JP2017139317A - 処理液気化装置と基板処理装置 - Google Patents

Abstract

【課題】処理ガスの濃度のばらつきを抑制できる処理液気化装置と基板処理装置を提供する。【解決手段】処理液気化装置３は、処理液を貯留するバッファタンク１３と、バッファタンク１３に連通接続され、処理液を気化させる気化容器２３ａと、気化容器２３ａと並列にバッファタンク１３に連通接続され、処理液を気化させる気化容器２３ｂと、バッファタンク１３と気化容器２３ａとの間の処理液の流路を開閉する開閉弁２７ａと、バッファタンク１３と気化容器２３ｂとの間の処理液の流路を開閉する開閉弁２７ｂと、を備えている。【選択図】図１

Description

本発明は、処理液を気化させる処理液気化装置と、基板に処理を行う基板処理装置に関する。基板は、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示用のガラス基板、光ディスク用の基板などである。

従来、この種の基板処理装置として、流体供給系と複数の処理ユニットとを備える装置がある。流体供給系は、処理流体を複数の処理ユニットに供給する。処理流体は、例えば、イソプロピルアルコール、純水、ＳＣＩ液（アンモニアと過酸化水素水の混合液）、希フッ酸水溶液である。あるいは、処理流体は、例えば、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）などの蒸気である。各処理ユニットはそれぞれ、流体を用いて基板に処理を行う。

流体供給系は、１つのタンクと１つの供給ラインと複数の分岐ラインとを備えている。タンクは処理流体を貯留する。供給ラインはタンクに接続されている。各分岐ラインの一端は供給ラインに接続されている。各分岐ラインの他端はそれぞれ、処理ユニットに個別に接続されている。

特開２０１１−０８２２７９号公報

しかしながら、従来の基板処理装置は次のような問題がある。
同時に稼働する処理ユニットの数は変動する。例えば、複数の処理ユニットが同時に処理を実行している場合や、１つの処理ユニットのみが処理を実行し、その他の処理ユニットが休止している場合がある。処理ユニットの稼働状況に応じて、流体供給系が処理ユニットに供給する処理流体の供給量は変動する。

特に処理流体が処理ガスである場合、流体供給系の供給量が変動すると、処理ガスの濃度がばらつき易い。処理ガスの濃度が変動すると、処理ユニットによる処理の品質を保つことが困難となる。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、処理ガスの濃度のばらつきを抑制できる処理液気化装置と基板処理装置を提供することを目的とする。

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、本発明に係る処理液気化装置は、処理液を貯留するタンクと、前記タンクに連通接続され、処理液を気化させる第１気化容器と、前記第１気化容器と並列にタンクに連通接続され、処理液を気化させる第２気化容器と、前記タンクと前記第１気化容器との間の処理液の流路を開閉する第１処理液用弁と、前記タンクと前記第２気化容器との間の処理液の流路を開閉する第２処理液用弁と、を備えている処理液気化装置である。

［作用・効果］第１処理液用弁が閉じることによって、第１気化容器がタンクおよび第２気化容器から分離（遮断）される。第１気化容器がタンクおよび第２気化容器から分離されているとき、第１気化容器は、タンクおよび第２気化容器の影響を受けずに、処理液を気化できる。このため、第１気化容器は処理ガスを好適に生成できる。すなわち、第１気化容器内の処理ガスの濃度がばらつくことを好適に抑制できる。

第２処理液用弁が閉じることによって、第２気化容器がタンクおよび第１気化容器から分離される。第２気化容器がタンクおよび第１気化容器から分離されているとき、第２気化容器は、タンクおよび第１気化容器の影響を受けずに、処理液を気化できる。このため、第２気化容器は処理ガスを好適に生成できる。すなわち、第２気化容器内の処理ガスの濃度がばらつくことを好適に抑制できる。

第１処理液用弁と第２処理液用弁はそれぞれ、個別に開閉できる。

例えば、第１処理液用弁および第２処理液用弁の一方のみが閉じてもよい。この場合、第１気化容器および第２気化容器の一方は、第１気化容器および第２気化容器の他方とタンクとから分離される。よって、第１気化容器および第２気化容器の一方で処理ガスを好適に生成できる。すなわち、処理液気化装置は、比較的に少量の処理ガスを好適に生成できる。

例えば、第１処理液用弁および第２処理液用弁の両方が閉じてもよい。この場合、第１気化容器と第２気化容器とタンクとが相互に分離される。よって、第１気化容器および第２気化容器の両方で処理ガスを好適に生成できる。すなわち、処理液気化装置は、比較的に多量の処理ガスを好適に生成できる。

このように、いずれの場合においても、処理液気化装置は処理ガスの濃度のばらつきを好適に抑制できる。

上述の処理液気化装置において、前記第１気化容器で生成された処理ガスは１つの第１処理ユニットのみに送られ、前記第２気化容器で生成された処理ガスは１つの第２処理ユニットのみに送られることが好ましい。換言すれば、第１気化容器は、１つの第１処理ユニットに供給するための処理ガスのみを生成し、第２気化容器は、１つの第２処理ユニットに供給するための処理ガスのみを生成することが好ましい。第１気化容器における処理ガスの生成量が変動することを好適に抑制できる。よって、第１気化容器内の処理ガスの濃度がばらつくことを一層好適に抑制できる。同様に、第２気化容器における処理ガスの生成量が変動することを好適に抑制できる。よって、第２気化容器内の処理ガスの濃度がばらつくことを一層好適に抑制できる。

上述の処理液気化装置において、前記タンクの内部は前記タンクの外部に開放されており、前記処理液気化装置は、前記第１気化容器の内部を前記第１気化容器の外部に対して開閉する第１ベント弁と、前記第２気化容器の内部を前記第２気化容器の外部に対して開閉する第２ベント弁と、を備えていることが好ましい。第１ベント弁が開くことによって、第１気化容器の内部の圧力がタンクの内部の圧力と略等しくなる。よって、タンクから第１気化容器に処理液を容易に補給できる。同様に、第２ベント弁が開くことによって、第２気化容器の内部の圧力がタンクの内部の圧力と略等しくなる。よって、タンクから第２気化容器に処理液を容易に補給できる。

上述の処理液気化装置において、前記第１気化容器と前記第２気化容器とはそれぞれ、前記タンクの側方に設けられていることが好ましい。タンクから第１気化容器に処理液を一層容易に補給できる。同様に、タンクから第２気化容器に処理液を一層容易に補給できる。

上述の処理液気化装置において、前記第１処理液用弁および前記第１ベント弁がそれぞれ開くことによって、前記タンクと前記第１気化容器の間を処理液が自ずと移動し、前記タンク内の処理液の液位と前記第１気化容器内の処理液の液位が等しくなり、前記第２処理液用弁および前記第２ベント弁がそれぞれ開くことによって、前記タンクと前記第２気化容器の間を処理液が自ずと移動し、前記タンク内の処理液の液位と前記第２気化容器内の処理液の液位が等しくなることが好ましい。簡易な構成で、第１気化容器に適切な量の処理液を補給できる。同様に、簡易な構成で、第２気化容器に適切な量の処理液を容易に補給できる。

上述の処理液気化装置において、前記タンク内の圧力を調整する圧力調整部を備えていることが好ましい。タンク内の圧力を調整することによって、タンクと第１気化容器との間における圧力差を好適に調整できる。この圧力差を利用して、タンクから第１気化容器に処理液を好適に供給できる。同様に、タンク内の圧力を調整することによって、タンクと第２気化容器との間における圧力差を好適に調整できる。この圧力差を利用して、タンクから第２気化容器に処理液を好適に供給できる。

上述の処理液気化装置において、前記第１気化容器は、前記タンクよりも高い位置に設けられており、前記第２気化容器は、前記タンクよりも高い位置に設けられていることが好ましい。圧力差を利用することによって、タンクから、タンクよりも上方に設けられている第１気化容器に処理液を供給できる。このように、第１気化容器をタンクよりも高い位置に支障なく設けることができる。同様に、第２気化容器をタンクよりも高い位置に支障なく設けることができる。

上述の処理液気化装置において、前記第１処理液用弁が開き、かつ、圧力調整部が前記タンク内の圧力を調整することによって、前記タンクと前記第１気化容器の間において処理液を強制的に移動させ、前記第２処理液用弁が開き、かつ、圧力調整部が前記タンク内の圧力を調整することによって、前記タンクと前記第２気化容器の間において処理液を強制的に移動させることが好ましい。第１気化容器に処理液を好適に補給できる。同様に、第２気化容器に処理液を好適に補給できる。

上述の処理液気化装置において、前記タンクの上端は、前記第１気化容器の上端および前記第２気化容器の上端のいずれよりも低いことが好ましい。仮に処理液がタンクから溢れた場合であっても、処理液が第１気化容器から溢れることを好適に防止できる。同様に、仮に処理液がタンクから溢れた場合であっても、処理液が第２気化容器から溢れることを好適に防止できる。

上述の処理液気化装置において、前記第１気化容器に送られる不活性ガスの流路を開閉する第１不活性ガス用弁と、前記第２気化容器に送られる不活性ガスの流路を開閉する第２不活性ガス用弁と、を備えることが好ましい。第１気化容器と第２気化容器に個別に不活性ガスを供給できる。例えば、第１不活性ガス用弁および第２不活性ガス用弁の両方が開くことによって、第１気化容器および第２気化容器の両方に同時に不活性ガスを供給できる。これにより、第１気化容器および第２気化容器の両方が並行して処理液を気化できる。例えば、第１不活性ガス用弁および第２不活性ガス用弁の一方のみが開くことによって、第１気化容器および第２気化容器の一方のみに不活性ガスを供給できる。これにより、第１気化容器および第２気化容器の一方のみが処理液を気化できる。

上述の処理液気化装置において、前記第１処理液用弁が開いているとき、前記第１不活性ガス用弁は閉じており、前記第２処理液用弁が開いているとき、前記第２不活性ガス用弁は閉じていることが好ましい。第１処理液用弁が開いているときには第１不活性ガス用弁が閉じているので、第１気化容器内の処理ガスの濃度がばらつくことを未然に回避できる。同様に、第２処理液用弁が開いているときには第２不活性ガス用弁が閉じているので、第２気化容器内の処理ガスの濃度がばらつくことを未然に回避できる。

上述の処理液気化装置において、前記第１気化容器から出される処理ガスの流路を開閉する第１処理ガス用弁と、前記第２気化容器から出される処理ガスの流路を開閉する第２処理ガス用弁と、を備えることが好ましい。第１気化容器と第２気化容器は個別に処理ガスを出すことができる。例えば、第１処理ガス用弁および第２処理ガス用弁の両方が開くことによって、第１気化容器および第２気化容器の両方から同時に処理ガスを出すことができる。例えば、第１処理ガス用弁および第２処理ガス用弁の一方のみが開くことによって、第１気化容器および第２気化容器の一方のみから処理ガスを出すことができる。

上述の処理液気化装置において、前記第１処理液用弁が開いているとき、前記第１処理ガス用弁は閉じており、前記第２処理液用弁が開いているとき、前記第２処理ガス用弁は閉じていることが好ましい。第１処理液用弁が開いているときには第１処理ガス用弁は閉じているので、第１気化容器がタンクと連通している場合、第１気化容器内の処理ガスが処理ガスの流路を通じて第１気化容器の外部に出ない。これにより、濃度がばらついている処理ガスが第１気化容器から出ることを未然に回避できる。同様に、第２処理液用弁が開いているときには第２処理ガス用弁は閉じているので、濃度がばらついている処理ガスが第２気化容器から出ることを未然に回避できる。

上述の処理液気化装置において、処理液供給源から前記タンクに供給される処理液の流路を開閉するタンク処理液用弁を備えることが好ましい。処理液供給源からタンクへの処理液の供給とその停止を好適に切り替えることができる。

上述の処理液気化装置において、前記処理液気化装置は、前記タンク内の処理液の液位を検出する液位検出センサを備え、前記液位検出センサの検出結果に基づいて、前記タンク処理液用弁が開閉することが好ましい。処理液供給源からタンクに処理液を適切なタイミングで供給できる。

また、本発明に係る基板処理装置は、前記タンクに連通接続され、処理液を気化させる第１気化容器と、前記第１気化容器と並列に前記タンクに連通接続され、処理液を気化させる第２気化容器と、前記タンクと前記第１気化容器との間の処理液の流路を開閉する第１処理液用弁と、前記タンクと前記第２気化容器との間の処理液の流路を開閉する第２処理液用弁と、前記第１気化容器で生成された処理ガスを用いて基板に処理を行う１つの第１処理ユニットと、前記第２気化容器で生成された処理ガスを用いて基板に処理を行う１つの第２処理ユニットと、を備えている基板処理装置である。

