JP2000227656A - 感光性樹脂組成物およびこれを用いた表示素子 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】新規な光増感剤を提供し、さらに全線露光、
ｇ，ｈ線露光で、優れた感度や透明性を備えているだけ
でなく、優れた解像度、残膜率、耐熱性および耐薬品性
を兼備したネガ型の感光性樹脂組成物、および各種表示
素子を提供する。 【解決手段】。アルカリ可溶性樹脂［Ａ］、エチレン性
不飽和二重結合を少なくとも１つ有する化合物［Ｂ］、
ベンゾフェノン構造を有する有機過酸化物光重合開始剤
［Ｃ］、および一般式（１） 【化１】 （式中、Ｘで表わされる点線は芳香族環であり、Ｙは酸
素原子、硫黄原子もしくはセレン原子、Ｒ₁はアルキル
基もしくは置換アルキル基、Ｒ₂はアルキル基もしくは
アリール基を表わす。）で示される新規な光増感剤
［Ｄ］を含有するこ感光性樹脂組成物およびこの組成物
を用いた液晶表示素子,プラズマディスプレイパネルお
よびＬＥＤ素子。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂組成物
に係り、更に詳細には、全線露光（ｇ線，ｈ線およびｉ
線の混合で露光）、さらにはｇ，ｈ線露光（ｇ線とｈ線
の混合で露光）で優れた感度や透明性を備えているだけ
でなく、優れた解像度、残膜率、耐熱性、および耐薬品
性を兼備し、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）と透明電
極との間に形成される透明絶縁膜などとして好適に用い
られるネガ型の感光性樹脂組成物、およびこれを用いた
液晶表示素子、プラズマ・ディスプレイ・パネルや発光
ダイオード｛ＬＥＤ（light emitting diode）｝素子な
どの表示素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）の発
展はめざましいものがあり、ＣＲＴ（ブラウン管）に代
わる次世代表示デバイスの本命とみなされてきている。
中でも液晶ディスプレイの１画素ごとに薄膜トランジス
ター（ＴＦＴ）を組み込んだアクティブマトリクス型の
液晶ディスプレイは、高速応答性、高品位、広視野角な
ど優れた特性を有しており、特に注目されてきている。
そして、今なお高開口率化、表示画面の大型化などの開
発が盛んに行われている。 かかるアクティブマトリク
ス型の液晶ディスプレイ、例えばＴＦＴ型液晶ディスプ
レイにおいては、その問題点である開口率を広げるため
に、従来から以下のような種々の取り組みがなされてい
る。 ・半導体膜、ゲート絶縁膜の膜質向上によりＴＦＴの特
性を向上させ面積を縮小する。 ・自己整合（セルフアライメント）型ＴＦＴ構造の採用
により寄生容量を小さくし、ＴＦＴおよび補助容量を小
さくする。 ・トランジスタ部をゲート配線上に配置する。 ・液晶の電圧保持特性を向上させ、補助容量を小さくす
る。 ・補助容量をゲート配線の上に重ねる。 ・補助容量を透明電極で作る。 ・低抵抗配線材料の採用により配線幅を縮小する。 ・画素電極とゲート・ソース配線との間に絶縁膜を挟む
ことにより、両者のギャップを狭める。 ・ＴＦＴ基板側に遮光膜を設け、対向基板との貼合わせ
マージンを少なくする。 そして、上述の取り組みの中では、画素電極とゲート・
ソース配線との間に絶縁膜を挟むことにより両者のギャ
ップを狭めるという方法が、近年特に有望視されてきて
いる。しかしながら、かかる有望視されている方法に用
いられる絶縁膜としては、高感度、高解像度（ホールパ
ターン）、高透明性、高残膜率、耐熱性および耐薬品性
などの特性を兼ね備えた感光性樹脂を用いる必要があ
る。

【０００３】また、近年、露光機にｇ，ｈ線ステッパー
を用いるパネルメーカーが増え、４００ｎｍ以上の紫外
線で上記の特性を兼ね備えた感光性樹脂も所望されてい
る。特公平４−１０４８２号公報には、特定構造で示さ
れるベンゾフェノン基含有多価ペルオキシエステル化合
物と有機染料化合物との組み合わせの光開始剤組成物が
開示されている。また、特公平４−６６３４９号公報に
は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物とベンゾ
フェノン基含有多価ペルオキシエステル化合物および
４，４’ービス（ジアルキルアミノ）ベンゾフェノンか
らなる光重合開始剤とを含有する高感度光重合組成物が
開示されている。このようにベンゾフェノン構造を有す
る有機過酸化物光重合開始剤と組み合わせて用いられる
光増感剤として、４，４’ービス（ジアルキルアミノ）
ベンゾフェノンやケトクマリン化合物が提案されている
が、これらの光増感剤では、いずれの場合も透明性に問
題があり、上記のような特性を兼ね備えることはできな
い。また、４，４’ービス（ジアルキルアミノ）ベンゾ
フェノンを用いた場合には、ｇ，ｈ線露光では著しく感
度が低下する。一方、半導体の製造などに用いられてい
る、ノボラック樹脂とナフトキノンジアジド化合物とを
含むポジ型フォトレジストも、感度、解像度には優れて
いるものの、透明性、耐熱性および耐薬品性などの点で
は満足のできるものではない。このため、高感度、高透
明性、高解像度（ホールパターン）、高残膜率、耐熱
性、耐薬品性などの全ての特性を兼ね備えた感光性樹脂
の出現が望まれている。更に、上述のような課題や要請
は、液晶表示素子のみならず、プラズマ・ディスプレイ
・パネル（ＰＤＰ）やＬＥＤ素子のような表示素子にも
共通する。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、そ
の目的とするところは、新規な光増感剤を提供すること
であり、さらに全線露光、ｇ，ｈ線露光で、優れた感度
や透明性を備えているだけでなく、優れた解像度、残膜
率、耐熱性および耐薬品性を兼備したネガ型の感光性樹
脂組成物、およびこれを用いた各種表示素子を提供する
ことにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点を解決すべく種々検討した結果、特定構造を有する化
合物が光増感剤として優れていることを見出し、この光
増感剤が４００ｎｍ付近に最大分光吸収を持ち、紫外線
（全線およびｇ，ｈ線）照射により容易にベンゾフェノ
ン構造を有する有機過酸化物光重合開始剤へ増感作用を
及ぼすこと、更には、熱により４００ｎｍ付近の吸収が
減衰すること、およびこの感光性樹脂組成物を用いて形
成される被膜により上記目的が達成できることを見出
し、本発明を完成するに至った。

