作製する際に、スペーサーが剥離したり、移動したりするスペーサーの異常が少なからず発生した。

種々に検討した結果、このスペーサーの異常は、スペーサー２４を作製する面である透明電極面に対するスペーサー２４の密着力が低いことにより発生することが判った。またスペーサー２４は、作製直後においては、十分な強度により透明電極面に密着しているものの、配向層の塗工液を塗工すると、この塗工液に含まれる溶剤の影響により密着強度が低下することが判った。

これによりこの実施形態においては、スペーサー２４は、配向層の塗工液の主溶剤に３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下であるように設定される。

ここで主溶剤は、配向層塗工液に含まれる溶剤の中で、溶剤全体に占める割合が３０％以上の溶剤である。なおこの割合は質量比による割合である。これにより配向層塗工液の溶剤が、例えば溶剤Ａ、Ｂのみにより構成され、この溶剤Ａ、Ｂの質量比が１：１である場合、溶剤Ａ、Ｂの双方が主溶剤であり、スペーサー２４は、この溶剤Ａ、Ｂの何れに対しても、３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下であるように設定される。

具体的に配向層の塗工液の主溶剤には、一般的に、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ブチルセロソルブ、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）の何れかが適用される。従ってスペーサー２４は、これらの溶剤の全てに対して、３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下であるように設定すれば、配向層の塗工液の主溶剤に３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下であるように設定することができる。

なお、スペーサー２４は、実際に使用される配向層塗工液の主溶剤に対して、３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下であればよいことにより、必ずしもこれら配向層塗工液の主溶剤に一般的に適用される複数種類の溶剤の全てで３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％ある必要は無く、これら複数の溶剤のうちで、実際に使用される配向層塗工液の主溶剤についてのみ、３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％あれば良いことは言うまでも無い。

なお配向層は、上述したように光配向層により作製する場合もあり、さらには賦型処理により作製する場合もあることにより、これらの場合、この光配向層に係る塗工液の主溶剤、賦型処理に供する賦型樹脂層の塗工液の主溶剤に対して、上述したと同様に、３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下であるように設定する。

より具体的に、スペーサー２４は、スペーサー２４に係る塗工液を塗工した後、乾燥させ、その後、露光装置を使用したマスク露光により、スペーサー２４を作製する部位を選択的に露光する。なおこれはポジ型のフォトレジストの場合であり、ネガ型のフォトレジストではこれとは逆にスペーサー２４を作製する部位を除く部位が選択的に露光処理される。その後、スペーサー２４は、現像処理により未露光の部位又は露光処理した部位が選択的に除去されてリンス等の処理が実行され、必要に応じて乾燥等の処理が実行される。

この露光処理では、事前に加熱していわゆるハーフキュアーの状態で露光処理したり、加熱した環境下で露光処理する場合があり、また現像処理において、リンス等の処理を実行した後、加熱処理して反応を促進する場合がある。

この実施形態では、スペーサー２４に係るフォトレジストの材料の選定、露光工程、現像工程における加熱の温度、時間の設定、露光光量及び露光時間の設定により、主溶剤による体積の変化を上述の範囲に設定する。

ここで３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％未満である場合、主溶剤への浸漬によりスペーサー２４が痩せ細り、これにより密着力が著しく低下する。これによりこの場合、配向層の塗工液を塗工すると、スペーサーが透明電極面より剥離する。これに対して３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の２３０％を超える場合、主溶剤によりスペーサー２４が著しく膨潤する場合であり、この場合も密着力が著しく低下する。これによりこの場合も、配向層の塗工液を塗工すると、スペーサーが透明電極面より剥離することになる。

すなわち図５は実験結果を示す図表である。この実験では、直径２０μｍ、高さ４．０μｍによりスペーサー２４を作製し、スペーサー２４の異常を確認した。実施例１、参考例（ＲＥＦ）では、フォトリソグラフィーによりスペーサー２４を作製した。また配向層の塗工液は、Ｎ−メチルピロリドンとブチルセロソルブとの混合溶剤であり、主溶剤Ｂはブチルセロソルブであり、膜厚０．１μｍにより配向層を作製した。参考例（ＲＥＦ）では、「溶剤液浸無し」により示すように、配向層を作製しないで液晶層を挟持した場合には、それぞれ［ＯＫ」により示すように、スペーサーの配置に係るパターンの乱れも無く（パターン乱れ）、スペーサー剥離も観察されなかった。

これに対して実施例１のように、主溶剤Ｂに３０分浸漬すると、スペーサー２４は直径が２０μｍから１８μｍに減少し、さらに高さも減少して体積が７０％に減少したことが確認された。しかしながら液晶セルでは、パターン乱れも、スペーサー剥離も観察されず、これによりスペーサーに異常の発生が無いことが確認された。

