TWI733966B - 比電阻值調整裝置及比電阻值調整方法 - Google Patents

比電阻值調整裝置及比電阻值調整方法 Download PDF

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Abstract

本發明的比電阻值調整裝置係具備：氣體溶解裝置，係使供調整液體的比電阻值之用的調整氣體溶解於比電阻值的調整對象即前述液體，產生將前述調整氣體溶解在前述液體而得的處理液體；及緩衝槽，係被供給從前述氣體溶解裝置排出的前述處理液體。

Description

比電阻值調整裝置及比電阻值調整方法
本發明係有關調整液體的比電阻值之比電阻值調整裝置及比電阻值調整方法。
在半導體或液晶的製程中係使用超純水清洗基板。此時，若超純水的比電阻值高，便會產生靜電。因而造成絕緣崩潰或使微粒子再附著，給製品良率帶來不良影響。為了解決如上述的問題，有人提出使用疏水性的中空纖維膜模組(module)之技術。該技術係使用中空纖維膜模組使二氧化碳氣體(gas)或氨氣等氣體溶解於超純水中。如此一來，藉由解離平衡而產生離子(ion)，生成藉由該所產生的離子使超純水的比電阻值降低之處理水。
此外，在基板的清洗、切割(dicing)等製程中，超純水的流動變動劇烈。於是，在專利文獻1中提案一種即使流量變動仍使比電阻值穩定的比電阻值調整裝置。專利文獻1所記載的比電阻值調整裝置係具備：中空纖維膜模組，係產生小流量的添加高濃度氣體之超純水；及旁通(bypass)管路，係讓大流量的超純水通過。此外，將以中空纖維膜模組產生的添加高濃度氣體之超純水與通過旁通管路的超純水合流來產生供清洗基板之用的處理水。
先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1 日本國專利第3951385號公報
此外，溶解在超純水的氣體係如下述在式(1)及式(2)的兩階段解離(離子化)。另外，下式係顯示在氣體方面是使用二氧化碳氣體的情形。
H2O+CO2=H++HCO3 -…(1)
HCO3 -=H++CO3 -…(2)
然而，溶解在超純水的氣體的解離係漸漸進行。例如，在使用前述之專利文獻1所記載的比電阻值調整裝置時，式(1)的離子化係於在中空纖維膜模組中將氣體溶解到超純水的階段大致結束，而式(2)的離子化則需要時間。因此，會有配置在比電阻值調整裝置下游側的配管中之在比電阻值調整裝置附近測量得的處理水的比電阻值與在電阻值調整裝置下游側數m處測量得的處理水的比電阻值發生偏差(乖離)之問題。
此外，亦有因處理水中的離子濃度發生不均一而造成比電阻值跳動的問題。例如，在使用前述之專利文獻1所記載的比電阻值調整裝置時，係將超純水與添加氣體之超純水合流，而視超純水與添加氣體之超純水的混合狀態，超純水中的離子濃度會發生不均一。
上述兩個問題係存在比電阻值的調整值即比電阻調整值愈高，表現愈明顯的傾向。
於是，就解決上述兩個問題的手段而言，可想到：將配置在比電阻值調整裝置下游側的配管延長，使處理水於流通在該配管內的期間進行自然混合及解離。
然而，當將該配管延長，便會產生下述等問題：(1)配管壓損提高、(2)需要收納長配管的空間(space)、(3)因為配管長度有限度，所以比電阻值的偏差及跳動未完全收斂。
於是，本發明之目的在於提供能既抑制規模的擴大，也抑制處理水的比電阻值的偏差及跳動兩者之比電阻值調整裝置及比電阻值調整方法。
本發明一態樣的比電阻值調整裝置係具備：氣體溶解裝置，係使供調整液體的比電阻值之用的調整氣體溶解於比電阻值的調整對象即液體，產生將調整氣體溶解在液體而得的處理液體；及緩衝槽(buffer tank)，係被供給從氣體溶解裝置排出的處理液體。
在該比電阻值調整裝置中，係在氣體溶解裝置產生將調整氣體溶解在液體而得的處理液體，將該所產生的處理液體供給至緩衝槽。當處理液體供給至緩衝槽，處理液體的流路便急遽地擴大，使處理液體的流速急遽地降低。藉此，供給至緩衝槽的處理液體係在緩衝槽內進行對流，藉此促進解離。此外，供給至緩衝槽 的處理液體係在緩衝槽內形成亂流而進行攪拌，藉此促進離子濃度的均一化。結果，抑制處理液體的比電阻值的偏差及跳動兩者。再且，相較於將緩衝槽改為使用長配管的情形，能減少處理液體的壓損，還能縮小裝置規模。
亦可為，緩衝槽為圓筒狀的容器。在該比電阻值調整裝置中，由於緩衝槽為圓筒狀的容器，能使供給至緩衝槽的處理液體沿著緩衝槽的內周面對流。藉此，能充分確保緩衝槽內的處理液體的對流時間，並且能使攪拌效果提升。
亦可為，緩衝槽係具有被供給處理液體之供給口、及排出處理液體的排出口；供給口與排出口係朝向於相異的線上。在該比電阻值調整裝置中，由於緩衝槽的供給口與排出口朝向於相異的線上，在緩衝槽內引起大的亂流，並且，從供給口往排出口的路徑複雜化。藉此，能促進處理液體的對流及攪拌。
亦可為，供給口及排出口係朝向於從沿緩衝槽的上下方向延伸的中心軸線偏移的位置。在該比電阻值調整裝置中，由於緩衝槽的供給口與排出口朝向於從緩衝槽的中心軸線偏移的方向，能在緩衝槽內使處理液體繞緩衝槽的中心軸旋繞。藉此，能充分確保緩衝槽內的處理液體的對流時間，並且能使攪拌效果提升。
亦可為，供給口與排出口係配置在緩衝槽的上下方向的不同位置。在該比電阻值調整裝置中，由於緩衝槽的供給口與排出口配置在上下方向的不同位置，能充分確保緩衝槽內的處理液體的對流時間。
亦可為，排出口係配置在比供給口更上方處。在該比電阻值調整裝置中，由於排出口配置在比供給口更上方處，能將處理液體所含的氣泡迅速地排出。
亦可為，供給口係形成在緩衝槽的上部。在該比電阻值調整裝置中，由於供給口形成在緩衝槽的上部，能藉由從供給口供給至緩衝槽的處理液體攪拌積存在緩衝槽的處理液體。
此外，本案的發明人等實驗的結果，得知前述式(2)的離子化要充分地進行係需要7秒至12秒左右的時間。因此，亦可為，緩衝槽的容量為以7秒至12秒裝滿處理液體的容量。在該比電阻值調整裝置中，由於緩衝槽的容量為以7秒至12秒裝滿處理液體的容量、亦即相當於處理液體的流量的7秒至12秒之量的容量，能既抑制緩衝槽大型化，亦在緩衝槽內使處理液體充分地解離。