【０００６】本発明の光増感剤は、つぎの１），２）お
よび（３）項で示される。 １） 一般式（１）

【化３】 （式中、Ｘで示される点線は芳香族環を表わし、Ｙは酸
素原子、硫黄原子もしくはセレン原子、Ｒ₁はアルキル
もしくは置換アルキル、Ｒ₂はアルキルもしくはアリー
ルを表わす。）で示される化合物からなる光増感剤。 ２） 前記一般式（１）において、Ｘはベンゼン環また
はナフタレン環、Ｒ₁はメチル、エチル、プロピル、２
−ヒドロキシエチル、２−メトキシエチルまたはカルボ
キシエチル、Ｒ₂はメチル、エチル、プロピル、フェニ
ル、ビフェニル、ｐ−ヒドロキシフェニル、ｐ−メトキ
シフェニル、ｐ−フルオロフェニルまたはナフチルであ
る１）項記載の光増感剤。 ３） 前記一般式（１）において、Ｘはベンゼン環、Ｙ
は硫黄原子、Ｒ₁はメチル、Ｒ₂はβ−ナフチルである
１）項記載の光増感剤。

【０００７】本発明の感光性樹脂組成物は、つぎの
４）、５）および６）項で示される ４） アルカリ可溶性樹脂［Ａ］、エチレン性不飽和二
重結合を少なくとも１つを有する化合物［Ｂ］、ベンゾ
フェノン構造を有する有機過酸化物光重合開始剤
［Ｃ］、および一般式（１）

【化４】 （式中、Ｘで示される点線は芳香族環を表わし、Ｙは酸
素原子、硫黄原子もしくはセレン原子、Ｒ₁はアルキル
もしくは置換アルキル、Ｒ₂はアルキルもしくはアリー
ルを表わす。）で示される化合物である光増感剤［Ｄ］
を含有する感光性樹脂組成物。 ５） 前記光増感剤［Ｄ］が、一般式（１）において、
Ｘはベンゼン環またはナフタレン環、Ｒ₁はメチル、エ
チル、プロピル、２−ヒドロキシエチル、２−メトキシ
エチルまたはカルボキシエチル、Ｒ₂はメチル、エチ
ル、プロピル、フェニル、ビフェニル、ｐ−ヒドロキシ
フェニル、ｐ−メトキシフェニル、ｐ−フルオロフェニ
ルまたはナフチルで表わされる化合物である４）項記載
の感光性樹脂組成物。 ６） 前記一般式（１）において、Ｘはベンゼン環、Ｙ
は硫黄原子、Ｒ₁はメチル、Ｒ₂はβ−ナフチルである
５）項記載の感光性樹脂組成物。

【０００８】本発明の液晶表示素子は、つぎの７）およ
び８）項で示される。 ７） 前記４〜６項のいずれか一項に記載の感光性樹脂
組成物を含む液晶表示素子。 ８） 対向している一対の透明電極a，ｂの間に施され
る樹脂スぺーサー；ＴＦＴと透明電極aの間に形成され
る透明絶縁膜；配向膜と透明電極aの間に形成される透
明絶縁膜；およびカラーフィルターと透明電極ｂの間に
形成される保護膜を具有する液晶表示素子であって、こ
れら樹脂スぺーサー、透明絶縁膜および保護膜の少なく
とも１つが請求項４〜６のいずれか一項に記載の感光性
樹脂組成物を含むことからなるあ７）項記載の液晶表示
素子。

【０００９】本発明のプラズマ・ディスプレイ・パネル
は、つぎの９）項で示される。 ９） 前記４〜６項のいずれか一項に記載の感光性樹脂
組成物を含む透明絶縁膜または保護膜を具有するプラズ
マ・ディスプレイ・パネル。

【００１０】本発明の発光ダイオード素子は、つぎの１
０）項で示される １０） 前記４〜６項のいずれか一項に記載の感光性樹
脂組成物を含む保護膜を具有する発光ダイオード素子。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の光増感剤は、下記一般式
（１）

【化５】 （式中、Ｘは芳香族環、Ｙは酸素原子、硫黄原子または
セレン原子、Ｒ₁はアルキルまたは置換アルキル、Ｒ₂は
アルキルまたはアリールを表わす。）で示される化合物
である。Ｘとしては、ベンゼン環、ナフタレン環など、
Ｙとしては、酸素原子、硫黄原子またはセレン原子、Ｒ
₁としては、メチル、エチル、プロピル、２−ヒドロキ
シエチル、２−メトキシエチル、カルボキシエチルな
ど、Ｒ₂としては、メチル、エチル、プロピル、フェニ
ル、ビフェニル、ｐ−ヒドロキシフェニル、ｐ−メトキ
シフェニル、ｐ−プルオロフェニル、ナフチルなどがあ
げられる。

【００１２】本発明の光増感剤の具体的な化合物名とし
ては、２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−β−ナフ
トチアゾリン、２−（β−ナフトイルメチレン）−３−
メチルベンゾチアゾリン、２−（α−ナフトイルメチレ
ン）−３−メチルベンゾチアゾリン、２−（４−ビフェ
ノイルメチレン）−３−メチルベンゾチアゾリン、２−
（β−ナフトイルメチレン）−３−メチル−β−ナフト
チアゾリン、２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−
メチル−β−ナフトチアゾリン、２−（ｐ−フルオロベ
ンゾイルメチレン）−３−メチル−β−ナフトチアゾリ
ン、２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−β−ナフト
オキサゾリン、２−（β−ナフトイルメチレン）−３−
メチルベンゾオキサゾリン、２−（α−ナフトイルメチ
レン）−３−メチルベンゾオキサゾリン、２−（４−ビ
フェノイルメチレン）−３−メチルベンゾオキサゾリ
ン、２−（β−ナフトイルメチレン）−３−メチル−β
−ナフトオキサゾリン、２−（４−ビフェノイルメチレ
ン）−３−メチル−β−ナフトオキサゾリン、２−（ｐ
−フルオロベンゾイルメチレン）−３−メチル−β−ナ
フトオキサゾリンなどがあげられる。

【００１３】特に好ましくは、式（２）

【化６】 で示される２−（β−ナフトイルメチレン）−３−メチ
ルベンゾチアゾリン、式（３）

【化７】 で示される２−ベンゾイルメチレン−３−メチル−β−
ナフトチアゾリン、および式（４）

【化８】 で示される２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メ
チル−β−ナフトチアゾリンがあげられる。

【００１４】本発明の感光性樹脂組成物は、アルカリ可
溶性樹脂［Ａ］、エチレン性不飽和二重結合を少なくと
も１つ以上有する化合物［Ｂ］、ベンゾフェノン構造を
有する有機過酸化物光重合開始剤［Ｃ］、および一般式
（１）で示される化合物からなる光増感剤［Ｄ］を含有
する。以下個々の成分について説明する。。

