KR20080066411A - 액 공급 장치 및 방법, 상기 장치를 가지는 기판 처리설비, 그리고 기판 처리 방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 가스를 공급하여 버퍼 용기 내부를 가압함으로써 버퍼 용기 내에 채워진 케미컬을 버퍼 용기 외부로 공급하는 액 공급 장치를 제공한다. 본 발명에 의하면, 버퍼 용기의 내부 압력을 측정할 수 있는 압력 센서가 제공되며, 버퍼 용기 내부에 케미컬을 충전할 때 버퍼 용기 내부 압력이 설정 압력 이상이면 버퍼 용기 내 가스를 배기하도록 벤트 라인이 설치된다.
버퍼 용기, 전구체, 케미컬, 벤트 라인, 기화기

Description

액 공급 장치 및 방법, 상기 장치를 가지는 기판 처리 설비, 그리고 기판 처리 방법{LIQUID SUPPLYING UNIT AND METHOD, FACILITY FOR TREATING SUBSTRATES WITH THE UNIT, AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATES}
도 1은 본 발명의 기판 처리 설비의 바람직한 일 실시예를 보여주는 도면;
도 2는 도 1의 설비에서 처리 장치의 내부 구성을 개략적으로 보여주는 도면;
도 3은 도 1의 변형된 예를 보여주는 도면;
도 4는 본 발명의 기판 처리 설비를 사용하여 공정이 수행되는 과정을 보여주는 도면;
도 5 내지 도 9는 각각 공정이 수행되는 과정에서 자동밸브의 개폐 상태를 보여주는 도면들; 그리고
도 10a와 도 10b는 각각 버퍼 용기 내 가스를 배기하지 않고 계속적으로 재충전이 이루어지는 경우 및 버퍼 용기 내 가스를 배기하면서 재충전이 이루어지는 경우에 버퍼 용기 내부 압력 및 케미컬의 재충전량을 비교하여 보여주는 도면이다.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *
10 : 처리 장치 40 : 액 공급 장치
410 : 버퍼 용기 414 : 수위 측정 부재
420 : 케미컬 유입관 430 : 가스 유입관
440 : 케미컬 공급관 450 : 벤트 라인
452 : 벤트 펌프 460 : 압력 측정 부재
470 : 제어기
AV1, AV2, AV3, AV4, AV5, AV6, AV7 : 자동밸브
본 발명은 기판을 처리하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 더 상세하게는 가스를 공급하여 버퍼 용기 내부를 가압함으로써 버퍼 용기 내에 채워진 케미컬을 버퍼 용기 외부로 공급하는 액 공급 장치 및 방법에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자를 제조하기 위해서는 이온주입 공정, 증착 공정, 사진 공정, 그리고 식각 공정 등과 같은 다수의 공정들이 요구된다. 이러한 공정들 중에서 증착 공정은 웨이퍼 상에 소정의 박막을 증착하는 공정이다. 기판 상에 실리콘 질화막보다 유전상수가 높은 절연성 금속 산화막의 증착은 스퍼터링에 의해 이루어졌다. 그러나 스퍼터링 방법(sputtering method)의 경우 미세 패턴 형성이 어렵고 파티클 발생량이 많으며 기판 손상의 가능성이 높다. 따라서 최근에는 상술한 절연성 금속 산화막은 유기금속 화합물을 전구체로 사용하는 화학기상증착법(chemical vapor deposition method)에 의해 증착된다.
유기금속을 화학기상증착법으로 증착하는 장치는 일반적으로 전구체(precursor)인 케미컬을 액상으로 버퍼 용기에 저장하고, 버퍼 용기 내부를 가스로 가압하여 버퍼 용기 내 케미컬을 기화기(vaporizer)가 설치된 공급관을 통해 처리 장치로 공급하는 구조를 가진다.