亦可為，復具備：處理液體排出管，係從緩衝槽排出處理液體；泵，係安裝在處理液體排出管，將處理液體送出；開閉閥，係安裝在處理液體排出管的比泵更下游側，開閉處理液體排出管；及循環配管，係從處理液體排出管的泵與開閉閥之間分支，將流通在處理液體排出管的處理液體送回緩衝槽。在該比電阻值調整裝置中，係當打開開閉閥時，能將處理液體從處理液體排出管供給至用水點(use of point)，而當關閉開閉閥時，能將從緩衝槽排出到處理液體排出管的處理液體從循環配管送回緩衝槽。因此，當用水點不需要處理液體 時，係能藉由將開閉閥關閉起來而以緩衝槽、處理液體排出管、及循環配管使處理液體循環。藉此，進一步促進處理液體的解離及離子濃度的均一化，故能進一步抑制處理液體的比電阻值的偏差及跳動。
此外，在清洗基板的清洗機等中，亦會因流量頻繁變動而發生伴隨流動變所致的比電阻值的跳動之問題。此外，當使流量變化，處理液體的比電阻值便需要點時間才會穩定。相對於此，在本比電阻值調整裝置中，由於對用水點是供給積存在緩衝槽的處理液體，不需要一直以氣體溶解裝置產生處理液體，當積存在緩衝槽的處理液體變少時，只要以氣體溶解裝置產生處理液體即可。因此，能將供給至氣體溶解裝置的液體的流量設為一定。藉此，不會受到用水點的流量變動和使用流量所影響，能使處理液體的比電阻值穩定。
亦可為，緩衝槽係具有被供給來自循環配管的處理液體之循環口；循環口係形成在緩衝槽的上部。在該比電阻值調整裝置中，由於循環口形成在緩衝槽的上部，能藉由從循環口供給至緩衝槽的處理液體來攪拌積存在緩衝槽的處理液體。
亦可為，氣體溶解裝置係具備：中空纖維膜模組，係以中空纖維膜區分成被供給液體之液相側區域與被供給調整氣體之氣相側區域，使透過中空纖維膜的調整氣體溶解於液體，產生添加高濃度氣體之液體；液體供給管，係被供給液體；模組供給管，係經介將液體供給管分支的分支部而連通至液體供給管，將液體供 給至中空纖維膜模組；模組排出管，係從中空纖維膜模組排出添加高濃度氣體之液體；旁通管，係經介分支部而連通至液體供給管，旁通繞過中空纖維膜模組；及液體排出管，係經介將模組排出管與旁通管合流的合流部而與模組排出管及旁通管連通。在該比電阻值調整裝置中，供給至氣體溶解裝置的液體係分配為供給至中空纖維膜模組的液體與旁通繞過中空纖維膜模組的液體。在中空纖維膜模組中，係將透過中空纖維膜的調整氣體溶解於液體，產生將調整氣體溶解在液體而得的添加高濃度氣體之液體。此外，以中空纖維膜模組產生的添加高濃度氣體之液體與旁通繞過中空纖維膜模組的液體係合流，藉此產生處理液體。藉此，即使供給至氣體溶解裝置的液體的流量變動，仍能使處理液體的比電阻值穩定。
亦可為，復具備：第一調整用配管，係將液體供給至緩衝槽；第二調整用配管，係將添加高濃度氣體之液體供給至緩衝槽；及比電阻值感測器(sensor)，係測量緩衝槽內的處理液的比電阻值。在該比電阻值調整裝置中，係根據比電阻值感測器的測量結果，從第一調整用配管或第二調整用配管將液體或添加高濃度氣體之液體供給至緩衝槽，藉此，能調整積存在緩衝槽的處理液體的比電阻值。另外，即使對緩衝槽供給液體或添加高濃度氣體之液體，仍能藉由關閉開閉閥而以緩衝槽、處理液體排出管、及循環配管使處理液體循環，藉此促進積存在緩衝槽的處理液體的解離及離子濃度的均一化。
本發明一態樣的比電阻值調整方法係使供調整液體的比電阻值之用的調整氣體溶解於比電阻值的調整對象即液體，產生將調整氣體溶解在液體而得的處理液體；將所產生的處理液體供給至緩衝槽。
在該比電阻值調整方法，係產生將調整氣體溶解在液體而得的處理液體，將該所產生的處理液體供給至緩衝槽。當處理液體供給至緩衝槽，處理液體的流路便急遽地擴大，使處理液體的流速急遽地降低。藉此，供給至緩衝槽的處理液體係在緩衝槽內進行對流，藉此促進解離。此外，供給至緩衝槽的處理液體係在緩衝槽內形成亂流而進行攪拌，藉此促進離子濃度的均一化。結果，抑制處理液體的比電阻值的偏差及跳動兩者。再且，相較於將處理液體流通在緩衝槽改為流通在長配管的情形，能減少處理液體的壓損，還能縮小裝置規模。
依據本發明，能既抑制規模的擴大，也抑制處理水的比電阻值的偏差及跳動。
1、1A、1B、1C‧‧‧比電阻值調整裝置
2‧‧‧氣體溶解裝置
3、3A、3B、3C‧‧‧緩衝槽
3a‧‧‧供給口
3b‧‧‧排出口
3c‧‧‧循環口
4‧‧‧處理液體排出管
5‧‧‧泵
6‧‧‧開閉閥
7‧‧‧循環配管
8‧‧‧第一調整用配管
9‧‧‧第二調整用配管
10‧‧‧比電阻值感測器
11‧‧‧中空纖維膜模組
12‧‧‧氣體供給管
13‧‧‧液體供給管
14‧‧‧模組供給管
15‧‧‧模組排出管
16‧‧‧旁通管
17‧‧‧液體排出管
18‧‧‧調整閥
19‧‧‧壓力調整閥
21‧‧‧中空纖維膜
22‧‧‧殼體
23‧‧‧氣體供給口
24‧‧‧液體供給口
25‧‧‧液體排出口
100‧‧‧比電阻值調整裝置
A‧‧‧分支部
B‧‧‧合流部
C‧‧‧中心軸線
G‧‧‧調整氣體
L‧‧‧液體
L1‧‧‧添加高濃度氣體之液體
L2‧‧‧處理液體
P1‧‧‧壓力計
圖1係第一實施形態的比電阻值調整裝置的示意圖。
圖2係氣體溶解裝置的示意圖。
圖3(a)及圖3(b)係顯示緩衝槽的供給口及排出口的配置例之圖。
圖4係第二實施形態的比電阻值調整裝置的示意圖。
圖5係顯示緩衝槽的供給口及排出口的配置例之圖。
圖6係第三實施形態的比電阻值調整裝置的示意圖。
圖7係顯示緩衝槽的供給口及排出口的配置例之圖。
圖8係第四實施形態的比電阻值調整裝置的示意圖。
圖9係比較例的比電阻值調整裝置的示意圖。
圖10係顯示實施例1的測量結果之圖。
圖11係顯示比較例1的測量結果之圖。
圖12係顯示實施例2的流量為2.0[L/min]時的測量結果之圖。
圖13係顯示實施例2的流量為1.0[L/min]時的測量結果之圖。
圖14係顯示實施例2的流量為0.2[L/min]時的測量結果之圖。
圖15係顯示實施例3的流量為2.0[L/min]時的測量結果之圖。
圖16係顯示實施例3的流量為1.0[L/min]時的測量結果之圖。