【００１５】本発明の感光性樹脂組成物に用いられるア
ルカリ可溶性樹脂［Ａ］としては、樹脂中にカルボン酸
を含有するもので、アルカリ水溶液への溶解性があれば
特に制限はなく、数種のモノマーの共重合物が用いられ
る。好ましくは、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イ
タコン酸、マレイン酸、フマル酸などの分子中にカルボ
ン酸を有する不飽和カルボン酸と他のモノマーの共重合
物が用いられる。［本発明において、（メタ）表示の化
合物は、メタ化合物とメタでない化合物の両方を示
す。］ 該カルボン酸の共重合の対象モノマーとしては、該カル
ボン酸以外にスチレン、メチルスチレン、ビニルトルエ
ンなどの芳香族ビニル化合物、（メタ）アクリル酸メチ
ル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブ
チル、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ベ
ンジル（メタ）アクリレートなどの不飽和カルボン酸ア
ルキルエステル、グリシジル（メタ）アクリレートなど
の不飽和カルボン酸グリシジルエステル、３−シクロヘ
キセニルメチル（メタ）アクリレートなどの（メタ）ア
クリル酸エステル、（メタ）アクリルアミド、ジメチル
アミノプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チル（メタ）アクリルアミドなどの（メタ）アクリルア
ミド類などがあげられる。

【００１６】これらのモノマーの市販品として、大阪有
機化学（株）製のビスコート＃１９３、同＃３２０、同
＃２３１１ＨＰ、同＃２２０、同＃２０００（フタル酸
モノヒドキシエチルアクリレート）、同＃２１００（フ
タル酸モノ２−メチルヒドロキシエチルアクリレー
ト）、同＃２１５０、同＃２１８０、同３Ｆ（２，２，
２−トリフルオロエチルアクリレート）、同３ＦＭ
（２，２，２−トリフルオロエチルメタアクリレー
ト）、同４Ｆ（２，２，３，３−テトラフルオロプロピ
ルアクリレート）、同４ＦＭ（２，２，３，３−テトラ
フルオロプロピルメタアクリレート）、同６ＦＭ、同８
Ｆ（１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルアクリ
レート）、同８ＦＭ（１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオ
ロペンチルメタアクリレート）、同１７Ｆ、同１７Ｆ
Ｍ、同ＭＴＧ（メトキシエチレングリコールアクリレー
ト）、東亞合成（株）製のアロニックスＭ−１０１｛フ
ェノールエチレンオキサイド変性（ｎ≒２）アクリレー
ト｝、同Ｍ−１０２｛フェノールエチレンオキサイド変
性（ｎ≒４）アクリレート｝、同Ｍ−１１０｛パラクミ
ルフェノールエチレンオキサイド変性（ｎ≒１）アクリ
レート｝、同Ｍ−１１３｛ノニルフェノールエチレンオ
キサイド変性（ｎ≒４）アクリレート｝、同Ｍ−１１７
｛ノニルフェノールプロピレンオキサイド変性（ｎ≒
２．５）アクリレート｝、同Ｍ−１２０（２−エチルヘ
キシルカルビトールアクリレート）、同Ｍ−５３００
｛ω−カルボキシ−ポリカプロラクトン（ｎ≒２）モノ
アクリレート｝、同Ｍ−５４００（フタル酸モノヒドロ
キシエチルアクリレート）、同Ｍ−５６００｛アクリル
酸ダイマー（ｎ≒１．４）｝、同Ｍ−５７００（２−ヒ
ドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート）、同
ＴＯ−８５０（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロピル
アクリレート）、同ＴＯ−８５１｛３−（２−エチルヘ
キシルオキシ）−２−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト｝、同ＴＯ−１２４８、同ＴＯ−１２４９｛３−（２
−メチルフェノキシ）−２−ヒドロキシプロピルアクリ
レート｝、同ＴＯ−１３０１｛３−（４−ｔ−ブチルフ
ェニル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート｝、同
ＴＯ−１３１７｛３−（２−フェニルフェノキシ）−２
−ヒドロキシプロピルアクリレート｝、同ＴＯ−１３１
５（２−ヒドロキシシクロヘキシルアクリレート）、同
ＴＯ−９８１（トリエチレングリコールモノドデシルエ
ーテルアクリレート）、同ＴＯ−１２１５｛２−（１，
３，３−トリメチルブチル）−５，７，７−トリメチル
オクチルアクリレート｝、同ＴＯ−１３１６、同ＴＯ−
１３２２、同ＴＯ−１３４２、同ＴＯ−１３４０｛１−
メチル−２−[４−（１，１−メチルフェニル）エチル
フェノキシ]エチルアクリレート｝、同ＴＯ−１２２５
（デカリルアクリレート）、日本化薬（株）製のＫＡＹ
ＡＲＡＤＴＣ−１１０Ｓ（５−テトラヒドロフルフリル
オキシカルボニルペンチルアクリレート）、同Ｒ−５６
４｛フェノールエチレンオキサイド変性(n＝２．３)ア
クリレート｝、同Ｒ−１２８Ｈ（２−ヒドロキシ−３−
フェノキシプロピルアクリレート）などが示される（上
記ｎはエチレンオキサイド変性におけるエチレンオキシ
の平均繰り返し単位を表わす）。

【００１７】アルカリ可溶性樹脂［Ａ］は、（メタ）ア
クリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマ
ル酸などの分子中にカルボン酸を有する不飽和カルボン
酸の重合もしくは共重合または他のモノマーとの共重合
など公知の重合方法によって製造できる。重合溶媒とし
ては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、酢
酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノイソプ
ロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、エチルカルビトール、プロピレングリコールモノメ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル
アセテート、シクロヘキサノン、ジエチレングリコール
ジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエー
テル、トルエン、キシレン、γ−ブチロラクトン、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアセトアミド、テトラヒドロフランなどが
好ましい。特にメタノール、酢酸エチル、シクロヘキサ
ノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルが好ま
しい。もちろん２種以上の混合溶媒でもよい。重合反応
は、通常モノマー濃度５〜５０重量％、ラジカル発生剤
０．０１〜５重量％、反応温度５０〜１６０℃、反応時
間３〜１２時間で行う。分子量を調節するためにチオグ
リコール酸などの連鎖移動剤を加えてもよい。重合反応
終了後、重合液を大量の非溶媒中に投入して、沈殿物を
乾燥して重合物を得ることができる。あるいは重合反応
終了後の重合液をそのまま感光性樹脂組成物用として使
用してもよい。重合液を大量の非溶媒中に投入してオリ
ゴマーや、未反応モノマーを除去して重合物を精製する
場合は、メタノール・酢酸エチル混合溶媒中で重合し、
非溶媒としてシクロヘキサンもしくは酢酸エチル・シク
ロヘキサン混合溶媒を使用すると、乾燥性が良好で好ま
しい。