これに対して比較例１は、実施例１におけるスペーサー作製の条件に対して、ＵＶ照射強度、ＵＶ露光量、マスクギャップを適宜調整してスペーサー２４を作製した例である。比較例１は、このスペーサー２４に係る構成を除いて、実施例１と同一の条件により液晶セルを作製した。この比較例１では、主溶剤Ｂに３０分浸漬すると、スペーサー２４の直径が２０μｍから１５μｍに減少し、さらに高さも減少して体積が４０％に減少したことが確認され、それぞれ「ＮＧ」により示すように、パターン乱れが認められ、スペーサー剥離も５０％の確率で観察され、これによりスペーサーに異常の発生が認められた。

実施例２は、実施例１と同一の条件によりスペーサーを作製した。また配向層の塗工液は、Ｎ−メチルピロリドンとブチルセロソルブとの混合溶剤であり、主溶剤ＡはＮ−メチルピロリドンであり、膜厚０．１μｍにより配向層を作製した。この実施例２では、主溶剤Ａに３０分浸漬すると、スペーサー２４の直径が２０μｍから２３μｍに増大し、さらに高さも増大して体積が１５０％に変化したことが確認されたものの、パターン乱れ、スペーサー剥離は観察されず、これによりスペーサーの異常の発生は認められなかった。

これに対して実施例３は、この実施例２におけるスペーサー作製の条件に対して、ＵＶ照射強度、ＵＶ露光量、マスクギャップを適宜調整してスペーサー２４を作製した例である。実施例３は、このスペーサーに関する構成を除いて、実施例２と同一に液晶セルを作製した。この実施例３では、主溶剤Ａに３０分浸漬すると、スペーサー２４の直径が２０μｍから２５μｍに増大し、さらに高さも増大し、体積が２００％に変化したことが確認されたものの、パターン乱れ、スペーサー剥離は観察されず、これによりスペーサーの異常の発生は認められなかった。

これに対して比較例２は、実施例２におけるスペーサー作製の条件に対して、ＵＶ照射強度、ＵＶ露光量、マスクギャップを適宜調整してスペーサー２４を作製した例である。比較例２は、このスペーサーに関する構成を除いて、実施例２と同一に液晶セルを作製した。この比較例２では、主溶剤Ａに３０分浸漬すると、スペーサー２４の直径が２０μｍから２７μｍに増大し、さらに高さも増大し、体積が２５０％に変化したことが確認され、パターン乱れが観察され、スペーサー剥離も３０％の確率で観察され、これによりスペーサーの異常が認められた。

これらにより配向層の塗工液の主溶剤に３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下であるように設定すれば、スペーサーの異常を防止できることが確認された。

〔第２実施形態〕
上述の第１実施形態では、フォトレジストによる透明樹脂によりスペーサーを作製する場合について述べたが、この実施形態では、これに代えて、又はこれに加えて、透明樹脂剤によるビーズ固定材料によりいわゆるビーズスペーサーを電極表面に固定して配置し、このビーズスペーサーにより液晶層の厚みを維持する。なおＩＰＳ方式による場合にあって、電極を設けない基材側にスペーサーを配置する場合には、直接、基材表面にビーズスペーサーが配置される。

この実施形態では、このビーズスペーサーの固定材料に、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂、あるいはビーズスペーサー表面に設けられた熱融着コーティング等の材料が適用され、これらの硬化したビーズ固定材料について、配向層の塗工液の主溶剤に３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下であるように設定して、スペーサーに係る異常を防止することができる。なおビーズスペーサーは、液晶表示パネルで使用される無機材料、有機材料による各種のビーズスペーサーを広く適用することができる。

これによりこの実施形態では、図４について上述したスペーサー作製工程に代えて、スペーサー配置工程が設けられ、ビーズスペーサーを分散したビーズ固定材料を塗工した後、このビーズ固定材料を硬化することにより、ビーズ固定材料によりビーズスペーサーを駆動用電極表面又は基材表面に固定して前記スペーサーを配置する。またこのビーズ固定材料を硬化させる条件の設定により、硬化させたビーズ固定材料を配向層の塗工液の主溶剤に３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下であるように設定する。

なおこの場合も、第１実施形態について上述したと同様に、配向層の塗工液の主溶剤に対して、より具体的には、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ブチルセロソルブ、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）の何れに対しても、３０分浸漬した直後のビーズ固定材料の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下であるように設定すれば、配向層の塗工液の主溶剤に３０分浸漬した直後のビーズ固定材料の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下であるように設定することができる。またこれら配向層の塗工液の主溶剤に一般的に適用される溶剤のうちの、特定の溶剤にのみ、
３０分浸漬した直後のビーズ固定材料の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下であるように設定してもよい。

〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に変更することができる。

１ 合わせガラス
２、３ 板ガラス
４、５ 中間層
１０ 調光フィルム
１２ 上側積層体
１３ 下側積層体
１４ 液晶層
１４Ａ 液晶分子
１５ 液晶セル
１６、１７ 直線偏光板
１８、１９ 位相差フィルム
２１Ａ、２１Ｂ 基材
２２Ａ、２２Ｂ 電極
２３Ａ、２３Ｂ 配向層
２４ スペーサー
２５ シール剤