圖17係顯示實施例3的流量為0.2[L/min]時的測量結果之圖。
圖18係顯示實施例4的緩衝槽的容量為150[cc]時的測量結果之圖。
圖19係顯示實施例4的緩衝槽的容量為300[cc]時的測量結果之圖。
圖20係顯示實施例4的緩衝槽的容量為400[cc]時的測量結果之圖。
圖21係顯示實施例4的緩衝槽的容量為500[cc]時的測量結果之圖。
圖22係顯示實施例4的緩衝槽的容量為700[cc]時的測量結果之圖。
圖23係顯示實施例5的液體的流量為1.0[L/min]時的測量結果之圖。
圖24係顯示實施例5的液體的流量為0.2[L/min]時的測量結果之圖。
以下，參照圖式，針對實施形態的比電阻值調整裝置及比電阻值調整方法詳細說明。另外，在全部的圖式中，相同或相當的部分係標註相同的元件符號並省略重複的說明。
[第一實施形態]
圖1係第一實施形態的比電阻值調整裝置的示意圖。如圖1所示，本實施形態的比電阻值調整裝置1係具備氣體溶解裝置2、緩衝槽3、處理液體排出管4。
氣體溶解裝置2係使供調整液體L的比電阻值之用的調整氣體G溶解於比電阻值的調整對象即液體L，產生將調整氣體G溶解在液體L而得的處理液體L2。
圖2係氣體溶解裝置的示意圖。如圖2所示，氣體溶解裝置2係具備中空纖維膜模組11、氣體供給管12、液體供給管13、模組供給管14、模組排出管15、旁通管16、液體排出管17、及調整閥18。
中空纖維膜模組11係使供調整液體L的比電阻值之用的調整氣體G溶解於比電阻值的調整對象即液體L。作為液體L使用的液體並無特別限定，例如能採用清洗半導體、液晶等之用的超純水。通常，超純水的比電阻值係為17.5[MΩ．cm]以上18.2[MΩ．cm]的範圍。作為調整氣體G使用的氣體並無特別限定，例如能採用二氧化碳氣體或氨氣。中空纖維膜模組11係具備複數條中空纖維膜21、及將該些中空纖維膜21收容在內部的殼體(housing)22。
中空纖維膜21乃係氣體會透過但液體不會透過的中空纖維狀的膜。中空纖維膜21的素材、膜形狀、膜形態等並無特別限制。殼體22乃係將中空纖維膜21收容在內部的密閉容器。
中空纖維膜模組11的殼體22內的區域係以中空纖維膜21區分成液相側區域與氣相側區域。液相側區域乃係中空纖維膜模組11的殼體22內的區域中被供給液體L之區域。氣相側區域乃係中空纖維膜模組11的殼體22內的區域中被供給調整氣體G之區域。就中空纖維膜模組11的種類而言，有內部灌流型及外部灌流型。在本實施形態中可為內部灌流型及外部灌流型的任一種。在外部灌流型的中空纖維膜模組11中，中空纖維 膜21的內側(內表面側)為氣相側區域，中空纖維膜21的外側(外表面側)為液相側區。在內部灌流型的中空纖維膜模組11中，中空纖維膜21的內側(內表面側)為液相側區域，中空纖維膜21的外側(外表面側)為氣相側區域。
此外，中空纖維膜模組11係使透過中空纖維膜21的調整氣體G溶解於液體L，產生將調整氣體G溶解在液體L而成的添加高濃度氣體之液體L1。此時，例如，較佳為：將供給至中空纖維膜模組11的調整氣體G的氣體壓設為一定、調整供給至中空纖維膜模組11的液體L的流量，藉此，產生將調整氣體G以飽和狀態溶解在液體L而成的調整氣體飽和液體，作為添加高濃度氣體之液體L1。供給至中空纖維膜模組11的液體L的流量係能藉由調整閥18進行調整。另外，在氣體溶解裝置2中，上式(1)的離子化係於以中空纖維膜模組11產生添加高濃度氣體之液體L1的階段大致結束。
在殼體22係形成有氣體供給口23、液體供給口24、液體排出口25。氣體供給口23乃係為了將調整氣體G供給至氣相側區域而形成在殼體22的開口。液體供給口24乃係為了將液體L供給至液相側區域而形成在殼體22的開口。液體排出口25乃係為了將添加高濃度氣體之液體L1從液相側區域排出而形成在殼體22的開口。因此，氣體供給口23係連通至氣相側區域，液體供給口24及液體排出口25係連通至液相側區域。氣體供給口23、液體供給口24、及液體排出口25的位置並無特別限定。
氣體供給管12乃係在內周側形成有流路的管狀的構件。氣體供給管12係連接至氣體供給口23。氣體供給管12係連通至中空纖維膜模組11的氣相側區域，將調整氣體G供給至中空纖維膜模組11的氣相側區域。
在氣體供給管12係連接有壓力調整閥19與壓力計P1。壓力調整閥19係調整流通在氣體供給管12的調整氣體G的氣體壓。亦即，氣相側區域的調整氣體G的氣體壓係藉由壓力調整閥19進行調整。就壓力調整閥19而言，係能採用公知的各種壓力調整閥。壓力計P1係測量在氣體供給管12流通的調整氣體G的氣體壓。壓力計P1係連接在氣體供給管12的壓力計P1的下游側，亦即，連接在氣體供給管12的壓力計P1的氣相側區域側。就壓力計P1而言，係能採用公知的各種壓力計，例如能採用膜片(diaphragm)閥。此外，控制比電阻值調整裝置1的控制部(未圖示)係以使流通在氣體供給管12的調整氣體G的氣體壓、亦即氣相側區域的調整氣體G的氣體壓成為預定值(或預定範圍內)的方式，根據以壓力計P1測量得的調整氣體G的氣體壓來控制壓力調整閥19。
另外，在本實施形態中，係採用從中空纖維膜模組11的氣相側區域沒有排出調整氣體G來進行說明，但亦可採用從中空纖維膜模組11的氣相側區域排出調整氣體G。此時，在中空纖維膜模組11的殼體22形成供將調整氣體G從氣相側區域排出之用的開口即氣體 排出口(未圖示)。此外，在該氣體排出口連接將調整氣體G從中空纖維膜模組11的氣相側區域排出的氣體排出管(未圖示)。氣體排出管乃係在內周側形成有流路的管狀的構件。
液體供給管13乃係在內周側形成有流路的管狀的構件。對液體供給管13係供給要供給至比電阻值調整裝置1的液體L的全量。液體供給管13係藉由分支部A而分支成模組供給管14與旁通管16。亦即，在分支部A的上游側係連接有液體供給管13，在分支部A的下游側係連接有模組供給管14與旁通管16。此外，分支部A係將流通在液體供給管13的液體L分支後排出至模組供給管14與旁通管16。