【００１８】アルカリ可溶性樹脂［Ａ］の分子量は特に
限定されないが、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを溶媒
としたＧＰＣによる分析で、ポリエチレンオキシド換算
重量平均分子量（Ｍｗ）が、通常１，０００〜２００，
０００、好ましくは２，０００〜３０，０００のものを
用いるのが望ましい。アルカリ可溶性樹脂［Ａ］のポリ
エチレンオキシド換算重量平均分子量（Ｍｗ）が１，０
００未満では膜の強度が弱く、現像時の膜荒れ、パター
ンの剥離が起きやすい。一方、２００，０００を超える
と、現像性や感度が低下したり、現像後に残査が残るこ
とがある。

【００１９】本発明の感光性樹脂組成物に用いられるエ
チレン性不飽和二重結合を少なくとも１つ有する化合物
［Ｂ］としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル
（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、
２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、フェニル
（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート
などの（メタ）アクリル酸誘導体、２−ヒドロキシエチ
ル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アク
リレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレー
トなどのヒドロキシアルキルエステル類、ω−カルボキ
シポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、フタ
ル酸モノヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレ
ートなどの単官能（メタ）アクリレート化合物、１，４
−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘ
キサンジオールジ（メタ）アクリレート、エチレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリ
コールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロー
ルプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
リトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテ
トラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペ
ンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メ
タ）アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールＡジ
（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡジ
（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦジ
（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＳジ
（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピルジ（メタ）
アクリレート、ジエチレングリコールビスヒドロキシプ
ロピル（メタ）アクリレート、およびモノヒドロキシペ
ンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどの多
官能（メタ）アクリレート化合物などがあげられる。

【００２０】また、これら化合物として、市販品の単官
能または多官能（メタ）アクリレート化合物をそのまま
用いることができる。具体的には、東亜合成化学工業
（株）製のアロニックスＭ−５４００（フタル酸モノヒ
ドロキシエチルアクリレート）、同Ｍ−５７００（２−
ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート）、
同Ｍ−２１５（イソシアヌル酸エチレンオキシサイド変
性ジアクリレート）、同Ｍ−２２０（トリプロピレング
リコールジアクリレート）、同Ｍ−２４５｛ポリエチレ
ングリコール（ｎ≒９）ジアクリレート｝、同Ｍ−３０
５（ペンタエリスリトールトリアクリレート）、同Ｍ−
３０９（トリメチロールプロパントリアクリレート）、
同Ｍ−３１５（イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性
トリアクリレート）、同Ｍ−４００｛ジペンタエリスリ
トールペンタアクリレートおよびジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート（主成分）の混合物｝、同Ｍ−４
５０（ペンタエリスリトールテトラアクリレート）、同
Ｍ−８０６０、同Ｍ−８５６０、大阪有機化学工業
（株）製のビスコート＃２９５（トリメチロ−ルプロパ
ントリアクリレート）、同＃３００（ペンタエリスリト
ールトリアクリレート）、同＃３６０（トリメチロール
プロパンエチレンオキサイド変性トリアクリレート）、
同＃４００（ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト）、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＲＡＤ ＴＭＰＴＡ
（トリメチロールプロパントリアクリレート）、同ＰＥ
Ｔ−３０（ペンタエリスリトールトリアクリレート）、
同ＤＰＨＡ｛ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
トおよびジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（主成分）の混合物｝、同Ｄ−３１０（ジペンタエリス
リトールペンタアクリレート）、同Ｄ−３３０、同ＤＰ
ＣＡ−６０などをあげることができる。

【００２１】本発明では、上述した化合物のうち、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、東
亜合成化学工業（株）製のアロニックスＭ−３０５、同
＃３０９、同Ｍ−４００、同Ｍ−４５０、大阪有機化学
工業（株）製のビスコート＃２９５、同＃３００、同＃
４００、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＲＡＤＴＭＰＴ
Ａ、同ＤＰＨＡ、同Ｄ−３１０、同ＰＥＴ−３０などの
３官能以上の多官能アクリレートが好ましく用いられ
る。なお、これらの化合物は単独または２種類以上を混
合して使用することができる

【００２２】本発明の感光性樹脂組成物に用いられるベ
ンゾフェノン構造を有する有機過酸化物光重合開始剤
［Ｃ］としては、３，４，４’−トリ（ｔ−ブチルペル
オキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，５，４’−ト
リ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ン、３，４，５−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニ
ル）ベンゾフェノン、３，４，４’−トリ（ｔ−ブチル
ペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，３，４−
トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ン、３，４，４’−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボ
ニル）ベンゾフェノン、３，４，４’−トリ（ｔ−アミ
ルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，４，
４’−トリ（ｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベン
ゾフェノン、３，４，４’−トリ（ｔ−オクチルペルオ
キシカルボニル）ベンゾフェノン、 ３，３，４’−ト
リ（ｔ−クミルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ン、４−メトキシ−２’，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオ
キシカルボニル）ベンゾフェノン、４−メトキシ−
２’，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベ
ンゾフェノン、３−メトキシ−２’，４’−ジ（ｔ−ブ
チルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２−メト
キシ−２’，４’−ジ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニ
ル）ベンゾフェノン、４−エトキシ−２’，４’−ジ
（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、
３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカ
ルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，４，４’−テト
ラ（ｔ−ヘキシルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ンなどがあげられる。これらの化合物の市販品として
は、日本油脂（株）製のＢＴＴＢ５０｛３,３´,４，４
´−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニルベンゾフ
ェノン５０％トルエン溶液）、同２５％溶液などがあげ
られる。これらの２種以上を混合して用いてもよい。

