KR20170092474A - 처리액 기화 장치와 기판 처리 장치 - Google Patents

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Abstract

처리액 기화 장치는, 처리액을 저류하는 버퍼 탱크와, 버퍼 탱크에 연통 접속되어 처리액을 기화시키는 기화 용기와, 기화 용기와 병렬로 버퍼 탱크에 연통 접속되어 처리액을 기화시키는 기화 용기와, 버퍼 탱크와 기화 용기 사이의 처리액의 유로를 개폐하는 개폐 밸브와, 버퍼 탱크와 기화 용기 사이의 처리액의 유로를 개폐하는 개폐 밸브를 구비하고 있다.

Description

처리액 기화 장치와 기판 처리 장치{TREATING LIQUID VAPORIZING APPARATUS AND SUBSTRATE TREATING APPARATUS}
본 발명은, 처리액을 기화시키는 처리액 기화 장치와 기판에 처리를 행하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 기판은 반도체 웨이퍼, 포토마스크용 유리 기판, 액정 표시용 유리 기판, 광디스크용 기판 등이다.
종래, 이런 종류의 기판 처리 장치로서, 유체 공급계와 복수의 처리 유닛을 구비하는 장치가 있다. 유체 공급계는 처리 유체를 복수의 처리 유닛에 공급한다. 처리 유체는, 예를 들면, 이소프로필알코올, 순수, SCI액(암모니아와 과산화수소수의 혼합액), 또는, 희석 불산 수용액이다. 혹은, 처리 유체는, 예를 들면, 헥사메틸디실라잔(HMDS) 등의 증기이다. 각 처리 유닛은 각각, 유체를 이용해 기판에 처리를 행한다.
유체 공급계는, 1개의 탱크와 1개의 공급 라인과 복수의 분기 라인을 구비하고 있다. 탱크는 처리 유체를 저류한다. 공급 라인은 탱크에 접속되어 있다. 각 분기 라인의 일단은 공급 라인에 접속되어 있다. 각 분기 라인의 타단은 각각, 처리 유닛에 개별적으로 접속되어 있다(예를 들면, 일본국 특허 공개 2011－082279호 공보에 개시됨).
그러나, 종래의 기판 처리 장치는 다음과 같은 문제가 있다.
동시에 가동하는 처리 유닛의 수는 변동한다. 예를 들면, 복수의 처리 유닛이 동시에 처리를 실행할 때도 있으면, 1개의 처리 유닛만이 처리를 실행하고, 그 외의 처리 유닛이 휴지하고 있을 때도 있다. 이와 같이, 처리 유닛의 가동 상황에 따라, 유체 공급계가 처리 유닛에 공급하는 처리 유체의 공급량은 변동한다.
특히 처리 유체가 처리 가스인 경우, 처리 가스의 공급량이 변동하면, 처리 가스의 농도가 불균일해지기 쉽다. 처리 가스의 농도가 변동하면, 처리 유닛에 따른 처리의 품질을 유지하는 것이 곤란해진다.
본 발명은, 이러한 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 처리 가스의 농도의 불균일을 억제할 수 있는 처리액 기화 장치와 기판 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은, 이러한 목적을 달성하기 위해서, 다음과 같은 구성을 취한다.
즉, 본 발명은, 처리액 기화 장치로서, 처리액 기화 장치는, 처리액을 저류하는 탱크와, 상기 탱크에 연통 접속되어 처리액을 기화시키는 제1 기화 용기와, 상기 제1 기화 용기와 병렬로 탱크에 연통 접속되어 처리액을 기화시키는 제2 기화 용기와, 상기 탱크와 상기 제1 기화 용기 사이의 처리액의 유로를 개폐하는 제1 처리액용 밸브와, 상기 탱크와 상기 제2 기화 용기 사이의 처리액의 유로를 개폐하는 제2 처리액용 밸브를 구비한다.
제1 처리액용 밸브가 닫힘으로써, 제1 기화 용기가 탱크 및 제2 기화 용기로부터 분리(차단)된다. 제1 기화 용기가 탱크 및 제2 기화 용기로부터 분리되어 있을 때, 제1 기화 용기는, 탱크 및 제2 기화 용기의 영향을 받지 않고 처리액을 기화할 수 있다. 이 때문에, 제1 기화 용기는 처리 가스를 적합하게 생성할 수 있다. 즉, 제1 기화 용기 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 적합하게 억제할 수 있다.
제2 처리액용 밸브가 닫힘으로써, 제2 기화 용기가 탱크 및 제1 기화 용기로부터 분리된다. 제2 기화 용기가 탱크 및 제1 기화 용기로부터 분리되어 있을 때, 제2 기화 용기는, 탱크 및 제1 기화 용기의 영향을 받지 않고 처리액을 기화할 수 있다. 이 때문에, 제2 기화 용기는 처리 가스를 적합하게 생성할 수 있다. 즉, 제2 기화 용기 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 적합하게 억제할 수 있다.
제1 처리액용 밸브와 제2 처리액용 밸브는 각각, 개별적으로 개폐할 수 있다.
예를 들면, 제1 처리액용 밸브 및 제2 처리액용 밸브 중 한쪽만이 닫혀도 된다. 이 경우, 제1 기화 용기 및 제2 기화 용기 중 한쪽은, 제1 기화 용기 및 제2 기화 용기 중 다른 쪽과 탱크로부터 분리된다. 따라서, 제1 기화 용기 및 제2 기화 용기 중 한쪽에서 처리 가스를 적합하게 생성할 수 있다. 즉, 처리액 기화 장치는, 비교적 소량의 처리 가스를 적합하게 생성할 수 있다.
예를 들면, 제1 처리액용 밸브 및 제2 처리액용 밸브 양쪽 모두가 닫혀도 된다. 이 경우, 제1 기화 용기와 제2 기화 용기와 탱크가 상호 분리된다. 따라서, 제1 기화 용기 및 제2 기화 용기 양쪽 모두에서 처리 가스를 적합하게 생성할 수 있다. 즉, 처리액 기화 장치는, 비교적 다량의 처리 가스를 적합하게 생성할 수 있다.
이와 같이, 어느 경우에 있어서도, 처리액 기화 장치는 처리 가스의 농도의 불균일을 적합하게 억제할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 상기 제1 기화 용기에서 생성된 처리 가스는 1개의 상기 제1 처리 유닛으로만 보내지고, 상기 제2 기화 용기에서 생성된 처리 가스는 1개의 상기 제2 처리 유닛으로만 보내지는 것이 바람직하다. 바꾸어 말하면, 제1 기화 용기는, 1개의 제1 처리 유닛에 공급하기 위한 처리 가스만을 생성하고, 제2 기화 용기는, 1개의 제2 처리 유닛에 공급하기 위한 처리 가스만을 생성하는 것이 바람직하다. 제1 기화 용기에서의 처리 가스의 생성량이 변동하는 것을 적합하게 억제할 수 있다. 따라서, 제1 기화 용기 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 한층 적합하게 억제할 수 있다. 동일하게, 제2 기화 용기에서의 처리 가스의 생성량이 변동하는 것을 적합하게 억제할 수 있다. 따라서, 제2 기화 용기 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 한층 적합하게 억제할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 상기 탱크의 내부는 상기 탱크의 외부에 개방되어 있고, 상기 처리액 기화 장치는, 상기 제1 기화 용기의 내부를 상기 제1 기화 용기의 외부에 대해서 개폐하는 제1 벤트 밸브와, 상기 제2 기화 용기의 내부를 상기 제2 기화 용기의 외부에 대해서 개폐하는 제2 벤트 밸브를 구비하는 것이 바람직하다. 제1 벤트 밸브가 열림으로써, 제1 기화 용기의 내부의 압력이 탱크의 내부의 압력과 대략 동일해진다. 따라서, 탱크로부터 제1 기화 용기에 처리액을 용이하게 보급할 수 있다. 동일하게 제2 벤트 밸브가 열림으로써, 제2 기화 용기의 내부의 압력이 탱크의 내부의 압력과 대략 동일해진다. 따라서, 탱크로부터 제2 기화 용기에 처리액을 용이하게 보급할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 상기 제1 기화 용기와 상기 제2 기화 용기는 각각, 상기 탱크의 측방에 설치되는 것이 바람직하다. 탱크로부터 제1 기화 용기에 처리액을 한층 용이하게 보급할 수 있다. 동일하게 탱크로부터 제2 기화 용기에 처리액을 한층 용이하게 보급할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 상기 제1 처리액용 밸브 및 상기 제1 벤트 밸브가 각각 열림으로써, 상기 탱크와 상기 제1 기화 용기 사이를 처리액이 스스로 이동하여, 상기 탱크 내의 처리액의 액위와 상기 제1 기화 용기 내의 처리액의 액위가 동일해지고, 상기 제2 처리액용 밸브 및 상기 제2 벤트 밸브가 각각 열림으로써, 상기 탱크와 상기 제2 기화 용기 사이를 처리액이 스스로 이동하여, 상기 탱크 내의 처리액의 액위와 상기 제2 기화 용기 내의 처리액의 액위가 동일해지는 것이 바람직하다. 간이한 구성으로, 제1 기화 용기에 적절한 양의 처리액을 보급할 수 있다. 동일하게 간이한 구성으로, 제2 기화 용기에 적절한 양의 처리액을 용이하게 보급할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 상기 제1 처리액용 밸브가 열려 있을 때, 상기 제1 벤트 밸브는 열리고, 상기 제2 처리액용 밸브가 열려 있을 때, 상기 제2 벤트 밸브는 열리는 것이 바람직하다. 제1 처리액용 밸브가 열려 있을 때에 제1 벤트 밸브가 열리므로, 제1 기화 용기에 처리액을 용이하게 보급할 수 있다. 동일하게 제2 처리액용 밸브가 열려 있을 때에 제2 벤트 밸브가 열리므로, 제2 기화 용기에 처리액을 용이하게 보급할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 상기 처리액 기화 장치는, 상기 탱크 내의 압력을 조정하는 압력 조정부를 구비하는 것이 바람직하다. 탱크 내의 압력을 조정함으로써, 탱크와 제1 기화 용기 사이에서의 압력차를 적합하게 조정할 수 있다. 이 압력차를 이용하여, 탱크로부터 제1 기화 용기에 처리액을 적합하게 공급할 수 있다. 동일하게 탱크 내의 압력을 조정함으로써, 탱크와 제2 기화 용기 사이에서의 압력차를 적합하게 조정할 수 있다. 이 압력차를 이용하여, 탱크로부터 제2 기화 용기에 처리액을 적합하게 공급할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 상기 제1 기화 용기는, 상기 탱크보다도 높은 위치에 설치되고, 상기 제2 기화 용기는, 상기 탱크보다도 높은 위치에 설치되는 것이 바람직하다. 압력차를 이용함으로써, 탱크로부터, 탱크보다도 상방에 설치되어 있는 제1 기화 용기에 처리액을 공급할 수 있다. 이와 같이, 제1 기화 용기가 탱크보다도 높은 위치에 설치되어 있어도, 제1 기화 용기에 처리액을 지장없이 공급할 수 있다. 동일하게, 제2 기화 용기가 탱크보다도 높은 위치에 설치되어 있어도, 제2 기화 용기에 처리액을 지장없이 공급할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 상기 제1 처리액용 밸브가 열리고, 또한, 상기 압력 조정부가 상기 탱크 내의 압력을 조정함으로써, 상기 탱크와 상기 제1 기화 용기 사이에 있어서 처리액을 강제적으로 이동시키고, 상기 제2 처리액용 밸브가 열리고, 또한, 상기 압력 조정부가 상기 탱크 내의 압력을 조정함으로써, 상기 탱크와 상기 제2 기화 용기 사이에 있어서 처리액을 강제적으로 이동시키는 것이 바람직하다. 제1 기화 용기에 처리액을 적합하게 보급할 수 있다. 동일하게, 제2 기화 용기에 처리액을 적합하게 보급할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 상기 탱크의 상단은, 상기 제1 기화 용기의 상단 및 상기 제2 기화 용기의 상단의 어느 것보다도 낮은 것이 바람직하다. 만일 처리액이 탱크로부터 흘러넘친 경우라도, 처리액이 제1 기화 용기로부터 흘러넘치는 것을 적합하게 방지할 수 있다. 동일하게, 만일 처리액이 탱크로부터 흘러넘친 경우라도, 처리액이 제2 기화 용기로부터 흘러넘치는 것을 적합하게 방지할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 상기 처리액 기화 장치는, 상기 제1 기화 용기에 보내지는 불활성 가스의 유로를 개폐하는 제1 불활성 가스용 밸브와, 상기 제2 기화 용기에 보내지는 불활성 가스의 유로를 개폐하는 제2 불활성 가스용 밸브를 구비하는 것이 바람직하다. 제1 기화 용기와 제2 기화 용기에 개별적으로 불활성 가스를 공급할 수 있다. 예를 들면, 제1 불활성 가스용 밸브 및 제2 불활성 가스용 밸브 양쪽 모두가 열림으로써, 제1 기화 용기 및 제2 기화 용기의 양쪽 모두에 동시에 불활성 가스를 공급할 수 있다. 이에 따라, 제1 기화 용기 및 제2 기화 용기 양쪽 모두가 병행해 처리액을 기화할 수 있다. 예를 들면, 제1 불활성 가스용 밸브 및 제2 불활성 가스용 밸브 중 한쪽만이 열림으로써, 제1 기화 용기 및 제2 기화 용기 중 한쪽에만 불활성 가스를 공급할 수 있다. 이에 따라, 제1 기화 용기 및 제2 기화 용기 중 한쪽만이 처리액을 기화할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 상기 제1 처리액용 밸브가 열려 있을 때, 상기 제1 불활성 가스용 밸브는 닫혀 있고, 상기 제2 처리액용 밸브가 열려 있을 때, 상기 제2 불활성 가스용 밸브는 닫혀 있는 것이 바람직하다. 제1 처리액용 밸브가 열려 있을 때에는 제1 불활성 가스용 밸브가 닫혀 있으므로, 제1 기화 용기 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 미연에 회피할 수 있다. 동일하게, 제2 처리액용 밸브가 열려 있을 때에는 제2 불활성 가스용 밸브가 닫혀 있으므로, 제2 기화 용기 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 미연에 회피할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 상기 처리액 기화 장치는, 상기 제1 기화 용기로부터 나오는 처리 가스의 유로를 개폐하는 제1 처리 가스용 밸브와, 상기 제2 기화 용기로부터 나오는 처리 가스의 유로를 개폐하는 제2 처리 가스용 밸브를 구비하는 것이 바람직하다. 제1 기화 용기와 제2 기화 용기는 개별적으로 처리 가스를 나오게 할 수 있다. 예를 들면, 제1 처리 가스용 밸브 및 제2 처리 가스용 밸브 양쪽 모두가 열림으로써, 제1 기화 용기 및 제2 기화 용기 양쪽 모두로부터 동시에 처리 가스를 나오게 할 수 있다. 예를 들면, 제1 처리 가스용 밸브 및 제2 처리 가스용 밸브 중 한쪽만이 열림으로써, 제1 기화 용기 및 제2 기화 용기 중 한쪽만으로부터 처리 가스를 나오게 할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 상기 제1 처리액용 밸브가 열려 있을 때, 상기 제1 처리 가스용 밸브는 닫혀 있고, 상기 제2 처리액용 밸브가 열려 있을 때, 상기 제2 처리 가스용 밸브는 닫혀 있는 것이 바람직하다. 제1 처리액용 밸브가 열려 있을 때에는 제1 처리 가스용 밸브는 닫혀 있으므로, 제1 기화 용기가 탱크와 연통하고 있는 경우, 제1 기화 용기 내의 처리 가스가 처리 가스의 유로를 통해서 제1 기화 용기의 외부에 나오지 않는다. 이에 따라, 농도가 불균일한 처리 가스가 제1 기화 용기로부터 나오는 것을 미연에 회피할 수 있다. 동일하게 제2 처리액용 밸브가 열려 있을 때에는 제2 처리 가스용 밸브는 닫혀 있으므로, 농도가 불균일한 처리 가스가 제2 기화 용기로부터 나오는 것을 미연에 회피할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 상기 처리액 기화 장치는, 처리액 공급원으로부터 상기 탱크에 공급되는 처리액의 유로를 개폐하는 탱크 처리액용 밸브를 구비하는 것이 바람직하다. 처리액 공급원으로부터 탱크로의 처리액의 공급과 그 정지를 적합하게 전환할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 상기 처리액 기화 장치는, 상기 탱크 내의 처리액의 액위를 검출하는 액위 검출 센서를 구비하고, 상기 액위 검출 센서의 검출 결과에 근거해 상기 탱크 처리액용 밸브가 개폐되는 것이 바람직하다. 처리액 공급원으로부터 탱크에 처리액을 적절한 타이밍에서 공급할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 상기 처리액 기화 장치는, 처리액이 상기 탱크의 상단으로부터 흘러넘치고 있는지 아닌지를 검출하는 오버플로우 센서를 구비하고, 상기 오버플로우 센서의 검지 결과에 근거해 처리액이 상기 탱크로부터 흘러넘치고 있다고 판단되었을 때, 상기 제1 처리액용 밸브 및 상기 제2 처리액용 밸브는 각각 닫히는 것이 바람직하다. 처리액이 제1 기화 용기로부터 흘러넘치는 것을 미연에 회피할 수 있고 또한, 처리액이 제2 기화 용기로부터 흘러넘치는 것을 미연에 회피할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 상기 처리액 기화 장치는, 제1 기화 용기로부터 나온 처리 가스를 희석하는 불활성 가스의 유로를 개폐하는 제1 희석용 밸브와, 제2 기화 용기로부터 나온 처리 가스를 희석하는 불활성 가스의 유로를 개폐하는 제2 희석용 밸브를 구비하는 것이 바람직하다. 제1 희석용 밸브가 열리면, 제1 기화 용기로부터 나온 처리 가스에 불활성 가스를 혼합할 수 있다. 이에 따라, 제1 기화 용기로부터 나온 처리 가스를 적합하게 희석할 수 있다. 동일하게 처리액 기화 장치는 제2 희석용 밸브를 구비하고 있으므로, 제2 기화 용기로부터 나온 처리 가스를 적합하게 희석할 수 있다.