Claims (9)

1. 少なくとも配向層を備えてなる第１及び第２の積層体により液晶層を挟持し、前記第１及び又は第２の積層体に設けられた駆動用電極による駆動により前記液晶層に係る液晶分子の配向を制御して透過光を制御する調光フィルムにおいて、
   前記第１及び又は第２の積層体は、
   透明フィルム材による基材に、前記液晶層の厚みを保持するスペーサー、前記液晶層の液晶分子を配向させる配向層が順次設けられ、
   前記スペーサーが、
   前記配向層の塗工液の主溶剤に３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下である
   調光フィルム。
2. 前記主溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ブチルセロソルブ、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）の何れかである
   請求項１に記載の調光フィルム。
3. 少なくとも配向層を備えてなる第１及び第２の積層体により液晶層を挟持し、前記第１及び又は第２の積層体に設けられた駆動用電極による駆動により前記液晶層に係る液晶分子の配向を制御して透過光を制御する調光フィルムにおいて、
   前記第１及び又は第２の積層体は、
   透明フィルム材による基材に、前記駆動用電極、前記液晶層の厚みを保持するスペーサー、前記液晶層の液晶分子を配向させる配向層が順次設けられ、
   前記スペーサーが、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ブチルセロソルブ、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）の何れに対しても、３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下である
   調光フィルム。
4. 少なくとも配向層を備えてなる第１及び第２の積層体により液晶層を挟持し、前記第１及び又は第２の積層体に設けられた駆動用電極による駆動により前記液晶層に係る液晶分子の配向を制御して透過光を制御する調光フィルムにおいて、
   前記第１又は第２の積層体は、
   透明フィルム材による基材に、前記液晶層の厚みを保持するスペーサー、前記液晶層の液晶分子を配向させる配向層が順次設けられ、
   前記スペーサーが、ビーズスペーサーであり、
   透明樹脂剤によるビーズ固定材料により前記基材の表面に固定して配置され、
   前記ビーズ固定材料が、
   前記配向層の塗工液の主溶剤に３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下である
   調光フィルム。
5. 前記主溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ブチルセロソルブ、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）の何れかである
   請求項４に記載の調光フィルム。
6. 少なくとも配向層を備えてなる第１及び第２の積層体により液晶層を挟持し、前記第１及び又は第２の積層体に設けられた駆動用電極による駆動により前記液晶層に係る液晶分子の配向を制御して透過光を制御する調光フィルムにおいて、
   前記第１又は第２の積層体は、
   透明フィルム材による基材に、前記液晶層の厚みを保持するスペーサー、前記液晶層の液晶分子を配向させる配向層が順次設けられ、
   前記スペーサーが、ビーズスペーサーであり、
   透明樹脂剤によるビーズ固定材料により前記基材の表面に固定して配置され、
   前記ビーズ固定材料が、
   プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、ブチルセロソルブ、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）の何れに対しても、３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下である
   調光フィルム。
7. 請求項１、請求項２、請求項３、請求項４、請求項５、請求６の何れかに記載の調光フィルムを板ガラスにより挟持して形成された
   合わせガラス。
8. 少なくとも配向層を備えてなる第１の積層体を作製する第１の積層体作製工程と、
   少なくとも配向層を備えてなる第２の積層体を作製する第２の積層体作製工程と、
   液晶層を挟持して前記第１及び第２の積層体を積層して封止する封止工程とを備え、
   前記第１及び又は第２の積層体作製工程は、
   透明フィルム材による基材に、前記液晶層の厚みを保持するスペーサーを作製するスペーサー作製工程と、
   前記スペーサー作製工程によりスペーサーを作製した前記基材に配向層の塗工液を塗工して配向層を作製する配向層作製工程とを備え、
   前記スペーサー作製工程は、
   前記配向層の塗工液の主溶剤に３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下であるように前記スペーサーを作製する
   調光フィルムの製造方法。
9. 少なくとも配向層を備えてなる第１の積層体を作製する第１の積層体作製工程と、
   少なくとも配向層を備えてなる第２の積層体を作製する第２の積層体作製工程と、
   液晶層を挟持して前記第１及び第２の積層体を積層して封止する封止工程とを備え、
   前記第１又は第２の積層体作製工程は、
   透明フィルム材による基材に、前記液晶層の厚みを保持するスペーサーを配置するスペーサー配置工程と、
   前記スペーサー配置工程によりスペーサーを配置した前記基材に配向層の塗工液を塗工して配向層を作製する配向層作製工程とを備え、
   前記スペーサー配置工程は、
   透明樹脂剤によるビーズ固定材料によりビーズスペーサーを前記基材の表面に固定して前記スペーサーを配置し、
   前記ビーズ固定材料が、
   前記配向層の塗工液の主溶剤に３０分浸漬した直後の体積が、浸漬前の体積の５０％以上２３０％以下であるように前記スペーサーを配置する
   調光フィルムの製造方法。

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