【００２３】また、上記のベンゾフェノン構造を有する
有機過酸化物光重合開始剤と他の光重合開始剤とを組み
合わせて用いることもできる。他の光重合開始剤として
は、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−
１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケト
ン、２−メチル−１［４−（メチルチオ）フェニル］−
２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−
２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）−ブタノン−１、２，４，６ートリメチルベンゾイ
ルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，
６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオ
キサイド、２−（４−メトキシ−１−ナフチル）−４，
６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどが
あげられる。これらの市販品としては、チバ・スペシャ
ルティ・ケミカルズ（株）製のＩｒｇａｃｕｒｅ６５
１、同１８４、同５００、同３６９、同９０７、同８１
９、ＢＡＳＦジャパン（株）製のＬｕｃｉｒｉｎＴＰ
Ｏ、みどり化学（株）製のＴＡＺ−１０４、同１０６、
同１１０、同１１８などがあげられる。本発明では、上
述した化合物のうち、 ３，４，４’−トリ（ｔ−ブチ
ルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、３，３’，
４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）
ベンゾフェノン、３，４，４’−トリ（ｔ−ブチルペル
オキシカルボニル）ベンゾフェノンとチバ・スペシャル
ティ・ケミカルズ（株）製のＩｒｇａｃｕｒｅ９０７
｛２−メチル−１[４−（メチルチオ）フェニル]−２−
モルフォリノプロパン−１−オン｝との併用、３，４，
４’−トリ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾ
フェノンとＩｒｇａｃｕｒｅ３６９｛２−ベンジル−２
−ジメチルアミノ１−（４−モルフォリノフェニル）−
ブタノン−１｝との併用、３，３’，４，４’−テトラ
（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノンと
Ｉｒｇａｃｕｒｅ９０７（前記参照）との併用、３，
３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボ
ニル）ベンゾフェノンとＩｒｇａｃｕｒｅ３６９（前記
参照）との併用が特に好ましい。

【００２４】本発明の感光性樹脂組成物の各成分
［Ａ］、［Ｂ］、［Ｃ］、［Ｄ］の含有比率は、アルカ
リ可溶性樹脂［Ａ］１００重量部に対し、エチレン性不
飽和二重結合を少なくとも１つ有する化合物［Ｂ］を１
０〜２００重量部好ましくは３０〜１５０重量部、ベン
ゾフェノン構造を有する有機過酸化物光重合開始剤
［Ｃ］を０．１〜５０重量部好ましくは１〜３０重量
部、および一般式（１）で表される光増感剤［Ｄ］を
０．１〜３０重量部好ましくは０．５〜２０重量部であ
る。ベンゾフェノン構造を有する有機過酸化物光重合開
始剤［Ｃ］と他の光重合開始剤を併用する場合は、ベン
ゾフェノン構造を有する有機過酸化物光重合開始剤
［Ｃ］１００重量部に対して１０〜１００重量部を用い
ることが好ましい。アルカリ可溶性樹脂［Ａ］の１００
重量部に対して、エチレン性不飽和二重結合を少なくと
も１つ有する化合物［Ｂ］が１０重量部未満であると、
感光性樹脂の光による硬化が不十分となり、現像液への
溶解性が増加して現像後の塗膜表面に膜荒れが生じるこ
とがあり、一方、２００重量部を超えた場合にも、塗膜
表面のタックが大きくなりすぎ、硬化後に得られる被膜
に膜荒れが生じたり、現像後に残査が残ったりすること
がある。アルカリ可溶性樹脂［Ａ］の１００重量部に対
して、ベンゾフェノン構造を有する有機過酸化物光重合
開始剤［Ｃ］が０．１重量部未満であると、エチレン性
不飽和二重結合を少なくとも１つ以上有する化合物
［Ｂ］の架橋（硬化）反応が十分に進行しないことがあ
り、一方、５０重量部を超えると、現像性が低下するこ
とがある。［Ａ］アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対
し、一般式（１）で表される光増感剤［Ｄ］が、０．１
重量部未満であると、ベンゾフェノン構造を有する有機
過酸化物光重合開始剤［Ｃ］への増感作用が不十分とな
り、感度が低下し、現像後膜荒れが生じることがあり、
一方、３０重量部を超えると、得られる被膜の透明性が
低下することがある。

【００２５】本発明の感光性樹脂組成物は、本発明の目
的を損なわない範囲で、必要に応じて上記成分以外の他
の成分を含有してもよい。このような他の成分として
は、カップリング剤、界面活性剤などがあげられる。カ
ップリング剤は、基板との密着性を向上させるために使
用するものであり、上記感光性樹脂組成物から溶媒を除
いた残りの成分（以下「固形分」と略記する。）１００
重量部に対し１０重量部以下添加して用いられる。カッ
プリング剤としては、シラン系、アルミニウム系および
チタネート系の化合物が用いられる。具体的には、３−
グリシドキシプロピルジメチルエトキシシラン、３−グ
リシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシランなどのシラン系、
アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレートなど
のアルミニウム系、テトライソプロピルビス（ジオクチ
ルホスファイト）チタネートなどのチタネート系化合物
をあげることができる。

【００２６】界面活性剤は、下地基板への濡れ性、レベ
リング性、塗布性を向上させるために使用するものであ
り、上記感光性樹脂組成物１００重量部に対し０．０１
〜１重量部添加して用いられる。界面活性剤としては、
シリコン系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、フッソ
系界面活性剤などが用いられる。具体的には、ビック・
ケミー（株）製のＢｙｋ−３００、同３０６、同３３
５、同３１０、同３４１、同３４４、同３７０などのシ
リコン系界面活性剤、同３５４、同３５８、同３６１な
どのアクリル系界面活性剤、旭硝子（株）製のＳＣ−１
０１、（株）トーケムプロダクツ製のＥＦ−３５１、同
３５２などのフッソ系界面活性剤をあげることができ
る。

【００２７】本発明の感光性樹脂組成物は、通常、適当
な溶媒に溶解させて溶液状態で用いられる。この溶液
は、溶媒中にアルカリ可溶性樹脂［Ａ］を投入して完全
に溶解させた後、その溶液中にエチレン性不飽和二重結
合を少なくとも１つ以上有する化合物［Ｂ］、ベンゾフ
ェノン構造を有する有機過酸化物光重合開始剤［Ｃ］、
一般式（１）で表される光増感剤［Ｄ］、および必要に
応じてカップリング剤、界面活性剤などを所定の割合で
混合し、固形分濃度が１０〜５０重量％となるように調
製し、その後、撹拌して完全に溶解させることによって
得られる。この際に使用される溶媒としては、メトキシ
ジエタノール、エトキシエタノール、１−メトキシ−２
−プロパノール、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、メチルセ
ロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳
酸エチル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアセトアミドなどをあげることができ、これらの溶
媒は単独でまたは２種以上を混合で使用することができ
る。