模組供給管14乃係在內周側形成有流路的管狀的構件。模組供給管14係經介分支部A而連通至液體供給管13，將液體L供給至中空纖維膜模組11。模組供給管14係配置在中空纖維膜模組11的上游側，連接至中空纖維膜模組11的液體供給口24。模組供給管14係連通至中空纖維膜模組11的液相側區域，將液體L供給至中空纖維膜模組11的液相區域。
模組排出管15乃係在內周側形成有流路的管狀的構件。模組排出管15係經介合流部B而連通至液體排出管17，將添加高濃度氣體之液體L1從中空纖維膜模組11排出。模組排出管15係配置在中空纖維膜模組11的下游側，連接至中空纖維膜模組11的液體排出口25。模組排出管15係連通至中空纖維膜模組11的 液相側區域連通，將添加高濃度氣體之液體L1從中空纖維膜模組11的液相側區域排出。
旁通管16乃係在內周側形成有流路的管狀的構件。旁通管16係經介分支部A而連通至液體供給管13。旁通管16係旁通繞過中空纖維膜模組11。因此，流通在旁通管16的液體L並不會供給至中空纖維膜模組11，而是旁通繞過中空纖維膜模組11。旁通管16係藉由合流部B而與模組排出管15合流。
在合流部B的上游側係連接有模組排出管15與旁通管16，在合流部B的下游側係連接有液體排出管17。此外，合流部B係將流通在模組排出管15的添加高濃度氣體之液體L1與流通在旁通管16的液體L合流。此外，合流部B係將由液體L與添加高濃度氣體之液體L1合流而成的處理液體L2排出至液體排出管17。
液體排出管17乃係在內周側形成有流路的管狀的構件。液體排出管17係連接至合流部B，液體排出管17係經介合流部B而與模組排出管15及旁通管16連通，將處理液體L2從合流部B排出。
調整閥18乃係開閉模組排出管15的流路之閥。調整閥18係藉由開閉模組排出管15的流路，調整流通在模組排出管15的添加高濃度氣體之液體L1與流通在旁通管16的液體L之比例。亦即，藉由以調整閥18調整上述比例，能調整處理液體L2的比電阻值。此時，較佳為，以使將調整氣體G以飽和狀態溶解在液體 L而成的添加高濃度氣體之液體L1產生的方式設定調整閥18的閥開度。此處，所謂的飽和狀態，不僅包括完全的飽和狀態，亦包括接近飽和狀態的狀態。所謂的接近飽和狀態的狀態，係指調整氣體G係以能僅以供給至中空纖維膜模組11的液體L的流量與旁通繞過中空纖維膜模組11的液體L的流量之分配比率來調整液體L的比電阻值之程度溶解在液體L的狀態。
如圖1所示，緩衝槽3係被供給從氣體溶解裝置2排出的處理液體L2。緩衝槽3係連接至氣體溶解裝置2。亦即，處理液體L2係當從氣體溶解裝置2排出，便直接供給至緩衝槽3，不會經由處理液體排出管4。緩衝槽3乃係能將處理液體L2暫時積存起來的容器。因此，當處理液體L2供給至緩衝槽3，處理液體L2的流路便急遽地擴大，藉此，使處理液體L2的流速急遽地降低。因此，供給至緩衝槽3的處理液體L2係在緩衝槽3內進行對流，藉此促進解離。此外，供給至緩衝槽3的處理液體L2係在緩衝槽3內形成亂流而進行攪拌，藉此促進離子濃度的均一化。
緩衝槽3乃係密閉容器，藉由將處理液體L2供給至緩衝槽3，以處理液體L2將緩衝槽3內裝滿。因此，即使沒有在緩衝槽3的下游側配置泵等，藉由將從氣體溶解裝置2排出的處理液體L2供給至緩衝槽3，仍使處理液體L2從緩衝槽3排出。另外，並不需要以處理液體L2將緩衝槽3內完全裝滿，亦可在緩衝槽3內留下未裝滿處理液體L2的區域(空隙)。
緩衝槽3係可為任何形狀的容器，但以是圓筒狀的容器者較佳。當如上述，緩衝槽3為圓筒狀的容器時，能使供給至緩衝槽3的處理液體L2沿著緩衝槽3的內周面對流。藉此，能充分確保緩衝槽3內的處理液體L2的對流時間，並且能使攪拌效果提升。
圖3(a)及(b)係顯示緩衝槽的供給口及排出口的配置例之圖。如圖1及圖3(a)及(b)所示，緩衝槽3係具備：供給口3a，係連接至氣體溶解裝置2的液體供給管13；及排出口3b，係連接至處理液體排出管4。供給口3a及排出口3b的配置並無特別限定，但從促進緩衝槽3內處理液體L2的對流及攪拌的觀點來看，如圖3(a)及(b)所示，較佳為，供給口3a與排出口3b係朝向於相異的線上。當如上述，緩衝槽3的供給口3a與排出口3b係朝向於相異的線上，便在緩衝槽3內引起大的亂流，並且，從供給口3a往排出口3b的路徑複雜化。藉此，能促進處理液體L2的對流及攪拌。
關於圖3(a)所示的緩衝槽3，供給口3a及排出口3b係朝向於從沿緩衝槽3的上下方向延伸的中心軸線C偏移的位置。當如上述，緩衝槽3的供給口3a與排出口3b朝向於從緩衝槽3的中心軸線C偏移的方向時，能在緩衝槽3內使處理液體L2繞緩衝槽3的中心軸線C旋繞。藉此，能充分確保緩衝槽3內的處理液體L2的對流時間，並且能使攪拌效果提升。
關於圖3(b)所示的緩衝槽3，供給口3a與排出口3b係配置在緩衝槽3的上下方向的不同位置。 當如上述，緩衝槽3的供給口3a與排出口3b配置在上下方向的不同位置時，能充分確保緩衝槽3內的處理液體L2的對流時間。
此外，關於圖3(b)所示的緩衝槽3，排出口3b係配置在比供給口3a更上方處。當處理液體L2含有氣泡，則在緩衝槽3內，該氣泡便會從供給口3a往上方浮。因此，當排出口3b配置在比供給口3a更上方處時，能將處理液體L2所含的氣泡迅速地從排出口3b排出。
此外，本案的發明人等實驗的結果，得知前述式(2)的離子化要充分地進行係需要7秒至12秒左右的時間。實驗詳情揭示於下述的實施例。因此，緩衝槽3的容量係以7秒至12秒裝滿處理液體L2的容量、亦即相當於處理液體L2的流量的7秒至12秒之量的容量較佳。如上述，藉由將緩衝槽3的容量構成為以7秒至12秒裝滿處理液體L2的容量，能既抑制緩衝槽3大型化，亦在緩衝槽3內使處理液體L2充分地解離。
如圖1所示，處理液體排出管4乃係在內周側形成有流路的管狀的構件。處理液體排出管4係連接至緩衝槽3的排出口3b，將處理液體L2從緩衝槽3排出。接著，處理液體L2係在處理液體排出管4流通下去，供給至使用處理液體L2的用水點。處理液體排出管4的素材、特性(硬度、彈性等)、形狀、尺寸等並無特別限定。