［作用・効果］第１処理液用弁が閉じることによって、第１気化容器がタンクおよび第２気化容器から分離（遮断）される。第１気化容器は、タンクおよび第２気化容器の影響を受けずに、処理液を気化できる。このため、第１気化容器内の処理ガスの濃度がばらつくことを好適に抑制できる。

第２処理液用弁が閉じることによって、第２気化容器がタンクおよび第１気化容器から分離される。第２気化容器は、タンクおよび第１気化容器の影響を受けずに、処理液を気化できる。このため、第２気化容器内の処理ガスの濃度がばらつくことを好適に抑制できる。

第１処理液用弁と第２処理液用弁はそれぞれ、個別に開閉できる。例えば、第１処理液用弁および第２処理液用弁の一方のみが閉じてもよい。この場合、第１処理液用弁および第２処理液用弁の一方のみで、処理ガスを好適に生成できる。例えば、第１処理液用弁および第２処理液用弁の両方が閉じていてもよい。この場合、第１処理液用弁および第２処理液用弁の両方で、処理ガスを好適に生成できる。このように、いずれの場合においても、処理液気化装置は処理ガスの濃度のばらつきを好適に抑制できる。

さらに、第１気化容器は、１つの第１処理ユニットに供給するための処理ガスのみを生成する。これにより、第１気化容器における処理ガスの生成量が変動することを好適に抑制できる。よって、第１気化容器内の処理ガスの濃度がばらつくことを一層好適に抑制できる。同様に、第２気化容器は、１つの第２処理ユニットに供給するための処理ガスのみを生成する。これにより、第２気化容器における処理ガスの生成量が変動することを好適に抑制できる。よって、第２気化容器内の処理ガスの濃度がばらつくことを一層好適に抑制できる。

第１処理ユニットは、第１気化容器で生成された処理ガスを使って基板に処理を行う。よって、第１処理ユニットにおける処理の品質を好適に保つことができる。同様に、第２処理ユニットは、第２気化容器で生成された処理ガスを使って基板に処理を行う。よって、第２処理ユニットにおける処理の品質を好適に保つことができる。

なお、本明細書は、次のような処理液気化装置に係る発明も開示している。

（１）上述した処理液気化装置において、前記第１処理液用弁が開いているとき、前記第１ベント弁は開き、前記第２処理液用弁が開いているとき、前記第２ベント弁は開く処理液気化装置。

前記（１）に記載の処理液気化装置によれば、第１処理液用弁が開いているときに前記第１ベント弁が開くので、第１気化容器に処理液を容易に補給できる。同様に、第２処理液用弁が開いているときに前記第２ベント弁が開くので、第２気化容器に処理液を容易に補給できる。

（２）上述した処理液気化装置において、処理液気化装置は、処理液が前記タンクの上端から溢れているか否かを検出するオーバーフローセンサを備え、前記オーバーフローセンサの検知結果に基づいて処理液が前記タンクから溢れていると判断されたとき、前記第１処理液用弁および前記第２処理液用弁はそれぞれ閉じる処理液気化装置。

前記（２）に記載の処理液気化装置によれば、処理液が第１気化容器から溢れることを未然に回避でき、かつ、処理液が第２気化容器から溢れることを未然に回避できる。

（３）上述した処理液気化装置において、処理液気化装置は、第１気化容器から出された処理ガスを希釈する不活性ガスの流路を開閉する第１希釈用弁と、第２気化容器から出された処理ガスを希釈する不活性ガスの流路を開閉する第２希釈用弁と、を備える処理液気化装置。

前記（３）に記載の処理液気化装置によれば、第１希釈用弁が開くと、第１気化容器から出された処理ガスに不活性ガスを混合することができる。これにより、第１気化容器から出された処理ガスを好適に希釈できる。同様に、処理液気化装置は第２希釈用弁を備えているので、第２気化容器から出された処理ガスを好適に希釈できる。

（４）上述した処理液気化装置において、第１気化容器と第２気化容器とは、同じ高さ位置に配置されている処理液気化装置。

前記（４）に記載の処理液気化装置によれば、第１気化容器および第２気化容器に略同じ量の処理液を補給できる。

（５）上述した処理液気化装置において、処理液気化装置は、前記タンクと前記第１気化容器とを接続する第１補給管と、前記タンクと前記第２気化容器とを接続する第２補給管と、を備え、前記第１処理液用弁は前記第１補給管上に設けられ、前記第２処理液用弁は前記第２補給管上に設けられている処理液気化装置。

前記（５）に記載の処理液気化装置によれば、第１気化容器および第２気化容器を互いに並列に、タンクに連通接続できる。

本発明に係る処理液気化装置と基板処理装置によれば、処理ガスの濃度のばらつきを好適に抑制できる。

実施例１に係る基板処理装置の構成を示す図である。 図２（Ａ）はバッファタンクと気化容器の正面図であり、図２（Ｂ）はバッファタンクと気化容器の平面図である。 基板処理装置の動作例を示す図である。 基板処理装置の動作例を示す図である。 基板処理装置の動作例を示す図である。 実施例２に係る基板処理装置の構成を示す図である。 バッファタンクと気化容器の正面図である。 実施例３に係る基板処理装置の構成を示す図である。 バッファタンクと気化容器の正面図である。 変形実施例に係る基板処理装置の構成を示す図である。 バッファタンクと気化容器の平面図である。 バッファタンクと気化容器の正面図である。

以下、図面を参照して本発明の実施例１を説明する。
図１は、実施例１に係る基板処理装置の構成を示す図である。
実施例１に係る基板処理装置は、基板（例えば、半導体ウエハ）Ｗに処理を行う装置である。

基板処理装置１は、処理液気化装置３と複数（例えば２つ）の処理ユニット５ａ、５ｂを備えている。処理液気化装置３は、処理液を気化させることによって、処理ガスを生成する。処理ガスは、気化した処理液を含むガスである。処理液気化装置３は処理ガスを処理ユニット５ａ、５ｂに供給する。処理ユニット５ａ、５ｂは、処理ガスを用いて基板Ｗに処理を行う。

処理液気化装置３は、処理液供給源１１とバッファタンク１３と配管１５と開閉弁１７と配管１９を備える。処理液供給源１１は処理液をバッファタンク１３に供給する。処理液は、例えばヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）である。バッファタンク１３は処理液を貯留する。図１では、バッファタンク１３に貯留される処理液に符号「Ｓｓ」を付す。配管１５は、処理液供給源１１とバッファタンク１３とを連通接続する。開閉弁１７は配管１５上に設けられている。開閉弁１７は、処理液供給源１１とバッファタンク１３との間の処理液の流路を開閉する。配管１９は、バッファタンク１３の内部をバッファタンク１３の外部に開放する。配管１９の一端はバッファタンク１３の上部に連結している。配管１９の他端はバッファタンク１３の外部において開放されている。配管１９によって、バッファタンク１３の内部の気圧は、バッファタンク１３の外部の気圧と実質的に同等に保たれている。

処理液気化装置３は液面センサ２１ａ、２１ｂを備える。液面センサ２１ａ、２１ｂはバッファタンク１３に取り付けられている。液面センサ２１ａ、２１ｂはバッファタンク１３内の処理液の液位を検出する。液面センサ２１ａは、バッファタンク１３内の処理液が低液位ＬＬ以上であるか否かを検出する。液面センサ２１ｂは、バッファタンク１３内の処理液が低液位ＬＬよりも高い高液位ＨＬ以上であるか否かを検出する。液面センサ２１ａ、２１ｂを特に区別しない場合には、「液面センサ２１」と略記する。

処理液気化装置３は複数（例えば２つ）の気化容器２３ａ、２３ｂを備える。気化容器２３ａ、２３ｂはそれぞれ、処理液を気化させる。より具体的には、気化容器２３ａ、２３ｂは、処理液を貯留する。図１では、気化容器２３ａに貯留される処理液に符号「Ｓａ」を付し、気化容器２３ｂに貯留される処理液に符号「Ｓｂ」を付す。気化容器２３ａは処理液Ｓａを気化させ、気化容器２３ｂは処理液Ｓｂを気化させる。これにより、気化容器２３ａ、２３ｂはそれぞれ処理ガスを生成する。処理ガスは、例えば気化したＨＭＤＳを含むガスである。

処理液気化装置３は配管２５ａ、２５ｂを備える。配管２５ａはバッファタンク１３と気化容器２３ａとを連通接続する。配管２５ａの一端はバッファタンク１３の下部と連結している。配管２５ａの他端は気化容器２３ａの下部と連結している。配管２５ｂは、バッファタンク１３と気化容器２３ｂとを連通接続する。配管２５ｂの一端はバッファタンク１３の下部と連結している。配管２５ｂの他端は気化容器２３ｂの下部と連結している。気化容器２３ａ、２３ｂは互いに並列にバッファタンク１３と連通接続している。

処理液気化装置３は開閉弁２７ａ、２７ｂを備える。開閉弁２７ａは、バッファタンク１３と気化容器２３ａとの間の処理液の流路を開閉する。開閉弁２７ａは、バッファタンク１３と気化容器２３ａとの間に設けられている。具体的には、開閉弁２７ａは配管２５ａ上に設けられている。同様に、開閉弁２７ｂは、バッファタンク１３と気化容器２３ｂとの間の処理液の流路を開閉する。開閉弁２７ｂは、バッファタンク１３と気化容器２３ｂとの間に設けられている。具体的には、開閉弁２７ｂは配管２５ｂ上に設けられている。開閉弁２７ａ、２７ｂは互いに並列にバッファタンク１３と連通接続している。

なお、開閉弁２７ａは、バッファタンク１３と気化容器２３ｂとの間の処理液の流路を開閉せずに、バッファタンク１３と気化容器２３ａとの間の処理液の流路を開閉する。同様に、開閉弁２７ｂは、バッファタンク１３と気化容器２３ａとの間の処理液の流路を開閉せずに、バッファタンク１３と気化容器２３ｂとの間の処理液の流路を開閉する。

処理液気化装置３は、配管３１ａ、３１ｂと開閉弁３３ａ、３３ｂを備える。配管３１ａの一端は気化容器２３ａの上部に連結している。配管３１ａの他端は気化容器２３ａの外部において開放されている。配管３１ｂの一端は気化容器２３ｂの上部に連結している。配管３１ｂの他端は気化容器２３ｂの外部において開放されている。開閉弁３３ａは配管３１ａ上に設けられる。開閉弁３３ａは、気化容器２３ａの内部を気化容器２３ａの外部に対して開閉する。開閉弁３３ｂは配管３１ｂ上に設けられる。開閉弁３３ｂは、気化容器２３ｂの内部を気化容器２３ｂの外部に対して開閉する。

処理液気化装置３は、ガス供給源３５と配管３７ａ、３７ｂと開閉弁３９ａ、３９ｂとを備える。ガス供給源３５は不活性ガスを気化容器２３ａ、２３ｂに供給する。不活性ガスは、例えば窒素ガスである。配管３７ａはガス供給源３５と気化容器２３ａとを連通接続する。配管３７ｂはガス供給源３５と気化容器２３ｂとを連通接続する。開閉弁３９ａは配管３７ａ上に設けられている。開閉弁３９ａは、ガス供給源３５と気化容器２３ａとの間の不活性ガスの流路を開閉する。開閉弁３９ｂは配管３７ｂ上に設けられている。開閉弁３９ｂは、ガス供給源３５と気化容器２３ｂとの間の不活性ガスの流路を開閉する。

なお、開閉弁３９ａは、ガス供給源３５と気化容器２３ｂとの間の不活性ガスの流路を開閉すること無く、ガス供給源３５と気化容器２３ａとの間の不活性ガスの流路を開閉する。開閉弁３９ｂは、ガス供給源３５と気化容器２３ａとの間の不活性ガスの流路を開閉すること無く、ガス供給源３５と気化容器２３ｂとの間の不活性ガスの流路を開閉する。

処理液気化装置３は、配管４１ａ、４１ｂと開閉弁４３ａ、４３ｂを備えている。配管４１ａの一端は気化容器２３ａの上部に連結している。配管４１ａの他端は処理ユニット５ａに接続されている。配管４１ｂの一端は気化容器２３ｂの上部に連結している。配管４１ｂの他端は処理ユニット５ｂに接続されている。開閉弁４３ａは配管４１ａ上に設けられる。開閉弁４３ａは、気化容器２３ａから出される処理ガスの流路を開閉する。開閉弁４３ｂは配管４１ｂ上に設けられる。開閉弁４３ｂは、気化容器２３ｂから出される処理ガスの流路を開閉する。