버퍼 용기 내 케미컬이 소모되면 공정을 중단하고 버퍼 용기를 교체하거나, 버퍼 용기에 케미컬을 재충전(refill)하여 사용한다. 그러나 교체 방식 사용시에는 버퍼 용기의 교체가 이루어지는 동안 처리 장치에서 공정이 중단되므로 설비 가동률이 저하된다. 재충전 방식 사용시에는 버퍼 용기 내 압력이 재충전 횟수가 증가함에 따라 가압을 위한 가스로 인해 증가하므로 버퍼 용기에 재충전되는 케미컬의 량이 점진적으로 감소한다. 이로 인해, 재충전 횟수가 증가할수록 재충전 주기가 짧아지고 버퍼 용기 내 고압으로 인해 처리 장치로 공급되는 케미컬 량이 안정화되기까지 많은 시간이 소요된다.
본 발명은 처리 장치로 케미컬을 효율적으로 공급할 수 있는 액 공급장치 및 방법, 그리고 기판 처리 설비 및 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
또한, 본 발명은 설비 가동률의 저하 없이 버퍼 용기에 케미컬을 효율적으로 재충전할 수 있는 액 공급장치 및 방법, 그리고 기판 처리 설비 및 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 목적은 여기에 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
본 발명은 액을 공급하는 장치를 제공한다. 상기 장치는 내부에 액이 채워지는 공간을 제공하는 버퍼 용기를 가진다. 상기 버퍼 용기에는 액 저장 용기로부터 액을 상기 버퍼 용기 내로 공급하는 액 유입관, 상기 버퍼 용기 내 액을 상기 버퍼 용기 외부로 공급하는 액 공급관, 상기 버퍼 용기 내 액이 상기 액 공급관을 통해 유출되는 압력을 제공하도록 가스 저장 용기로부터 상기 버퍼 용기 내로 가압가스를 공급하는 가스 유입관, 그리고 상기 버퍼 용기 내 가압가스를 상기 버퍼 용기 외부로 배기하는 벤트 라인이 연결된다.
상기 액 공급 장치에는 상기 버퍼 용기 내 압력을 측정하는 압력 측정 부재가 제공될 수 있다. 상기 압력 측정 부재로는 상기 벤트 라인에 설치되는 압력 게이지가 사용될 수 있다.
상기 액 공급 장치에는 상기 버퍼 용기 내 공간에 채워진 액의 수위를 측정하는 수위 측정 부재가 제공될 수 있다. 상기 수위 측정 부재는 상기 액 저장 용기로부터 상기 버퍼 용기로 액 공급을 시작하는 시기를 결정하기 위한 수위를 측정하는 하부 센서와 상기 액 저장 용기로부터 상기 버퍼 용기로의 액 공급을 중단하는 시기를 결정하기 위한 수위를 측정하는 상부 센서를 포함할 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 벤트 라인에는 상기 버퍼 용기 내 가압 가스를 강제 배기하는 펌프가 설치된다.
또한, 본 발명은 기판을 처리하는 설비를 제공한다. 본 발명의 설비는 기판에 대해 공정을 수행하는 공간을 제공하는 처리 장치, 내부에 액상의 케미컬이 채 워지는 공간을 제공하는 버퍼 용기, 액 저장 용기로부터 액상의 케미컬을 상기 버퍼 용기 내로 공급하는 케미컬 유입관, 상기 버퍼 용기 내 케미컬을 상기 처리 장치로 공급하며 상기 액상의 케미컬을 기화시키는 기화기가 설치되는 케미컬 공급관, 상기 버퍼 용기 내 액상의 케미컬이 상기 케미컬 공급관을 통해 유출되는 압력을 제공하도록 가스 저장 용기로부터 상기 버퍼 용기 내로 가압가스를 공급하는 가스 유입관, 그리고 상기 버퍼 용기 내 가압가스를 상기 버퍼 용기 외부로 배기하는 벤트 라인을 포함한다.