如上述，在本實施形態中，係在氣體溶解裝置2產生將調整氣體G溶解在液體L而得的處理液體L2，將該所產生的處理液體L2供給至緩衝槽3。當處理液體L2供給至緩衝槽3，處理液體L2的流路便急遽地擴大，藉此，使處理液體L2的流速急遽地降低。藉此，供給至緩衝槽3的處理液體L2係在緩衝槽3內進行對流，藉此促進解離。此外，供給至緩衝槽3的處理液體L2係在緩衝槽3內形成亂流而進行攪拌，藉此促進離子濃度的均一化。結果，抑制處理液體L2的比電阻值的偏差及跳動兩者。再且，相較於將緩衝槽改為使用長配管的情形，能減少處理液體L2的壓損，還能縮小裝置規模。
此外，供給至氣體溶解裝置2的液體L係分配為供給至中空纖維膜模組11的液體L與旁通繞過中空纖維膜模組11的液體L。在中空纖維膜模組11中，係將透過中空纖維膜21的調整氣體G溶解於液體L，產生將調整氣體G溶解在液體L而得的添加高濃度氣體之液體L1。此外，以中空纖維膜模組11產生的添加高濃度氣體之液體L1與旁通繞過中空纖維膜模組11的液體L係合流，藉此產生處理液體L2。藉此，即使供給至氣體溶解裝置2的液體L的流量變動，仍能使處理液體L2的比電阻值穩定。
[第二實施形態]
接著，針對第二實施形態進行說明。第二實施形態基本上與第一實施形態相同，僅緩衝槽為不以處理液體 裝滿的容器之點及在處理液體排出管安裝有泵之點不同於第一實施形態。因此，以下係僅說明與第一實施形態不同的事項，省略與第一實施形態相同事項的說明。
圖4係第二實施形態的比電阻值調整裝置的示意圖。如圖4所示，本實施形態的比電阻值調整裝置1A係具備氣體溶解裝置2、緩衝槽3A、處理液體排出管4、泵5。
緩衝槽3A係同第一實施形態的緩衝槽3，為被供給從氣體溶解裝置2排出的處理液體L2且能暫時將處理液體L2積存起來的容器。
緩衝槽3A為開放容器，係藉由處理液體L2供給至緩衝槽3A或處理液體L2從緩衝槽3A排出來使積存在緩衝槽3A內的處理液體L2增減。因此，僅憑將從氣體溶解裝置2排出的處理液體L2供給至緩衝槽3A並不會使處理液體L2從緩衝槽3A排出。
圖5係顯示緩衝槽的供給口及排出口的配置例之圖。如圖4及圖5所示，緩衝槽3A係具備：供給口3a，係連接至氣體溶解裝置2的液體供給管13；及排出口3b，係連接至處理液體排出管4。供給口3a及排出口3b的配置並無特別限定，但從促進緩衝槽3A內處理液體L2的對流及攪拌的觀點來看，如圖5所示，以供給口3a形成在緩衝槽3A的上部較佳。所謂的供給口3a形成在緩衝槽3A的上部，例如為供給口3a形成在緩衝槽3A的頂壁、使液體排出管17貫通緩衝槽3A的頂壁而供給口3a形成在緩衝槽3A的上部、供給口3a形成在 緩衝槽3A的側壁的上部、使液體排出管17貫通緩衝槽3A的側壁的上部而供給口3a形成在緩衝槽3A的上部等配置。當如上述，供給口3a形成在緩衝槽3A的上部時，能藉由從供給口3a供給至緩衝槽3A的處理液體L2攪拌積存在緩衝槽3A的處理液體L2。
如圖4所示，泵5係安裝在處理液體排出管4。泵5係將處理液體排出管4內的處理液體L2往與緩衝槽3A為相反之側送，藉此，將處理液體L2從緩衝槽3A送出至處理液體排出管4。
如上述，在本實施形態中仍同第一實施形態，由於處理液體L2供給至緩衝槽3A，能抑制處理液體L2的比電阻值的偏差及跳動兩者。此外，相較於將緩衝槽改為使用長配管的情形，能減少處理液體L2的壓損，還能縮小裝置規模。
[第三實施形態]
接著，針對第三實施形態進行說明。第三實施形態基本上與第二實施形態相同，僅具備開閉處理液體排出管之開閉閥及將流通在處理液體排出管的處理液體送回緩衝槽之循環配管之點不同於第二實施形態。因此，以下係僅說明與第二實施形態不同的事項，省略與第二實施形態相同事項的說明。
圖6係第三實施形態的比電阻值調整裝置的示意圖。如圖6所示，本實施形態的比電阻值調整裝置1B係具備氣體溶解裝置2、緩衝槽3B、處理液體排出管4、泵5、開閉閥6、循環配管7。
開閉閥6乃係安裝在處理液體排出管4的比泵5更下游側，開閉處理液體排出管4的流路之閥。開閉閥6係能藉由開閉處理液體排出管4的流路來選擇是否將處理液體L2供給至用水點。
循環配管7乃係在內周側形成有流路的管狀的構件。循環配管7係從處理液體排出管4的泵5與開閉閥6之間分支，將流通在處理液體排出管4的處理液體L2送回緩衝槽3B。所謂的泵5與開閉閥6之間，係指泵5的下游側且為開閉閥6的上游側。因此，當打開開閉閥6，從緩衝槽3B排出到處理液體排出管4的處理液體L2便供給至用水點，而當關閉開閉閥6，從緩衝槽3B排出到處理液體排出管4的處理液體L2便經由循環配管7送回緩衝槽3B。
緩衝槽3B係同第二實施形態的緩衝槽3A，為開放容器，係藉由處理液體L2供給至緩衝槽3B或處理液體L2從緩衝槽3B排出來使積存在緩衝槽3B內的處理液體L2增減。因此，僅憑將從氣體溶解裝置2排出的處理液體L2供給至緩衝槽3B並不會使處理液體L2從緩衝槽3B排出。
圖7係顯示緩衝槽的供給口及排出口的配置例之圖。如圖6及圖7所示，緩衝槽3B係具備：供給口3a，係連接至氣體溶解裝置2的液體供給管13；排出口3b，係連接至處理液體排出管4；及循環口3c，係連接至循環配管7。供給口3a、排出口3b及循環口3c的配置並無特別限定，但從促進緩衝槽3B內處理液體L2 的對流及攪拌的觀點來看，如圖7所示，以供給口3a及循環口3c形成在緩衝槽3B的上部較佳。當如上述，供給口3a及循環口3c形成在緩衝槽3B的上部時，能藉由從供給口3a供給至緩衝槽3B的處理液體L2或從循環口3c送回緩衝槽3B的處理液體L2攪拌積存在緩衝槽3B的處理液體L2。
如上述，在本實施形態中，係當打開開閉閥6時，能將處理液體L2從處理液體排出管4供給至用水點，而當關閉開閉閥6時，能將從緩衝槽3B排出到處理液體排出管4的處理液體L2從循環配管7送回緩衝槽3B。因此，當用水點不需要處理液體L2時，係能藉由將開閉閥6關閉起來而以緩衝槽3B、處理液體排出管4、及循環配管7使處理液體L2循環。藉此，進一步促進處理液體L2的解離及離子濃度的均一化，故能進一步抑制處理液體L2的比電阻值的偏差及跳動。