なお、開閉弁４３ａは、気化容器２３ｂから出される処理ガスの流路を開閉すること無く、気化容器２３ａから出される処理ガスの流路を開閉する。開閉弁４３ｂは、気化容器２３ａから出される処理ガスの流路を開閉すること無く、気化容器２３ｂから出される処理ガスの流路を開閉する。

バッファタンク１３と気化容器２３ａ、２３ｂとの位置関係を説明する。図２（Ａ）はバッファタンク１３と気化容器２３ａ、２３ｂの正面図である。図２（Ｂ）はバッファタンク１３と気化容器２３ａ、２３ｂの平面図である。

図２（Ａ）を参照する。気化容器２３ａおよび気化容器２３ｂはそれぞれ、バッファタンク１３の側方に配置されている。実施例１では、バッファタンク１３と気化容器２３ａと気化容器２３ｂとは、同じ高さ位置に配置されている。具体的には、バッファタンク１３、気化容器２３ａ、気化容器２３ｂの各上端は、同じ高さ位置ｈ１に配置されている。バッファタンク１３、気化容器２３ａ、気化容器２３ｂの各下端は、同じ高さ位置ｈ２に配置されている。

図２（Ｂ）を参照する。図示するように、バッファタンク１３および気化容器２３ａ、２３ｂはそれぞれ、円筒形状を有する。気化容器２３ａはバッファタンク１３の一側方に配置されている。気化容器２３ｂはバッファタンク１３の一側方とは反対の他側方に配置されている。平面視で、気化容器２３ａ、バッファタンク１３、気化容器２３ｂは、この順番で一列に並んでいる。

気化容器２３ａと気化容器２３ｂはそれぞれ、バッファタンク１３から略等距離の位置に配置されている。図２（Ｂ）は、参考として、バッファタンク１３の中心と気化容器２３ａの中心との距離Ｌａと、バッファタンク１３の中心と気化容器２３ｂの中心との距離Ｌｂを示す。距離Ｌａは距離Ｌｂと略等しい。

配管２５ａ、２５ｂはそれぞれ、略水平な方向に直線的に延びている。配管２５ａの長さｌａは、配管２５ｂの長さｌｂと略等しい。

以下では、気化容器２３ａ、２３ｂを特に区別しない場合には、単に「気化容器２３」と記載する。開閉弁２７ａ、２７ｂを特に区別しない場合には、単に「開閉弁２７」と記載する。他の開閉弁３３ａ、３３ｂ、３９ａ、３９ｂ、４３ａ、４３ｂについても、同様に略記する。

図１を参照する。処理液気化装置３は、さらに制御部４５を備えている。制御部４５は、開閉弁１７、２７、３３、３９、４３と液面センサ２１と電気的に接続されている。
制御部４５は、液面センサ２１の検出結果を取得する。制御部４５は、開閉弁１７、２７、３３、３９、４３の作動を制御する。

制御部４５は、各種処理を実行する中央演算処理装置（ＣＰＵ）、演算処理の作業領域となるＲＡＭ（Random-Access Memory）、固定ディスク等の記憶媒体等によって実現されている。記憶媒体には、基板Ｗを処理するための処理レシピ（処理プログラム）や、各基板Ｗを識別するための情報など各種情報を記憶されている。

気化容器２３ａ、２３ｂは、本発明の第１気化容器、第２気化容器の例である。配管２５ａ、２５ｂは、本発明の第１補給管、第２補給管の例である。開閉弁２７ａ、２７ｂは、本発明の第１処理液用弁、第２処理液用弁の例である。開閉弁３３ａ、３３ｂは、本発明の第１ベント弁、第２ベント弁の例である。開閉弁３９ａ、３９ｂは、本発明の第１不活性ガス用弁、第２不活性ガス用弁の例である。開閉弁４３ａ、４３ｂは、本発明の第１処理ガス用弁、第２処理ガス用弁の例である。

次に、処理ユニット５ａ、５ｂの構成を以下に説明する。なお、処理ユニット５ａ、５ｂは、同じ構成である。

処理ユニット５ａ／５ｂは、プレート４７とカバー４８とノズル４９を備える。プレート４７は基板Ｗを載置する。プレート４７には、不図示の温調部が取り付けられている。温調部は、プレート４７に載置された基板Ｗを所定の温度に調整する。カバー４８はプレート４７の上方に設けられている。カバー４８は、プレート４７に載置されている基板Ｗの上方を覆う。カバー４８は昇降可能に設けられている。ノズル４９はカバー４８に取り付けられている。ノズル４９は配管４１の他端と連結している。ノズル４９はカバー４８の下方に処理ガスを吹き出す。

処理ユニット５ａ、５ｂは、本発明の第１処理ユニット、第２処理ユニットの例である。処理ユニット５ａ、５ｂを特に区別しない場合には、単に「処理ユニット５」と記載する。

制御部４５は、さらに処理ユニット５ａ、５ｂにおける温調部を制御し、カバー４８の昇降を制御する。

次に、基板処理装置１の動作例を説明する。基板処理装置１の動作は、バッファタンク１３に関する動作と、気化容器２３ａに関する動作と、気化容器２３ｂに関する動作との組み合わせと考えることができる。まず、各動作について個別に説明する。

＜バッファタンク１３に関する動作＞
図１を参照する。制御部４５が、液面センサ２１の検出結果に基づいて、開閉弁１７を開閉する。

具体的には、制御部４５が、液面センサ２１ａの検出結果を参照し、バッファタンク１３内の処理液が低液位ＬＬ未満であると判断すると、制御部４５は開閉弁１７を開く。
開閉弁１７が開いているとき、処理液供給源１１からバッファタンク１３に処理液が供給される。

制御部４５が、液面センサ２１ｂの検出結果を参照し、バッファタンク１３内の処理液が高液位ＨＬ以上であると判断すると、制御部４５は開閉弁１７を閉じる。開閉弁１７が閉じているとき、処理液供給源１１からバッファタンク１３への処理液の供給が停止する。

＜気化容器２３ａに関する動作＞
制御部４５は、処理レシピに基づいて、開閉弁２７ａ、３３ａ、３９ａ、４３ａを制御する。

具体的には、処理ユニット５ａが処理ガスを使用するとき、制御部４５は開閉弁２７ａ、３３ａを閉じ、開閉弁３９ａ、４３ａを開く。

開閉弁２７ａが閉じることにより、気化容器２３ａはバッファタンク１３および気化容器２３ｂから分離（遮断）される。開閉弁３３ａが閉じることにより、気化容器２３ａは半密閉状態となる。開閉弁３９ａが開くことにより、ガス供給源３５から気化容器２３ａに不活性ガスが送られる。処理液Ｓａは不活性ガスと混合され、処理液Ｓａの一部が気化する。すなわち、気化した処理液を含んだ処理ガスが気化容器２３ａ内に生成される。開閉弁４３ａが開くことにより、気化容器２３ａ内の処理ガスが、配管４１ａを通じて気化容器２３ａの外部に出る。そして、処理ガスは、処理ユニット５ａ（ノズル４９）に供給される。

処理ユニット５ａでは、プレート４７上に基板Ｗが載置されている。基板Ｗの温度は、不図示の温調部によって調整されている。カバー４８は基板Ｗの上方を覆っている。ノズル４９は、プレート４７とカバー４８の間に処理ガスを吹き出す。処理ガスは、基板Ｗの表面上を流れる。処理ガス中の気化した処理液は、基板Ｗの表面上で液化する。これにより、基板Ｗの表面の全体にわたって均一に処理液が塗布される。このように、処理ユニット５ａは基板Ｗに疎水化処理を行う。

他方、処理ユニット５ａが処理ガスを使用しないとき、制御部４５は開閉弁２７ａ、３３ａを開き、開閉弁３９ａ、４３ａを閉じる。

開閉弁３３ａが開くことにより、気化容器２３ａの内圧はバッファタンク１３の内圧と略等しくなる。開閉弁２７ａが開くことにより、バッファタンク１３と気化容器２３ａとが互いに連通する（繋がる）。これにより、バッファタンク１３から気化容器２３ａに処理液が供給される。より具体的には、バッファタンク１３と気化容器２３ａとの間を処理液が自ずと移動する。その結果、バッファタンク１３内の処理液Ｓｓの液位と気化容器２３ａ内の処理液Ｓａの液位とは等しくなる。

開閉弁３９ａが閉じることによって、ガス供給源３５から気化容器２３ａへの不活性ガスの供給が停止する。これにより、気化容器２３ａ内において処理ガスは生成されない。開閉弁４３ａが閉じることによって、気化容器２３ａ内の気体が配管４１ａを通じて気化容器２３ａの外部に出ない。すなわち、処理ガス等の気体は、気化容器２３ａから処理ユニット５ｂに送られない。

＜気化容器２３ｂに関する動作＞
気化容器２３ｂに関する動作は、気化容器２３ａに関する動作と略同じである。よって、以下では気化容器２３ｂに関する動作を簡略に説明する。

制御部４５は、処理レシピに基づいて、開閉弁２７ｂ、３３ｂ、３９ｂ、４３ｂを制御する。

具体的には、処理ユニット５ｂが処理ガスを使用するとき、制御部４５は開閉弁２７ｂ、３３ｂを閉じ、開閉弁３９ｂ、４３ｂを開く。これにより、気化容器２３ｂはバッファタンク１３および気化容器２３ａから分離される。不活性ガスが気化容器２３ｂに供給される。気化容器２３ｂは、処理液Ｓｂを気化させ、処理ガスを生成する。処理ガスは、気化容器２３ｂから処理ユニット５ｂ（ノズル４９）に供給される。処理ユニット５ｂは、処理ガスを使って、基板Ｗに処理を行う。

他方、処理ユニット５ｂが処理ガスを使用しないとき、制御部４５は開閉弁２７ｂ、３３ｂを開き、開閉弁３９ｂ、４３ｂを閉じる。気化容器２３ｂ内の圧力は、バッファタンク１３内の圧力と略等しくなり、バッファタンク１３から気化容器２３ｂに処理液が補給される。不活性ガスは気化容器２３ｂに供給されず、気化容器２３ｂは処理液Ｓｂを気化させない。気化容器２３ｂ内の処理ガス等の気体は、処理ユニット５ｂに送られない。

ここで、バッファタンク１３、気化容器２３ａ、２３ｂに関する各動作をまとめる。

バッファタンク１３に関する動作は、バッファタンク１３に処理液を供給するモードＭ１と、バッファタンク１３への処理液の供給を停止するモードＭ２を有する。
モードＭ１、Ｍ２では、開閉弁１７は次のように作動する。
・モードＭ１における開閉弁１７：開
・モードＭ２における開閉弁１７：閉

気化容器２３ａに関する動作は、気化容器２３ａで処理液を気化するモードＭ３と、気化容器２３ａに処理液を補給するモードＭ４を有する。モードＭ３、Ｍ４では、開閉弁２７ａ、３３ａ、３９ａ、４３ａは次のように作動する。
・モードＭ３における開閉弁２７ａ、３３ａ、３９ａ、４３ａ：閉、閉、開、開
・モードＭ４における開閉弁２７ａ、３３ａ、３９ａ、４３ａ：開、開、閉、閉

気化容器２３ｂに関する動作は、気化容器２３ｂで処理液を気化するモードＭ５と、気化容器２３ｂに処理液を補給するモードＭ６とを有する。
モードＭ５、Ｍ６では、開閉弁２７ｂ、３３ｂ、３９ｂ、４３ｂは次のように作動する。
・モードＭ５における開閉弁２７ｂ、３３ｂ、３９ｂ、４３ｂ：閉、閉、開、開
・モードＭ６における開閉弁２７ｂ、３３ｂ、３９ｂ、４３ｂ：開、開、閉、閉

バッファタンク１３と気化容器２３ａ、２３ｂとに関する各動作は、互いに独立している。例えば、バッファタンク１３に関する動作は、気化容器２３ａ、２３ｂに関する各動作と関係なく、モードＭ１、Ｍ２の間で切り替わる。同様に、気化容器２３ａに関する動作は、バッファタンク１３、気化容器２３ｂに関する動作と関係なく、モードＭ３、Ｍ４の間で切り替わる。気化容器２３ｂに関する動作は、バッファタンク１３、気化容器２３ａに関する動作と関係なく、モードＭ５、Ｍ６の間で切り替わる。したがって、基板処理装置１の動作として、８通りの態様がある。８通りの態様のうち、３つの態様を以下に例示する。