상기 벤트 라인에는 벤트 펌프가 설치되어 상기 버퍼 용기 내 가압 가스를 강제 배기할 수 있다. 또한, 상기 버퍼 용기 내 압력을 측정하는 압력 측정 부재가 제공될 수 있다. 또한, 상기 기판 처리 설비에는 상기 액 저장 용기로부터 상기 버퍼 용기로 케미컬 공급을 시작하는 시기를 결정하기 위한 상기 버퍼 용기 내 케미컬의 수위를 측정하는 하부 센서와 상기 액 저장 용기로부터 상기 버퍼 용기로의 케미컬 공급을 중단하는 시기를 결정하기 위한 상기 버퍼 용기 내 케미컬의 수위를 측정하는 상부 센서가 제공될 수 있다. 또한, 상기 액 유입관, 상기 가스 유입관, 상기 공급관, 그리고 벤트 라인 각각에 밸브들이 설치될 수 있다. 상기 하부 센서 및 상기 압력 측정 부재로부터 측정된 신호들은 제어기로 전송되고, 상기 제어기는 이에 근거하여 상기 밸브들 각각의 개폐를 제어할 수 있다.
또한, 상기 기판 처리 설비는 상기 공정 챔버 내를 설정 압력으로 유지하는 공정 펌프와 상기 공급관으로부터 분기되어 상기 벤트 펌프에 연결되는 연결관을 포함할 수 있다.
또한, 본 발명은 버퍼 용기 내로 가스를 공급하여 상기 버퍼 용기 내부를 가압함으로써 상기 버퍼 용기 내에 채워진 액을 상기 버퍼 용기 외부로 공급하는 액 공급 방법을 제공한다. 본 발명에 의하면, 상기 버퍼 용기 내에 상기 액이 기설정량 이하가 되면 상기 액을 상기 버퍼 용기로 공급하여 상기 버퍼 탱크 내를 채우는 충전 과정을 반복하되, 기설정된 조건 하에서 상기 버퍼 용기 내 가스를 상기 버퍼 용기에 연결된 벤트 라인을 통해 배기한다.
상기 기설정된 조건은 상기 버퍼 용기 내 압력 조건을 포함하여, 상기 버퍼 용기 내 압력이 기설정된 압력 이상이면 상기 버퍼 용기 내 상기 가스의 배기가 이루어질 수 있다. 상기 가스의 배기는 상기 벤트 라인에 연결된 감압 부재를 사용하여 강제 배기될 수 있다.
또한, 본 발명은 버퍼 용기로부터 공급된 액상의 케미컬을 기화하여 처리 장치로 제공함으로써 기판 상에 공정을 수행하는 방법을 제공한다. 본 발명에 의하면, 상기 버퍼 용기 내로 가스를 공급하여 상기 버퍼 용기 내부를 가압함으로써 상기 버퍼 용기 내에 채워진 상기 액상의 케미컬을 상기 버퍼 용기 외부로 공급하며, 상기 버퍼 용기 내에 상기 액이 기설정량 이하가 되면 상기 액을 상기 버퍼 용기로 공급하여 상기 버퍼 탱크 내를 채우는 충전 과정을 반복하되, 기설정된 조건 하에서 상기 버퍼 용기 내 가스를 상기 버퍼 용기에 연결된 벤트 라인을 통해 상기 버퍼 용기 외부로 배기한다. 상기 가스의 배기는 상기 벤트 라인에 연결된 펌프를 사용하여 강제 배기될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 공정은 기판 상에 유기 금속을 증착하는 공정이고, 상 기 케미컬은 유기 금속 증착에 사용되는 전구체이다. 상기 가스는 질소, 헬륨, 또는 아르곤 중 어느 하나일 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 벤트 라인에 연결된 펌프와 상기 처리 장치 내에서 공정 진행시 상기 처리 장치 내 압력을 조절하는 펌프는 서로 상이하다. 상기 기화된 케미컬은 그 공급률이 안정화된 후 상기 처리 장치로 공급되며, 초기에 상기 기화된 케미컬의 공급률이 안정화될 때까지 상기 기화된 케미컬은 상기 벤트 라인에 연결된 펌프를 통해 배기될 수 있다.