【００２８】上述のようにして調製された感光性樹脂組
成物溶液を、基体表面に塗布し、加熱により溶媒を除去
すると、塗膜を形成することができる。基体表面への感
光性樹脂組成物溶液の塗布は、スピンコート法、ロール
コート法、ディッピング法など従来からの公知の方法に
より行うことができる。ついで、この塗膜はホットプレ
ート、オーブンなどで加熱（以下「プリベーク」と略記
する）される。プリベーク条件は各成分の種類、配合割
合によって異なるが、通常７０〜１１０℃で、ホットプ
レートなら１〜５分間、オーブンなら５〜１５分間であ
る。その後、プリベークされた塗膜に所定パターンのマ
スクを介して紫外線などを照射した後、現像液により現
像し、不要な部分を除去して所定パターン状の被膜を形
成する。現像液としては、炭酸ナトリウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウムなどの無機アルカリ類、および
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチル
アンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ類などの
水溶液をあげることができる。また、上記アルカリ水溶
液にメタノール、エタノール、界面活性剤などを適当量
添加して用いることもできる。現像方法は、ディッピン
グ法、シャワー法、スプレー法など何れを用いてもよ
く、現像時間は通常３０〜２４０秒であり、現像後、流
水でリンスし、乾燥させることによりパターンを形成す
ることができる。その後、このパターンをホットプレー
ト、オーブンなどで加熱（以下「ポストベーク」と略記
する）することによって、エチレン性不飽和二重結合を
少なくとも１つ以上有する化合物の未反応成分の架橋を
さらに進めると同時に溶媒を完全に除去し、所定の被膜
パターンを得ることができる。ポストベーク条件は各成
分の種類、配合割合によって異なるが、通常１８０〜２
５０℃で、ホットプレートなら５〜３０分間、オーブン
なら３０〜９０分間である。

【００２９】本発明の液晶表示素子は、本発明の感光性
樹脂組成物を含むことが特徴である。例えば、図２で示
されるような液晶表示素子であって、この素子を構成す
るつぎに示すような材料の少なくとも１つが本発明の感
光性樹脂組成物を含むことである。 ・対向している一対の透明電極a，ｂの間に施される樹
脂スぺーサー；図２は、表面に配向膜の形成された透明
電極５a，５ｂの間に、樹脂スぺーサーが施されたもの
であるが、透明電極５aに樹脂スぺーサーが施された
後、その上に配向膜が形成された場合、または透明絶縁
膜８に樹脂スぺーサーが施された後、その上に配向膜が
形成された場合もある。 ・ＴＦＴと透明電極aの間に形成される透明絶縁膜； ・配向膜と透明電極aの間に形成される透明絶縁膜； ・カラーフィルターと透明電極ｂの間に形成される保護
膜。

【００３０】本発明のプラズマ・ディスプレイ・パネル
は、そのパネルに使用する透明絶縁膜または保護膜など
に本願発明の感光性樹脂組成物が含有するものである。

【００３１】本発明のＬＥＤ素子は、該素子に使用され
る保護膜などに本願発明の感光性樹脂組成物が含まれて
いるものである。

【００３２】

【実施例】以下、本発明を実施例により更に詳細に説明
するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。

【００３３】実施例Ａ 光増感剤の製造 １） コンデンサー、攪拌装置を付けた３００ｍｌの三
つ口フラスコに、２−メチルベンゾチアゾール３６ｇ、
ｐ−トルエンスルホン酸メチル５４．９ｇ、およびキシ
レン１００ｍｌをとり、３時間還流攪拌した。反応液を
放冷し、析出した結晶をろ別した。これをアセトン洗浄
後、減圧乾燥して、２−メチルベンゾチアゾールのトル
エンスルホン酸メチル塩を７８．６ｇ得た。得られた化
合物を未精製のままつぎの反応に用いた。コンデンサ
ー、温度計、攪拌装置を付けた３００ｍｌの三つ口フラ
スコに、上記の化合物５０ｇとピリジン１５０ｍｌをと
り、０℃で攪拌下、β−ナフトイルクロリド３６．８ｇ
を固体のまま少しずつ加えた。反応液を０℃で９０分攪
拌後、室温で２時間、１００℃で１時間反応させた。反
応終了後、大量の氷水中に注ぎ、析出した結晶をろ集し
た。得られた粗結晶を、減圧乾燥後、アセトンで４回再
結晶し、以下の融点とＮＭＲの値を示す式（２）で示さ
れる２−（β−ナフトイルメチレン）−３−メチルベン
ゾチアゾリンである光増感剤の２２．３ｇ得た。 融点：１７４．５℃、 １Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：３．３９（ｓ，３Ｈ）、
６．４９（ｓ，１Ｈ）、６．８６〜８．３８（ｍ，１１
Ｈ）であ

【００３４】実施例Ｂ 光増感剤の製造 実施例Ａと同様の方法で、２−メチルナフトチアゾール
とベンゾイルクロリドから式（３）で示される２−ベン
ゾイルメチレン−３−メチル−β−ナフトチアゾリンで
ある光増感剤が得られる。

【００３５】実施例Ｃ 光増感剤の製造 実施例Ａと同様の方法で、２−メチルナフトチアゾール
と４−ビフェニルカルボン酸クロリドから式（４）で示
される２−（４−ビフェノイルメチレン）−３−メチル
−β−ナフトチアゾリンである光増感剤が得られる。

【００３６】つぎの実施例および比較例で得られる感光
性樹脂組成物について、下記のようにしてパターンを形
成し評価を行った。 ・パターンの形成方法：実施例および比較例で得られた
感光性樹脂組成物の溶液を、ガラス基板上にスピンコー
トした後、９０℃のホットプレートで３分間プリベーク
して塗膜を形成させた。その後、得られた塗膜を、露光
時間を変化させてマスクアライナー（キャノン（株）製
“ＰＬＡ−５０１Ｆ”）に露光した。なお、露光は、全
線（フィルターなし）、およびｇ，ｈ線（ＨＯＹＡ
（株）製ｉ線カットフィルター、ＣＯＬＯＲＥＤ ＯＰ
ＴＩＣＡＬ ＧＬＡＳＳ、ＧＬＡＳＳ ＴＹＰＥ Ｌ４
０、２．５ｍｍ厚使用）のそれぞれで行った。ついで、
０．４重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水
溶液を用いて、２３℃で１分間現像（浸漬揺動法）、純
水でリンスし、乾燥した。さらに、２００℃のオーブン
で６０分間加熱することにより塗膜中のエチレン性不飽
和二重結合を少なくとも１つ以上有する化合物の未反応
成分の架橋をさらに進めると同時に溶媒を完全に除去
し、膜厚３μｍの塗膜を形成した。このようにして得ら
れた塗膜について、感度、解像度、残膜率、透明性、耐
熱性および耐薬品性について下記の特性を評価した。こ
れらの評価結果を表１および表２に示す。