図３は、基板処理装置１の動作例１を示す図である。動作例１では、気化容器２３ａのみで処理ガスを生成する。より詳しくは、動作例１では、バッファタンク１３に処理液を供給し（モードＭ１）、気化容器２３ａで処理液を気化し（モードＭ３）、気化容器２３ｂに処理液を供給する（モードＭ６）。図３では、便宜上、閉じている開閉弁と、閉じている開閉弁が設けられている配管とを点線で示し、閉じている開閉弁に「×」印を付ける。後述する図４、図５においても、開閉弁および配管を同じ様に図示する。

図３に示すとおり、処理液供給源１１からバッファタンク１３に処理液を供給しながら、バッファタンク１３から気化容器２３ｂに処理液を供給する。処理液供給源１１は、バッファタンク１３内の処理液の液位が高液位ＨＬになるまで処理液を供給する。バッファタンク１３内の処理液の液位が高液位ＨＬになると、処理液供給源１１からバッファタンク１３への処理液の供給が終わる。このとき、気化容器２３ｂ内の処理液Ｓｂの液位は、高液位ＨＬと同じ高さ位置である。このように、気化容器２３ｂ内の処理液Ｓｂの液位が高液位ＨＬと同じ高さ位置になるまで、気化容器２３ｂに処理液が補給される。

気化容器２３ａは、開閉弁２７ａを境に、バッファタンク１３および気化容器２３ｂから分離されている。気化容器２３ａは、処理液Ｓａを気化させ、処理ガスを生成する。処理液気化装置３全体の処理ガスの生成量としては、比較的に少量である。気化容器２３ａで生成された処理ガスは、処理ユニット５ａに供給される。図３等では、ノズル４９から吹き出された処理ガスの流れを模式的に示す。

図４を参照する。図４は、基板処理装置１の動作例２を示す図である。動作例２では、気化容器２３ａ、２３ｂの両方で処理ガスを生成する。より詳しくは、動作例２では、バッファタンク１３への処理液の供給を停止し（モードＭ２）、気化容器２３ａで処理液を気化し（モードＭ３）、気化容器２３ｂで処理液を気化する（モードＭ５）。

図４に示すとおり、処理液供給源１１からバッファタンク１３への処理液の供給は停止している。気化容器２３ａと気化容器２３ｂとバッファタンク１３とは、相互に分離されている。具体的には、気化容器２３ａは、開閉弁２７ａを境に、バッファタンク１３および気化容器２３ｂから分離されており、気化容器２３ｂは、開閉弁２７ｂを境に、バッファタンク１３および気化容器２３ａから分離されている。気化容器２３ａ、２３ｂの両方が同時に処理ガスを生成している。処理液気化装置３全体の処理ガスの生成量としては、比較的に多量である。気化容器２３ａで生成された処理ガスは処理ユニット５ａに供給され、気化容器２３ｂで生成された処理ガスは処理ユニット５ｂに供給される。

図５を参照する。図５は、基板処理装置１の動作例３を示す図である。動作例３では、気化容器２３ａ、２３ｂの両方に処理液を補給する。より詳しくは、動作例３では、バッファタンク１３に処理液を供給し（モードＭ１）、気化容器２３ａに処理液を供給し（モードＭ４）、気化容器２３ｂに処理液を供給する（モードＭ６）。

図５に示すとおり、処理液供給源１１からバッファタンク１３に処理液を供給しながら、バッファタンク１３から気化容器２３ａ、２３ｂの両方に処理液を供給する。バッファタンク１３内の処理液の液位が高液位ＨＬになるまで、処理液が処理液供給源１１からバッファタンク１３に供給される。これに伴い、気化容器２３ａ、２３ｂの液位がそれぞれ高液位ＨＬと同じ高さ位置になるまで、処理液が気化容器２３ａ、２３ｂに補給される。

このように、実施例１に係る処理液気化装置３によれば、以下の効果を奏する。

処理液気化装置３は開閉弁２７ａを備えているので、バッファタンク１３および気化容器２３ｂから気化容器２３ａを分離（遮断）できる。気化容器２３ａがバッファタンク１３および気化容器２３ｂから分離されているとき、気化容器２３ａ内の圧力は、バッファタンク１３および気化容器２３ｂの影響によって変動しない。このような条件の下で、気化容器２３ａは処理液Ｓａを気化できる。すなわち、気化容器２３ａは、バッファタンク１３および気化容器２３ｂの影響を受けずに、処理液Ｓｂを気化できる。このため、気化容器２３ａ内の処理ガスの濃度がばらつくことを好適に抑制できる。

同様に、液処理装置３は開閉弁２７ｂを備えているので、バッファタンク１３および気化容器２３ｂから気化容器２３ｂを分離できる。気化容器２３ｂがバッファタンク１３および気化容器２３ａから分離されているとき、気化容器２３ｂは、バッファタンク１３および気化容器２３ｂの影響を受けずに、処理液Ｓｂを気化できる。このため、気化容器２３ｂ内の処理ガスの濃度がばらつくことを好適に抑制できる。

開閉弁２７ａ、２７ｂは個別に開閉できるので、処理液気化装置３全体における処理ガスの生成量に関係無く、処理液気化装置３は処理ガスの濃度のばらつきを好適に抑制できる。

例えば動作例１のように、開閉弁２７ａ、２７ｂの一方のみが閉じているとき、気化容器２３ａおよび気化容器２３ｂの一方は、バッファタンク１３と、気化容器２３ａおよび気化容器２３ｂの他方とから分離される。よって、気化容器２３ａおよび気化容器２３ｂの一方のみが処理ガスを好適に生成できる。このように、処理液気化装置３は、比較的に少量の処理ガスを好適に生成できる。

例えば動作例２のように、開閉弁２７ａ、２７ｂの両方が閉じているとき、気化容器２３ａと気化容器２３ｂとバッファタンク１３とが相互に分離される。よって、気化容器２３ａ、２３ｂの両方が同時に処理ガスを好適に生成できる。このように、処理液気化装置３は、比較的に多量の処理ガスを好適に生成できる。

他方、開閉弁２７ａを閉じることによって、気化容器２３ａに処理液を好適に補給できる。同様に、開閉弁２７ｂを閉じることによって、気化容器２３ｂに処理液を好適に補給できる。例えば、開閉弁２７ａ、２７ｂの一方が閉じており、開閉弁２７ａ、２７ｂの他方が開いている場合、気化容器２３ａおよび気化容器２３ｂの一方で処理ガスを生成しながら、気化容器２３ａおよび気化容器２３ｂの他方に処理液を補給できる。例えば、開閉弁２７ａ、２７ｂの両方が開いている場合、気化容器２３ａ、２３ｂに処理液を同時に供給できる。

気化容器２３ａで生成された処理ガスは、１つの処理ユニット５ａのみに送られる。換言すれば、気化容器２３ａは、１つの処理ユニット５ａで使用される処理ガスのみを生成する。よって、１つの気化容器が複数の処理ユニットに処理ガスを供給する場合に比べて、気化容器２３ａにおける処理ガスの生成量の変動は小さい。このため、気化容器２３ａ内の処理ガスの濃度がばらつくことを一層好適に抑制できる。同様に、気化容器２３ｂで生成された処理ガスは、１つの処理ユニット５ｂのみに送られる。よって、気化容器２３ｂ内の処理ガスの濃度がばらつくことを一層好適に抑制できる。

バッファタンク１３の内部はバッファタンク１３の外部に開放されており、処理液気化装置３は開閉弁３３ａを備えている。開閉弁３３ａが開くことによって、気化容器２３ａの内圧がバッファタンク１３の内圧と略等しくなる。したがって、開閉弁３３ａおよび開閉弁２７ａの両方を開けば、ポンプ等によって処理液を強制的に送らなくても、バッファタンク１３と気化容器２３ａとの間で処理液を自然に移動させることができる。このような処理液の移動を利用して、気化容器２３ａに処理液を好適に補給できる。同様に、処理液気化装置３は開閉弁３３ｂを備えている。開閉弁３３ｂが開くことによって、気化容器２３ｂの内圧がバッファタンク１３の内圧と略等しくなる。したがって、開閉弁３３ａおよび開閉弁２７ｂの両方が開くだけで、気化容器２３ｂに処理液を容易に補給できる。

実施例１では、開閉弁２７ａが開いているとき、開閉弁３３ａが開いている。すなわち、気化容器２３ａに処理液を補給するとき、気化容器２３ａの内圧はバッファタンク１３の内圧と略等しい。よって、気化容器２３ａに処理液を容易に補給できる。同様に、開閉弁２７ｂが開いているとき、開閉弁３３ｂが開いている。よって、気化容器２３ｂに処理液を容易に補給できる。

処理液気化装置３では、バッファタンク１３と気化容器２３ａとの間に、処理液を強制的に送るポンプ等の流体機械が無い。すなわち、処理液を強制的に送るポンプ等の流体機械を介さずに、バッファタンク１３と気化容器２３ａとが連通接続されている。よって、処理液気化装置３の構成を簡素化できる。同様に、処理液気化装置３では、処理液を強制的に送るポンプ等の流体機械を介さずに、バッファタンク１３と気化容器２３ｂとが連通接続されている。よって、処理液気化装置３の構成を一層簡素化できる。

気化容器２３ａはバッファタンク１３の側方に設けられている。よって、バッファタンク１３と気化容器２３ａとの間で、処理液は容易に移動できる。特に実施例１では、バッファタンク１３と気化容器２３ａは同じ高さ位置に配置されている。よって、バッファタンク１３と気化容器２３ａとの間で、処理液は一層容易に移動できる。

同様に、気化容器２３ｂはバッファタンク１３の側方に設けられている。よって、バッファタンク１３と気化容器２３ｂとの間で、処理液は容易に移動できる。特に実施例１では、バッファタンク１３と気化容器２３ｂは、同じ高さ位置に配置されている。よって、バッファタンク１３と気化容器２３ｂとの間で、処理液は一層容易に移動できる。

気化容器２３ｂは気化容器２３ａの側方に設けられている。よって、気化容器２３ａ、２３ｂに略同じ量の処理液を補給できる。よって、気化容器２３ａが処理ガスを生成する条件と、気化容器２３ｂが処理ガスを生成する条件とを近似させることができる。これにより、気化容器２３ａ、２３ｂの間で、処理ガスの濃度がばらつくことを好適に抑制できる。

特に実施例１では、気化容器２３ａと気化容器２３ｂは、同じ高さ位置に配置されている。よって、気化容器２３ａ、２３ｂに同じ量の処理液を補給できる。よって、気化容器２３ａ、２３ｂの間で処理ガスを生成する条件を一層近似させることができる。

実施例１では、開閉弁３３ａおよび開閉弁２７ａがそれぞれ開いているとき、気化容器２３ａ内の処理液Ｓａの液位はバッファタンク１３内の処理液の液位Ｓｓと等しくなる。よって、処理液気化装置３が、気化容器２３ａ内の処理液Ｓａの液位を直接的に検出するセンサを備えていなくても、気化容器２３ａに適切な量の処理液を補給できる。

同様に、開閉弁３３ｂおよび開閉弁２７ｂがそれぞれ開いているとき、気化容器２３ｂ内の処理液の液位Ｓｂはバッファタンク１３内の処理液Ｓｓの液位と等しくなる。よって、簡易な構成で、気化容器２３ｂに適切な量の処理液を補給できる。

さらに、バッファタンク１３内の処理液Ｓｓの液位に基づいて、気化容器２３ａ、２３ｂ内の処理液Ｓａ、Ｓｂの液位を推定できる。よって、気化容器２３ａ、２３ｂ内の処理液Ｓａ、Ｓｂの液位を直接的に監視しなくても、バッファタンク１３内の処理液Ｓｓの液位を監視することによって、気化容器２３ａ、２３ｂ内の処理液Ｓａ、Ｓｂの液位を間接的に監視できる。特に、バッファタンク１３は処理液Ｓｓを気化させないので、バッファタンク１３内の処理液Ｓｓの液位は、あまり上下に揺れずに、安定している。これに対し、気化容器２３ａ、２３ｂは処理液Ｓａ、Ｓｂを気化させるので、気化容器２３ａ、２３ｂ内の処理液Ｓａ、Ｓｂの液位は、頻繁に上下に揺れ、安定していない。よって、気化容器２３ａ、２３ｂ内の処理液Ｓａ、Ｓｂの液位を直接的に検出するよりも、液面センサ２１の検出結果に基づいて気化容器２３ａ、２３ｂ内の処理液Ｓａ、Ｓｂの液位を推定する方が、気化容器２３ａ、２３ｂ内の処理液Ｓａ、Ｓｂの液位を正確に特定し易い。よって、バッファタンク１３内の処理液Ｓｓの液位を監視することによって、気化容器２３ａ、２３ｂ内の処理液Ｓａ、Ｓｂの液位を簡易かつ適正に管理できる。