일 예에 의하면, 상기 기설정된 조건은 상기 버퍼 용기 내 압력 조건을 포함하여, 상기 버퍼 용기 내 압력을 측정하고, 압력 측정값이 제 1 압력 이상이면 상기 버퍼 용기 내 상기 가스의 배기가 이루어진다. 상기 버퍼 용기 내에 채워진 케미컬의 수위를 감지하고, 상기 가스의 배기는 상기 케미컬이 제 1 수위에 도달한 것으로 감지된 이후에 이루어진 상기 압력 측정값에 근거하여 이루어질 수 있다. 상기 케미칼이 상기 제 1 수위에 도달한 것으로 감지된 시기에 상기 처리 장치에서 공정 수행 중이면, 상기 가스의 배기는 상기 처리 장치에서 공정이 완료된 이후에 이루어진 상기 압력 측정값에 근거하여 이루어질 수 있다. 상기 가스의 배기는 상기 벤트 라인에 설치된 개폐 밸브를 설정 시간 동안 개방함으로써 이루어지고 상기 개폐 밸브가 닫힌 이후에 상기 버퍼 용기 내 압력을 재측정하여 상기 버퍼 용기 내 압력이 기설정된 제 2 압력 이하가 아니면 상기 개폐 밸브의 개방 및 상기 버퍼 용기 내 압력 재측정 과정을 반복하여 수행될 수 있다. 또한, 상기 버퍼 탱크 내의 케미컬을 공급하는 유입관에는 개폐 밸브가 설치되고, 상기 개폐 밸브가 닫힌 상태 에서 케미컬은 상기 유입관 내에 상기 케미칼이 저장되는 용기로부터 상기 개폐 밸브까지 채워진 상태로 대기할 수 있다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 1 내지 도 10b를 참조하면서 더욱 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.
본 실시예에서는 반도체 제조 공정에서 기판 상에 유기 금속을 증착하는 유기 금속 증착 설비를 예를 들어 설명한다. 그러나 본 발명의 기술적 사상은 이에 한정되지 않으며, 버퍼 용기 내로 가압가스를 공급하여 버퍼 용기 내 액을 버퍼 용기 외부로 공급하는 구조를 가지는 다양한 종류의 액 공급 장치에 적용 가능하다.
도 1은 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 기판 처리 설비(1)의 일 예를 보여주는 도면이다. 도 1을 참조하며, 기판 처리 설비(1)는 처리 장치(10)와 액 공급 장치(40)를 가진다. 처리 장치(10)는 기판 상에 유기 금속을 증착하는 공정을 수행한다. 액 공급 장치(40)는 처리 장치(10)로 공정에 사용되는 케미컬(유기 금속)을 공급한다. 액 공급 장치(40)로부터 공급된 액상의 케미컬은 기화기(444)를 통해 기화된 후 처리 장치(10)로 유입된다.
도 2는 처리 장치의 일 예를 개략적으로 보여주는 단면도이다. 처리 장치(1) 는 공정이 수행되는 공간을 제공하는 공정 챔버(100)를 가진다. 공정 챔버(100)는 석영(quartz) 재질의 내부튜브(120)와 외부튜브(140)를 가진다. 내부튜브(120)는 상·하부가 모두 개방된 원통형의 형상을 가진다. 외부튜브(140)는 내부튜브(120)를 감싸며 이로부터 일정거리 이격되도록 설치되고 하부가 개방된 원통형의 형상을 가진다. 외부튜브(140)의 바깥쪽에는 외부튜브(140)를 감싸도록 설치된 히터(160)가 배치되며, 히터(160)는 공정진행 중 공정 챔버(100) 내부를 공정온도로 유지한다.