상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 제1 기화 용기와 제2 기화 용기는 동일한 높이 위치에 배치되는 것이 바람직하다. 제1 기화 용기 및 제2 기화 용기에 대략 동일한 양의 처리액을 보급할 수 있다.
또, 본 발명은, 기판 처리 장치로서, 기판 처리 장치는, 상기 탱크에 연통 접속되어 처리액을 기화시키는 제1 기화 용기와, 상기 제1 기화 용기와 병렬로 상기 탱크에 연통 접속되어 처리액을 기화시키는 제2 기화 용기와, 상기 탱크와 상기 제1 기화 용기 사이의 처리액의 유로를 개폐하는 제1 처리액용 밸브와, 상기 탱크와 상기 제2 기화 용기 사이의 처리액의 유로를 개폐하는 제2 처리액용 밸브와, 상기 제1 기화 용기에서 생성된 처리 가스를 이용해 기판에 처리를 행하는 1개의 제1 처리 유닛과, 상기 제2 기화 용기에서 생성된 처리 가스를 이용해 기판에 처리를 행하는 1개의 제2 처리 유닛을 구비한다.
제1 처리액용 밸브가 닫힘으로써, 제1 기화 용기가 탱크 및 제2 기화 용기로부터 분리(차단)된다. 제1 기화 용기는 탱크 및 제2 기화 용기의 영향을 받지 않고 처리액을 기화할 수 있다. 이 때문에, 제1 기화 용기 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 적합하게 억제할 수 있다.
제2 처리액용 밸브가 닫힘으로써, 제2 기화 용기가 탱크 및 제1 기화 용기로부터 분리된다. 제2 기화 용기는, 탱크 및 제1 기화 용기의 영향을 받지 않고 처리액을 기화할 수 있다. 이 때문에, 제2 기화 용기 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 적합하게 억제할 수 있다.
제1 처리액용 밸브와 제2 처리액용 밸브는 각각, 개별적으로 개폐할 수 있다. 예를 들면, 제1 처리액용 밸브 및 제2 처리액용 밸브 중 한쪽만이 닫혀도 된다. 이 경우, 제1 처리액용 밸브 및 제2 처리액용 밸브 중 한쪽에서만 처리 가스를 적합하게 생성할 수 있다. 예를 들면, 제1 처리액용 밸브 및 제2 처리액용 밸브 양쪽 모두가 닫혀 있어도 된다. 이 경우, 제1 처리액용 밸브 및 제2 처리액용 밸브 양쪽 모두에서 처리 가스를 적합하게 생성할 수 있다. 이와 같이, 어느 경우에 있어서도, 기판 처리 장치는 처리 가스의 농도의 불균일을 적합하게 억제할 수 있다.
또한, 제1 기화 용기는, 1개의 제1 처리 유닛에 공급하기 위한 처리 가스만을 생성한다. 이에 따라, 제1 기화 용기에서의 처리 가스의 생성량이 변동하는 것을 적합하게 억제할 수 있다. 따라서, 제1 기화 용기 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 한층 적합하게 억제할 수 있다. 동일하게 제2 기화 용기는, 1개의 제2 처리 유닛에 공급하기 위한 처리 가스만을 생성한다. 이에 따라, 제2 기화 용기에서의 처리 가스의 생성량이 변동하는 것을 적합하게 억제할 수 있다. 따라서, 제2 기화 용기 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 한층 적합하게 억제할 수 있다.
제1 처리 유닛은, 제1 기화 용기에서 생성된 처리 가스를 사용해 기판에 처리를 행한다. 따라서, 제1 처리 유닛에서의 처리의 품질을 적합하게 유지할 수 있다. 동일하게 제2 처리 유닛은, 제2 기화 용기에서 생성된 처리 가스를 사용해 기판에 처리를 행한다. 따라서, 제2 처리 유닛에서의 처리의 품질을 적합하게 유지할 수 있다.
또한, 본 명세서는, 다음과 같은 처리액 기화 장치와 따른 발명도 개시한다.
(1) 상술한 처리액 기화 장치에 있어서, 처리액 기화 장치는, 상기 탱크와 상기 제1 기화 용기를 접속하는 제1 보급관과, 상기 탱크와 상기 제2 기화 용기를 접속하는 제2 보급관을 구비하고, 상기 제1 처리액용 밸브는 상기 제1 보급관 상에 설치되고, 상기 제2 처리액용 밸브는 상기 제2 보급관 상에 설치된다.
상기 (1)에 기재된 처리액 기화 장치에 따르면, 제1 기화 용기 및 제2 기화 용기를 서로 병렬로, 탱크에 연통 접속시킬 수 있다.
※ 발명을 설명하기 위해 현재 적합하다고 생각되는 몇 개의 형태가 도시되어 있지만, 발명이 도시된 바와 같은 구성 및 방책으로 한정되는 것은 아님을 이해하기 바란다.
도 1은, 실시예 1에 따른 기판 처리 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 2a는 버퍼 탱크와 기화 용기의 정면도이고, 도 2b는 버퍼 탱크와 기화 용기의 평면도이다.
도 3은, 기판 처리 장치의 동작예를 나타내는 도면이다.
도 4는, 기판 처리 장치의 동작예를 나타내는 도면이다.
도 5는, 기판 처리 장치의 동작예를 나타내는 도면이다.
도 6은, 실시예 2에 따른 기판 처리 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 7은, 버퍼 탱크와 기화 용기의 정면도이다.
도 8은, 실시예 3에 따른 기판 처리 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 9는, 버퍼 탱크와 기화 용기의 정면도이다.
도 10은, 변형 실시예에 따른 기판 처리 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
도 11은, 변형 실시예에 따른 버퍼 탱크와 기화 용기의 평면도이다.
도 12는, 변형 실시예에 따른 버퍼 탱크와 기화 용기의 정면도이다.
실시예 1
이하, 도면을 참조해 본 발명의 실시예 1을 설명한다.
도 1은, 실시예 1에 따른 기판 처리 장치의 구성을 나타내는 도면이다.
실시예 1에 따른 기판 처리 장치는, 기판(예를 들면, 반도체 웨이퍼)(W)에 처리를 행하는 장치이다.
기판 처리 장치(1)는 처리액 기화 장치(3)와 복수(예를 들면 2개)의 처리 유닛(5a, 5b)을 구비하고 있다. 처리액 기화 장치(3)는 처리액을 기화시킴으로써 처리 가스를 생성한다. 처리 가스는 기화한 처리액을 포함하는 가스이다. 처리액 기화 장치(3)는 처리 가스를 처리 유닛(5a, 5b)에 공급한다. 처리 유닛(5a, 5b)은 처리 가스를 이용해 기판(W)에 처리를 행한다.
처리액 기화 장치(3)는 처리액 공급원(11)과 버퍼 탱크(13)와 배관(15)과 개폐 밸브(17)와 배관(19)을 구비한다. 처리액 공급원(11)은 처리액을 버퍼 탱크(13)에 공급한다. 처리액은, 예를 들면 헥사메틸디실라잔(HMDS)이다. 버퍼 탱크(13)는 처리액을 저류한다. 도 1에서는, 버퍼 탱크(13)에 저류되는 처리액에 부호 「Ss」를 부여한다. 배관(15)은 처리액 공급원(11)과 버퍼 탱크(13)를 연통 접속한다. 개폐 밸브(17)는 배관(15) 상에 설치되어 있다. 개폐 밸브(17)는, 처리액 공급원(11)과 버퍼 탱크(13) 사이의 처리액의 유로를 개폐한다. 배관(19)은, 버퍼 탱크(13)의 내부를 버퍼 탱크(13)의 외부에 개방한다. 배관(19)의 일단은 버퍼 탱크(13)의 상부에 연결되어 있다. 배관(19)의 타단은 버퍼 탱크(13)의 외부 에 있어서 개방되어 있다. 배관(19)에 의해서, 버퍼 탱크(13)의 내부의 기압은 버퍼 탱크(13)의 외부의 기압과 실질적으로 동등하게 유지되어 있다.
처리액 기화 장치(3)는 액면 센서(21a, 21b)를 구비한다. 액면 센서(21a, 21b)는 버퍼 탱크(13)에 부착되어 있다. 액면 센서(21a, 21b)는 버퍼 탱크(13) 내의 처리액의 액위를 검출한다. 「처리액의 액위」란, 처리액의 액면의 높이 위치이다. 액면 센서(21a)는 버퍼 탱크(13) 내의 처리액의 액위가 저액위(LL) 이상인지 아닌지를 검출한다. 액면 센서(21b)는 버퍼 탱크(13) 내의 처리액의 액위가 저액위(LL)보다도 높은 고액위(HL) 이상인지 아닌지를 검출한다. 액면 센서(21a, 21b)를 특별히 구별하지 않는 경우에는, 「액면 센서(21)」라고 대략 기재한다.
처리액 기화 장치(3)는 복수(예를 들면 2개)의 기화 용기(23a, 23b)를 구비한다. 기화 용기(23a, 23b)는 각각, 처리액을 기화시킨다. 보다 구체적으로는, 기화 용기(23a, 23b)는 처리액을 저류한다. 도 1에서는, 기화 용기(23a)에 저류되는 처리액에 부호 「Sa」를 부여하고, 기화 용기(23b)에 저류되는 처리액에 부호 「Sb」를 부여한다. 기화 용기(23a)는 처리액(Sa)을 기화시키고, 기화 용기(23b)는 처리액(Sb)을 기화시킨다. 이에 따라, 기화 용기(23a, 23b)는 각각 처리 가스를 생성한다. 처리 가스는, 예를 들면 기화한 HMDS를 포함하는 가스이다.
처리액 기화 장치(3)는 배관(25a, 25b)을 구비한다. 배관(25a)은 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a)를 연통 접속한다. 배관(25a)의 일단은 버퍼 탱크(13)의 하부와 연결되어 있다. 배관(25a)의 타단은 기화 용기(23a)의 하부와 연결되어 있다. 배관(25b)은 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23b)를 연통 접속한다. 배관(25b)의 일단은 버퍼 탱크(13)의 하부와 연결되어 있다. 배관(25b)의 타단은 기화 용기(23b)의 하부와 연결되어 있다. 기화 용기(23a, 23b)는 서로 병렬로 버퍼 탱크(13)와 연통 접속하고 있다.
처리액 기화 장치(3)는 개폐 밸브(27a, 27b)를 구비한다. 개폐 밸브(27a)는, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a) 사이의 처리액의 유로를 개폐한다. 개폐 밸브(27a)는, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a) 사이에 설치되어 있다. 구체적으로는, 개폐 밸브(27a)는 배관(25a) 상에 설치되어 있다. 동일하게 개폐 밸브(27b)는, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23b) 사이의 처리액의 유로를 개폐한다. 개폐 밸브(27b)는, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23b) 사이에 설치되어 있다. 구체적으로는, 개폐 밸브(27b)는 배관(25b) 상에 설치되어 있다. 개폐 밸브(27a, 27b)는 서로 병렬로 버퍼 탱크(13)와 연통 접속하고 있다.
또한, 개폐 밸브(27a)는, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23b) 사이의 처리액의 유로를 개폐하지 않고, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a) 사이의 처리액의 유로를 개폐한다. 동일하게 개폐 밸브(27b)는, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a) 사이의 처리액의 유로를 개폐하지 않고, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23b) 사이의 처리액의 유로를 개폐한다.
처리액 기화 장치(3)는 배관(31a, 31b)과 개폐 밸브(33a, 33b)를 구비한다. 배관(31a)의 일단은 기화 용기(23a)의 상부에 연결되어 있다. 배관(31a)의 타단은 기화 용기(23a)의 외부에 있어서 개방되어 있다. 배관(31b)의 일단은 기화 용기(23b)의 상부에 연결되어 있다. 배관(31b)의 타단은 기화 용기(23b)의 외부에 있어서 개방되어 있다. 개폐 밸브(33a)는 배관(31a) 상에 설치된다. 개폐 밸브(33a)는, 기화 용기(23a)의 내부를 기화 용기(23a)의 외부에 대해서 개폐한다. 개폐 밸브(33b)는 배관(31b) 상에 설치된다. 개폐 밸브(33b)는, 기화 용기(23b)의 내부를 기화 용기(23b)의 외부에 대해서 개폐한다.
처리액 기화 장치(3)는 가스 공급원(35)과 배관(37a, 37b)과 개폐 밸브(39a, 39b)를 구비한다. 가스 공급원(35)은 불활성 가스를 기화 용기(23a, 23b)에 공급한다. 불활성 가스는, 예를 들면 질소 가스이다. 배관(37a)은 가스 공급원(35)과 기화 용기(23a)를 연통 접속한다. 배관(37b)은 가스 공급원(35)과 기화 용기(23b)를 연통 접속한다. 개폐 밸브(39a)는 배관(37a) 상에 설치되어 있다. 개폐 밸브(39a)는 가스 공급원(35)과 기화 용기(23a) 사이의 불활성 가스의 유로를 개폐한다. 개폐 밸브(39b)는 배관(37b) 상에 설치되어 있다. 개폐 밸브(39b)는 가스 공급원(35)과 기화 용기(23b) 사이의 불활성 가스의 유로를 개폐한다.
또한, 개폐 밸브(39a)는 가스 공급원(35)과 기화 용기(23b) 사이의 불활성 가스의 유로를 개폐하지 않고, 가스 공급원(35)과 기화 용기(23a) 사이의 불활성 가스의 유로를 개폐한다. 개폐 밸브(39b)는, 가스 공급원(35)과 기화 용기(23a) 사이의 불활성 가스의 유로를 개폐하지 않고, 가스 공급원(35)과 기화 용기(23b) 사이의 불활성 가스의 유로를 개폐한다.