平面視で、気化容器２３ａとバッファタンク１３との距離は、気化容器２３ｂとバッファタンク１３との距離と略等しい。よって、気化容器２３ａ、２３ｂにおいて処理ガスを生成する条件を近似させることができる。

配管２５ａは略水平な方向に直線的に延びている。よって、バッファタンク１３と気化容器２３ａとの間で、処理液は容易に移動できる。同様に、配管２５ｂは略水平な方向に直線的に延びている。よって、バッファタンク１３と気化容器２３ｂとの間で、処理液は容易に移動できる。

配管２５ａの一端はバッファタンク１３の下部と連結し、配管２５ａの他端は気化容器２３ａの下部と連結している。よって、バッファタンク１３と気化容器２３ａとの間で、処理液は一層容易に移動できる。同様に、配管２５ｂの一端はバッファタンク１３の下部と連結し、配管２５ｂの他端は気化容器２３ｂの下部と連結している。よって、バッファタンク１３と気化容器２３ｂとの間で、処理液は一層容易に移動できる。

配管２５ａの長さｌａは、配管２５ｂの長さｌｂと略等しい。よって、気化容器２３ａ、２３ｂにおいて処理ガスを生成する条件を近似させることができる。

処理液気化装置３は、開閉弁３９ａ、３９ｂを備えている。このため、気化容器２３ａ、２３ｂに個別に不活性ガスを供給することができる。例えば、気化容器２３ａ、２３ｂに同じタイミングで不活性ガスを供給することができる。この場合、気化容器２３ａ、２３ｂの両方が同時に処理液を気化できる。例えば、気化容器２３ａ、２３ｂに異なるタイミングで不活性ガスを供給することもできる。この場合、気化容器２３ａ、２３ｂが異なるタイミングで処理液を気化できる。

実施例１では、開閉弁２７ａが開いているとき、開閉弁３９ａは閉じている。すなわち、気化容器２３ａがバッファタンク１３と連通しているときには、気化容器２３ａで処理ガスを生成しない。これにより、気化容器２３ａ内の処理ガスの濃度がばらつくことを未然に回避できる。同様に、開閉弁２７ｂが開いているとき、開閉弁３９ｂが閉じている。これにより、気化容器２３ｂ内の処理ガスの濃度がばらつくことを未然に回避できる。

逆に、開閉弁３９ａが開いているとき、開閉弁２７ａが閉じている。すなわち、気化容器２３ａが処理液Ｓａを気化させるときには、気化容器２３ａはバッファタンク１３および気化容器２３ｂから分離されている。これにより、気化容器２３ａ内の処理ガスの濃度がばらつくことを好適に抑制できる。同様に、開閉弁３９ｂが開いているとき、開閉弁２７ｂが閉じている。これにより、気化容器２３ｂ内の処理ガスの濃度がばらつくことを好適に抑制できる。

さらに、開閉弁３９ａが開いているとき、開閉弁３３ａが閉じている。すなわち、気化容器２３ａが処理液を気化させるときには、気化容器２３ａは半密閉状態である。これにより、気化容器２３ａは処理ガスを好適に生成できる。同様に、開閉弁３９ｂが開いているとき、開閉弁３３ｂが閉じている。これにより、気化容器２３ｂは処理ガスを好適に生成できる。

処理液気化装置３は、開閉弁４３ａ、４３ｂを備えている。このため、気化容器２３ａ、２３ｂから個別に処理ガスを出すことができる。例えば、気化容器２３ａ、２３ｂは、同じタイミングで処理ガスを出すことができる。例えば、気化容器２３ａ、２３ｂは、異なるタイミングで処理ガスを出すこともできる。

開閉弁２７ａが開いているとき、開閉弁４３ａは閉じている。すなわち、気化容器２３ａがバッファタンク１３と連通しているときには、気化容器２３ａ内の処理ガス等の気体が配管４１ａを通じて気化容器２３ａの外部に出ない。これにより、濃度がばらついている処理ガスが配管４１ａを通じて流出することを未然に回避できる。同様に、開閉弁２７ｂが開いているとき、開閉弁４３ｂは閉じている。これにより、濃度がばらついている処理ガスが配管４１ｂを通じて流出することを未然に回避できる。

逆に、開閉弁４３ａが開いているとき、開閉弁２７ａが閉じている。すなわち、配管４１ａを通じて気化容器２３ａ内の処理ガスを気化容器２３ａの外部に出すときには、気化容器２３ａはバッファタンク１３および気化容器２３ｂから分離されている。これにより、気化容器２３ａから出される処理ガスの濃度がばらつくことを好適に抑制できる。同様に、開閉弁４３ｂが開いているとき、開閉弁２７ｂが閉じている。これにより、気化容器２３ｂから出される処理ガスの濃度がばらつくことを好適に抑制できる。

処理液気化装置３は、開閉弁１７を備えている。よって、処理液供給源１１からバッファタンク１３への処理液の供給とその停止を好適に切り替えることができる。

処理液気化装置３は液面センサ２１を備えており、液面センサ２１の検出結果に基づいて開閉弁１７が開閉する。よって、処理液供給源１１からバッファタンク１３に処理液を適切なタイミングで供給できる。

基板処理装置１は、処理ユニット５ａと、処理ユニット５ａとは異なる処理ユニット５ｂとを備えている。処理ユニット５ａは、気化容器２３ａで生成された処理ガスを使って基板Ｗに処理を行う。よって、処理ユニット５ａにおける処理の品質を好適に保つことができる。同様に、処理ユニット５ｂは、気化容器２３ｂで生成された処理ガスを使って基板Ｗに処理を行う。よって、処理ユニット５ｂにおける処理の品質を好適に保つことができる。

以下、図面を参照して本発明の実施例２を説明する。
図６は、実施例２に係る基板処理装置の構成を示す図である。なお、実施例１と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。

実施例２に係る基板処理装置１は、処理液気化装置３と処理ユニット５ａ、５ｂを備えている。実施例２の処理液気化装置３の構成は、実施例１の処理液気化装置３と異なる。実施例２の処理ユニット５ａ、５ｂの構成は、実施例１の処理ユニット５ａ、５ｂと同様である。以下では、処理液気化装置３の構成について説明する。

処理液気化装置３は開閉弁５１を備える。開閉弁５１は配管１９上に設けられている。開閉弁５１は、バッファタンク１３の内部をバッファタンク１３の外部に対して開閉する。

処理液気化装置３は共通管５３と分岐管５５ａ、５５ｂ、５５ｃとを備える。共通管５３はガス供給源３５と連通接続する。分岐管５５ａ、５５ｂ、５５ｃの一端はそれぞれ、共通管５３に連通接続する。分岐管５５ａの他端は気化容器２３ａの下部に連結されている。分岐管５５ｂの他端は気化容器２３ｂの下部に連結されている。分岐管５５ｃの他端はバッファタンク１３の上部に連結されている。

処理液気化装置３は流量調整弁５７ａ、５７ｂを備える。流量調整弁５７ａは分岐管５５ａ上に設けられている。流量調整弁５７ａは、ガス供給源３５と気化容器２３ａとの間の不活性ガスの流路を開閉する。さらに、流量調整弁５７ａは、気化容器２３ａに供給される不活性ガスの流量を調整する。流量調整弁５７ｂは分岐管５５ｂ上に設けられている。流量調整弁５７ｂは、ガス供給源３５と気化容器２３ｂとの間の不活性ガスの流路を開閉する。さらに、流量調整弁５７ｂは、気化容器２３ｂに供給される不活性ガスの流量を調整する。

処理液気化装置３はレギュレータ５９を備える。レギュレータ５９は分岐管５５ｃ上に設けられている。レギュレータ５９は、不活性ガスを所定の圧力に調整して、バッファタンク１３に供給する。これにより、レギュレータ５９はバッファタンク１３の内部の圧力を調整する。

制御部４５は、さらに開閉弁５１と流量調整弁５７ａ、５７ｂとレギュレータ５９を制御する。

バッファタンク１３と気化容器２３ａ、２３ｂとの位置関係を説明する。図７はバッファタンク１３と気化容器２３ａ、２３ｂの正面図である。

気化容器２３ａおよび気化容器２３ｂはそれぞれ、バッファタンク１３よりも高い位置に設けられている。具体的には、気化容器２３ａの下端および気化容器２３ｂの下端はそれぞれ、バッファタンク１３の上端より高い。図７は、気化容器２３ａの下端および気化容器２３ｂの下端の高さ位置ｈ３と、バッファタンク１３の上端の高さ位置ｈ４を示す。高さ位置ｈ３は、高さ位置ｈ４よりも高い。

気化容器２３ａおよび気化容器２３ｂは同じ高さ位置に配置されている。具体的には、気化容器２３ａ、２３ｂの各上端は、同じ高さ位置ｈ５に配置されている。気化容器２３ａ、２３ｂの各下端は、同じ高さ位置ｈ３に配置されている。

、
流量調整弁５７ａ、５７ｂは、本発明の第１処理ガス用弁、第２処理ガス用弁の例である。レギュレータ５９は、本発明の圧力調整部の例である。

次に、基板処理装置１の動作例を説明する。まず、バッファタンク１３、気化容器２３ａ、２３ｂに関する各動作について個別に説明する。

＜バッファタンク１３に関する動作＞
図６を参照する。制御部４５が、液面センサ２１の検出結果に基づいて、開閉弁１７、５１とレギュレータ５９を制御する。

具体的には、バッファタンク１３内の処理液Ｓｓが低液位ＬＬ未満であると制御部４５が判断すると、制御部４５は開閉弁１７、５１を開く。また、制御部４５は、レギュレータ５９からバッファタンク１３への不活性ガスの供給を停止する。これにより、バッファタンク１３の内部の圧力は、バッファタンク１３の外部の圧力と略等しくなる。処理液は、処理液供給源１１からバッファタンク１３に供給される。

制御部４５が、液面センサ２１ｂの検出結果を参照し、バッファタンク１３内の処理液Ｓｓが高液位ＨＬ以上であると判断すると、制御部４５は開閉弁１７を閉じる。開閉弁１７が閉じているとき、処理液供給源１１からバッファタンク１３への処理液の供給が停止する。

＜気化容器２３ａに関する動作＞
制御部４５は、処理レシピに基づいて、開閉弁２７ａ、３３ａ、４３ａ、５１と流量調整弁５７ａとレギュレータ５９とを制御する。

具体的には、処理ユニット５ａが処理ガスを使用するとき、制御部４５は開閉弁２７ａ、３３ａを閉じ、開閉弁４３ａを開く。さらに、制御部４５は、流量調整弁５７ａの開度を調整する。

流量調整弁５７ａの開度を調整することにより、所定の流量の不活性ガスを気化容器２３ａに送る。これにより、気化容器２３ａで所定の濃度の不活性ガスを生成できる。また、流量調整弁５７ａの開度を調整することにより、気化容器２３ａに送られる不活性ガスの流量を調整する。これにより、気化容器２３ａにおける不活性ガスの濃度を好適に調整できる。

他方、処理ユニット５ａが処理ガスを使用しないとき、制御部４５は、開閉弁２７ａ、３３ａを開き、開閉弁４３ａおよび流量調整弁５７ａを閉じる。さらに、制御部４５は、開閉弁５１を閉じ、レギュレータ５９を制御する。

開閉弁５１が閉じることによって、バッファタンク１３は半密閉状態となる。開閉弁３３ａが開くことによって、気化容器２３ａの内圧は気化容器２３ａの外部の圧力と略等しくなる。レギュレータ５９を制御することによって、バッファタンク１３の内部の気圧を調整する。具体的には、バッファタンク１３の内圧を、気化容器２３ａの内圧より大きくする。バッファタンク１３の内圧と気化容器２３ａの内圧の差（以下、適宜に「圧力差」という）によって、バッファタンク１３から気化容器２３ａに処理液を強制的に移動させる。気化容器２３ａ内の処理液Ｓａの液位が圧力差に応じた高さ位置になるまで、処理液がバッファタンク１３から気化容器２３ａに移動する。気化容器２３ａ内の処理液Ｓａの液位が圧力差に応じた高さ位置になると、処理液の移動が止まる。このようにして、気化容器２３ａに処理液が供給される。

＜気化容器２３ｂに関する動作＞
気化容器２３ｂに関する動作は、気化容器２３ａに関する動作と略同じである。よって、以下では気化容器２３ｂに関する動作を簡略に説明する。