【００３７】感光性樹脂組成物の評価； ・感度：正方形の遮光部（黒い部分）が正方形と同じ幅
で等間隔に配置されているマスク（図１参照）を介して
露光を行い、得られたパターンにおいて、マスクパター
ン２５μｍで得られるホールパターン上部の寸法が２５
μｍとなる露光量（「適正露光量」または「感度」）を
求めた。露光量の測定には、積算光量計（ウシオ（株）
製“ＵＩＴ−１０２”）、全線露光時には感度波長域３
３０〜３９０μｍの受光器（ウシオ（株）製“ＵＶＤ−
３６５ＰＤ”）、ｇ，ｈ線露光時には感度波長域３３０
〜４９０μｍの受光器８ウシオ（株）製“ＵＶＤ−４０
５ＰＤ”）を用いた。 ・解像度：適正露光量で解像している穴状のホールパタ
ーン底部の最少寸法を走査型電子顕微鏡で測定した。 ・残膜率： 残膜率（％）＝（現像後の膜厚／プリベーク後の膜厚）
×１００ の式により求め、つぎのように評価した。 ○．．．． ９０％以上 ×．．．． ９０％未満

【００３８】・透明性：得られたパターン付きガラス基
板において、ＭＩＣＲＯ ＣＯＬＯＲ ＡＮＡＬＹＺＥ
Ｒ （（有）東京電色技術センター製“ＴＣ−１８００
Ｍ”）により塗膜のみの４００〜７８０ｎｍでの透過率
を測定した。このときの最低透過率（すなわち波長４０
０ｎｍでの透過率）によって、つぎのように評価した。 ○．．．． ９０％以上 ×．．．． ９０％未満 ・耐熱性：得られたパターン付きガラス基板を２５０℃
で１時間再加熱した後、加熱前の膜厚（ポストベーク後
の膜厚）に対する加熱後の残膜率および加熱後の透過率
（波長４００ｎｍでの透過率）を測定して、つぎのよう
に評価した。 ○．．．． 加熱後の残膜率が９０％以上、かつ透過率
が９０％以上 ×．．．． 上記以外の場合

【００３９】・耐薬品性：得られたパターン付きガラス
基板について、つぎに示す液の浸漬処理試験を行った。
２重量％水酸化ナトリウム水溶液に４０℃で１５分間浸
漬した。（以下、ＮａＯＨ処理と略記する）。１０重量
％塩酸水溶液に４０℃で３０分間浸漬した。（以下、Ｈ
Ｃｌ処理と略記する） Ｎ−メチルピロリドン中に４０℃で３０分間浸漬した
（以下、ＮＭＰ処理と略記する）。イソプロピルアルコ
ール中に４０℃で３０分間浸漬した（以下、ＩＰＡ処理
と略記する）。上記各液による浸漬処理前後の膜厚変化
率および処理前後の透過率変化率を測定し、また４００
倍の光学顕微鏡で塗膜表面の変化を観察してつぎの評価
をした。 ○．．．．各処理前後の膜厚の変化率が１％未満、かつ
各処理前後の透過率の変化率が１％未満、かつ各処理前
後で塗膜表面に変化がない場合。 ×．．．．上記以外の場合。

【００４０】実施例１ アルカリ可溶性樹脂[Ａ]の合成；メタノール１６７ｇ、
酢酸エチル３３３ｇ、ベンジルメタクリレート１３０
ｇ、５−テトラヒドロフルフリルオキシカルボニルペン
チルアクリレート｛日本化薬（株）製“ＫＡＹＡＲＡＤ
ＴＣ−１１０Ｓ”｝３０ｇ、２−ヒドロキシエチルメ
タクリレート２０ｇ、メタクリル酸２０ｇ、アゾビスイ
ソブチロニトリル１ｇ、チオグリコール酸３ｇを混合攪
拌し、６５℃で６時間重合した。重合液にシクロヘキサ
ン３，０００ｇを加え、ポリマーを析出させ、上澄みを
デカンテーションで除いた後、４０℃で２０時間真空乾
燥して１３８ｇのアルカリ可溶性樹脂[Ａ]を得た。得ら
れたアルカリ可溶性樹脂[Ａ]のポリエチレンオキシド換
算重量平均分子量は７，０００であった。

【００４１】感光性樹脂組成物の製造；プロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート９ｇに上記アルカ
リ可溶性樹脂３ｇを溶解させた後、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレートおよびジペンタエリスリトール
ペンタアクリレーの混合物｛東亜合成化学工業（株）製
“アロニックスＭ４００”｝３ｇ、３，３´，４，４´
−テトラ（ｔ−ブチルエルオキシカルボニル）ベンゾフ
ェノンの２５重量％トルエン溶液｛日本油脂（株）製
“ＢＴＴＢ２５”｝１．２ｇ、前記実験例Ａで得られた
２−（β−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチ
アゾリンである光増感剤０．０６ｇ、シリコン系界面活
性剤｛ビックケミー・ジャパン（株）製“Ｂｙｋ−３４
４”｝０．００８６ｇを混合し、固形分濃度が３７重量
％になるようにプロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテートを加えた。その後、均一な溶液が得られる
まで攪拌し、孔径０．２２μｍのメンブランフィルター
で濾過して感光性樹脂組成物溶液を得た。得られた感光
性樹脂組成物溶液からパターンを形成し、評価を行っ
た。その結果を表１および表２に示す。

【００４２】実施例２ ２−（β−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチ
アゾリンの代わりに２−ベンゾイルメチレン−３−メチ
ル−β−ナフトチアゾリンを用いた以外は、実施例１と
同様にして感光性樹脂組成物溶液を製造し、評価を行っ
た。結果を表１および表２に示す。

【００４３】比較例１ ２−（β−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチ
アゾリンである光増感剤０．０６ｇの代わりに４，４’
−ジエチルアミノベンゾフェノン０．４５ｇを用いた以
外は、実施例１と同様にして感光性樹脂組成物溶液を製
造し、評価を行った。結果を表１および表２に示す。

【００４４】比較例２ ２−（β−ナフトイルメチレン）−３−メチルベンゾチ
アゾリンである光増感剤０．０６ｇの代わりに３，３’
−カルボニルビス（７−ジエチルアミノクマリン）｛み
どり化学（株）製商品名：ＢＣ｝０．１５ｇを用いた以
外は、実施例１と同様にして感光性樹脂組成物溶液を製
造し、評価を行った。結果を表１および表２に示す。