처리액 기화 장치(3)는, 배관(41a, 41b)과 개폐 밸브(43a, 43b)를 구비하고 있다. 배관(41a)의 일단은 기화 용기(23a)의 상부에 연결되어 있다. 배관(41a)의 타단은 처리 유닛(5a)에 접속되고 있다. 배관(41b)의 일단은 기화 용기(23b)의 상부에 연결되어 있다. 배관(41b)의 타단은 처리 유닛(5b)에 접속되고 있다. 개폐 밸브(43a)는 배관(41a) 상에 설치된다. 개폐 밸브(43a)는 기화 용기(23a)로부터 나오는 처리 가스의 유로를 개폐한다. 개폐 밸브(43b)는 배관(41b) 상에 설치된다. 개폐 밸브(43b)는 기화 용기(23b)로부터 나오는 처리 가스의 유로를 개폐한다.
또한, 개폐 밸브(43a)는, 기화 용기(23b)로부터 나오는 처리 가스의 유로를 개폐하지 않고, 기화 용기(23a)로부터 나오는 처리 가스의 유로를 개폐한다. 개폐 밸브(43b)는 기화 용기(23a)로부터 나오는 처리 가스의 유로를 개폐하지 않고, 기화 용기(23b)로부터 나오는 처리 가스의 유로를 개폐한다.
버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a, 23b)의 위치 관계를 설명한다. 도 2a는 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a, 23b)의 정면도이다. 도 2b는 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a, 23b)의 평면도이다.
도 2a를 참조한다. 기화 용기(23a) 및 기화 용기(23b)는 각각, 버퍼 탱크(13)의 측방에 배치되어 있다. 실시예 1에서는, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a)와 기화 용기(23b)는 동일한 높이 위치에 배치되어 있다. 구체적으로는, 버퍼 탱크(13), 기화 용기(23a) 및 기화 용기(23b)의 각 상단은, 동일한 높이 위치(h1)에 배치되어 있다. 버퍼 탱크(13), 기화 용기(23a) 및 기화 용기(23b)의 각 하단은, 동일한 높이 위치(h2)에 배치되어 있다.
도 2b를 참조한다. 도시하는 바와 같이, 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23a, 23b)는 각각, 원통형상을 갖는다. 기화 용기(23a)는 버퍼 탱크(13)의 일측방에 배치되어 있다. 기화 용기(23b)는 버퍼 탱크(13)의 일측방과는 반대인 타측방에 배치되어 있다. 평면에서 보았을 때, 기화 용기(23a)와 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23b)는, 이 순서로 일렬로 줄지어 있다.
기화 용기(23a)와 기화 용기(23b)는 각각, 버퍼 탱크(13)로부터 대략 등거리의 위치에 배치되어 있다. 도 2b는, 참고로서 버퍼 탱크(13)의 중심과 기화 용기(23a)의 중심의 거리(La)와, 버퍼 탱크(13)의 중심과 기화 용기(23b)의 중심의 거리(Lb)를 나타낸다. 거리(La)는 거리(Lb)와 대략 동일하다.
배관(25a, 25b)은 각각, 대략 수평인 방향으로 직선적으로 연장되어 있다. 배관(25a)의 길이(la)는, 배관(25b)의 길이(lb)와 대략 동일하다.
이하에서는, 기화 용기(23a, 23b)를 특별히 구별하지 않는 경우에는, 간단히 「기화 용기(23)」라고 기재한다. 개폐 밸브(27a, 27b)를 특별히 구별하지 않는 경우에는, 간단히 「개폐 밸브(27)」라고 기재한다. 다른 개폐 밸브(33a, 33b, 39a, 39b, 43a, 43b)에 대해서도, 동일하게 대략 기재한다.
도 1을 참조한다. 처리액 기화 장치(3)는, 또한 제어부(45)를 구비하고 있다. 제어부(45)는, 개폐 밸브(17, 27, 33, 39, 43)와 액면 센서(21)와 전기적으로 접속되어 있다. 제어부(45)는, 액면 센서(21)의 검출 결과를 취득한다. 제어부(45)는, 개폐 밸브(17, 27, 33, 39, 43)의 작동을 제어한다.
제어부(45)는, 각종 처리를 실행하는 중앙 연산 처리 장치(CPU), 연산 처리의 작업 영역이 되는 RAM(Random-Access Memory), 고정 디스크 등의 기억 매체 등에 의해서 실현되어 있다. 기억 매체에는, 기판(W)을 처리하기 위한 처리 레시피(처리 프로그램)나, 각 기판(W)을 식별하기 위한 정보 등 각종 정보가 기억되어 있다.
버퍼 탱크(13)는 본 발명의 탱크의 예이다. 개폐 밸브(17)는 본 발명의 탱크 처리액용 밸브의 예이다. 액면 센서(21)는 본 발명의 액위 검출 센서의 예이다. 기화 용기(23a, 23b)는 본 발명의 제1 기화 용기, 제2 기화 용기의 예이다. 배관(25a, 25b)은 본 발명의 제1 보급관, 제2 보급관의 예이다. 개폐 밸브(27a, 27b)는, 본 발명의 제1 처리액용 밸브, 제2 처리액용 밸브의 예이다. 개폐 밸브(33a, 33b)는, 본 발명의 제1 벤트 밸브, 제2 벤트 밸브의 예이다. 개폐 밸브(39a, 39b)는, 본 발명의 제1 불활성 가스용 밸브, 제2 불활성 가스용 밸브의 예이다. 개폐 밸브(43a, 43b)는, 본 발명의 제1 처리 가스용 밸브, 제2 처리 가스용 밸브의 예이다.
다음에, 처리 유닛(5a, 5b)의 구성을 이하에 설명한다. 또한, 처리 유닛(5a, 5b)은 동일한 구성이다.
처리 유닛(5a/5b)은 플레이트(47)와 커버(48)와 노즐(49)을 구비한다. 플레이트(47)는 기판(W)을 올려놓는다. 플레이트(47)에는, 도시하지 않은 온도 조절부가 부착되어 있다. 온도 조절부는 플레이트(47)에 올려놓은 기판(W)을 소정의 온도로 조정한다. 커버(48)는 플레이트(47)의 상방에 설치되어 있다. 커버(48)는 플레이트(47)에 올려놓여져 있는 기판(W)의 상방을 덮는다. 커버(48)는 승강 가능하게 설치되어 있다. 노즐(49)은 커버(48)에 부착되어 있다. 노즐(49)은 배관(41)의 타단과 연결되어 있다. 노즐(49)은 커버(48)의 하방에 처리 가스를 분출한다.
제어부(45)는, 또한 처리 유닛(5a, 5b)에서의 온도 조절부를 제어하고, 커버(48)의 승강을 제어한다.
처리 유닛(5a, 5b)은 본 발명의 제1 처리 유닛, 제2 처리 유닛의 예이다. 처리 유닛(5a, 5b)을 특별히 구별하지 않는 경우에는, 간단히 「처리 유닛(5)」이라고 기재한다.
다음에, 기판 처리 장치(1)의 동작예를 설명한다. 기판 처리 장치(1)의 동작은, 버퍼 탱크(13)에 관한 동작과, 기화 용기(23a)에 관한 동작과, 기화 용기(23b)에 관한 동작의 조합이라고 생각할 수 있다. 우선, 각 동작에 대해 개별적으로 설명한다.
＜버퍼 탱크(13)에 관한 동작＞
도 1을 참조한다. 제어부(45)가, 액면 센서(21)의 검출 결과에 근거해 개폐 밸브(17)를 개폐한다.
구체적으로는, 제어부(45)가, 액면 센서(21a)의 검출 결과를 참조해, 버퍼 탱크(13) 내의 처리액이 저액위(LL) 미만이라고 판단하면, 제어부(45)는 개폐 밸브(17)를 연다. 개폐 밸브(17)가 열려 있을 때, 처리액 공급원(11)으로부터 버퍼 탱크(13)에 처리액이 공급된다.
제어부(45)가, 액면 센서(21b)의 검출 결과를 참조해, 버퍼 탱크(13) 내의 처리액이 고액위(HL) 이상이라고 판단하면, 제어부(45)는 개폐 밸브(17)를 닫는다. 개폐 밸브(17)가 닫혀 있을 때, 처리액 공급원(11)으로부터 버퍼 탱크(13)로의 처리액의 공급이 정지된다.
＜기화 용기(23a)에 관한 동작＞
제어부(45)는, 처리 레시피에 근거해, 개폐 밸브(27a, 33a, 39a, 43a)를 제어한다.
구체적으로는, 처리 유닛(5a)이 처리 가스를 사용할 때, 제어부(45)는 개폐 밸브(27a, 33a)를 닫고, 개폐 밸브(39a, 43a)를 연다.
개폐 밸브(27a)가 닫힘으로써, 기화 용기(23a)는 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23b)로부터 분리(차단)된다. 개폐 밸브(33a)가 닫힘으로써, 기화 용기(23a)는 반밀폐 상태가 된다. 개폐 밸브(39a)가 열림으로써 가스 공급원(35)으로부터 기화 용기(23a)에 불활성 가스가 보내진다. 처리액(Sa)은 불활성 가스와 혼합되고 처리액(Sa)의 일부가 기화한다. 즉, 기화한 처리액을 포함한 처리 가스가 기화 용기(23a) 내에 생성된다. 개폐 밸브(43a)가 열림으로써, 기화 용기(23a) 내의 처리 가스가 배관(41a)을 통해서 기화 용기(23a)의 외부로 나온다. 그리고, 처리 가스는, 처리 유닛(5a)(노즐(49))에 공급된다.
처리 유닛(5a)에서는, 플레이트(47) 상에 기판(W)이 올려놓여져 있다. 기판(W)의 온도는, 도시하지 않은 온도 조절부에 의해서 조정되어 있다. 커버(48)는 기판(W)의 상방을 덮고 있다. 노즐(49)은, 플레이트(47)와 커버(48) 사이에 처리 가스를 분출한다. 처리 가스는 기판(W)의 표면 위를 흐른다. 처리 가스 중의 기화한 처리액은, 기판(W)의 표면 상에서 액화한다. 이에 따라, 기판(W)의 표면의 전체에 걸쳐서 균일하게 처리액이 도포된다. 이와 같이, 처리 유닛(5a)은 기판(W)에 소수화 처리를 행한다.
한편, 처리 유닛(5a)이 처리 가스를 사용하지 않을 때, 제어부(45)는 개폐 밸브(27a, 33a)를 열고, 개폐 밸브(39a, 43a)를 닫는다.
개폐 밸브(33a)가 열림으로써, 기화 용기(23a)의 내부는 기화 용기(23a)의 외부에 개방된다. 기화 용기(23a)의 내부의 기압은, 기화 용기(23a)의 외부의 기압과 실질적으로 동일해진다. 즉, 기화 용기(23a)의 내압은 버퍼 탱크(13)의 내압과 대략 동일해진다. 개폐 밸브(27a)가 열림으로써, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a)가 서로 연통한다(연결된다). 이에 따라, 버퍼 탱크(13)로부터 기화 용기(23a)에 처리액이 공급된다. 보다 구체적으로는, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a) 사이를 처리액이 스스로 이동한다. 그 결과, 버퍼 탱크(13) 내의 처리액(Ss)의 액위와 기화 용기(23a) 내의 처리액(Sa)의 액위는 동일해진다.
개폐 밸브(39a)가 닫힘으로써, 가스 공급원(35)으로부터 기화 용기(23a)로의 불활성 가스의 공급이 정지한다. 이에 따라, 기화 용기(23a) 내에 있어서 처리 가스는 생성되지 않는다. 개폐 밸브(43a)가 닫힘으로써, 기화 용기(23a) 내의 기체가 배관(41a)을 통해서 기화 용기(23a)의 외부에 나오지 않는다. 즉, 처리 가스 등의 기체는, 기화 용기(23a)로부터 처리 유닛(5a)으로 보내지지 않는다.
＜기화 용기(23b)에 관한 동작＞
기화 용기(23b)에 관한 동작은, 기화 용기(23a)에 관한 동작과 대략 동일하다. 따라서, 이하에서는 기화 용기(23b)에 관한 동작을 간략하게 설명한다.
제어부(45)는, 처리 레시피에 근거해 개폐 밸브(27b, 33b, 39b, 43b)를 제어한다.
구체적으로는, 처리 유닛(5b)이 처리 가스를 사용할 때, 제어부(45)는 개폐 밸브(27b, 33b)를 닫고, 개폐 밸브(39b, 43b)를 연다. 이에 따라, 기화 용기(23b)는 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23a)로부터 분리된다. 불활성 가스가 기화 용기(23b)에 공급된다. 기화 용기(23b)는 처리액(Sb)을 기화시켜 처리 가스를 생성한다. 처리 가스는 기화 용기(23b)로부터 처리 유닛(5b)(노즐(49))에 공급된다. 처리 유닛(5b)은 처리 가스를 사용하여, 기판(W)에 처리를 행한다.
한편, 처리 유닛(5b)이 처리 가스를 사용하지 않을 때, 제어부(45)는 개폐 밸브(27b, 33b)를 열고, 개폐 밸브(39b, 43b)를 닫는다. 기화 용기(23b) 내의 압력은 버퍼 탱크(13) 내의 압력과 대략 동일해지고, 버퍼 탱크(13)로부터 기화 용기(23b)에 처리액이 보급된다. 불활성 가스는 기화 용기(23b)에 공급되지 않고, 기화 용기(23b)는 처리액(Sb)을 기화시키지 않는다. 기화 용기(23b) 내의 처리 가스 등의 기체는 처리 유닛(5b)으로 보내지지 않는다.
여기서, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a, 23b)에 관한 각 동작을 정리한다.
버퍼 탱크(13)에 관한 동작은, 버퍼 탱크(13)에 처리액을 공급하는 모드 M1과 버퍼 탱크(13)로의 처리액의 공급을 정지하는 모드 M2를 갖는다.
모드 M1, M2에서는, 개폐 밸브(17)는 다음과 같이 작동한다.
·모드 M1에서의 개폐 밸브(17)：열림
·모드 M2에서의 개폐 밸브(17)：닫힘
기화 용기(23a)에 관한 동작은, 기화 용기(23a)에서 처리액을 기화하는 모드 M3과 기화 용기(23a)에 처리액을 보급하는 모드 M4를 갖는다. 모드 M3, M4에서는, 개폐 밸브(27a, 33a, 39a, 43a)는 다음과 같이 작동한다.
·모드 M3에서의 개폐 밸브(27a, 33a, 39a, 43a)：닫힘, 닫힘, 열림, 열림
·모드 M4에서의 개폐 밸브(27a, 33a, 39a, 43a)：열림, 열림, 닫힘, 닫힘
기화 용기(23b)에 관한 동작은, 기화 용기(23b)에서 처리액을 기화하는 모드 M5와 기화 용기(23b)에 처리액을 보급하는 모드 M6을 갖는다.
모드 M5, M6에서는, 개폐 밸브(27b, 33b, 39b, 43b)는 다음과 같이 작동한다.
·모드 M5에서의 개폐 밸브(27b, 33b, 39b, 43b)：닫힘, 닫힘, 열림, 열림
·모드 M6에서의 개폐 밸브(27b, 33b, 39b, 43b)：열림, 열림, 닫힘, 닫힘
버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a, 23b)에 관한 각 동작은, 서로 독립되어 있다. 예를 들면, 버퍼 탱크(13)에 관한 동작은, 기화 용기(23a, 23b)에 관한 각 동작과 관계없이, 모드 M1, M2 사이에서 전환된다. 동일하게, 기화 용기(23a)에 관한 동작은, 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23b)에 관한 동작과 관계없이, 모드 M3, M4 사이에서 전환된다. 기화 용기(23b)에 관한 동작은, 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23a)에 관한 동작과 관계없이, 모드 M5, M6 사이에서 전환된다. 따라서, 기판 처리 장치(1)의 동작으로서 8가지의 양태가 있다. 8가지의 양태 중, 3개의 양태를 이하에 예시한다.