制御部４５は、処理レシピに基づいて、開閉弁２７ｂ、３３ｂ、４３ｂ、５１と流量調整弁５７ｂとレギュレータ５９とを制御する。

具体的には、処理ユニット５ｂが処理ガスを使用するとき、制御部４５は開閉弁２７ｂ、３３ｂを閉じ、開閉弁４３ｂを開く。さらに、制御部４５は、流量調整弁５７ｂの開度を調整する。これにより、気化容器２３ａは所定の濃度の不活性ガスを生成する。また、気化容器２３ａにおける不活性ガスの濃度を調整する。

他方、処理ユニット５ｂが処理ガスを使用しないとき、制御部４５は、開閉弁２７ｂ、３３ｂを開き、開閉弁４３ｂおよび流量調整弁５７ｂを閉じる。さらに、制御部４５は、開閉弁５１を閉じ、レギュレータ５９を制御する。

バッファタンク１３は半密閉状態となる。レギュレータ５９がバッファタンク１３の内部の気圧を調整する。気化容器２３ｂの内部は気化容器２３ｂの外部に開放される。バッファタンク１３の内圧と気化容器２３ｂの内圧の差（以下、適宜に「圧力差」という）によって、バッファタンク１３から気化容器２３ｂに処理液が移動する。処理液の移動は、気化容器２３ｂ内の処理液Ｓｂの液位が圧力差に応じた高さ位置になるまで、続く。気化容器２３ｂ内の処理液Ｓｂの液位が圧力差に応じた高さ位置になると、処理液の移動が止まる。このようにして、気化容器２３ｂに処理液が供給される。

バッファタンク１３に関する動作と、気化容器２３ａ、２３ｂに関する動作を、次のように組み合わせることができる。バッファタンク１３に処理液を供給するとき、気化容器２３ａおよび気化容器２３ｂの少なくとも一方が処理ガスを生成してもよい。ただし、バッファタンク１３に処理液を供給しているときには、気化容器２３ａ、２３ｂに処理液を補給する動作を行うことはできない。バッファタンク１３への処理液の供給を停止しているとき、気化容器２３ａおよび気化容器２３ｂの少なくとも一方が処理ガスを生成してもよい。また、バッファタンク１３への処理液の供給を停止しているとき、気化容器２３ａおよび気化容器２３ｂの少なくとも一方に処理液を補給してもよい。

このように、実施例２に係る基板処理装置１および処理液気化装置３によっても、開閉弁２７を備えているので、実施理例１と同様の効果を奏する。すなわち、処理ガスの濃度のばらつきを好適に抑制できる。また、処理ユニット５における処理の品質を好適に保つことができる。

処理液気化装置３は流量調整弁５７ａを備えているので、気化容器２３ａにおける処理ガスの濃度がばらつくことを一層好適に抑制できる。同様に、処理液気化装置３は流量調整弁５７ｂを備えているので、気化容器２３ｂにおける処理ガスの濃度がばらつくことを一層好適に抑制できる。

処理液気化装置３はレギュレータ５９を備えているので、バッファタンク１３内の圧力を好適に調整できる。バッファタンク１３内の圧力を調整することによって、バッファタンク１３と気化容器２３との間に圧力差（以下、適宜「圧力差」と略記する）を生じさせることができる。また、バッファタンク１３内の圧力を調整することによって、圧力差を好適に調整できる。この圧力差を利用すれば、バッファタンク１３から気化容器２３に処理液を強制的に移動させることができる。よって、気化容器２３に処理液を好適に供給できる。

具体的には、開閉弁２７ａが開き、レギュレータ５９がバッファタンク１３内の圧力を調整することによって、バッファタンク１３から気化容器２３ａに処理液を強制的に移動させる。これにより、気化容器２３ａに処理液を好適に供給できる。同様に、開閉弁２７ｂが開き、レギュレータ５９がバッファタンク１３内の圧力を調整することによって、気化容器２３ｂに処理液を好適に供給できる。

また、バッファタンク１３内の圧力を調整することによって、気化容器２３内の処理液の液位を調整できる。例えば、レギュレータ５９がバッファタンク１３内の圧力を高めることによって、気化容器２３ａ内の処理液Ｓａの液位を上げることができる。例えば、レギュレータ５９がバッファタンク１３内の圧力を低下させることによって、気化容器２３ａ内の処理液Ｓａの液位を下げることができる。同様に、バッファタンク１３内の圧力を調整することによって、気化容器２３ｂ内の処理液Ｓｂの液位を調整できる。

さらに、気化容器２３に処理液を強制的に供給できるので、バッファタンク１３に対する気化容器２３の配置の自由度が大きい。例えば、実施例２のように、バッファタンク１３よりも高い位置に気化容器２３ａを配置できる。同様に、バッファタンク１３よりも高い位置に気化容器２３ｂを配置できる。

以下、図面を参照して本発明の実施例３を説明する。
図８は、実施例３に係る基板処理装置の構成を示す図である。なお、実施例１、２と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。

実施例３に係る基板処理装置１は処理液気化装置３と処理ユニット５ａ、５ｂを備えている。実施例３の処理液気化装置３の構成は、実施例１の処理液気化装置３と異なる。実施例３の処理ユニット５ａ、５ｂの構成は、実施例１の処理ユニット５ａ、５ｂと同様である。以下では、処理液気化装置３の構成について説明する。

処理液気化装置３はドレイン管６１とドレインパン６３と液体検知センサ６５を備える。ドレイン管６１はバッファタンク１３から溢れた処理液を排出する。ドレイン管６１はバッファタンク１３の上部に連結されている。ドレインパン６３は、ドレイン管６１によって排出された液体を受ける。液体検知センサ６５は、ドレインパン６３に取り付けられている。液体検知センサ６５は、ドレインパン６３に液体があるか否かを検知する。

処理液気化装置３は共通管５３と分岐管５５ａ、５５ｂ、７１ａ、７１ｂとを備える。共通管５３と分岐管５５ａ、５５ｂについては実施例２で説明した通りである。分岐管７１ａ、７１ｂの一端はそれぞれ、共通管５３に連通接続する。分岐管７１ａの他端は配管４１ａの途中に連結されている。分岐管７１ｂの他端は配管４１ｂの途中に連結されている。

処理液気化装置３は流量調整弁５７ａ、５７ｂ、７３ａ、７３ｂを備える。流量調整弁５７ａ、５７ｂについては実施例２で説明した通りである。流量調整弁７３ａは分岐管７１ａ上に設けられている。流量調整弁７３ａは分岐管７１ａ内の流路を開閉する。開閉弁４３ａが開いているとき、流量調整弁７３ａが開く。ここで、分岐管７１ａ内の流路は、気化容器２３ａから出された処理ガスを希釈するための不活性ガスの流路である。さらに、流量調整弁７３ａは、分岐管７１ａ内の流路を流れる不活性ガスの流量を調整する。すなわち、流量調整弁７３ａは、気化容器２３ａから出された処理ガスを希釈するための不活性ガスの流量を調整する。流量調整弁７３ｂは分岐管７１ｂ上に設けられている。流量調整弁７３ｂは、気化容器２３ｂから出された処理ガスを希釈するための不活性ガスの流路を開閉する。開閉弁４３ｂが開いているとき、流量調整弁７３ｂが開く。さらに、流量調整弁７３ｂは、気化容器２３ｂから出された処理ガスを希釈するための不活性ガスの流量を調整する。

制御部４５は、さらに液体検知センサ６５の検知結果を取得する。制御部４５は、さらに流量調整弁５７ａ、５７ｂ、７３ａ、７３ｂを制御する。

バッファタンク１３と気化容器２３ａ、２３ｂとの位置関係を説明する。図９はバッファタンク１３と気化容器２３ａ、２３ｂの正面図である。

気化容器２３ａの上端および気化容器２３ｂの上端はそれぞれ、バッファタンク１３の上端よりも高い。図７は、気化容器２３ａの上端および気化容器２３ｂの上端の高さ位置ｈ６と、バッファタンク１３の上端の高さ位置ｈ７を示す。高さ位置ｈ６は、高さ位置ｈ７よりも高い。バッファタンク１３、気化容器２３ａ、気化容器２３ｂの各下端は、同じ高さ位置ｈ８に配置されている。

液体検知センサ６５は、本発明のオーバーフローセンサの例である。流量調整弁７３ａ、７３ｂは、本発明の第１希釈用弁、第２希釈用弁の例である。

次に、基板処理装置１の動作例を説明する。まず、バッファタンク１３、気化容器２３ａ、２３ｂに関する各動作について個別に説明する。

＜バッファタンク１３に関する動作＞
図８を参照する。制御部４５は、液面センサ２１および液体検知センサ６５の各検出結果に基づいて、開閉弁１７を制御する。

具体的には、制御部４５が、液面センサ２１ａの検出結果を参照し、バッファタンク１３内の処理液が低液位ＬＬ未満であると判断すると、制御部４５は開閉弁１７を開く。これにより、処理液供給源１１からバッファタンク１３に処理液が供給される。

制御部４５が、液面センサ２１ｂの検出結果を参照し、バッファタンク１３内の処理液が高液位ＨＬ以上であると判断すると、制御部４５は開閉弁１７を閉じる。これにより、処理液供給源１１からバッファタンク１３への処理液の供給が停止する。

制御部４５が、液体検知センサ６５の検出結果を参照し、処理液がバッファタンク１３から溢れていると判断すると、制御部４５は開閉弁１７を閉じる。これにより、処理液供給源１１からバッファタンク１３への処理液の供給が停止する。

＜気化容器２３ａに関する動作＞
制御部４５は、液体検知センサ６５の検出結果と処理レシピに基づいて、開閉弁２７ａ、３３ａ、４３ａと流量調整弁５７ａ、７３ａとを制御する。

具体的には、処理ユニット５ａが処理ガスを使用するとき、制御部４５は開閉弁２７ａ、３３ａを閉じ、開閉弁４３ａを開く。さらに、制御部４５は、流量調整弁５７ａ、７３ａの開度を調整する。

流量調整弁５７ａの開度を調整することにより、所定の流量の不活性ガスを気化容器２３ａに送る。これにより、気化容器２３ａで所定の濃度の不活性ガスを生成できる。また、流量調整弁５７ａの開度を調整することにより、気化容器２３ａに送られる不活性ガスの流量を調整する。これにより、気化容器２３ａにおける不活性ガスの濃度を好適に調整できる。

開閉弁４３ａが開くことにより、気化容器２３ａ内の処理ガスが、配管４１ａを通じて気化容器２３ａの外部に出る。

流量調整弁７３ａの開度を調整することにより、気化容器２３ａから出された処理ガスに、所定の流量の不活性ガスを加える。これにより、気化容器２３ａから出された処理ガスの濃度を薄めることができる（すなわち、処理ガスを希釈できる）。また、流量調整弁７３ａの開度を調整することにより、処理ガスを希釈するための不活性ガスの流量を調整する。これにより、希釈後の不活性ガスの濃度を好適に調整できる。

他方、処理ユニット５ａが処理ガスを使用しないとき、制御部４５は、開閉弁２７ａ、３３ａを開き、開閉弁４３ａと流量調整弁５７ａ、７３ａとを閉じる。これにより、バッファタンク１３から気化容器２３ａに処理液が自ずと移動する。ただし、制御部４５が、液体検知センサ６５の検出結果を参照し、処理液がバッファタンク１３から溢れていると判断すると、制御部４５は開閉弁２７ａを閉じる。この場合、バッファタンク１３から気化容器２３ａへの処理液の供給が停止する。

＜気化容器２３ｂに関する動作＞
気化容器２３ｂに関する動作は、気化容器２３ａに関する動作と略同じである。よって、以下では気化容器２３ｂに関する動作を簡略に説明する。

制御部４５は、処理レシピに基づいて、開閉弁２７ｂ、３３ｂ、４３ｂと流量調整弁５７ｂ、７３ｂとを制御する。

具体的には、処理ユニット５ｂが処理ガスを使用するとき、制御部４５は開閉弁２７ｂ、３３ｂを閉じ、開閉弁４３ｂを開き、流量調整弁５７ｂ、７３ｂの開度を調整する。流量調整弁５７ｂの開度を調整することにより、所定の流量の不活性ガスを気化容器２３ｂに送る。また、流量調整弁５７ｂの開度を調整することにより、気化容器２３ｂに送られる不活性ガスの流量を調整する。流量調整弁７３ｂの開度を調整することにより、所定の流量の不活性ガスで、気化容器２３ｂから出された処理ガスを希釈する。また、流量調整弁７３ｂの開度を調整することにより、処理ガスを希釈するための不活性ガスの流量を調整する。