此外，在清洗基板的清洗機等中，亦會因流量頻繁變動而發生伴隨流動變所致的比電阻值的跳動之問題。此外，當使流量變化，處理液體L2的比電阻值便需要點時間才會穩定。相對於此，在本實施形態中，由於對用水點是供給積存在緩衝槽3B的處理液體L2，不需要一直以氣體溶解裝置2產生處理液體L2，當積存在緩衝槽3B的處理液體L2變少時，只要以氣體溶解裝置2產生處理液體L2即可。因此，能將供給至氣體溶解裝置2的液體L的流量設為一定。藉此，不會受到用水點的流量變動和使用流量所影響，能使處理液體L2的比電阻值穩定。
[第四實施形態]
接著，針對第四實施形態進行說明。第四實施形態基本上與第三實施形態相同，僅在緩衝槽內調整處理液體的比電阻值之點不同於第三實施形態。因此，以下係僅說明與第三實施形態不同的事項，省略與第三實施形態相同事項的說明。
圖8係第四實施形態的比電阻值調整裝置的示意圖。如圖8所示，本實施形態的比電阻值調整裝置1C係具備氣體溶解裝置2、緩衝槽3C、處理液體排出管4、泵5、開閉閥6、循環配管7、第一調整用配管8、第二調整用配管9、比電阻值感測器10。
第一調整用配管8乃係在內周側形成有流路的管狀的構件。第一調整用配管8係將液體L供給至緩衝槽3C。第一調整用配管8係連接至液體L的流路。就第一調整用配管8所連接的液體L的流路而言，例如可舉出氣體溶解裝置2的液體供給管13、旁通管16等。在第一調整用配管8係安裝有電磁閥(未圖示)。此外，控制比電阻值調整裝置1C的控制部(未圖示)係根據比電阻值感測器10的測量結果進行電磁閥的開閉控制。
第二調整用配管9乃係在內周側形成有流路的管狀的構件。第二調整用配管9係將添加高濃度氣體之液體L1供給至緩衝槽3C。第二調整用配管9係連接至添加高濃度氣體之液體L1的流路。就第二調整用配管9所連接的添加高濃度氣體之液體L1的流路而言，例 如可舉出氣體溶解裝置2的模組排出管15。在第二調整用配管9係安裝有電磁閥(未圖示)。此外，控制比電阻值調整裝置1C的控制部(未圖示)係根據比電阻值感測器10的測量結果進行電磁閥的開閉控制。
比電阻值感測器10乃係測量積存在緩衝槽3C的處理液體L2的比電阻值之感測器。積存在緩衝槽3C的處理液體L2的比電阻值雖然穩定，但有可能因裝置的不良等而造成比電阻值偏離比電阻調整值。因此，以比電阻值感測器10測量積存在緩衝槽3C的處理液體L2的比電阻值。此外，控制比電阻值調整裝置1C的控制部(未圖示)係當測量結果偏離比電阻調整值時，從第一調整用配管8或第二調整用配管9將液體L或添加高濃度氣體之液體L1供給至緩衝槽3C，藉此，以比電阻值感測器10調整積存在緩衝槽3C的處理液體L2的比電阻值。
如上述，在本實施形態中，係根據比電阻值感測器10的測量結果，從第一調整用配管8或第二調整用配管9供給液體L或添加高濃度氣體之液體L1至緩衝槽3C，藉此，能調整積存在緩衝槽3C的處理液體L2的比電阻值。另外，即使對緩衝槽3C供給液體L或添加高濃度氣體之液體L1，仍能藉由關閉開閉閥6而以緩衝槽3C、處理液體排出管4、及循環配管7使處理液體L2循環，藉此促進積存在緩衝槽3C的處理液體L2的解離及離子濃度的均一化。
以上，針對本發明的實施形態進行了說明，但本發明並不限定於上述實施形態。例如，亦可將上述各實施形態適宜地進行組合。此外，在上述實施形態的說明中，就氣體溶解裝置而言係使用使以中空纖維膜模組產生的添加高濃度氣體之液體L1與旁通繞過中空纖維膜模組的液體L合流，藉此產生處理液體L2之膜方式的氣體溶解裝置，但亦可適用於諸如日本國特開昭60-027603號公報、日本國特開平10-212105號公報、日本國特開2004-344821號公報等所記載的氣體注入方式的氣體溶解裝置等。
[實施例]
接著，說明本發明的實施例，但本發明並不限定於下述的實施例。
[實施例1]
在實施例1中，係使用圖1所示的第一實施形態的比電阻值調整裝置1。供給至氣體溶解裝置2(液體供給管13)的液體L係採用溫度：25[℃]、供給水壓：0.25[MPa]、比電阻值：18.2[MΩ．cm]、流量：2.0[L/min]。比電阻調整值係採用0.4[MΩ．cm]、0.5[MΩ．cm]、0.6[MΩ．cm]、0.8[MΩ．cm]、1.0[MΩ．cm]。就處理液體排出管4而言，使用直徑12×8[mm]的管(tube)。就緩衝槽3而言，使用圓筒狀的容器。為了使處理液體L2在緩衝槽3的推定滯留時間成為約12秒，將緩衝槽3的容量(內容積)採用400[cc]。推定對流時間係採用將緩衝槽3的容量除以處理液體L2的流量而得的時間。
此外，在緩衝槽3正後方安裝比電阻值感測器，以該比電阻值感測器測量處理液體L2的比電阻值。就比電阻值感測器而言，使用堀場Advanced Techno公司製的HE-480R。測量結果顯示於圖10。
[比較例1]
在比較例1中，係使用圖9所示的比電阻值調整裝置100。比較例1的比電阻值調整裝置100係除了不具備緩衝槽這點不同之外，其餘皆與實施例1的比電阻值調整裝置1相同。供給至氣體溶解裝置2(液體供給管13)的液體L及比電阻調整值係與實施例1同條件。
此外，為了使從氣體溶解裝置2排出的處理液體L2到達比電阻值感測器的時間成為與實施例1同條件，將比電阻值感測器安裝在處理液體排出管4的氣體溶解裝置2的下游側8m處，以該比電阻值感測器測量處理液體L2的比電阻值。亦即，藉由將比電阻值感測器安裝在上述位置，使處理液體L2從氣體溶解裝置2排出後到達比電阻值感測器的推定時間成為約12秒，從而使到比電阻值感測器為止的處理液體排出管4的容積(內容積)成為400cc。就比電阻值感測器而言，使用與實施例1相同的感測器。測量結果顯示於圖11。
[評價1]
如圖11所示，在比較例1中，係延長了到安裝比電阻值感測器處的距離，故因離子濃度的不均一所致的比電阻值的跳動大。
相對於此，如圖10所示，在實施例1中，相對於比較例1，比電阻值的跳動係大幅抑制。從此結果可知，藉由具備緩衝槽3，能抑制比電阻值的跳動。
[實施例2]
在實施例2中，係使用圖1所示的第一實施形態的比電阻值調整裝置1。供給至氣體溶解裝置2(液體供給管13)的液體L係採用溫度：25[℃]、供給水壓：0.25[MPa]、比電阻值：18.2[MΩ．cm]。液體L的流量係採用2.0[L/min]、1.0[L/min]、0.2[L/min]。比電阻調整值係採用0.2[MΩ．cm]、0.5[MΩ．cm]、0.6[MΩ．cm]、0.7[MΩ．cm]、0.8[MΩ．cm]、0.9[MΩ．cm]、1.0[MΩ．cm]。就緩衝槽3而言，使用圓筒狀的容器，將緩衝槽3的容量(內容積)設成700[cc]。作成緩衝槽3的供給口3a與排出口3b係朝向於同一線上。