도 3은, 기판 처리 장치(1)의 동작예 1을 나타내는 도면이다. 동작예 1에서는, 기화 용기(23a)에서만 처리 가스를 생성한다. 보다 자세하게는, 동작예 1에서는 버퍼 탱크(13)에 처리액을 공급하고(모드 M1), 기화 용기(23a)에서 처리액을 기화하며(모드 M3), 기화 용기(23b)에 처리액을 공급한다(모드 M6). 도 3에서는, 편의상, 닫혀 있는 개폐 밸브와, 닫혀 있는 개폐 밸브가 설치되어 있는 배관을 점선으로 나타내고, 닫혀 있는 개폐 밸브에 「×」표시를 한다. 후술하는 도 4, 도 5에 있어서도, 개폐 밸브 및 배관을 동일하게 도시한다.
도 3에 나타내는 바와 같이, 처리액 공급원(11)으로부터 버퍼 탱크(13)에 처리액을 공급하면서, 버퍼 탱크(13)로부터 기화 용기(23b)에 처리액을 공급한다. 처리액 공급원(11)은 버퍼 탱크(13) 내의 처리액의 액위가 고액위(HL)가 될 때까지 처리액을 공급한다. 버퍼 탱크(13) 내의 처리액의 액위가 고액위(HL)가 되면, 처리액 공급원(11)으로부터 버퍼 탱크(13)로의 처리액의 공급이 끝난다. 즉, 버퍼 탱크(13)에 관한 동작은, 모드 M1로부터 모드 M2로 전환된다. 이 때, 기화 용기(23b) 내의 처리액(Sb)의 액위는, 고액위(HL)와 동일한 높이 위치이다. 이와 같이, 기화 용기(23b) 내의 처리액(Sb)의 액위가 고액위(HL)와 동일한 높이 위치가 될 때까지, 기화 용기(23b)에 처리액이 보급된다.
기화 용기(23a)는, 개폐 밸브(27a)를 경계로, 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23b)로부터 분리되어 있다. 기화 용기(23a)는, 처리액(Sa)을 기화시키고 처리 가스를 생성한다. 처리액 기화 장치(3) 전체의 처리 가스의 생성량으로서는, 비교적 소량이다. 기화 용기(23a)에서 생성된 처리 가스는, 처리 유닛(5a)에 공급된다. 도 3 등에서는, 노즐(49)로부터 분출된 처리 가스의 흐름을 모식적으로 나타낸다.
도 4를 참조한다. 도 4는, 기판 처리 장치(1)의 동작예 2를 나타내는 도면이다. 동작예 2에서는, 기화 용기(23a, 23b)의 양쪽 모두에서 처리 가스를 생성한다. 보다 자세하게는, 동작예 2에서는, 버퍼 탱크(13)로의 처리액의 공급을 정지하고(모드 M2), 기화 용기(23a)에서 처리액을 기화하며(모드 M3), 기화 용기(23b)에서 처리액을 기화한다(모드 M5).
도 4에 나타내는 대로, 처리액 공급원(11)으로부터 버퍼 탱크(13)로의 처리액의 공급은 정지되어 있다. 기화 용기(23a)와 기화 용기(23b)와 버퍼 탱크(13)는, 서로 분리되어 있다. 구체적으로는, 기화 용기(23a)는 개폐 밸브(27a)를 경계로, 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23b)로부터 분리되어 있고, 기화 용기(23b)는 개폐 밸브(27b)를 경계로, 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23a)로부터 분리되어 있다. 기화 용기(23a, 23b)의 양쪽 모두가 동시에 처리 가스를 생성하고 있다. 처리액 기화 장치(3) 전체의 처리 가스의 생성량으로서는, 비교적 다량이다. 기화 용기(23a)에서 생성된 처리 가스는 처리 유닛(5a)에 공급되고, 기화 용기(23b)에서 생성된 처리 가스는 처리 유닛(5b)에 공급된다.
도 5를 참조한다. 도 5는, 기판 처리 장치(1)의 동작예 3을 나타내는 도면이다. 동작예 3에서는, 기화 용기(23a, 23b)의 양쪽 모두에 처리액을 보급한다. 보다 자세하게는, 동작예 3에서는, 버퍼 탱크(13)에 처리액을 공급하고(모드 M1), 기화 용기(23a)에 처리액을 공급하며(모드 M4), 기화 용기(23b)에 처리액을 공급한다(모드 M6).
도 5에 나타내는 대로, 처리액 공급원(11)으로부터 버퍼 탱크(13)에 처리액을 공급하면서, 버퍼 탱크(13)로부터 기화 용기(23a, 23b)의 양쪽 모두에 처리액을 공급한다. 버퍼 탱크(13) 내의 처리액의 액위가 고액위(HL)가 될 때까지, 처리액이 처리액 공급원(11)으로부터 버퍼 탱크(13)에 공급된다. 이것에 수반해, 기화 용기(23a, 23b)의 액위가 각각 고액위(HL)와 동일한 높이 위치가 될 때까지, 처리액이 기화 용기(23a, 23b)에 보급된다.
이와 같이, 실시예 1에 따른 처리액 기화 장치(3)에 따르면, 이하의 효과를 발휘한다.
처리액 기화 장치(3)는 개폐 밸브(27a)를 구비하고 있으므로, 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23b)로부터 기화 용기(23a)를 분리(차단)할 수 있다. 기화 용기(23a)가 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23b)로부터 분리되어 있을 때, 기화 용기(23a) 내의 압력은, 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23b)의 영향에 따라서 변동하지 않는다. 이러한 조건 하에서, 기화 용기(23a)는 처리액(Sa)을 기화할 수 있다. 즉, 기화 용기(23a)는 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23b)의 영향을 받지 않고, 처리액(Sa)을 기화할 수 있다. 이 때문에, 기화 용기(23a) 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 적합하게 억제할 수 있다.
동일하게 액처리 장치(3)는 개폐 밸브(27b)를 구비하고 있으므로, 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23a)로부터 기화 용기(23b)를 분리할 수 있다. 기화 용기(23b)가 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23a)로부터 분리되어 있을 때, 기화 용기(23b)는 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23a)의 영향을 받지 않고, 처리액(Sb)을 기화할 수 있다. 이 때문에, 기화 용기(23b) 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 적합하게 억제할 수 있다.
개폐 밸브(27a, 27b)는, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a) 사이의 처리액의 유로와, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23b) 사이의 처리액의 유로를 개별적으로 개폐할 수 있다. 따라서, 처리액 기화 장치(3) 전체에서의 처리 가스의 생성량에 관계없이, 처리액 기화 장치(3)는 처리 가스의 농도의 불균일을 적합하게 억제할 수 있다.
예를 들면 동작예 1과 같이, 개폐 밸브(27a, 27b) 중 한쪽만이 닫혀 있을 때, 기화 용기(23a) 및 기화 용기(23b) 중 한쪽은, 버퍼 탱크(13)와, 기화 용기(23a) 및 기화 용기(23b) 중 다른 쪽으로부터 분리된다. 따라서, 기화 용기(23a) 및 기화 용기(23b) 중 한쪽만이 처리 가스를 적합하게 생성할 수 있다. 이와 같이, 처리액 기화 장치(3) 전체에서의 처리 가스의 생성량이 비교적 소량이어도, 처리액 기화 장치(3)는 처리 가스의 농도의 불균일을 적합하게 억제할 수 있다.
예를 들면 동작예 2와 같이, 개폐 밸브(27a, 27b)의 양쪽 모두가 닫혀 있을 때, 기화 용기(23a)와 기화 용기(23b)와 버퍼 탱크(13)가 서로 분리된다. 따라서, 기화 용기(23a, 23b)의 양쪽 모두가 동시에 처리 가스를 적합하게 생성할 수 있다. 이와 같이, 처리액 기화 장치(3) 전체에서의 처리 가스의 생성량이 비교적 다량이어도, 처리액 기화 장치(3)는 처리 가스의 농도의 불균일을 적합하게 억제할 수 있다.
개폐 밸브(27a, 27b)를 개별적으로 엶으로써, 기화 용기(23a, 23b)에 처리액을 개별적으로 공급할 수 있다. 예를 들면, 개폐 밸브(27a)를 엶으로써, 기화 용기(23a)에 처리액을 적합하게 보급할 수 있다. 개폐 밸브(27b)를 엶으로써, 기화 용기(23b)에 처리액을 적합하게 보급할 수 있다. 예를 들면, 개폐 밸브(27a, 27b) 중 한쪽이 닫히고 개폐 밸브(27a, 27b) 중 다른 쪽이 열림으로써, 기화 용기(23a) 및 기화 용기(23b) 중 한쪽이 처리 가스를 생성하면서, 기화 용기(23a) 및 기화 용기(23b) 중 다른 쪽에 처리액을 보급할 수 있다. 예를 들면, 개폐 밸브(27a, 27b)의 양쪽 모두가 열림으로써, 기화 용기(23a, 23b)에 처리액을 동시에 공급할 수 있다.
기화 용기(23a)에서 생성된 처리 가스는, 1개의 처리 유닛(5a)에만 보내진다. 바꾸어 말하면, 기화 용기(23a)는, 1개의 처리 유닛(5a)에서 사용되는 처리 가스만을 생성한다. 따라서, 1개의 기화 용기가 복수의 처리 유닛에 처리 가스를 공급하는 경우에 비해, 기화 용기(23a)에서의 처리 가스의 생성량의 변동은 작다. 이 때문에, 기화 용기(23a) 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 한층 적합하게 억제할 수 있다. 동일하게 기화 용기(23b)에서 생성된 처리 가스는, 1개의 처리 유닛(5b)에만 보내진다. 따라서, 기화 용기(23b) 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 한층 적합하게 억제할 수 있다.
버퍼 탱크(13)의 내부는 버퍼 탱크(13)의 외부에 개방되어 있고, 처리액 기화 장치(3)는 개폐 밸브(33a)를 구비하고 있다. 개폐 밸브(33a)가 열림으로써, 기화 용기(23a)의 내압이 버퍼 탱크(13)의 내압과 대략 동일해진다. 따라서, 개폐 밸브(33a) 및 개폐 밸브(27a)의 양쪽 모두를 열면, 펌프 등에 의해서 처리액을 강제적으로 보내지 않아도, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a) 사이에서 처리액을 자연스럽게 이동시킬 수 있다. 이러한 처리액의 이동을 이용하여, 기화 용기(23a)에 처리액을 적합하게 보급할 수 있다. 동일하게 처리액 기화 장치(3)는 개폐 밸브(33b)를 구비하고 있다. 개폐 밸브(33b)가 열림으로써, 기화 용기(23b)의 내압이 버퍼 탱크(13)의 내압과 대략 동일해진다. 따라서, 개폐 밸브(33b) 및 개폐 밸브(27b)의 양쪽 모두가 열리는 것만으로, 기화 용기(23b)에 처리액을 용이하게 보급할 수 있다.
실시예 1에서는, 개폐 밸브(27a)가 열려 있을 때, 개폐 밸브(33a)도 열려 있다. 즉, 기화 용기(23a)에 처리액을 보급할 때, 기화 용기(23a)의 내압은 버퍼 탱크(13)의 내압과 대략 동일하다. 따라서, 기화 용기(23a)에 처리액을 용이하게 보급할 수 있다. 동일하게 개폐 밸브(27b)가 열려 있을 때, 개폐 밸브(33b)도 열려 있다. 따라서, 기화 용기(23b)에 처리액을 용이하게 보급할 수 있다.
처리액 기화 장치(3)에서는, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a) 사이에 처리액을 강제적으로 보내는 펌프 등의 유체 기계가 없다. 즉, 처리액을 강제적으로 보내는 펌프 등의 유체 기계를 통하지 않고, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a)가 연통 접속되고 있다. 따라서, 처리액 기화 장치(3)의 구성을 간소화할 수 있다. 동일하게 처리액 기화 장치(3)에서는, 처리액을 강제적으로 보내는 펌프 등의 유체 기계를 통하지 않고, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23b)가 연통 접속되고 있다. 따라서, 처리액 기화 장치(3)의 구성을 한층 간소화할 수 있다.
기화 용기(23a)는 버퍼 탱크(13)의 측방에 설치되어 있다. 따라서, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a) 사이에서 처리액은 용이하게 이동할 수 있다. 특히 실시예 1에서는, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a)는 동일한 높이 위치에 배치되어 있다. 따라서, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a) 사이에서 처리액은 한층 용이하게 이동할 수 있다.
동일하게 기화 용기(23b)는 버퍼 탱크(13)의 측방에 설치되어 있다. 따라서, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23b) 사이에서 처리액은 용이하게 이동할 수 있다. 특히 실시예 1에서는, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23b)는 동일한 높이 위치에 배치되어 있다. 따라서, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23b) 사이에서 처리액은 한층 용이하게 이동할 수 있다.
기화 용기(23b)는 기화 용기(23a)의 측방에 설치되어 있다. 따라서, 기화 용기(23a, 23b)에 대략 동일한 양의 처리액을 보급할 수 있다. 따라서, 기화 용기(23a)가 처리 가스를 생성하는 조건과, 기화 용기(23b)가 처리 가스를 생성하는 조건을 근사시킬 수 있다. 이에 따라, 기화 용기(23a, 23b) 사이에서 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 적합하게 억제할 수 있다.
특히 실시예 1에서는, 기화 용기(23a)와 기화 용기(23b)는, 동일한 높이 위치에 배치되어 있다. 따라서, 기화 용기(23a, 23b)에 동일한 양의 처리액을 보급할 수 있다. 바꾸어 말하면, 기화 용기(23a)에 저류되는 처리액(Sa)의 양과, 기화 용기(23b)에 저류되는 처리액(Sb)의 양을 용이하게 동일하게 할 수 있다. 따라서, 기화 용기(23a, 23b) 사이에서 처리 가스를 생성하는 조건을 한층 근사시킬 수 있다.
실시예 1에서는, 개폐 밸브(33a) 및 개폐 밸브(27a)가 각각 열려 있을 때, 기화 용기(23a) 내의 처리액(Sa)의 액위는 버퍼 탱크(13) 내의 처리액의 액위(Ss)와 동일해진다. 따라서, 처리액 기화 장치(3)가 기화 용기(23a) 내의 처리액(Sa)의 액위를 직접적으로 검출하는 센서를 구비하고 있지 않아도, 처리액 기화 장치(3)는 기화 용기(23a)에 적절한 양의 처리액을 보급할 수 있다.
동일하게 개폐 밸브(33b) 및 개폐 밸브(27b)가 각각 열려 있을 때, 기화 용기(23b) 내의 처리액의 액위(Sb)는 버퍼 탱크(13) 내의 처리액(Ss)의 액위와 동일해진다. 따라서, 처리액 기화 장치(3)는 간이한 구성으로, 기화 용기(23b)에 적절한 양의 처리액을 보급할 수 있다.
또한, 버퍼 탱크(13) 내의 처리액(Ss)의 액위에 근거해, 기화 용기(23a, 23b) 내의 처리액(Sa, Sb)의 액위를 추정할 수 있다. 바꾸어 말하면, 버퍼 탱크(13) 내의 처리액(Ss)의 액위를, 기화 용기(23a, 23b) 내의 처리액(Sa, Sb)의 액위로 간주할 수 있다. 따라서, 기화 용기(23a, 23b) 내의 처리액(Sa, Sb)의 액위를 직접적으로 감시하지 않아도, 버퍼 탱크(13) 내의 처리액(Ss)의 액위를 감시함으로써, 기화 용기(23a, 23b) 내의 처리액(Sa, Sb)의 액위를 간접적으로 감시할 수 있다. 특히, 버퍼 탱크(13)는 처리액(Ss)을 기화시키지 않으므로, 버퍼 탱크(13) 내의 처리액(Ss)의 액위는, 그다지 상하로 흔들리지 않고 안정적이다. 이것에 대해, 기화 용기(23a, 23b)는 처리액(Sa, Sb)을 기화시키므로, 기화 용기(23a, 23b) 내의 처리액(Sa, Sb)의 액위는, 빈번히 상하로 흔들려, 안정적이지 않다. 따라서, 기화 용기(23a, 23b) 내의 처리액(Sa, Sb)의 액위를 직접적으로 검출하는 것보다도, 액면 센서(21)의 검출 결과에 근거해 기화 용기(23a, 23b) 내의 처리액(Sa, Sb)의 액위를 추정하는 편이, 기화 용기(23a, 23b) 내의 처리액(Sa, Sb)의 액위를 정확하게 특정하기 쉽다. 따라서, 버퍼 탱크(13) 내의 처리액(Ss)의 액위를 감시함으로써, 기화 용기(23a, 23b) 내의 처리액(Sa, Sb)의 액위를 간이하고 또한 적정하게 관리할 수 있다.