공정이 수행되는 웨이퍼들(W)은 보트(300)에 탑재된다. 보트(300)는 수평으로 놓여진 상부판(312) 및 이와 상하로 대향 되도록 위치되는 하부판(314)을 가진다. 하부판(314)과 상부판(312) 사이에는 복수의 수직 지지대들(320)이 설치되며, 각각의 수직지지대(320)에는 웨이퍼(W)의 가장자리가 삽입되는 슬롯들이 형성된다. 슬롯은 각각의 수직지지대(320)에 대략 50 내지 100개가 형성된다. 하부판(314)의 아래에는 방열판들(342)이 제공된다. 방열판들(342)은 석영 재질로 이루어지며, 수평방향으로 설치된다. 보트(300)는 캡(cap)(344)에 의해 지지된다. 캡(344)은 판 형상으로 형성되며, 보트(300)가 내부튜브(120) 내로 삽입되면 플랜지(200)의 바닥면과 접촉되어 공정 챔버(100) 내부를 외부로부터 밀폐시킨다. 캡(344)에는 구동부(380)가 장착된다. 구동부(380)는 캡(344)을 회전시키는 모터(382)와 캡(344)을 상하로 이동시키는 승강기(384)를 가진다. 승강기(384)는 모터(384c)에 의해 회전되는 스크류(384b) 및 이를 삽입하여 스크류(384b)의 회전에 의해 직선 이동되며 캡(344)과 결합되는 브라켓(384a)을 가진다.
내부튜브(120)와 외부튜브(140)는 그 아래에 위치되는 플랜지(200)에 의해 지지된다. 플랜지(200)의 중앙에는 통공이 형성되며 이 통공을 통해 공정 챔버(100)는 그 아래에 배치되는 대기실(도시되지 않음)과 통한다. 웨이퍼들(W)은 대기실에서 보트(300)에 적재된 후 내부튜브(120) 내로 출입하게 된다. 플랜지(200)에는 외부튜브(140)를 지지하는 외측 받침대(222) 및 내부튜브(120)를 지지하는 내측 받침대(224)가 제공된다. 외측 받침대(222)는 링 형상으로 형성되며 플랜지(200)의 상단으로부터 바깥방향으로 연장된다. 내측 받침대는 링형상으로 플랜지(200)의 내측벽으로부터 안쪽방향으로 연장된다. 플랜지(200)의 일측에는 공정 가스를 공급하는 공급관(240)과 연결되는 포트(242)와 퍼지가스를 공급하는 공급관(260)과 연결되는 포트(244)가 형성된다. 플랜지(200)의 타측에는 배기관(280)이 연결된다. 공정 진행시 공정 챔버(100) 내부를 저압으로 유지하고, 공정 챔버(100) 내에서 발생된 반응부산물을 강제배기하기 위해 배기관(280)에는 공정펌프(282)가 설치된다. 또한, 배기관(280)에는 배기가스들 중 유해성분을 중화시키는 스크러버(scrubber)(284)가 설치될 수 있다.
공정가스는 내부튜브(120)의 내측으로 유입되어 상방향으로 흐르면서 보트(300)에 탑재된 웨이퍼들(W) 상에 증착되고, 잔류하는 가스들은 내부튜브(120)와 외부튜브(140) 사이의 공간을 따라 아래로 흐르면서 배기관(280)을 통해 외부로 배기된다.
예컨대, 웨이퍼(W) 상에 하프늄 산화막을 증착하는 경우 공정가스로 하프늄을 포함하는 전구체 소스(케미컬)와 산화 가스가 사용된다. 하프늄을 포함하는 전 구체 소스로는 테크라 에틸 메틸 아미노 하프늄(tetra ethyl methyl amino hafnium, TEMAHf)이 사용되고, 산화 가스로는 산소(O2)가 사용된다. 또한, 퍼지가스로는 아르곤 가스 또는 질소 가스가 사용될 수 있다.
처음에 공정 챔버(100) 내로 하프늄 전구체 소스 가스가 공급되어 웨이퍼(W) 상에 원자층 단위의 하프늄 전구체 박막이 형성된다. 공정 챔버(100) 내로 퍼지 가스가 공급되어 공정 챔버(100) 내부를 퍼지한다. 이후, 공정 챔버(100) 내로 산소 가스를 공급하여 하프늄 전구체 박막을 산화시킴으로서 웨이퍼(W) 상에 원자층 단위의 하프늄 산화막을 형성한다. 마지막으로 공정 챔버 내로 퍼지가스를 공급하여 하프늄 산화막을 형성하는 과정에서 발생된 반응 부산물을 제거한다. 상술한 하프늄 전구체 소스 가스의 공급, 퍼지 가스의 공급, 산소 가스의 공급, 그리고 퍼지 가스의 공급으로 이루어진 1회의 증착 사이클을 반복적으로 수행함으로써 웨이퍼 상에 요구되는 두께의 하프늄 질화막을 형성한다.