此外，在緩衝槽3正後方安裝比電阻值感測器，以該比電阻值感測器測量處理液體L2的比電阻值。比電阻值感測器係使用與實施例1相同的感測器。流量為2.0[L/min]的測量結果顯示於圖12，流量為1.0[L/min]的測量結果顯示於圖13，流量為0.2[L/min]的測量結果顯示於圖14。
[實施例3]
在實施例3中，係除了設為緩衝槽3的供給口3a與排出口3b係朝向於相異的線上這點不同之外，其餘皆與 實施例2同條件。具體而言，係設成供給口3a及排出口3b係朝向於從沿緩衝槽3的上下方向延伸的中心軸線偏移的位置，此外，將排出口3b配置在比供給口3a上方。
此外，在緩衝槽3正後方安裝比電阻值感測器，以該比電阻值感測器測量處理液體L2的比電阻值。比電阻值感測器係使用與實施例1相同的感測器。流量為2.0[L/min]的測量結果顯示於圖15，流量為1.0[L/min]的測量結果顯示於圖16，流量為0.2[L/min]的測量結果顯示於圖17。
[評價2]
比較圖12至圖14與圖15至圖17，不論液體L的流量為何，實施例3皆比實施例2抑制比電阻值的跳動。對此，被認為係因在實施例2中，處理液體L2容易從緩衝槽3的供給口3a直線地噴注至排出口3b，導致處理液體L2的攪拌效果比實施例3弱的結果。另一方面，在實施例3中，被認為係因處理液體L2以貼著緩衝槽3的內側面旋繞的方式對流，而獲得攪拌效果比實施例2高的結果。
[實施例4]
在實施例4中，係使用圖1所示的第一實施形態的比電阻值調整裝置1。供給至氣體溶解裝置2(液體供給管13)的液體L係採用溫度：25[℃]、供給水壓：0.25[MPa]、比電阻值：18.2[MΩ．cm]、流量：2.0[L/min]。 比電阻調整值係採用0.1[MΩ．cm]、0.2[MΩ．cm]、0.5[MΩ．cm]、0.6[MΩ．cm]、0.7[MΩ．cm]、0.8[MΩ．cm]、0.9[MΩ．cm]、1.0[MΩ．cm]。就緩衝槽3而言，使用圓筒狀的容器，將緩衝槽3的容量(內容積)採用150[cc]、300[cc]、400[cc]、500[cc]、700[cc]。
此外，在緩衝槽3正後方及處理液體排出管4的緩衝槽3的下游側5m處分別安裝比電阻值感測器，以該些比電阻值感測器測量處理液體L2的比電阻值。比電阻值感測器係使用與實施例1相同的感測器。緩衝槽3的容量為150[cc]的測量結果顯示於圖18，緩衝槽3的容量為300[cc]的測量結果顯示於圖19，緩衝槽3的容量為400[cc]的測量結果顯示於圖20，緩衝槽3的容量為500[cc]的測量結果顯示於圖21，緩衝槽3的容量為700[cc]的測量結果顯示於圖22。
[評價3]
參照在緩衝槽3正後方安裝的比電阻值感測器的測量結果，緩衝槽3的容量愈大，比電阻值的跳動幅度愈小。從此結果可知，緩衝槽3的容量愈大，愈促進緩衝槽3內處理液體L2的攪拌，故離子濃度均一化，抑制比電阻值的跳動。
[評價4]
經比較在緩衝槽3正後方安裝的比電阻值感測器的測量結果與安裝在處理液體排出管4的緩衝槽3的下游 側5m處的比電阻值感測器的測量結果，緩衝槽3的容量愈大，比電阻值的差愈小。從此結果可知，緩衝槽3的容量愈大，緩衝槽3內處理液體L2的滯留時間愈長，故在離子濃度的均一化的同時促進解離，抑制比電阻值的跳動及偏差兩者。
[評價5]
經比較安裝在緩衝槽3正後方的比電阻值感測器的測量結果與安裝在處理液體排出管4的緩衝槽3的下游側5m處的比電阻值感測器的測量結果，藉由緩衝槽3的容量比150[cc]大，使得比電阻值的差變小。此外，當緩衝槽3的容量為400[cc]以上時，比電阻值的差係幾乎不變。此處，緩衝槽3的容量為150[cc]時的處理液體L2在緩衝槽3的推定滯留時間係約5秒，緩衝槽3的容量為300[cc]為時的處理液體L2在緩衝槽3的推定滯留時間係約9秒，緩衝槽3的容量為400[cc]時的處理液體L2在緩衝槽3的推定滯留時間係約12秒。因此，可知藉由將緩衝槽3的容量設為以約7秒至12秒裝滿處理液體L2的容量、亦即設為相當於處理液體L2的流量的約7秒至12秒之量的容量，能既抑制緩衝槽3大型化，亦在緩衝槽3內使處理液體L2充分地解離。
[實施例5]
在實施例5中，除了液體L的流量採用1.0[L/min]、0.2[L/min]、緩衝槽3的容量採用400[cc]不同之外，其餘皆與實施例4同條件。
此外，在與實施例4相同的位置安裝比電阻值感測器，以該些比電阻值感測器測量處理液體L2的比電阻值。比電阻值感測器係使用與實施例1相同的感測器。液體L的流量為1.0[L/min]的測量結果顯示於圖23，液體L的流量為0.2[L/min]的測量結果顯示於圖24。
[評價]
圖20、圖23及圖24係僅液體L的流量不同，其他條件相同。此外，無論是何者的測量結果，皆抑制了比電阻值的跳動及偏差。從此結果可知，能類推不論液體L的流量為何，前述評價3至評價5皆屬妥當的評價。
1‧‧‧比電阻值調整裝置
2‧‧‧氣體溶解裝置
3‧‧‧緩衝槽
4‧‧‧處理液體排出管
L‧‧‧液體
L2‧‧‧處理液體

Claims (18)

  1. 一種比電阻值調整裝置，係具備：氣體溶解裝置，係使供調整超純水的比電阻值之用的調整氣體溶解於比電阻值的調整對象即前述超純水，產生將前述調整氣體溶解在前述超純水而得的處理液體；及緩衝槽，係被供給從前述氣體溶解裝置排出的前述處理液體，前述氣體溶解裝置係具備：中空纖維膜模組，係以中空纖維膜區分成被供給前述超純水之液相側區域與被供給前述調整氣體之氣相側區域，使透過前述中空纖維膜的前述調整氣體以飽和狀態溶解於前述超純水，產生調整氣體飽和液體；液體供給管，係被供給前述超純水；模組供給管，係經介將前述液體供給管分支的分支部而連通至前述液體供給管，將前述超純水供給至前述中空纖維膜模組；模組排出管，係從前述中空纖維膜模組排出前述調整氣體飽和液體；旁通管，係經介前述分支部而連通至前述液體供給管，旁通繞過前述中空纖維膜模組；及液體排出管，係經介將前述模組排出管與前述旁通管合流的合流部而與前述模組排出管及前述旁通管連通。