평면에서 보았을 때, 기화 용기(23a)와 버퍼 탱크(13)의 거리는, 기화 용기(23b)와 버퍼 탱크(13)의 거리와 대략 동일하다. 따라서, 기화 용기(23a, 23b)에 있어서 처리 가스를 생성하는 조건을 근사시킬 수 있다.
배관(25a)은 대략 수평인 방향으로 직선적으로 연장되어 있다. 따라서, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a) 사이에서 처리액은 용이하게 이동할 수 있다. 동일하게, 배관(25b)은 대략 수평인 방향으로 직선적으로 연장되어 있다. 따라서, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23b) 사이에서 처리액은 용이하게 이동할 수 있다.
배관(25a)의 일단은 버퍼 탱크(13)의 하부와 연결되고, 배관(25a)의 타단은 기화 용기(23a)의 하부와 연결되어 있다. 따라서, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a) 사이에서 처리액은 한층 용이하게 이동할 수 있다. 동일하게 배관(25b)의 일단은 버퍼 탱크(13)의 하부와 연결되고, 배관(25b)의 타단은 기화 용기(23b)의 하부와 연결되어 있다. 따라서, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23b) 사이에서 처리액은 한층 용이하게 이동할 수 있다.
배관(25a)의 길이(la)는, 배관(25b)의 길이(lb)와 대략 동일하다. 따라서, 기화 용기(23a)가 처리 가스를 생성하는 조건과 기화 용기(23b)가 처리 가스를 생성하는 조건을, 용이하게 동일하게 할 수 있다. 바꾸어 말하면, 기화 용기(23a)가 처리 가스를 생성하는 조건과 기화 용기(23b)가 처리 가스를 생성하는 조건을, 적합하게 근사시킬 수 있다.
처리액 기화 장치(3)는 개폐 밸브(39a, 39b)를 구비하고 있다. 이 때문에, 기화 용기(23a, 23b)에 개별적으로 불활성 가스를 공급할 수 있다. 예를 들면, 기화 용기(23a, 23b)에 동일한 타이밍에서 불활성 가스를 공급할 수 있다. 이 경우, 기화 용기(23a, 23b)의 양쪽 모두가 동시에 처리액을 기화할 수 있다. 예를 들면, 기화 용기(23a, 23b)에 상이한 타이밍에서 불활성 가스를 공급할 수도 있다. 이 경우, 기화 용기(23a, 23b)가 상이한 타이밍에서 처리액을 기화할 수 있다.
실시예 1에서는, 개폐 밸브(27a)가 열려 있을 때, 개폐 밸브(39a)는 닫혀 있다. 즉, 기화 용기(23a)가 버퍼 탱크(13)와 연통하고 있을 때에는, 기화 용기(23a)에서 처리 가스를 생성하지 않는다. 이에 따라, 기화 용기(23a) 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 미연에 회피할 수 있다. 동일하게 개폐 밸브(27b)가 열려 있을 때, 개폐 밸브(39b)가 닫혀 있다. 이에 따라, 기화 용기(23b) 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 미연에 회피할 수 있다.
반대로, 개폐 밸브(39a)가 열려 있을 때, 개폐 밸브(27a)가 닫혀 있다. 즉, 기화 용기(23a)가 처리액(Sa)을 기화시킬 때에는, 기화 용기(23a)는 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23b)로부터 분리되어 있다. 이에 따라, 기화 용기(23a) 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 적합하게 억제할 수 있다. 동일하게 개폐 밸브(39b)가 열려 있을 때, 개폐 밸브(27b)가 닫혀 있다. 이에 따라, 기화 용기(23b) 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 적합하게 억제할 수 있다.
또한, 개폐 밸브(39a)가 열려 있을 때, 개폐 밸브(33a)가 닫혀 있다. 즉, 기화 용기(23a)가 처리액을 기화시킬 때에는, 기화 용기(23a)는 반밀폐 상태이다. 이에 따라, 기화 용기(23a)는 처리 가스를 적합하게 생성할 수 있다. 동일하게 개폐 밸브(39b)가 열려 있을 때, 개폐 밸브(33b)가 닫혀 있다. 이에 따라, 기화 용기(23b)는 처리 가스를 적합하게 생성할 수 있다.
처리액 기화 장치(3)는 개폐 밸브(43a, 43b)를 구비하고 있다. 이 때문에, 기화 용기(23a, 23b)로부터 개별적으로 처리 가스를 나오게 할 수 있다. 예를 들면, 기화 용기(23a, 23b)는, 동일한 타이밍에서 처리 가스를 나오게 할 수 있다. 예를 들면, 기화 용기(23a, 23b)는, 상이한 타이밍에서 처리 가스를 나오게 할 수도 있다.
개폐 밸브(27a)가 열려 있을 때, 개폐 밸브(43a)는 닫혀 있다. 즉, 기화 용기(23a)가 버퍼 탱크(13)와 연통하고 있을 때에는, 기화 용기(23a) 내의 처리 가스 등의 기체가 배관(41a)을 통해서 기화 용기(23a)의 외부에 나오지 않는다. 이에 따라, 농도가 불균일해져 있는 처리 가스가 배관(41a)을 통해서 기화 용기(23a)로부터 유출되는 것을 미연에 회피할 수 있다. 동일하게, 개폐 밸브(27b)가 열려 있을 때, 개폐 밸브(43b)는 닫혀 있다. 이에 따라, 농도가 불균일해져 있는 처리 가스가 배관(41b)을 통해서 기화 용기(23b)로부터 유출되는 것을 미연에 회피할 수 있다.
반대로, 개폐 밸브(43a)가 열려 있을 때, 개폐 밸브(27a)가 닫혀 있다. 즉, 배관(41a)을 통해서 기화 용기(23a) 내의 처리 가스가 기화 용기(23a)의 외부에 유출될 때에는, 기화 용기(23a)는 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23b)로부터 분리되어 있다. 이에 따라, 기화 용기(23a)로부터 나오는 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 적합하게 억제할 수 있다. 동일하게 개폐 밸브(43b)가 열려 있을 때, 개폐 밸브(27b)가 닫혀 있다. 이에 따라, 기화 용기(23b)로부터 나오는 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 적합하게 억제할 수 있다.
처리액 기화 장치(3)는 개폐 밸브(17)를 구비하고 있다. 따라서, 처리액 공급원(11)으로부터 버퍼 탱크(13)로의 처리액의 공급과 그 정지를 적합하게 전환할 수 있다.
처리액 기화 장치(3)는 액면 센서(21)를 구비하고 있고, 액면 센서(21)의 검출 결과에 근거해 개폐 밸브(17)가 개폐한다. 따라서, 처리액 공급원(11)으로부터 버퍼 탱크(13)에 처리액을 적절한 타이밍에서 공급할 수 있다.
기판 처리 장치(1)는 처리 유닛(5a)과, 처리 유닛(5a)과는 상이한 처리 유닛(5b)을 구비하고 있다. 처리 유닛(5a)은 기화 용기(23a)에서 생성된 처리 가스를 사용해 기판(W)에 처리를 행한다. 따라서, 처리 유닛(5a)에서의 처리의 품질을 적합하게 유지할 수 있다. 동일하게 처리 유닛(5b)은 기화 용기(23b)에서 생성된 처리 가스를 사용해 기판(W)에 처리를 행한다. 따라서, 처리 유닛(5b)에서의 처리의 품질을 적합하게 유지할 수 있다.
실시예 2
이하, 도면을 참조해 본 발명의 실시예 2를 설명한다.
도 6은, 실시예 2에 따른 기판 처리 장치의 구성을 나타내는 도면이다. 또한, 실시예 1과 동일한 구성에 대해서는 동일 부호를 부여함으로써 상세한 설명을 생략한다.
실시예 2에 따른 기판 처리 장치(1)는, 처리액 기화 장치(3)와 처리 유닛(5a, 5b)을 구비하고 있다. 실시예 2의 처리액 기화 장치(3)의 구성은, 실시예 1의 처리액 기화 장치(3)와 상이하다. 실시예 2의 처리 유닛(5a, 5b)의 구성은, 실시예 1의 처리 유닛(5a, 5b)과 동일하다. 이하에서는, 처리액 기화 장치(3)의 구성에 대해 설명한다.
처리액 기화 장치(3)는 개폐 밸브(51)를 구비한다. 개폐 밸브(51)는 배관(19) 상에 설치되어 있다. 개폐 밸브(51)는 버퍼 탱크(13)의 내부를 버퍼 탱크(13)의 외부에 대해서 개폐한다.
처리액 기화 장치(3)는 공통관(53)과 분기관(55a, 55b, 55c)을 구비한다. 공통관(53)은 가스 공급원(35)과 연통 접속한다. 분기관(55a, 55b, 55c)의 일단은 각각, 공통관(53)에 연통 접속한다. 분기관(55a)의 타단은 기화 용기(23a)의 하부에 연결되어 있다. 분기관(55b)의 타단은 기화 용기(23b)의 하부에 연결되어 있다. 분기관(55c)의 타단은 버퍼 탱크(13)의 상부에 연결되어 있다.
처리액 기화 장치(3)는 유량 조정 밸브(57a, 57b)를 구비한다. 유량 조정 밸브(57a)는 분기관(55a) 상에 설치되어 있다. 유량 조정 밸브(57a)는, 가스 공급원(35)과 기화 용기(23a) 사이의 불활성 가스의 유로를 개폐한다. 또한, 유량 조정 밸브(57a)는 기화 용기(23a)에 공급되는 불활성 가스의 유량을 조정한다. 유량 조정 밸브(57b)는 분기관(55b) 상에 설치되어 있다. 유량 조정 밸브(57b)는, 가스 공급원(35)과 기화 용기(23b) 사이의 불활성 가스의 유로를 개폐한다. 또한, 유량 조정 밸브(57b)는 기화 용기(23b)에 공급되는 불활성 가스의 유량을 조정한다.
처리액 기화 장치(3)는 레귤레이터(59)를 구비한다. 레귤레이터(59)는 분기관(55c) 상에 설치되어 있다. 레귤레이터(59)는, 불활성 가스를 소정의 압력으로 조정하여 버퍼 탱크(13)에 공급한다. 이에 따라, 레귤레이터(59)는 버퍼 탱크(13)의 내부의 압력을 조정한다.
제어부(45)는, 또한 개폐 밸브(51)와 유량 조정 밸브(57a, 57b)와 레귤레이터(59)를 제어한다.
버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a, 23b)의 위치 관계를 설명한다. 도 7은 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a, 23b)의 정면도이다.
기화 용기(23a) 및 기화 용기(23b)는 각각, 버퍼 탱크(13)보다도 높은 위치에 설치되어 있다. 구체적으로는, 기화 용기(23a)의 하단 및 기화 용기(23b)의 하단은 각각, 버퍼 탱크(13)의 상단보다 높다. 도 7은, 기화 용기(23a)의 하단 및 기화 용기(23b)의 하단의 높이 위치(h3)와 버퍼 탱크(13)의 상단의 높이 위치(h4)를 나타낸다. 높이 위치(h3)는, 높이 위치(h4)보다도 높다.
기화 용기(23a) 및 기화 용기(23b)는 동일한 높이 위치에 배치되어 있다. 구체적으로는, 기화 용기(23a, 23b)의 각 상단은, 동일한 높이 위치(h5)에 배치되어 있다. 기화 용기(23a, 23b)의 각 하단은, 동일한 높이 위치(h3)에 배치되어 있다.
유량 조정 밸브(57a, 57b)는, 본 발명의 제1 불활성 가스용 밸브, 제2 불활성 가스용 밸브의 예이다. 레귤레이터(59)는, 본 발명의 압력 조정부의 예이다.
다음에, 기판 처리 장치(1)의 동작예를 설명한다. 우선, 버퍼 탱크(13), 기화 용기(23a, 23b)에 관한 각 동작에 대해 개별적으로 설명한다.
＜버퍼 탱크(13)에 관한 동작＞
도 6을 참조한다. 제어부(45)가, 액면 센서(21)의 검출 결과에 근거해 개폐 밸브(17, 51)와 레귤레이터(59)를 제어한다.
구체적으로는, 버퍼 탱크(13) 내의 처리액(Ss)이 저액위(LL) 미만이라고 제어부(45)가 판단하면, 제어부(45)는 개폐 밸브(17, 51)를 연다. 또, 제어부(45)는, 레귤레이터(59)로부터 버퍼 탱크(13)로의 불활성 가스의 공급을 정지한다. 이에 따라, 버퍼 탱크(13)의 내부의 압력은, 버퍼 탱크(13)의 외부의 압력과 대략 동일해진다. 처리액은, 처리액 공급원(11)으로부터 버퍼 탱크(13)에 공급된다.
제어부(45)가, 액면 센서(21b)의 검출 결과를 참조해, 버퍼 탱크(13) 내의 처리액(Ss)이 고액위(HL) 이상이라고 판단하면, 제어부(45)는 개폐 밸브(17)를 닫는다. 개폐 밸브(17)가 닫혀 있을 때, 처리액 공급원(11)으로부터 버퍼 탱크(13)로의 처리액의 공급이 정지한다.
＜기화 용기(23a)에 관한 동작＞
제어부(45)는, 처리 레시피에 근거해, 개폐 밸브(27a, 33a, 43a, 51)와 유량 조정 밸브(57a)와 레귤레이터(59)를 제어한다.
구체적으로는, 처리 유닛(5a)이 처리 가스를 사용할 때, 제어부(45)는 개폐 밸브(27a, 33a)를 닫고 개폐 밸브(43a)를 연다. 또한, 제어부(45)는, 유량 조정 밸브(57a)의 개도를 조정한다.
유량 조정 밸브(57a)의 개도를 조정함으로써, 소정의 유량의 불활성 가스를 기화 용기(23a)에 보낸다. 이에 따라, 기화 용기(23a)는 소정의 농도의 처리 가스를 생성할 수 있다. 또한, 유량 조정 밸브(57a)의 개도를 조정함으로써, 기화 용기(23a)에 보내지는 불활성 가스의 유량을 조정한다. 이에 따라, 기화 용기(23a)에서의 처리 가스의 농도를 적합하게 조정할 수 있다.
한편, 처리 유닛(5a)이 처리 가스를 사용하지 않을 때, 제어부(45)는, 개폐 밸브(27a, 33a)를 열고, 개폐 밸브(43a) 및 유량 조정 밸브(57a)를 닫는다. 또한, 제어부(45)는 개폐 밸브(51)을 닫고 레귤레이터(59)를 제어한다.
개폐 밸브(51)가 닫힘으로써, 버퍼 탱크(13)는 반밀폐 상태가 된다. 개폐 밸브(33a)가 열림으로써, 기화 용기(23a)의 내압은 기화 용기(23a)의 외부의 압력과 대략 동일해진다. 레귤레이터(59)를 제어함으로써, 버퍼 탱크(13)의 내부의 기압을 조정한다. 구체적으로는, 버퍼 탱크(13)의 내압을, 기화 용기(23a)의 내압보다 크게 한다. 버퍼 탱크(13)의 내압과 기화 용기(23a)의 내압의 차(이하, 적당하게 「압력차」라고 함)에 의해서, 버퍼 탱크(13)로부터 기화 용기(23a)에 처리액을 강제적으로 이동시킨다. 기화 용기(23a) 내의 처리액(Sa)의 액위가 압력차에 따른 높이 위치가 될 때까지, 처리액이 버퍼 탱크(13)로부터 기화 용기(23a)로 이동한다. 기화 용기(23a) 내의 처리액(Sa)의 액위가 압력차에 따른 높이 위치가 되면, 처리액의 이동이 멈춘다. 이렇게 하여, 기화 용기(23a)에 처리액이 공급된다.