他方、処理ユニット５ｂが処理ガスを使用しないとき、制御部４５は、開閉弁３３ｂを開き、開閉弁４３ｂと流量調整弁５７ｂ、７３ｂとを閉じる。さらに、制御部４５は、液体検知センサ６５の検出結果を参照し、処理液がバッファタンク１３から溢れていると判断したときには開閉弁２７ｂを閉じ、処理液がバッファタンク１３から溢れていないと判断したたきには開閉弁２７ｂを開く。これにより、バッファタンク１３から処理液が溢れていない限り、バッファタンク１３から気化容器２３ｂに処理液を補給する。
バッファタンク１３から処理液が溢れている場合には、バッファタンク１３から気化容器２３ｂに処理液を補給しない。

バッファタンク１３と気化容器２３ａ、２３ｂとに関する各動作は、互いに独立している。例えば、バッファタンク１３に処理液を供給するとき、気化容器２３ａ、２３ｂの少なくとも一方が処理ガスを生成してもよいし、気化容器２３ａ、２３ｂの少なくとも一方に処理液を供給してもよい。バッファタンク１３への処理液の供給を停止しているとき、気化容器２３ａ、２３ｂの少なくとも一方が処理ガスを生成してもよいし、気化容器２３ａ、２３ｂの少なくとも一方に処理液を供給してもよい。

このように、実施例３に係る基板処理装置１および処理液気化装置３によっても、開閉弁２７を備えているので、実施理例１と同様の効果を奏する。すなわち、処理ガスの濃度のばらつきを好適に抑制できる。また、処理ユニット５における処理の品質を好適に保つことができる。

処理液気化装置３は流量調整弁５７ａを備えているので、気化容器２３ａにおける処理ガスの濃度がばらつくことを一層好適に抑制できる。同様に、処理液気化装置３は流量調整弁５７ｂを備えているので、気化容器２３ｂにおける処理ガスの濃度がばらつくことを一層好適に抑制できる。

処理液気化装置３は流量調整弁７３ａを備えているので、気化容器２３ａから出された処理ガスを好適に希釈できる。さらに、処理ガスを希釈する度合いを好適に調整できる。同様に、処理液気化装置３は流量調整弁７３ｂを備えているので、気化容器２３ｂから出された処理ガスを好適に希釈できる。さらに、処理ガスを希釈する度合いを好適に調整できる。

処理液気化装置３は液体検知センサ６５を備えているので、処理液がバッファタンク１３から溢れていることを好適に検知できる。また、液体検知センサ６５の検知結果に基づいてバッファタンク１３から処理液が溢れていると判断されたとき、開閉弁２７ａ、２７ｂが閉じる。これにより、処理液が気化容器２３ａ、２７ｂから溢れることを未然に回避できる。

気化容器２３ａの上端はバッファタンク１３の上端よりも高いので、仮に処理液Ｓｓがバッファタンク１３から溢れた場合であっても、処理液Ｓａが気化容器２３ａから溢れることを好適に防止できる。同様に、気化容器２３ｂの上端はバッファタンク１３の上端よりも高いので、仮に処理液Ｓｓがバッファタンク１３から溢れた場合であっても、処理液Ｓｂが気化容器２３ｂから溢れることを好適に防止できる。

本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。

（１）上述した各実施例において、開閉弁２７ａ、２７ｂを逆止弁に変更してもよい。図１０を参照する。図１０は、変形実施例に係る基板処理装置１の構成を示す図である。変形実施例に係る基板処理装置１は、実施例１の開閉弁２７ａ、２７ｂに代えて、逆止弁８１ａ、８１ｂを備えている。なお、実施例１と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。

逆止弁８１ａは配管２５ａ上に設けられている。逆止弁８１ａは、バッファタンク１３から気化容器２３ａに処理液が流れることを許容し、気化容器２３ａからバッファタンク１３に処理液が流れることを禁止する。同様に、逆止弁８１ｂは配管２５ｂ上に設けられている。逆止弁８１ｂは、バッファタンク１３から気化容器２３ｂに処理液が流れることを許容し、気化容器２３ｂからバッファタンク１３に処理液が流れることを禁止する。

逆止弁８１ａ、８１ｂは、例えば、処理液（例えば、気化容器２３ａ内の処理液Ｓａ）の背圧によって、処理液の逆流を妨げるように作動する弁体を備えている。逆止弁８１ａは、気化容器２３ａ内の処理液Ｓａの圧力がバッファタンク１３内の処理液Ｓｓより大きいとき、バッファタンク１３と気化容器２３ａとの間の処理液の流路を閉じる。同様に、逆止弁８１ｂは、気化容器２３ｂ内の処理液Ｓｂの圧力がバッファタンク１３内の処理液Ｓｓより大きいとき、バッファタンク１３と気化容器２３ｂとの間の処理液の流路を閉じる。制御部４５は、逆止弁８１ａ、８１ｂの作動を制御しない。

逆止弁８１ａ、８１ｂは、本発明の第１処理液用弁、第２処理液用弁の例である。

処理ユニット５ａが処理ガスを使用するとき、制御部４５は開閉弁３３ａを閉じ、開閉弁３９ａ、４３ａを開く。開閉弁３３ａが閉じ、開閉弁３９ａが開くことによって、気化容器２３ａの内圧はバッファタンク１３の内圧より高くなり、気化容器２３ａ内の処理液Ｓａの圧力がバッファタンク１３内の処理液Ｓｓの圧力より高くなる。逆止弁８１ａはバッファタンク１３と気化容器２３ａとの間の処理液の流路を閉じる。これにより、気化容器２３ａは、バッファタンク１３および気化容器２３ｂから分離される。よって、気化容器２３ａは、バッファタンク１３および気化容器２３ｂの影響を受けずに、処理液Ｓａを気化できる。このため、気化容器２３ａ内の処理ガスの濃度がばらつくことを好適に抑制できる。

他方、処理ユニット５ａが処理ガスを使用しないとき、制御部４５は、開閉弁３３ａを開き、開閉弁３９ａ、４３ａを閉じる。開閉弁３３ａが開くことにより、気化容器２３ａの内圧はバッファタンク１３の内圧と略等しくなる。逆止弁８１ａは、バッファタンク１３から気化容器２３ａに処理液が流れることを許容する。

同様に、処理ユニット５ｂが処理ガスを使用するとき、制御部４５は開閉弁３３ｂを閉じ、開閉弁３９ｂ、４３ｂを開く。これにより、気化容器２３ｂ内の処理液Ｓｂの圧力がバッファタンク１３内の処理液Ｓｓの圧力より高くなり、逆止弁８１ｂはバッファタンク１３と気化容器２３ｂとの間の処理液の流路を閉じる。よって、気化容器２３ｂ内の処理ガスの濃度がばらつくことを好適に抑制できる。

他方、処理ユニット５ｂが処理ガスを使用しないとき、制御部４５は、開閉弁３３ｂを開き、開閉弁３９ｂ、４３ｂを閉じる。これにより、開閉弁３３ｂが開くことにより、気化容器２３ｂの内圧はバッファタンク１３の内圧と略等しくなり、逆止弁８１ｂはバッファタンク１３から気化容器２３ｂに処理液が流れることを許容する。

このように、変形実施例によっても、処理ガスの濃度がばらつくことを好適に抑制できる。また、制御部４５は逆止弁８１ａ、８１ｂを制御しなくてもよいので、制御部４５における処理を簡素化できる。

（２）上述した各実施例では、処理液気化装置３は２つの気化容器２３を備えていたが、これに限られない。例えば、処理液気化装置３は３つ以上の気化容器２３を備えてもよい。この場合、各気化容器２３の配置を適宜に変更できる。

図１１を参照する。図１１はバッファタンク１３と気化容器２３の平面図である。なお、実施例１と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。

図示するように、変形実施例に係る処理液気化装置３は、例えば５つの気化容器２３を備えている。各気化容器２３は、バッファタンク１３に周囲を囲むように配置されている。

変形実施例に係る処理液気化装置３は、５本の配管２５と５つの開閉弁２７を備えている。各配管２５はそれぞれ、バッファタンク１３と１つの気化容器２３とを接続する。これにより、５つの気化容器２３は、互いに並列にバッファタンク１３と連通接続している。各開閉弁２７は、配管２５上に１つずつ設けられている。

なお、各気化容器２３はそれぞれ１つの処理ユニット５（図示省略）と連通接続されている。そして、各気化容器２３で生成された処理ガスはそれぞれ、１つの処理ユニット５のみに送られる。

１つの気化容器２３が本発明の第１気化容器の例であり、他の１つの気化容器２３が本発明の第２気化容器の例である。１つの配管２５が本発明の第１補給管の例であり、他の１つの配管２５が本発明の第２補給管の例である。１つの開閉弁２７が本発明の第１処理液用弁の例であり、他の１つの開閉弁２７が本発明の第２処理液用弁の例である。

図１２を参照する。図１２はバッファタンク１３と気化容器２３の正面図である。なお、実施例１と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。

図示するように、変形実施例に係る処理液気化装置３は、例えば３つの気化容器２３ａ、２３ｂ、２３ｃを備えている。図１２では、気化容器２３ａ、２３ｂ、２３ｃに貯留される処理液に符号「Ｓａ」、「Ｓｂ」、「Ｓｃ」を付す。各気化容器２３は、バッファタンク１３の一側方に配置されている。バッファタンク１３と各気化容器２３とは、平面視で、一列に並んでいてもよい（図示を省略する）。

変形実施例に係る処理液気化装置３は、共通管８３と分岐管８５ａ、８５ｂ、８５ｃを備えている。共通管８３はバッファタンク１３と連通接続する。分岐管８５ａ、８５ｂ、８５ｃの一端はそれぞれ、共通管８３に連通接続する。分岐管８５ａの他端は気化容器２３ａの底部に連結されている。分岐管８５ｂの他端は気化容器２３ｂの底部に連結されている。分岐管８５ｃの他端は気化容器２３ｃの底部に連結されている。これにより、気化容器２３ａ、２３ｂ、２３ｃは、互いに並列にバッファタンク１３と連通接続している。

変形実施例に係る処理液気化装置３は、３つの開閉弁８７ａ、８７ｂ、８７ｃを備えている。開閉弁８７ａは分岐管８５ａ上に設けられている。開閉弁８７ｂは分岐管８５ｂ上に設けられている。開閉弁８７ｃは分岐管８５ｃ上に設けられている。

なお、各気化容器２３ａ、２３ｂ、２３ｃはそれぞれ１つの処理ユニット５（図示省略）と連通接続されている。そして、各気化容器２３ａ、２３ｂ、２３ｃで生成された処理ガスはそれぞれ、１つの処理ユニット５のみに送られる。

気化容器２３ａ、２３ｂ、２３ｃの１つが本発明の第１気化容器の例であり、気化容器２３ａ、２３ｂ、２３ｃの他の１つが本発明の第２気化容器の例である。分岐管８５ａ、８５ｂ、８５ｃの１つが本発明の第１補給管の例であり、分岐管８５ａ、８５ｂ、８５ｃの他の１つが本発明の第２補給管の例である。開閉弁８７ａ、８７ｂ、８７ｃの１つが本発明の第１処理液用弁の例であり、開閉弁８７ａ、８７ｂ、８７ｃの他の１つが本発明の第２処理液用弁の例である。

（３）上述した実施例１では、バッファタンク１３と気化容器２３ａとは、完全に同じ高さ位置に配置されていたが、これに限られない。例えば、気化容器２３ａをバッファタンク１３と略同じ高さ位置に配置してもよい。具体的には、気化容器２３ａの上端が高液位ＨＬよりも高く、気化容器２３ａの下端が低液位ＬＬよりも低くなるように、気化容器２３ａを配置してもよい。この場合、バッファタンク１３の上端が気化容器２３ｂの上端より高くてもよいし、低くてもよい。また、バッファタンク１３の下端が気化容器２３ｂの下端より高くてもよいし、低くてもよい。このような変形実施例によっても、バッファタンク１３の側方に気化容器２３ａを好適に設けることができる。

同様に、実施例１では、バッファタンク１３と気化容器２３ｂとは、同じ高さ位置に配置されていたが、これに限られない。例えば、気化容器２３ｂをバッファタンク１３と略同じ高さ位置に配置してもよい。

実施例２、３で説明したバッファタンク１３と気化容器２３ａの配置やバッファタンク１３と気化容器２３ｂの配置についても、同じように変更してもよい。

（４）上述した実施例２では、気化容器２３ａはバッファタンク１３よりも高い位置に設けられていたが、これに限られない。例えば、バッファタンク１３の側方に気化容器２３ａを設けてもよい。同様に、実施例２では、気化容器２３ｂはバッファタンク１３よりも高い位置に設けられていたが、これに限られない。例えば、バッファタンク１３の側方に気化容器２３ｂを設けてもよい。本変形実施例によっても、気化容器２３ａ、２３ｂに好適に処理液を供給できる。