상술한 예에서는 전구체 소스 가스로서 테트라 에틸 메틸 아미노 하프늄(TEMAHf)이 사용되는 경우를 예로 들어 설명하였다. 그러나 증착하고자 하는 박막의 종류에 따라 전구체 소스 가스로서 다양한 종류의 가스가 사용될 수 있다. 예컨대, 알루미늄 산화막이나 지르콘 산화막을 증착하고자 하는 경우, 전구체 소스 가스로서 트리 메틸 알루미늄(trimethlyaluminum, TMAl)이나 트리 에틸 메틸 아미노 지르콘(tetra ethyl methyl amino zirconium, TMALZr) 등이 사용될 수 있다. 또한, 박막이 질화막인 경우 산소 가스 대신 암모니아나 질소 가스 등이 사용될 수 있다.
전구체 소스 가스는 액 공급 장치(40)로부터 액 상태의 케미컬로 공급되며, 액 상태의 케미컬은 기화기(444)에 의해 기화된 후 공정 챔버(100) 내로 유입된다. 이하에서는 다시 도 1을 참조하여 액 공급 장치(40)의 구조에 대해 구체적으로 설명한다.
액 공급 장치(40)는 버퍼 용기(410), 케미컬 유입관(액 유입관)(420), 가스 유입관(430), 케미컬 공급관(액 공급관)(440), 그리고 벤트 라인(450)을 가진다. 버퍼 용기(410)(buffer vessel)는 내부에 케미컬이 채워지는 공간을 가지는 통 형상을 가진다. 버퍼 용기(410)는 고부식성 물질에 견딜 수 있도록 스테인리스 스틸(stainless steel) 재질로 제조된다. 또한, 버퍼 용기(410)는 고압에 견딜 수 있는 강도로 제조된다. 버퍼 용기(410)에는 그 내부에 채워진 케미컬의 수위를 측정하는 수위 측정 부재(level measuring member)가 장착된다. 수위 측정 부재(414)로는 버퍼 용기(410) 내 케미컬의 특정 수위에 도달하였는지 여부를 측정하는 센서들이 사용된다. 일 예로서 수위 측정 부재(414)는 최하부 센서(lowermost sensor)(414a), 하부 센서(lower sensor)(414b), 상부 센서(upper sensor)(414c), 그리고 최상부 센서(uppermost sensor)(414d)를 가진다. 하부 센서(414b)는 버퍼 용기(410) 내 케미컬의 수위가 제 1 수위에 도달하였는지를 감지한다. 제 1 수위는 버퍼 용기(410) 내에 케미컬이 일정량 사용되어 버퍼 용기(410) 내로 케미컬의 충전이 필요한 수위이다. 예컨대, 제 1 수위는 케미컬이 용기 내에 약 25% 정도 채워진 상태의 수위일 수 있다. 상부 센서(414c)는 버퍼 용기(410) 내 케미컬의 수위가 제 2 수위에 도달하였는지를 검출한다. 제 2 수위는 버퍼 용기(410)로 케미컬을 충전할 때 버퍼 용기(410) 내로 요구되는 량이 채워져 케미컬의 공급이 중단되는 수위이다. 예컨대, 제 2 수위는 케미컬이 용기 내에 약 40% 정도 채워진 상태의 수위일 수 있다. 최하위 센서(414a)와 최상위 센서(414d)에 의해 검출되는 수위는 버퍼 용기(410) 내 케미컬의 과잉 부족 또는 과잉 공급으로 인해 공정 진행이 어려운 시점을 결정하기 위해 사용된다.