＜기화 용기(23b)에 관한 동작＞
기화 용기(23b)에 관한 동작은, 기화 용기(23a)에 관한 동작과 대략 동일하다. 따라서, 이하에서는 기화 용기(23b)에 관한 동작을 간략하게 설명한다.
제어부(45)는, 처리 레시피에 근거해 개폐 밸브(27b, 33b, 43b, 51)와 유량 조정 밸브(57b)와 레귤레이터(59)를 제어한다.
구체적으로는, 처리 유닛(5b)이 처리 가스를 사용할 때, 제어부(45)는 개폐 밸브(27b, 33b)를 닫고 개폐 밸브(43b)를 연다. 또한, 제어부(45)는, 유량 조정 밸브(57b)의 개도를 조정한다. 이에 따라, 기화 용기(23b)는 소정의 농도의 처리 가스를 생성한다. 또한, 기화 용기(23b)에서의 처리 가스의 농도를 조정한다.
한편, 처리 유닛(5b)이 처리 가스를 사용하지 않을 때, 제어부(45)는, 개폐 밸브(27b, 33b)를 열고, 개폐 밸브(43b) 및 유량 조정 밸브(57b)를 닫는다. 또한, 제어부(45)는, 개폐 밸브(51)를 닫고 레귤레이터(59)를 제어한다.
버퍼 탱크(13)는 반밀폐 상태가 된다. 레귤레이터(59)가 버퍼 탱크(13)의 내부의 기압을 조정한다. 기화 용기(23b)의 내부는 기화 용기(23b)의 외부에 개방된다. 버퍼 탱크(13)의 내압과 기화 용기(23b)의 내압의 차(이하, 적당하게 「압력차」라고 함)에 의해서, 버퍼 탱크(13)로부터 기화 용기(23b)에 처리액을 강제적으로 이동시킨다. 처리액의 이동은, 기화 용기(23b) 내의 처리액(Sb)의 액위가 압력차에 따른 높이 위치가 될 때까지 계속된다. 기화 용기(23b) 내의 처리액(Sb)의 액위가 압력차에 따른 높이 위치가 되면, 처리액의 이동이 멈춘다. 이와 같이 하여, 기화 용기(23b)에 처리액이 공급된다.
버퍼 탱크(13)에 관한 동작과 기화 용기(23a, 23b)에 관한 동작을, 다음과 같이 조합할 수 있다. 버퍼 탱크(13)에 처리액을 공급할 때, 기화 용기(23a) 및 기화 용기(23b) 중 적어도 한쪽이 처리 가스를 생성해도 된다. 단, 버퍼 탱크(13)에 처리액을 공급하고 있을 때에는, 기화 용기(23a, 23b) 중 어느 것에도 처리액을 보급할 수 없다. 버퍼 탱크(13)로의 처리액의 공급을 정지하고 있을 때, 기화 용기(23a) 및 기화 용기(23b) 중 적어도 한쪽이 처리 가스를 생성해도 된다. 또, 버퍼 탱크(13)로의 처리액의 공급을 정지하고 있을 때, 기화 용기(23a) 및 기화 용기(23b) 중 적어도 한쪽에 처리액을 보급해도 된다.
이와 같이, 실시예 2에 따른 기판 처리 장치(1) 및 처리액 기화 장치(3)에 의해서도, 개폐 밸브(27)를 구비하고 있으므로, 실시예 1과 동일한 효과를 발휘한다. 즉, 기화 용기(23a, 23b)에 의해서 생성되는 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 적합하게 억제할 수 있다. 또, 처리 유닛(5)에서의 처리의 품질을 적합하게 유지할 수 있다.
처리액 기화 장치(3)는 유량 조정 밸브(57a)를 구비하고 있으므로, 기화 용기(23a)에서의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 한층 적합하게 억제할 수 있다. 동일하게, 처리액 기화 장치(3)는 유량 조정 밸브(57b)를 구비하고 있으므로, 기화 용기(23b)에서의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 한층 적합하게 억제할 수 있다.
처리액 기화 장치(3)는 레귤레이터(59)를 구비하고 있으므로, 버퍼 탱크(13) 내의 압력을 적합하게 조정할 수 있다. 버퍼 탱크(13) 내의 압력을 조정함으로써, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23) 사이에 압력차(이하, 적당하게 「압력차」라고 대략 기재함)를 발생시킬 수 있다. 또, 버퍼 탱크(13) 내의 압력을 조정함으로써, 압력차를 적합하게 조정할 수 있다. 이 압력차를 이용하면, 버퍼 탱크(13)로부터 기화 용기(23)에 처리액을 강제적으로 이동시킬 수 있다. 따라서, 기화 용기(23)에 처리액을 적합하게 공급할 수 있다.
구체적으로는, 개폐 밸브(27a)가 열리고, 레귤레이터(59)가 버퍼 탱크(13) 내의 압력을 조정함으로써, 버퍼 탱크(13)로부터 기화 용기(23a)에 처리액을 강제적으로 이동시킨다. 이에 따라, 기화 용기(23a)에 처리액을 적합하게 공급할 수 있다. 동일하게, 개폐 밸브(27b)가 열리고, 레귤레이터(59)가 버퍼 탱크(13) 내의 압력을 조정함으로써, 기화 용기(23b)에 처리액을 적합하게 공급할 수 있다.
또, 버퍼 탱크(13) 내의 압력을 조정함으로써, 기화 용기(23a) 내의 처리액의 액위를 조정할 수 있다. 예를 들면, 레귤레이터(59)가 버퍼 탱크(13) 내의 압력을 높임으로써, 기화 용기(23a) 내의 처리액(Sa)의 액위를 올릴 수 있다. 예를 들면, 레귤레이터(59)가 버퍼 탱크(13) 내의 압력을 저하시킴으로써, 기화 용기(23a) 내의 처리액(Sa)의 액위를 낮출 수 있다. 동일하게 버퍼 탱크(13) 내의 압력을 조정함으로써, 기화 용기(23b) 내의 처리액(Sb)의 액위를 조정할 수 있다.
또한, 기화 용기(23)에 처리액을 강제적으로 공급할 수 있으므로, 버퍼 탱크(13)에 대한 기화 용기(23)의 배치의 자유도가 크다. 예를 들면, 실시예 2와 같이, 버퍼 탱크(13)보다도 높은 위치에 기화 용기(23a)를 배치할 수 있다. 동일하게 버퍼 탱크(13)보다도 높은 위치에 기화 용기(23b)를 배치할 수 있다.
실시예 3
이하, 도면을 참조해 본 발명의 실시예 3을 설명한다.
도 8은, 실시예 3에 따른 기판 처리 장치의 구성을 나타내는 도면이다. 또한, 실시예 1, 2와 동일한 구성에 대해서는 동일 부호를 부여함으로써 상세한 설명을 생략한다.
실시예 3에 따른 기판 처리 장치(1)는 처리액 기화 장치(3)와 처리 유닛(5a, 5b)을 구비하고 있다. 실시예 3의 처리액 기화 장치(3)의 구성은, 실시예 1의 처리액 기화 장치(3)와 상이하다. 실시예 3의 처리 유닛(5a, 5b)의 구성은, 실시예 1의 처리 유닛(5a, 5b)과 동일하다. 이하에서는, 처리액 기화 장치(3)의 구성에 대해 설명한다.
처리액 기화 장치(3)는 드레인관(61)과 드레인팬(63)과 액체 검지 센서(65)를 구비한다. 드레인관(61)은 버퍼 탱크(13)로부터 흘러넘친 처리액을 배출한다. 드레인관(61)은 버퍼 탱크(13)의 상부에 연결되어 있다. 드레인팬(63)은 드레인관(61)에 의해서 배출된 액체를 받는다. 액체 검지 센서(65)는 드레인팬(63)에 부착되어 있다. 액체 검지 센서(65)는 드레인팬(63)에 액체가 있는지 아닌지를 검지한다.
처리액 기화 장치(3)는 공통관(53)과 분기관(55a, 55b, 71a, 71b)을 구비한다. 공통관(53)과 분기관(55a, 55b)에 대해서는 실시예 2에서 설명한 대로이다. 분기관(71a, 71b)의 일단은 각각, 공통관(53)에 연통 접속한다. 분기관(71a)의 타단은 배관(41a)의 도중에 연결되어 있다. 분기관(71b)의 타단은 배관(41b)의 도중에 연결되어 있다.
처리액 기화 장치(3)는 유량 조정 밸브(57a, 57b, 73a, 73b)를 구비한다. 유량 조정 밸브(57a, 57b)에 대해서는 실시예 2에서 설명한 대로이다. 유량 조정 밸브(73a)는 분기관(71a) 상에 설치되어 있다. 유량 조정 밸브(73a)는 분기관(71a) 내의 유로를 개폐한다. 개폐 밸브(43a)가 열려 있을 때, 유량 조정 밸브(73a)가 열린다. 이에 따라, 처리 가스를 희석하기 위한 불활성 가스가, 분기관(71a)으로부터 배관(41a)에 유입한다. 분기관(71a) 내의 유로는, 기화 용기(23a)로부터 나온 처리 가스를 희석하기 위한 불활성 가스의 유로이다. 또한, 유량 조정 밸브(73a)는, 분기관(71a) 내의 유로를 흐르는 불활성 가스의 유량을 조정한다. 즉, 유량 조정 밸브(73a)는 기화 용기(23a)로부터 나온 처리 가스를 희석하기 위한 불활성 가스의 유량을 조정한다. 유량 조정 밸브(73b)는 분기관(71b) 상에 설치되어 있다. 유량 조정 밸브(73b)는 기화 용기(23b)로부터 나온 처리 가스를 희석하기 위한 불활성 가스의 유로를 개폐한다. 개폐 밸브(43b)가 열려 있을 때, 유량 조정 밸브(73b)가 열린다. 이에 따라, 처리 가스를 희석하기 위한 불활성 가스가, 분기관(71b)으로부터 배관(41b)에 유입한다. 또한, 유량 조정 밸브(73b)는, 기화 용기(23b)로부터 나온 처리 가스를 희석하기 위한 불활성 가스의 유량을 조정한다.
제어부(45)는, 또한 액체 검지 센서(65)의 검지 결과를 취득한다. 제어부(45)는, 또한 유량 조정 밸브(57a, 57b, 73a, 73b)를 제어한다.
버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a, 23b)의 위치 관계를 설명한다. 도 9는 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a, 23b)의 정면도이다.
기화 용기(23a)의 상단 및 기화 용기(23b)의 상단은 각각, 버퍼 탱크(13)의 상단보다도 높다. 도 9는, 기화 용기(23a)의 상단 및 기화 용기(23b)의 상단의 높이 위치(h6)와 버퍼 탱크(13)의 상단의 높이 위치(h7)를 나타낸다. 높이 위치(h6)는, 높이 위치(h7)보다도 높다. 버퍼 탱크(13), 기화 용기(23a), 기화 용기(23b)의 각 하단은, 동일한 높이 위치(h8)에 배치되어 있다.
액체 검지 센서(65)는, 본 발명의 오버플로우 센서의 예이다. 유량 조정 밸브(73a, 73b)는, 본 발명의 제1 희석용 밸브, 제2 희석용 밸브의 예이다.
다음에, 기판 처리 장치(1)의 동작예를 설명한다. 우선, 버퍼 탱크(13), 기화 용기(23a, 23b)에 관한 각 동작에 대해 개별적으로 설명한다.
＜버퍼 탱크(13)에 관한 동작＞
도 8을 참조한다. 제어부(45)는, 액면 센서(21) 및 액체 검지 센서(65)의 각 검출 결과에 근거해, 개폐 밸브(17)를 제어한다.
구체적으로는, 제어부(45)가, 액면 센서(21a)의 검출 결과를 참조해, 버퍼 탱크(13) 내의 처리액이 저액위(LL) 미만이라고 판단하면, 제어부(45)는 개폐 밸브(17)를 연다. 이에 따라, 처리액 공급원(11)으로부터 버퍼 탱크(13)에 처리액이 공급된다.
제어부(45)가, 액면 센서(21b)의 검출 결과를 참조해, 버퍼 탱크(13) 내의 처리액이 고액위(HL) 이상이라고 판단하면, 제어부(45)는 개폐 밸브(17)를 닫는다. 이에 따라, 처리액 공급원(11)으로부터 버퍼 탱크(13)로의 처리액의 공급이 정지한다.
액체가 드레인팬(63)에 있는 것을 액체 검지 센서(65)가 검지한 경우, 제어부(45)는 처리액이 버퍼 탱크(13)로부터 흘러넘치고 있다고 판단한다. 제어부(45)가 처리액이 버퍼 탱크(13)로부터 흘러넘치고 있다고 판단하면, 제어부(45)는 개폐 밸브(17)를 닫는다. 이에 따라, 처리액 공급원(11)으로부터 버퍼 탱크(13)로의 처리액의 공급이 정지한다.
＜기화 용기(23a)에 관한 동작＞
제어부(45)는, 액체 검지 센서(65)의 검출 결과와 처리 레시피에 근거해, 개폐 밸브(27a, 33a, 43a)와 유량 조정 밸브(57a, 73a)를 제어한다.
구체적으로는, 처리 유닛(5a)이 처리 가스를 사용할 때, 제어부(45)는 개폐 밸브(27a, 33a)를 닫고 개폐 밸브(43a)를 연다. 또한, 제어부(45)는, 유량 조정 밸브(57a, 73a)의 개도를 조정한다.
유량 조정 밸브(57a)의 개도를 조정함으로써, 소정의 유량의 불활성 가스를 기화 용기(23a)에 보낸다. 이에 따라, 기화 용기(23a)에서 소정의 농도의 처리 가스를 생성할 수 있다. 또한, 유량 조정 밸브(57a)의 개도를 조정함으로써, 기화 용기(23a)에 보내지는 불활성 가스의 유량을 조정한다. 이에 따라, 기화 용기(23a)에서의 처리 가스의 농도를 적합하게 조정할 수 있다.
개폐 밸브(43a)가 열림으로써, 기화 용기(23a) 내의 처리 가스가, 배관(41a)을 통해서 기화 용기(23a)의 외부에 나온다.
유량 조정 밸브(73a)의 개도를 조정함으로써, 기화 용기(23a)로부터 나온 처리 가스는, 분기관(71a)을 흐르는 소정의 유량의 불활성 가스와 합류한다. 이에 따라, 기화 용기(23a)로부터 나온 처리 가스의 농도를 엷게 할 수 있다(즉, 처리 가스를 희석할 수 있다). 또한, 유량 조정 밸브(73a)의 개도를 조정함으로써, 처리 가스를 희석하기 위한 불활성 가스의 유량을 조정한다. 이에 따라, 희석 후의 처리 가스의 농도를 적합하게 조정할 수 있다.
한편, 처리 유닛(5a)이 처리 가스를 사용하지 않을 때, 제어부(45)는 개폐 밸브(27a, 33a)를 열고, 개폐 밸브(43a)와 유량 조정 밸브(57a, 73a)를 닫는다. 이에 따라, 버퍼 탱크(13)로부터 기화 용기(23a)에 처리액이 스스로 이동한다. 단, 제어부(45)가, 액체 검지 센서(65)의 검출 결과를 참조해, 처리액이 버퍼 탱크(13)로부터 흘러넘치고 있다고 판단하면, 제어부(45)는 개폐 밸브(27a)를 닫는다. 이에 따라, 버퍼 탱크(13)로부터 기화 용기(23a)로의 처리액의 공급이 정지한다.
＜기화 용기(23b)에 관한 동작＞
기화 용기(23b)에 관한 동작은, 기화 용기(23a)에 관한 동작과 대략 동일하다. 따라서, 이하에서는 기화 용기(23b)에 관한 동작을 간략하게 설명한다.
제어부(45)는, 처리 레시피에 근거해, 개폐 밸브(27b, 33b, 43b)와 유량 조정 밸브(57b, 73b)를 제어한다.