（５）上述した各実施例では、気化容器２３ａと気化容器２３ｂは、同じ高さ位置に配置されていたが、これに限られない。気化容器２３ａと気化容器２３ｂとが異なる高さ位置に配置されていてもよい。

（６）上述した各実施例では、処理ユニット５ａ、５ｂの配置について説明しなかったが、処理ユニット５ａ、５ｂを任意の位置に設置することができる。例えば、処理ユニット５ａ、５ｂが上下方向に並ぶように、処理ユニット５ａ、５ｂを配置してもよい。例えば、処理ユニット５ａ、５ｂが水平方向に並ぶように、処理ユニット５ａ、５ｂを配置してもよい。例えば、処理ユニット５ａを気化容器２３ａと同じ高さ位置に配置してもよいし、気化容器２３ａと異なる高さ位置に配置してもよい。例えば、処理ユニット５ｂを気化容器２３ｂと同じ高さ位置に配置してもよいし、気化容器２３ｂと異なる高さ位置に配置してもよい。

（７）上述した各実施例では、処理液としてＨＭＤＳを例示したが、これに限られない。例えば、処理液は、Ｎ−トリメチルシリルジメチルアミン（ＴＭＳＤＭＡ）やＮ−トリメチルシリルジエチルアミン（ＴＭＳＤＥＡ）等のシリル化剤であってもよい。処理液は、溶剤であってもよい。

（８）上述した各実施例では、処理ユニット５が行う処理として、疎水化処理を例示したが、これに限られない。例えば、レジスト膜の形成後の基板Ｗに処理ガスを供給する装置に変更してもよい。また、露光前、露光後、現像前または現像後の基板Ｗに処理ガスを供給する装置に変更してもよい。例えば、ＤＳＡ（Ｄｉｒｅｃｔｅｄ Ｓｅｌｆ Ａｓｓｅｍｂｌｙ：誘導自己組織化）技術に用いられる自己組織化材料を基板Ｗに塗布することによってＤＳＡ膜が形成された基板Ｗに対して、処理ガスを供給する処理を行う装置に変更してもよい。ＤＳＡ膜の形成後の基板Ｗを処理する場合、処理ガスは溶剤を含むことが好ましい。溶剤は、例えば、トルエン、ヘプタン、アセトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサノン、二硫化炭素およびテトラヒドロフランのうち少なくとも１つ以上であることが好ましい。

（９）上述した実施例２、３では、流量調整弁５７ａによって、ガス供給源３５と気化容器２３ａとの間の不活性ガスの流路を開閉したが、これに限られない。例えば、流量調整弁５７ａを開閉弁に変更してもよい。同様に、流量調整弁５７ｂを開閉弁に変更してもよい。本変形実施例によっても、ガス供給源３５と気化容器２３ａとの間の不活性ガスの流路を好適に開閉できる。また、ガス供給源３５と気化容器２３ｂとの間の不活性ガスの流路を好適に開閉できる。

（１０）上述した実施例３では、流量調整弁７３ａによって、気化容器２３ａから出された処理ガスを希釈するための不活性ガスの流路を開閉したが、これに限られない。例えば、流量調整弁７３ａを開閉弁に変更してもよい。同様に、流量調整弁７３ｂを開閉弁に変更してもよい。本変形実施例によっても、気化容器２３ａから出された処理ガスを希釈するための不活性ガスの流路を好適に開閉できる。また、気化容器２３ｂから出された処理ガスを希釈するための不活性ガスの流路を好適に開閉できる。

（１１）上述した実施例３では、液体検知センサ６５は、ドレインパン６３に液体があるか否かを検出したが、これに限られない。例えば、液体検知センサ６５は、ドレイン管６１内を液体が流れているか否かを検知してもよい。本変形実施例によっても、処理液がバッファタンク１３から溢れているか否かを好適に検知できる。

（１２）上述した各実施例では、処理液気化装置３は処理液供給源１１を備えていたが、これに限られない。すなわち、処理液気化装置３は処理液供給源１１を備えていなくてもよい。例えば、処理液気化装置３の外部に設けられる処理液供給源にバッファタンク１３を連通接続し、外部の処理液供給源からバッファタンク１３に処理液を供給してもよい。

（１３）上述した各実施例では、処理液気化装置３は供給源３５を備えていたが、これに限られない。すなわち、処理液気化装置３はガス供給源３５を備えていなくてもよい。例えば、処理液気化装置３の外部に設けられるガス供給源に気化容器２３ａ、２３ｂを連通接続し、外部のガス供給源から気化容器２３ａ、２３ｂに不活性ガスを供給してもよい。

（１４）上述した各実施例の基板処理装置１は、処理ユニット５ａ、５ｂに不活性ガスを供給する構成を備えてもよい。そして、処理ユニット５ａに処理ガスおよび不活性ガスのいずれかを選択的に供給してもよい。同様に、処理ユニット５ｂに処理ガスおよび不活性ガスのいずれかを選択的に供給してもよい。例えば、処理ユニット５ａに処理ガスを供給した後、処理ユニット５ａに不活性ガスを供給してもよい。これによれば、処理ユニット５ａ内の雰囲気を不活性ガスに置換できる。同様に、処理ユニット５ｂに処理ガスを供給した後、処理ユニット５ｂに不活性ガスを供給してもよい。これによれば、処理ユニット５ｂ内の雰囲気を不活性ガスに置換できる。

（１５）上述した各実施例および上記（１）から（１４）で説明した各変形実施例については、さらに各構成を他の変形実施例の構成に置換または組み合わせるなどして適宜に変更してもよい。

１ … 基板処理装置
３ … 処理液気化装置
５ａ、５ｂ … 処理ユニット（第１処理ユニット、第２処理ユニット）
１１ … 処理液供給源
１３ … バッファタンク（タンク）
１７ … 開閉弁（タンク処理液用弁）
２１ａ、２１ｂ … 液面センサ（液位検出センサ）
２３ａ、２３ｂ、２３ｃ、２３ …気化容器（第１気化容器、第２気化容器）
２５ａ、２５ｂ、２５ … 配管（第１補給管、第２補給管）
２７ａ、２７ｂ、２７ … 開閉弁（第１処理液用弁、第２処理液用弁）
３３ａ、３３ｂ … 開閉弁（第１ベント弁、第２ベント弁）
３５ … ガス供給源
３９ａ、３９ｂ … 開閉弁（第１不活性ガス用弁、第２不活性ガス用弁）
４３ａ、４３ｂ … 開閉弁（第１処理ガス用弁、第２処理ガス用弁）
４５ … 制御部
５１ … 開閉弁
５７ａ、５７ｂ … 流量調整弁（第１処理ガス用弁、第２処理ガス用弁）
５９ … レギュレータ（圧力調整部）
６５ … 液体検知センサ（オーバーフローセンサ）
７３ａ、７３ｂ … 流量調整弁（第１希釈用弁、第１希釈用弁）
８１ａ、８１ｂ … 逆止弁（第１処理液用弁、第２処理液用弁）
８５ａ、８５ｂ、８５ｃ … 分岐管（第１補給管、第２補給管）
８７ａ、８７ｂ、８７ｃ … 開閉弁（第１処理液用弁、第２処理液用弁）
ＬＬ … 低液位
ＨＬ … 高液位
Ｓｓ … バッファタンク内の処理液
Ｓａ、Ｓｂ … 気化容器２３ａ、２３ｂ内の処理液
Ｗ …基板

Claims (16)

1. 処理液を貯留するタンクと、
   前記タンクに連通接続され、処理液を気化させる第１気化容器と、
   前記第１気化容器と並列にタンクに連通接続され、処理液を気化させる第２気化容器と、
   前記タンクと前記第１気化容器との間の処理液の流路を開閉する第１処理液用弁と、
   前記タンクと前記第２気化容器との間の処理液の流路を開閉する第２処理液用弁と、
   を備えている処理液気化装置。
2. 請求項１に記載の処理液気化装置において、
   前記第１気化容器で生成された処理ガスは１つの第１処理ユニットのみに送られ、
   前記第２気化容器で生成された処理ガスは１つの第２処理ユニットのみに送られる処理液気化装置。
3. 請求項１に記載の処理液気化装置において、
   前記タンクの内部は前記タンクの外部に開放されており、
   前記処理液気化装置は、
   前記第１気化容器の内部を前記第１気化容器の外部に対して開閉する第１ベント弁と、
   前記第２気化容器の内部を前記第２気化容器の外部に対して開閉する第２ベント弁と、
   を備えている処理液気化装置。
4. 請求項３に記載の処理液気化装置において、
   前記第１気化容器と前記第２気化容器とはそれぞれ、前記タンクの側方に設けられている処理液気化装置。
5. 請求項３または４に記載の処理液気化装置において、
   前記第１処理液用弁および前記第１ベント弁がそれぞれ開くことによって、前記タンクと前記第１気化容器の間を処理液が自ずと移動し、前記タンク内の処理液の液位と前記第１気化容器内の処理液の液位が等しくなり、
   前記第２処理液用弁および前記第２ベント弁がそれぞれ開くことによって、前記タンクと前記第２気化容器の間を処理液が自ずと移動し、前記タンク内の処理液の液位と前記第２気化容器内の処理液の液位が等しくなる処理液気化装置。
6. 請求項１または２に記載の処理液気化装置において、
   前記タンク内の圧力を調整する圧力調整部を備えている処理液気化装置。
7. 請求項６に記載の処理液気化装置において、
   前記第１気化容器は、前記タンクよりも高い位置に設けられており、
   前記第２気化容器は、前記タンクよりも高い位置に設けられている処理液気化装置。
8. 請求項６または７に記載の処理液気化装置において、
   前記第１処理液用弁が開き、かつ、圧力調整部が前記タンク内の圧力を調整することによって、前記タンクと前記第１気化容器の間において処理液を強制的に移動させ、
   前記第２処理液用弁が開き、かつ、圧力調整部が前記タンク内の圧力を調整することによって、前記タンクと前記第２気化容器の間において処理液を強制的に移動させる処理液気化装置。
9. 請求項１から８のいずれかに記載の処理液気化装置において、
   前記タンクの上端は、前記第１気化容器の上端および前記第２気化容器の上端のいずれよりも低い処理液気化装置。
10. 請求項１から９のいずれかに記載の処理液気化装置において、
    前記第１気化容器に送られる不活性ガスの流路を開閉する第１不活性ガス用弁と、
    前記第２気化容器に送られる不活性ガスの流路を開閉する第２不活性ガス用弁と、
    を備える処理液気化装置。
11. 請求項１０に記載の処理液気化装置において、
    前記第１処理液用弁が開いているとき、前記第１不活性ガス用弁は閉じており、
    前記第２処理液用弁が開いているとき、前記第２不活性ガス用弁は閉じている処理液気化装置。
12. 請求項１から１１のいずれかに記載の処理液気化装置において、
    前記第１気化容器から出される処理ガスの流路を開閉する第１処理ガス用弁と、
    前記第２気化容器から出される処理ガスの流路を開閉する第２処理ガス用弁と、
    を備える処理液気化装置。
13. 請求項１２に記載の処理液気化装置において、
    前記第１処理液用弁が開いているとき、前記第１処理ガス用弁は閉じており、
    前記第２処理液用弁が開いているとき、前記第２処理ガス用弁は閉じている処理液気化装置。
14. 請求項１から１３のいずれかに記載の処理液気化装置において、
    処理液供給源から前記タンクに供給される処理液の流路を開閉するタンク処理液用弁を備える処理液気化装置。
15. 請求項１４に記載の処理液気化装置において、
    前記処理液気化装置は、前記タンク内の処理液の液位を検出する液位検出センサを備え、
    前記液位検出センサの検出結果に基づいて、前記タンク処理液用弁が開閉する処理液気化装置。
16. 処理液を貯留するタンクと、
    前記タンクに連通接続され、処理液を気化させる第１気化容器と、
    前記第１気化容器と並列に前記タンクに連通接続され、処理液を気化させる第２気化容器と、
    前記タンクと前記第１気化容器との間の処理液の流路を開閉する第１処理液用弁と、
    前記タンクと前記第２気化容器との間の処理液の流路を開閉する第２処理液用弁と、
    前記第１気化容器で生成された処理ガスを用いて基板に処理を行う１つの第１処理ユニットと、
    前記第２気化容器で生成された処理ガスを用いて基板に処理を行う１つの第２処理ユニットと、
    を備えている基板処理装置。
    
    

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