  2. 一種比電阻值調整裝置，係具備：氣體溶解裝置，係使供調整超純水的比電阻值之用的調整氣體溶解於比電阻值的調整對象即前述超純水，產生將前述調整氣體溶解在前述超純水而得的處理液體；緩衝槽，係被供給從前述氣體溶解裝置排出的前述處理液體；第一調整用配管，係將前述超純水供給至前述緩衝槽；第二調整用配管，係將前述調整氣體以飽和狀態溶解在前述超純水而得的調整氣體飽和液體供給至前述緩衝槽；及比電阻值感測器，係測量前述緩衝槽內的前述處理液體的比電阻值。
  3. 如請求項2之比電阻值調整裝置，其中前述氣體溶解裝置係具備：中空纖維膜模組，係以中空纖維膜區分成被供給前述超純水之液相側區域與被供給前述調整氣體之氣相側區域，使透過前述中空纖維膜的前述調整氣體以飽和狀態溶解於前述超純水，產生前述調整氣體飽和液體；液體供給管，係被供給前述超純水；模組供給管，係經介將前述液體供給管分支的分支部而連通至前述液體供給管，將前述超純水供給至 前述中空纖維膜模組；模組排出管，係從前述中空纖維膜模組排出前述調整氣體飽和液體；旁通管，係經介前述分支部而連通至前述液體供給管，旁通繞過前述中空纖維膜模組；及液體排出管，係經介將前述模組排出管與前述旁通管合流的合流部而與前述模組排出管及前述旁通管連通。
  4. 如請求項3之比電阻值調整裝置，其中前述第一調整用配管係連接至前述液體供給管或前述旁通管，前述第二調整用配管係連接至前述模組排出管。
  5. 如請求項1或2之比電阻值調整裝置，其中前述緩衝槽為圓筒狀的容器。
  6. 如請求項1或2之比電阻值調整裝置，其中前述緩衝槽係具有被供給前述處理液體之供給口、及排出前述處理液體的排出口；前述供給口與前述排出口係朝向於相異的線上。
  7. 如請求項6之比電阻值調整裝置，其中前述供給口及前述排出口係朝向於從沿前述緩衝槽的上下方向延伸的中心軸線偏移的位置。
  8. 如請求項6之比電阻值調整裝置，其中前述供給口與前述排出口係配置在前述緩衝槽的上下方向的不同位置。
  9. 如請求項8之比電阻值調整裝置，其中前述排出口係配置在比前述供給口更上方處。
  10. 如請求項8之比電阻值調整裝置，其中前述供給口係形成在前述緩衝槽的上部。
  11. 如請求項1或2之比電阻值調整裝置，其中前述緩衝槽的容量為以7秒至12秒裝滿前述處理液體的容量。
  12. 如請求項1或2之比電阻值調整裝置，其中復具備：處理液體排出管，係從前述緩衝槽排出前述處理液體；泵，係安裝在前述處理液體排出管，將前述處理液體送出；開閉閥，係安裝在前述處理液體排出管的比前述泵更下游側，開閉前述處理液體排出管；及循環配管，係從前述處理液體排出管的前述泵與前述開閉閥之間分支，將流通在前述處理液體排出管的前述處理液體送回前述緩衝槽。
  13. 如請求項12之比電阻值調整裝置，其中前述緩衝槽係具有被供給來自前述循環配管的前述處理液體之循環口；前述循環口係形成在前述緩衝槽的上部。
  14. 一種比電阻值調整方法，係具備：處理液體產生步驟，使供調整超純水的比電阻值之用的調整氣體以飽和狀態溶解於比電阻值的調整對象即前述超純水，產生將前述調整氣體溶解在前述超 純水而得的處理液體；及緩衝槽供給步驟，將所產生的前述處理液體供給至緩衝槽；在前述處理液體產生步驟中，藉由氣體溶解裝置產生前述處理液體，該氣體溶解裝置具備：中空纖維膜模組，係以中空纖維膜區分成被供給前述超純水之液相側區域與被供給前述調整氣體之氣相側區域，使透過前述中空纖維膜的前述調整氣體以飽和狀態溶解於前述超純水，產生調整氣體飽和液體；液體供給管，係被供給前述超純水；模組供給管，係經介將前述液體供給管分支的分支部而連通至前述液體供給管，將前述超純水供給至前述中空纖維膜模組；模組排出管，係從前述中空纖維膜模組排出前述調整氣體飽和液體；旁通管，係經介前述分支部而連通至前述液體供給管，旁通繞過前述中空纖維膜模組；及液體排出管，係經介將前述模組排出管與前述旁通管合流的合流部而與前述模組排出管及前述旁通管連通。
  15. 一種比電阻值調整方法，係具備：處理液體產生步驟，係使供調整超純水的比電阻值之用的調整氣體以飽和狀態溶解於比電阻值的調整對象即前述超純水，產生將前述調整氣體溶解在前述超純水而得的處理液體；緩衝槽供給步驟，係將所產生的前述處理液體供給至緩衝槽； 超純水供給步驟，係依據前述緩衝槽內之前述處理液體的比電阻值，將前述超純水供給至前述緩衝槽；及調整氣體飽和液體供給步驟，係依據前述緩衝槽內之前述處理液體的比電阻值，將前述調整氣體以飽和狀態溶解在前述超純水而得的調整氣體飽和液體供給至前述緩衝槽。
  16. 如請求項15之比電阻值調整方法，其中在前述處理液體產生步驟中，藉由氣體溶解裝置產生前述處理液體，該氣體溶解裝置具備：中空纖維膜模組，係以中空纖維膜區分成被供給前述超純水之液相側區域與被供給前述調整氣體之氣相側區域，使透過前述中空纖維膜的前述調整氣體以飽和狀態溶解於前述超純水，產生前述調整氣體飽和液體；液體供給管，係被供給前述超純水；模組供給管，係經介將前述液體供給管分支的分支部而連通至前述液體供給管，將前述超純水供給至前述中空纖維膜模組；模組排出管，係從前述中空纖維膜模組排出前述調整氣體飽和液體；旁通管，係經介前述分支部而連通至前述液體供給管，旁通繞過前述中空纖維膜模組；及液體排出管，係經介將前述模組排出管與前述旁通管合流的合流部而與前述模組排出管及前述旁通管連通。
  17. 如請求項16之比電阻值調整方法，其中在前述超純水供給步驟中，將前述液體供給管或 前述旁通管的前述超純水供給至前述緩衝槽，在前述飽和液體供給步驟中，將前述模組排出管的前述調整氣體飽和液體供給至前述緩衝槽。
  18. 如請求項14或15之比電阻值調整方法，其中在前述緩衝槽供給步驟中，將前述緩衝槽中的前述處理液體的滯留時間設為7至12秒。
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