구체적으로는, 처리 유닛(5b)이 처리 가스를 사용할 때, 제어부(45)는 개폐 밸브(27b, 33b)를 닫고 개폐 밸브(43b)를 열어, 유량 조정 밸브(57b, 73b)의 개도를 조정한다. 유량 조정 밸브(57b)의 개도를 조정함으로써, 소정의 유량의 불활성 가스를 기화 용기(23b)에 보낸다. 또한, 유량 조정 밸브(57b)의 개도를 조정함으로써, 기화 용기(23b)에 보내지는 불활성 가스의 유량을 조정한다. 유량 조정 밸브(73b)의 개도를 조정함으로써, 소정의 유량의 불활성 가스로, 기화 용기(23b)로부터 나온 처리 가스를 희석한다. 또한, 유량 조정 밸브(73b)의 개도를 조정함으로써, 처리 가스를 희석하기 위한 불활성 가스의 유량을 조정한다.
한편, 처리 유닛(5b)이 처리 가스를 사용하지 않을 때, 제어부(45)는, 개폐 밸브(33b)를 열고, 개폐 밸브(43b)와 유량 조정 밸브(57b, 73b)를 닫는다. 또한, 제어부(45)는 액체 검지 센서(65)의 검출 결과를 참조해, 처리액이 버퍼 탱크(13)로부터 흘러넘치고 있다고 판단했을 때에는 개폐 밸브(27b)를 닫고, 처리액이 버퍼 탱크(13)로부터 흘러넘치고 있지 않다고 판단했을 때에는 개폐 밸브(27b)를 연다. 이에 따라, 버퍼 탱크(13)로부터 처리액이 흘러넘치고 있지 않은 한, 버퍼 탱크(13)로부터 기화 용기(23b)에 처리액을 보급한다. 버퍼 탱크(13)로부터 처리액이 흘러넘치고 있는 경우에는, 버퍼 탱크(13)로부터 기화 용기(23b)에 처리액을 보급하지 않는다.
버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a, 23b)에 관한 각 동작은, 서로 독립되어 있다. 예를 들면, 버퍼 탱크(13)에 처리액을 공급할 때, 기화 용기(23a, 23b) 중 적어도 한쪽이 처리 가스를 생성해도 되고, 기화 용기(23a, 23b) 중 적어도 한쪽에 처리액을 공급해도 된다. 버퍼 탱크(13)로의 처리액의 공급을 정지하고 있을 때, 기화 용기(23a, 23b) 중 적어도 한쪽이 처리 가스를 생성해도 되고, 기화 용기(23a, 23b) 중 적어도 한쪽에 처리액을 공급해도 된다.
이와 같이, 실시예 3에 따른 기판 처리 장치(1) 및 처리액 기화 장치(3)에 의해서도, 개폐 밸브(27)를 구비하고 있으므로, 실시예 1과 동일한 효과를 발휘한다. 즉, 처리 가스의 농도의 불균일을 적합하게 억제할 수 있다. 또, 처리 유닛(5)에서의 처리의 품질을 적합하게 유지할 수 있다.
처리액 기화 장치(3)는 유량 조정 밸브(57a)를 구비하고 있으므로, 기화 용기(23a)에서의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 한층 적합하게 억제할 수 있다. 동일하게, 처리액 기화 장치(3)는 유량 조정 밸브(57b)를 구비하고 있으므로, 기화 용기(23b)에서의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 한층 적합하게 억제할 수 있다.
처리액 기화 장치(3)는 유량 조정 밸브(73a)를 구비하고 있으므로, 기화 용기(23a)로부터 나온 처리 가스를 적합하게 희석할 수 있다. 또한, 처리 가스를 희석하는 정도를 적합하게 조정할 수 있다. 동일하게, 처리액 기화 장치(3)는 유량 조정 밸브(73b)를 구비하고 있으므로, 기화 용기(23b)로부터 나온 처리 가스를 적합하게 희석할 수 있다. 또한, 처리 가스를 희석하는 정도를 적합하게 조정할 수 있다.
처리액 기화 장치(3)는 액체 검지 센서(65)를 구비하고 있으므로, 처리액이 버퍼 탱크(13)로부터 흘러넘치고 있는 것을 적합하게 검지할 수 있다. 또, 액체 검지 센서(65)의 검지 결과에 근거해 버퍼 탱크(13)로부터 처리액이 흘러넘치고 있다고 판단되었을 때, 개폐 밸브(27a, 27b)가 닫힌다. 이에 따라, 처리액이 기화 용기(23a, 23b)로부터 흘러넘치는 것을 미연에 회피할 수 있다.
기화 용기(23a)의 상단은 버퍼 탱크(13)의 상단보다도 높기 때문에, 만일 처리액(Ss)이 버퍼 탱크(13)로부터 흘러넘친 경우라도, 처리액(Sa)이 기화 용기(23a)로부터 흘러넘치는 것을 적합하게 방지할 수 있다. 동일하게, 기화 용기(23b)의 상단은 버퍼 탱크(13)의 상단보다도 높기 때문에, 만일 처리액(Ss)이 버퍼 탱크(13)로부터 흘러넘친 경우라도, 처리액(Sb)이 기화 용기(23b)로부터 흘러넘치는 것을 적합하게 방지할 수 있다.
본 발명은, 상기 실시 형태에 한정되지는 않고, 하기와 같이 변형 실시할 수 있다.
(1) 상술한 각 실시예에 있어서, 개폐 밸브(27a, 27b)를 역지 밸브로 변경해도 된다. 도 10을 참조한다. 도 10은, 변형 실시예에 따른 기판 처리 장치(1)의 구성을 나타내는 도면이다. 변형 실시예에 따른 기판 처리 장치(1)는, 실시예 1의 개폐 밸브(27a, 27b) 대신에, 역지 밸브(81a, 81b)를 구비하고 있다. 또한, 실시예 1과 동일한 구성에 대해서는 동일 부호를 부여함으로써 상세한 설명을 생략한다.
역지 밸브(81a)는 배관(25a) 상에 설치되어 있다. 역지 밸브(81a)는, 버퍼 탱크(13)로부터 기화 용기(23a)에 처리액이 흐르는 것을 허용하고, 기화 용기(23a)로부터 버퍼 탱크(13)에 처리액이 흐르는 것을 금지한다. 동일하게, 역지 밸브(81b)는 배관(25b) 상에 설치되어 있다. 역지 밸브(81b)는 버퍼 탱크(13)로부터 기화 용기(23b)에 처리액이 흐르는 것을 허용하고, 기화 용기(23b)로부터 버퍼 탱크(13)에 처리액이 흐르는 것을 금지한다.
역지 밸브(81a, 81b)는, 예를 들면, 처리액(예를 들면, 기화 용기(23a) 내의 처리액(Sa))의 배압에 의해서, 처리액의 역류를 방해하도록 작동하는 밸브체를 구비하고 있다. 기화 용기(23a) 내의 처리액(Sa)의 압력이 버퍼 탱크(13) 내의 처리액(Ss)의 압력보다 클 때, 역지 밸브(81a)는 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a) 사이의 처리액의 유로를 닫는다. 동일하게, 기화 용기(23b) 내의 처리액(Sb)의 압력이 버퍼 탱크(13) 내의 처리액(Ss)의 압력보다 클 때, 역지 밸브(81b)는 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23b) 사이의 처리액의 유로를 닫는다. 제어부(45)는, 역지 밸브(81a, 81b)의 작동을 제어하지 않는다.
역지 밸브(81a, 81b)는, 본 발명의 제1 처리액용 밸브, 제2 처리액용 밸브의 예이다.
처리 유닛(5a)이 처리 가스를 사용할 때, 제어부(45)는 개폐 밸브(33a)를 닫고 개폐 밸브(39a, 43a)를 연다. 개폐 밸브(33a)가 닫히고 개폐 밸브(39a)가 열림으로써, 기화 용기(23a)의 내압은 버퍼 탱크(13)의 내압보다 높아지고, 기화 용기(23a) 내의 처리액(Sa)의 압력이 버퍼 탱크(13) 내의 처리액(Ss)의 압력보다 높아진다. 역지 밸브(81a)는 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a) 사이의 처리액의 유로를 닫는다. 이에 따라, 기화 용기(23a)는, 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23b)로부터 분리된다. 따라서, 기화 용기(23a)는 버퍼 탱크(13) 및 기화 용기(23b)의 영향을 받지 않고 처리액(Sa)을 기화할 수 있다. 이 때문에, 기화 용기(23a) 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 적합하게 억제할 수 있다.
한편, 처리 유닛(5a)이 처리 가스를 사용하지 않을 때, 제어부(45)는, 개폐 밸브(33a)를 열고, 개폐 밸브(39a, 43a)를 닫는다. 개폐 밸브(33a)가 열림으로써, 기화 용기(23a)의 내압은 버퍼 탱크(13)의 내압과 대략 동일해진다. 역지 밸브(81a)는, 버퍼 탱크(13)로부터 기화 용기(23a)에 처리액이 흐르는 것을 허용한다.
동일하게, 처리 유닛(5b)이 처리 가스를 사용할 때, 제어부(45)는 개폐 밸브(33b)를 닫고 개폐 밸브(39b, 43b)를 연다. 이에 따라, 기화 용기(23b) 내의 처리액(Sb)의 압력이 버퍼 탱크(13) 내의 처리액(Ss)의 압력보다 높아지고, 역지 밸브(81b)는 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23b) 사이의 처리액의 유로를 닫는다. 따라서, 기화 용기(23b) 내의 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 적합하게 억제할 수 있다.
한편, 처리 유닛(5b)이 처리 가스를 사용하지 않을 때, 제어부(45)는, 개폐 밸브(33b)를 열고, 개폐 밸브(39b, 43b)를 닫는다. 개폐 밸브(33b)가 열림으로써, 기화 용기(23b)의 내압은 버퍼 탱크(13)의 내압과 대략 동일해지고, 역지 밸브(81b)는 버퍼 탱크(13)로부터 기화 용기(23b)에 처리액이 흐르는 것을 허용한다.
이와 같이, 변형 실시예에 의해서도, 처리 가스의 농도가 불균일해지는 것을 적합하게 억제할 수 있다. 또, 제어부(45)는 역지 밸브(81a, 81b)를 제어하지 않아도 되기 때문에, 제어부(45)에서의 처리를 간소화할 수 있다.
(2) 상술한 각 실시예에서는, 처리액 기화 장치(3)는 2개의 기화 용기(23)를 구비하고 있었지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 처리액 기화 장치(3)는 3개 이상의 기화 용기(23)를 구비해도 된다. 이 경우, 각 기화 용기(23)의 배치를 적당하게 변경할 수 있다.
도 11을 참조한다. 도 11은 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23)의 평면도이다. 또한, 실시예 1과 동일한 구성에 대해서는 동일 부호를 부여함으로써 상세한 설명을 생략한다.
도시하는 바와 같이, 변형 실시예에 따른 처리액 기화 장치(3)는, 예를 들면 5개의 기화 용기(23)를 구비하고 있다. 각 기화 용기(23)는, 버퍼 탱크(13)의 주위를 둘러싸도록 배치되어 있다.
변형 실시예에 따른 처리액 기화 장치(3)는, 5개의 배관(25)과 5개의 개폐 밸브(27)를 구비하고 있다. 각 배관(25)은 각각, 버퍼 탱크(13)와 1개의 기화 용기(23)를 접속한다. 이에 따라, 5개의 기화 용기(23)는 서로 병렬로 버퍼 탱크(13)와 연통 접속하고 있다. 각 개폐 밸브(27)는 배관(25) 상에 1개씩 설치되어 있다.
또한, 각 기화 용기(23)는 각각 1개의 처리 유닛(5)(도시 생략)과 연통 접속되어 있다. 그리고, 각 기화 용기(23)에서 생성된 처리 가스는 각각, 1개의 처리 유닛(5)에만 보내진다.
1개의 기화 용기(23)가 본 발명의 제1 기화 용기의 예이며, 다른 1개의 기화 용기(23)가 본 발명의 제2 기화 용기의 예이다. 1개의 배관(25)이 본 발명의 제1 보급관의 예이며, 다른 1개의 배관(25)이 본 발명의 제2 보급관의 예이다. 1개의 개폐 밸브(27)가 본 발명의 제1 처리액용 밸브의 예이며, 다른 1개의 개폐 밸브(27)가 본 발명의 제2 처리액용 밸브의 예이다.
도 12를 참조한다. 도 12는 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23)의 정면도이다. 또한, 실시예 1과 동일한 구성에 대해서는 동일 부호를 부여함으로써 상세한 설명을 생략한다.
도시한 바와 같이, 변형 실시예에 따른 처리액 기화 장치(3)는, 예를 들면 3개의 기화 용기(23a, 23b, 23c)를 구비하고 있다. 도 12에서는, 기화 용기(23a, 23b, 23c)에 저류되는 처리액에 부호 「Sa」, 「Sb」, 「Sc」를 부여한다. 각 기화 용기(23)는 버퍼 탱크(13)의 일측방에 배치되어 있다. 버퍼 탱크(13)와 각 기화 용기(23)는, 평면에서 보았을 때, 일렬로 줄지어 있어도 된다(도시를 생략함).
변형 실시예에 따른 처리액 기화 장치(3)는, 공통관(83)과 분기관(85a, 85b, 85c)을 구비하고 있다. 공통관(83)은 버퍼 탱크(13)와 연통 접속한다. 분기관(85a, 85b, 85c)의 일단은 각각, 공통관(83)에 연통 접속한다. 분기관(85a)의 타단은 기화 용기(23a)의 바닥부에 연결되어 있다. 분기관(85b)의 타단은 기화 용기(23b)의 바닥부에 연결되어 있다. 분기관(85c)의 타단은 기화 용기(23c)의 바닥부에 연결되어 있다. 이에 따라, 기화 용기(23a, 23b, 23c)는, 서로 병렬로 버퍼 탱크(13)와 연통 접속하고 있다.
변형 실시예에 따른 처리액 기화 장치(3)는, 3개의 개폐 밸브(87a, 87b, 87c)를 구비하고 있다. 개폐 밸브(87a)는 분기관(85a) 상에 설치되어 있다. 개폐 밸브(87b)는 분기관(85b) 상에 설치되어 있다. 개폐 밸브(87c)는 분기관(85c) 상에 설치되어 있다.
또한, 각 기화 용기(23a, 23b, 23c)는 각각 1개의 처리 유닛(5)(도시 생략)과 연통 접속되어 있다. 그리고, 각 기화 용기(23a, 23b, 23c)에서 생성된 처리 가스는 각각, 1개의 처리 유닛(5)에만 보내진다.
기화 용기(23a, 23b, 23c) 중 하나가 본 발명의 제1 기화 용기의 예이며, 기화 용기(23a, 23b, 23c) 중 다른 하나가 본 발명의 제2 기화 용기의 예이다. 분기관(85a, 85b, 85c) 중 하나가 본 발명의 제1 보급관의 예이며, 분기관(85a, 85b, 85c) 중 다른 하나가 본 발명의 제2 보급관의 예이다. 개폐 밸브(87a, 87b, 87c) 중 하나가 본 발명의 제1 처리액용 밸브의 예이며, 개폐 밸브(87a, 87b, 87c) 중 다른 하나가 본 발명의 제2 처리액용 밸브의 예이다.
(3) 상술한 실시예 1에서는, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a)는, 완전하게 동일한 높이 위치에 배치되어 있었지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 기화 용기(23a)를 버퍼 탱크(13)와 대략 동일한 높이 위치에 배치해도 된다. 구체적으로는, 기화 용기(23a)의 상단이 고액위(HL)보다도 높고, 기화 용기(23a)의 하단이 저액위(LL)보다도 낮아지도록, 기화 용기(23a)를 배치해도 된다. 이 경우, 버퍼 탱크(13)의 상단이 기화 용기(23a)의 상단보다 높아도 되고, 낮아도 된다. 또, 버퍼 탱크(13)의 하단이 기화 용기(23a)의 하단보다 높아도 되고, 낮아도 된다. 이러한 변형 실시예에 의해서도, 버퍼 탱크(13)의 측방에 기화 용기(23a)를 적합하게 설치할 수 있다.