【００４５】

【表１】

【００４６】

【表２】

【００４７】

【発明の効果】表１および表２に示したように、本発明
の感光性樹脂組成物は、一般式（１）で示される化合物
からなる光増感剤［Ｄ］が、４００ｎｍ付近に最大分光
吸収を持つため、全線露光、さらにはｇ，ｈ線露光で、
容易にベンゾフェノン構造を有する有機過酸化物光重合
開始剤［Ｃ］へ増感作用をおよぼすことができる。すな
わち、ｇ，ｈ線露光においても優れた感度を持つことが
できる。また、また本発明の光増感剤［Ｄ］は、熱によ
り４００ｎｍ付近の吸収が減衰するため、露光、現像後
にポストベークを行うことによって優れた透明性も兼備
することができる。また、解像度、残膜率、耐熱性およ
び耐薬品性についても優れており、実用上問題ないばか
りか、上述の優れた特性から、アクティブマトリクス型
のＬＣＤにおけるＴＦＴと透明電極との間に配設される
透明絶縁膜、配向膜の上もしくは配向膜の下に形成する
樹脂スペーサー、配向膜と透明電極との間に配設される
透明絶縁膜やカラーフィルター上に配設される保護膜と
して特に有用であることも明かである。さらに、かかる
特性から、本発明の感光性樹脂組成物は、プラズマディ
スプレイパネルにおける透明絶縁膜または保護膜や、Ｌ
ＥＤ素子における保護膜としても好適に使用できること
が明らかである。

【００４８】以上説明してきたように、本発明の感光性
樹脂組成物は、全線露光、さらにはｇ，ｈ線露光で、優
れた感度や透明性を備えているだけでなく、優れた解像
度、残膜率、耐熱性および耐薬品性を兼備したネガ型の
感光性樹脂組成物であり、これを用いた各種表示素子を
提供することができる。すなわち、本発明の感光性樹脂
組成物により、感度、透明性、解像度、残膜率、耐熱性
および耐薬品性などすべてにおいて優れた被膜パターン
を形成することができ、かかる被膜パターンは、液晶表
示素子を構成するＴＦＴと透明電極間に形成される透明
絶縁膜、配向膜の上、あるいは配向膜の下に形成する樹
脂スペーサー、配向膜と透明電極間に形成される透明絶
縁膜およびカラーフィルター上に形成される保護膜とし
て好適に使用することができ、ＰＤＰやＬＥＤ素子にも
適用可能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】特性評価に用いた正方形の遮光部（黒い部分）
が正方形と同じ幅で等間隔に配置されているマスクパタ
ーンを示す平面図である。

【図２】本発明の液晶表示素子断面図の一例である。

【符号の説明】

１、偏向板 ２、ガラス ３、カラーフイルター ４、保護膜 ５ａ、透明電極a（ＩＴＯ電極） ５ｂ、透明電極ｂ（ＩＴＯ電極） ６、配向膜 ７、樹脂スペーサー ８、透明絶縁膜 ９、ＴＦＴ素子 １０、液晶層 １１、シール剤

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 （式中、Ｘで示される点線は芳香族環を表わし、Ｙは酸
   素原子、硫黄原子もしくはセレン原子、Ｒ₁はアルキル
   もしくは置換アルキル、Ｒ₂はアルキルもしくはアリー
   ルを表わす。）で示される化合物からなる光増感剤。
2. 【請求項２】 前記一般式（１）において、Ｘはベンゼ
   ン環またはナフタレン環、Ｒ₁はメチル、エチル、プロ
   ピル、２−ヒドロキシエチル、２−メトキシエチルまた
   はカルボキシエチル、Ｒ₂はメチル、エチル、プロピ
   ル、フェニル、ビフェニル、ｐ−ヒドロキシフェニル、
   ｐ−メトキシフェニル、ｐ−フルオロフェニルまたはナ
   フチルである請求項１記載の光増感剤。
3. 【請求項３】 前記一般式（１）において、Ｘはベンゼ
   ン環、Ｙは硫黄原子、Ｒ₁はメチル、Ｒ₂はβ−ナフチル
   である請求項１記載の光増感剤。
4. 【請求項４】 アルカリ可溶性樹脂［Ａ］、エチレン性
   不飽和二重結合を少なくとも１つ有する化合物［Ｂ］、
   ベンゾフェノン構造を有する有機過酸化物光重合開始剤
   ［Ｃ］、および一般式（１） 【化２】 （式中、Ｘで示される点線は芳香族環を表わし、Ｙは酸
   素原子、硫黄原子もしくはセレン原子、Ｒ₁はアルキル
   もしくは置換アルキル、Ｒ₂はアルキルもしくはアリー
   ルを表わす。）で示される化合物である光増感剤［Ｄ］
   を含有する感光性樹脂組成物。
5. 【請求項５】 前記光増感剤［Ｄ］が、一般式（１）に
   おいて、Ｘはベンゼン環またはナフタレン環、Ｒ₁はメ
   チル、エチル、プロピル、２−ヒドロキシエチル、２−
   メトキシエチルまたはカルボキシエチル、Ｒ₂はメチ
   ル、エチル、プロピル、フェニル、ビフェニル、ｐ−ヒ
   ドロキシフェニル、ｐ−メトキシフェニル、ｐ−フルオ
   ロフェニルまたはナフチルで表わされる化合物である請
   求項４記載の感光性樹脂組成物。
6. 【請求項６】 前記一般式（１）において、Ｘはベンゼ
   ン環、Ｙは硫黄原子、Ｒ₁はメチル、Ｒ₂はβ−ナフチル
   である請求項４記載の感光性樹脂組成物。
7. 【請求項７】 請求項４〜６のいずれか一項に記載の感
   光性樹脂組成物を含む液晶表示素子
8. 【請求項８】 対向している一対の透明電極a，ｂの間
   に施される樹脂スぺーサー；ＴＦＴと透明電極aの間に
   形成される透明絶縁膜；配向膜と透明電極aの間に形成
   される透明絶縁膜；およびカラーフィルターと透明電極
   ｂの間に形成される保護膜を具有する液晶表示素子であ
   って、これら樹脂スぺーサー、透明絶縁膜および保護膜
   の少なくとも１つが請求項４〜６のいずれか一項に記載
   の感光性樹脂組成物を含むことからなる請求項７記載の
   液晶表示素子。
9. 【請求項９】 請求項４〜６のいずれか一項に記載の感
   光性樹脂組成物を含む透明絶縁膜または保護膜を具有す
   るプラズマ・ディスプレイ・パネル。
10. 【請求項１０】 請求項４〜６のいずれか一項に記載の
    感光性樹脂組成物を含む保護膜を具有する発光ダイオー
    ド素子。