케미컬 유입관(420)(chemical inlet pipe)은 케미컬 저장 용기(422)에 연결되며, 케미컬 저장 용기(422) 내 케미컬은 케미컬 유입관(420)을 통해 버퍼 용기(410)로 공급한다. 케미컬 유입관(420)은 버퍼 용기(410)의 상벽(412)을 관통하고, 그 끝단은 버퍼 용기(410) 내 상부에 위치된다. 케미컬 유입관(420)은 기설정된 조건 하에서 버퍼 용기(410) 내부로 케미컬을 재충전(refill)한다. 케미컬 저장 용기(422)에 채워진 케미컬은 상술한 바와 같이 액 상태의 유기 금속으로, 테트라 에틸 메틸 아미노 하프늄(TEMAHf), 테트라 에틸 메틸 아미노 지르콘(TEMAZr), 또는 트리 메틸 알루미늄(TMAl) 등일 수 있다.
가스 유입관(gas inlet pipe)(430)은 가스 저장 용기(432)에 연결되며, 가스 저장 용기(432) 내 가스는 가스 유입관(430)을 통해 버퍼 용기(410)로 공급된다. 가스는 헬륨 가스(He), 아르곤 가스(Ar), 또는 질소 가스(N2) 등과 같이 화학적으로 안정화된 가스가 사용될 수 있다.가스 유입관(430)은 버퍼 용기(410)의 상벽(412)을 관통하고, 그 끝단은 버퍼 용기(410) 내 상부에 위치된다. 또한, 가스 유입 관(430)에는 가스 저장 용기(432)로부터 공급되는 가스 내 오염물질을 제거하는 필터(filter)(433), 가스 유입관(430)을 통해 공급되는 유량을 조정하는 니들 밸브(needle valve)(434), 버퍼 용기(410)로부터 가스 유입관(430)으로 역류를 방지하는 체크 밸브(check valve)(435) 등이 설치된다. 가스 유입관(430)을 통해 버퍼 용기(410) 내로 유입된 가스로 인해 버퍼 용기(410) 내부는 가압되고, 버퍼 용기(410) 내부에 채워진 케미컬은 케미컬 공급관(440)을 통해 버퍼 용기(410)로부터 공정 챔버(100)로 공급된다.
케미컬 공급관(440)(chemical supplying pipe)은 버퍼 용기(410)의 상벽(412)을 관통하여 버퍼 용기(410) 내 하부까지 길게 연장된다. 케미컬 공급관(440)에는 상술한 기화기(444)가 설치되며, 케미컬 공급관(440)을 통해 흐르는 액 상의 케미컬은 기화기(444)에서 기화된다. 케미컬 공급관(440)에는 그 내부를 흐르는 액 상의 케미컬의 유량을 제어하는 엘에프씨(LFC, liquid flow controller)와 같은 유량 조절기(442)가 설치된다.
버퍼 용기(410)에 케미컬을 재충전하여 사용하는 횟수가 증가함에 따라 버퍼 용기(410) 내 압력은 증가한다. 이는 버퍼 용기(410) 내 가압을 위해 공급된 가스가 버퍼 용기(410)에 잔류하는 상태에서 버퍼 용기(410)로 케미컬의 재충전이 이루어지고, 이후에 다시 버퍼 용기(410)로부터 케미컬 공급관(440)으로 케미컬을 공급하기 위해 버퍼 용기(410) 내로 가스가 공급되기 때문이다. 벤트 라인(vent line)(450)은 설정 조건 아래에서 버퍼 용기(410) 내 가스를 배기하도록 버퍼 용기(410)에 연결된다. 벤트 라인(450)에는 벤트 펌프(452)가 설치되어, 버퍼 용 기(410) 내 가스는 버퍼 용기(410)로부터 강제 배기된다. 벤트 라인(450)은 상술한 스크러버(284)에 연결된다. 일 예에 의하면, 벤트 라인(450)은 가스 유입관(430)으로부터 분기되도록 제공된다. 그러나 도 3과 같이 벤트 라인(450)은 가스 유입관(430)과는 독립적으로 제공될 수 있다.