동일하게, 실시예 1에서는, 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23b)는 동일한 높이 위치에 배치되어 있었지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 기화 용기(23b)를 버퍼 탱크(13)와 대략 동일한 높이 위치에 배치해도 된다.
실시예 2, 3에서 설명한 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23a)의 배치나 버퍼 탱크(13)와 기화 용기(23b)의 배치에 대해서도, 동일하게 변경해도 된다.
(4) 상술한 실시예 2에서는, 기화 용기(23a)는 버퍼 탱크(13)보다도 높은 위치에 설치되어 있었지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 버퍼 탱크(13)의 측방에 기화 용기(23a)를 설치해도 된다. 동일하게 실시예 2에서는, 기화 용기(23b)는 버퍼 탱크(13)보다도 높은 위치에 설치되어 있었지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 버퍼 탱크(13)의 측방에 기화 용기(23b)를 설치해도 된다. 본 변형 실시예에 의해서도, 기화 용기(23a, 23b)에 적합하게 처리액을 공급할 수 있다.
(5) 상술한 각 실시예에서는, 기화 용기(23a)와 기화 용기(23b)는, 동일한 높이 위치에 배치되어 있었지만, 이것에 한정되지 않는다. 기화 용기(23a)와 기화 용기(23b)가 상이한 높이 위치에 배치되어 있어도 된다.
(6) 상술한 각 실시예에서는, 처리 유닛(5a, 5b)의 배치에 대해 설명하지 않았지만, 처리 유닛(5a, 5b)을 임의의 위치에 설치할 수 있다. 예를 들면, 처리 유닛(5a, 5b)이 상하 방향으로 줄지어 있도록 처리 유닛(5a, 5b)을 배치해도 된다. 예를 들면, 처리 유닛(5a, 5b)이 수평 방향으로 줄지어 있도록 처리 유닛(5a, 5b)을 배치해도 된다. 예를 들면, 처리 유닛(5a)을 기화 용기(23a)와 동일한 높이 위치에 배치해도 되고, 기화 용기(23a)와 상이한 높이 위치에 배치해도 된다. 예를 들면, 처리 유닛(5b)을 기화 용기(23b)와 동일한 높이 위치에 배치해도 되고, 기화 용기(23b)와 상이한 높이 위치에 배치해도 된다.
(7) 상술한 각 실시예에서는, 처리액으로서 HMDS를 예시했지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 처리액은, N－트리메틸실릴디메틸아민(TMSDMA)이나 N－트리메틸실릴디에틸아민(TMSDEA) 등의 실릴화제여도 된다. 예를 들면, 처리액은, 용제여도 된다.
(8) 상술한 각 실시예에서는, 처리 유닛(5)이 행하는 처리로서, 소수화 처리를 예시했지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 처리 유닛(5)은 레지스트 막의 형성 후의 기판(W)에 처리 가스를 공급하는 처리를 행해도 된다. 예를 들면, 처리 유닛(5)은 노광 전, 노광 후, 현상 전 또는 현상 후의 기판(W)에 처리 가스를 공급하는 처리를 행해도 된다. 예를 들면, 처리 유닛(5)은 DSA막이 형성된 기판(W)에 처리 가스를 공급하는 처리를 행해도 된다. 여기서, DSA막은, DSA(Directed Self Assembly：유도 자기 조직화) 기술에 이용되는 자기 조직화 재료를 기판(W)에 도포함으로써 기판(W) 상에 형성된다. DSA막의 형성 후의 기판(W)을 처리하는 경우, 처리 가스는 용제를 포함하는 것이 바람직하다. 용제는, 예를 들면, 톨루엔, 헵탄, 아세톤, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌 글리콜모노메틸에테르, 시클로헥사논, 이황화탄소 및 테트라히드로푸란 중 적어도 1개 이상인 것이 바람직하다.
(9) 상술한 실시예 2, 3에서는, 유량 조정 밸브(57a)에 의해서, 가스 공급원(35)과 기화 용기(23a) 사이의 불활성 가스의 유로를 개폐했지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 유량 조정 밸브(57a)를 개폐 밸브로 변경해도 된다. 본 변형 실시예에 의해서도, 가스 공급원(35)과 기화 용기(23a) 사이의 불활성 가스의 유로를 적합하게 개폐할 수 있다. 동일하게, 유량 조정 밸브(57b)를 개폐 밸브로 변경해도 된다. 본 변형 실시예에 의해서도, 가스 공급원(35)과 기화 용기(23b) 사이의 불활성 가스의 유로를 적합하게 개폐할 수 있다.
(10) 상술한 실시예 3에서는, 유량 조정 밸브(73a)에 의해서, 기화 용기(23a)로부터 나온 처리 가스를 희석하기 위한 불활성 가스의 유로를 개폐했지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 유량 조정 밸브(73a)를 개폐 밸브로 변경해도 된다. 본 변형 실시예에 의해서도, 기화 용기(23a)로부터 나온 처리 가스를 희석하기 위한 불활성 가스의 유로를 적합하게 개폐할 수 있다. 동일하게 유량 조정 밸브(73b)를 개폐 밸브로 변경해도 된다. 본 변형 실시예에 의해서도, 기화 용기(23b)로부터 나온 처리 가스를 희석하기 위한 불활성 가스의 유로를 적합하게 개폐할 수 있다.
(11) 상술한 실시예 3에서는, 액체 검지 센서(65)는, 드레인팬(63)에 액체가 있는지 아닌지를 검출했지만, 이것에 한정되지 않는다. 예를 들면, 액체 검지 센서(65)는, 드레인관(61) 내를 액체가 흐르고 있는지 아닌지를 검지해도 된다. 본변형 실시예에 의해서도, 처리액이 버퍼 탱크(13)로부터 흘러넘치고 있는지 아닌지를 적합하게 검지할 수 있다.
(12) 상술한 각 실시예에서는, 처리액 기화 장치(3)는 처리액 공급원(11)을 구비하고 있었지만, 이것에 한정되지 않는다. 즉, 처리액 기화 장치(3)는 처리액 공급원(11)을 구비하지 않아도 된다. 예를 들면, 처리액 기화 장치(3)의 외부에 설치되는 처리액 공급원에 버퍼 탱크(13)를 연통 접속하고, 외부의 처리액 공급원으로부터 버퍼 탱크(13)에 처리액을 공급해도 된다.
(13) 상술한 각 실시예에서는, 처리액 기화 장치(3)는 공급원(35)을 구비하고 있었지만, 이것에 한정되지 않는다. 즉, 처리액 기화 장치(3)는 가스 공급원(35)을 구비하고 있지 않아도 된다. 예를 들면, 처리액 기화 장치(3)의 외부에 설치되는 가스 공급원에 기화 용기(23a, 23b)를 연통 접속하고, 외부의 가스 공급원으로부터 기화 용기(23a, 23b)에 불활성 가스를 공급해도 된다.
(14) 상술한 각 실시예의 기판 처리 장치(1)는, 처리 유닛(5a, 5b)에 불활성 가스를 공급하는 구성을 구비해도 된다. 그리고, 처리 유닛(5a)에 처리 가스 및 불활성 가스 중 어느 하나를 선택적으로 공급해도 된다. 동일하게 처리 유닛(5b)에 처리 가스 및 불활성 가스 중 어느 하나를 선택적으로 공급해도 된다. 예를 들면, 처리 유닛(5a)에 처리 가스를 공급한 후, 처리 유닛(5a)에 불활성 가스를 공급해도 된다. 이것에 의하면, 처리 유닛(5a) 내의 분위기를 불활성 가스로 치환할 수 있다. 동일하게 처리 유닛(5b)에 처리 가스를 공급한 후, 처리 유닛(5b)에 불활성 가스를 공급해도 된다. 이것에 의하면, 처리 유닛(5b) 내의 분위기를 불활성 가스로 치환할 수 있다.
(15) 상술한 각 실시예 및 상기 (1) 내지 (14)에서 설명한 각 변형 실시예에 대해서는, 다시 각 구성을 다른 변형 실시예의 구성으로 치환 또는 조합하는 등 적당하게 변경해도 된다.
※본 발명은, 그 사상 또는 본질로부터 일탈하지 않고 다른 구체적인 형태로 실시할 수 있으며, 따라서, 발명의 범위를 나타내는 것으로서, 이상의 설명이 아닌, 부가된 클레임을 참조해야 한다.

Claims (20)

  1. 처리액 기화 장치로서,
    상기 처리액 기화 장치는,
    처리액을 저류하는 탱크와,
    상기 탱크에 연통 접속되어, 처리액을 기화시키는 제1 기화 용기와,
    상기 제1 기화 용기와 병렬로 탱크에 연통 접속되어, 처리액을 기화시키는 제2 기화 용기와,
    상기 탱크와 상기 제1 기화 용기 사이의 처리액의 유로를 개폐하는 제1 처리액용 밸브와,
    상기 탱크와 상기 제2 기화 용기 사이의 처리액의 유로를 개폐하는 제2 처리액용 밸브를 구비하는, 처리액 기화 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1 기화 용기에서 생성된 처리 가스는 1개의 상기 제1 처리 유닛으로만 보내지고,
    상기 제2 기화 용기에서 생성된 처리 가스는 1개의 상기 제2 처리 유닛으로만 보내지는, 처리액 기화 장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 탱크의 내부는 상기 탱크의 외부에 개방되어 있고,
    상기 처리액 기화 장치는,
    상기 제1 기화 용기의 내부를 상기 제1 기화 용기의 외부에 대해서 개폐하는 제1 벤트 밸브와,
    상기 제2 기화 용기의 내부를 상기 제2 기화 용기의 외부에 대해서 개폐하는 제2 벤트 밸브를 구비하는, 처리액 기화 장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 제1 기화 용기와 상기 제2 기화 용기는 각각, 상기 탱크의 측방에 설치되는, 처리액 기화 장치.
  5. 청구항 3에 있어서,
    상기 제1 처리액용 밸브 및 상기 제1 벤트 밸브가 각각 열림으로써, 상기 탱크와 상기 제1 기화 용기 사이를 처리액이 스스로 이동하여, 상기 탱크 내의 처리액의 액위와 상기 제1 기화 용기 내의 처리액의 액위가 동일해지고,
    상기 제2 처리액용 밸브 및 상기 제2 벤트 밸브가 각각 열림으로써, 상기 탱크와 상기 제2 기화 용기 사이를 처리액이 스스로 이동하여, 상기 탱크 내의 처리액의 액위와 상기 제2 기화 용기 내의 처리액의 액위가 동일해지는, 처리액 기화 장치.
  6. 청구항 3에 있어서,
    상기 제1 처리액용 밸브가 열려 있을 때, 상기 제1 벤트 밸브는 열리고,
    상기 제2 처리액용 밸브가 열려 있을 때, 상기 제2 벤트 밸브는 열리는, 처리액 기화 장치.
  7. 청구항 1에 있어서,
    상기 처리액 기화 장치는, 상기 탱크 내의 압력을 조정하는 압력 조정부를 구비하는, 처리액 기화 장치.
  8. 청구항 7에 있어서,
    상기 제1 기화 용기는, 상기 탱크보다도 높은 위치에 설치되고,
    상기 제2 기화 용기는, 상기 탱크보다도 높은 위치에 설치되는, 처리액 기화 장치.
  9. 청구항 7에 있어서,
    상기 제1 처리액용 밸브가 열리고, 또한, 상기 압력 조정부가 상기 탱크 내의 압력을 조정함으로써, 상기 탱크와 상기 제1 기화 용기 사이에 있어서 처리액을 강제적으로 이동시키고,
    상기 제2 처리액용 밸브가 열리고, 또한, 상기 압력 조정부가 상기 탱크 내의 압력을 조정함으로써, 상기 탱크와 상기 제2 기화 용기 사이에 있어서 처리액을 강제적으로 이동시키는, 처리액 기화 장치.
  10. 청구항 1에 있어서,
    상기 탱크의 상단은, 상기 제1 기화 용기의 상단 및 상기 제2 기화 용기의 상단 중 어느 것보다도 낮은, 처리액 기화 장치.
  11. 청구항 1에 있어서,
    상기 처리액 기화 장치는,
    상기 제1 기화 용기로 보내지는 불활성 가스의 유로를 개폐하는 제1 불활성 가스용 밸브와,
    상기 제2 기화 용기로 보내지는 불활성 가스의 유로를 개폐하는 제2 불활성 가스용 밸브를 구비하는, 처리액 기화 장치.
  12. 청구항 11에 있어서,
    상기 제1 처리액용 밸브가 열려 있을 때, 상기 제1 불활성 가스용 밸브는 닫혀 있고,
    상기 제2 처리액용 밸브가 열려 있을 때, 상기 제2 불활성 가스용 밸브는 닫혀 있는, 처리액 기화 장치.
  13. 청구항 1에 있어서,
    상기 처리액 기화 장치는,
    상기 제1 기화 용기로부터 나오는 처리 가스의 유로를 개폐하는 제1 처리 가스용 밸브와,
    상기 제2 기화 용기로부터 나오는 처리 가스의 유로를 개폐하는 제2 처리 가스용 밸브를 구비하는, 처리액 기화 장치.
  14. 청구항 13에 있어서,
    상기 제1 처리액용 밸브가 열려 있을 때, 상기 제1 처리 가스용 밸브는 닫혀 있고,
    상기 제2 처리액용 밸브가 열려 있을 때, 상기 제2 처리 가스용 밸브는 닫혀 있는, 처리액 기화 장치.
  15. 청구항 1에 있어서,
    상기 처리액 기화 장치는, 처리액 공급원으로부터 상기 탱크에 공급되는 처리액의 유로를 개폐하는 탱크 처리액용 밸브를 구비하는, 처리액 기화 장치.
  16. 청구항 15에 있어서,
    상기 처리액 기화 장치는, 상기 탱크 내의 처리액의 액위를 검출하는 액위 검출 센서를 구비하고,
    상기 액위 검출 센서의 검출 결과에 근거해 상기 탱크 처리액용 밸브가 개폐되는, 처리액 기화 장치.
  17. 청구항 1에 있어서,
    상기 처리액 기화 장치는, 처리액이 상기 탱크의 상단으로부터 흘러넘치고 있는지 아닌지를 검출하는 오버플로우 센서를 구비하고,
    상기 오버플로우 센서의 검지 결과에 근거해 처리액이 상기 탱크로부터 흘러넘치고 있다고 판단되었을 때, 상기 제1 처리액용 밸브 및 상기 제2 처리액용 밸브는 각각 닫히는, 처리액 기화 장치.
  18. 청구항 1에 있어서,
    상기 처리액 기화 장치는,
    제1 기화 용기로부터 나온 처리 가스를 희석하는 불활성 가스의 유로를 개폐하는 제1 희석용 밸브와.
    제2 기화 용기로부터 나온 처리 가스를 희석하는 불활성 가스의 유로를 개폐하는 제2 희석용 밸브를 구비하는, 처리액 기화 장치.
  19. 청구항 1에 있어서,
    제1 기화 용기와 제2 기화 용기는, 동일한 높이 위치에 배치되는, 처리액 기화 장치.
  20. 기판 처리 장치로서,
    상기 기판 처리 장치는,
    처리액을 저류하는 탱크와,
    상기 탱크에 연통 접속되어, 처리액을 기화시키는 제1 기화 용기와,
    상기 제1 기화 용기와 병렬로 상기 탱크에 연통 접속되어, 처리액을 기화시키는 제2 기화 용기와,
    상기 탱크와 상기 제1 기화 용기 사이의 처리액의 유로를 개폐하는 제1 처리액용 밸브와,
    상기 탱크와 상기 제2 기화 용기 사이의 처리액의 유로를 개폐하는 제2 처리액용 밸브와,
    상기 제1 기화 용기에서 생성된 처리 가스를 이용해 기판에 처리를 행하는 1개의 제1 처리 유닛과,
    상기 제2 기화 용기에서 생성된 처리 가스를 이용해 기판에 처리를 행하는 1개의 제2 처리 유닛을 구비하는, 기판 처리 장치.
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