케미컬 유입관(420), 가스 유입관(430), 그리고 케미컬 공급관(440)에는 각각 자동 밸브(auto valve)(AV1, AV2, AV4)가 설치된다. 또한, 벤트 라인(450)이 가스 유입관(430)으로부터 분기되는 분기점(P1)과 버퍼 용기(410) 사이, 그리고 분기점(P1)과 벤트 펌프(452) 사이 각각에는 자동 밸브(AV3, AV5)가 설치된다. 자동 밸브(AV1, AV2, AV3, AV4, AV5)는 공압에 의해 개폐 조절이 가능한 밸브이다.
일 예에 의하면, 벤트 시기를 결정하기 위한 상술한 설정 조건은 재충전을 수행하기 전에 버퍼 용기(410) 내부 압력 조건이다. 버퍼 용기(410) 내부 압력을 측정하기 위해 압력 측정 부재(pressure measuring member)가 제공된다. 압력 측정 부재로는 압력 게이지(pressure gauge)(460)가 사용될 수 있다. 압력 게이지(460)는 분기점(P1)과 자동 밸브(AV3) 사이 위치에서 가스 유입관(430) 상에 설치된다. 벤트 라인(450)이 가스 유입 라인(430)과 독립적으로 제공되는 경우에 압력 게이지는 벤트 라인(450) 상에 설치된다. 선택적으로 버퍼 용기(410) 내 압력은 가스 유입관(430)이나 벤트 라인(450)이 아닌 버퍼 용기(410)에 직접 설치될 수 있다. 이 경우, 버퍼 용기(410) 내 압력은 실시간으로 모니터링 될 수 있다.
이와 달리 벤트 시기를 결정하기 위한 상술한 설정 조건은 다양하게 제공될 수 있다. 예컨대, 설정 조건은 버퍼 용기(410) 내 케미컬의 재충전 횟수 또는 공정 챔버(100)에서 공정 진행 횟수 등일 수 있다.
또한, 벤트 펌프(452)와 케미컬 공급관(440)은 연결관(480)에 의해 연결된다. 연결관(480)은 기화기(444)와 공정 챔버(100) 사이의 위치에서 케미컬 공급관(440)으로부터 분기된다. 연결관(480)은 초기에 기화된 케미컬이 초기에 안정화될 때까지 공정 챔버(100)로 공급되지 않고 벤트 펌프(452)를 통해 배기되도록 한다. 케미컬 공급관(440)에서 연결관(480)이 케미컬 공급관(440)으로부터 분기된 지점(P2) 및 공정 챔버(100) 사이에는 자동 밸브(AV6)가 설치되고, 연결관(480)에도 자동 밸브(AV7)가 설치된다. 버퍼 용기(410) 내 가스의 배기 및 기화된 케미컬이 안정화되기까지 케미컬의 배기가 공정 펌프(282)가 아닌 벤트 펌프(452)를 통해 배기된다. 따라서 공정 펌프(282)의 세정 등의 주기가 길어지므로 공정 챔버(100)의 가동률이 증가한다.
제어기(470)는 처리 장치(10)에서 공정이 수행되는 과정 및 액 공급 장치(40)를 제어한다. 제어기(470)는 압력 게이지(460)에 의해 측정된 압력값 및 수위 측정 부재(414)에 의해 검출된 버퍼 용기(410) 내 케미컬의 수위를 전송받고, 각각의 자동 밸브(AV1, AV2, AV3, AV4, AV5, AV6, AV7)의 개폐를 제어한다.
다음에는 도 4 내지 도 9를 참조하여 액 공급 장치(40)로부터 처리 장치(10)로 케미컬을 공급하는 방법을 설명한다. 도 4는 액 공급 장치(40) 내 케미컬을 재충전하는 과정을 보여주는 순서도이고, 도 5 내지 도 9는 케미컬을 공급하는 과정에서 자동 밸브들(AV1, AV2, AV3, AV4, AV5, AV6, AV7)의 개폐 상태를 보여주는 도면이다. 도 5 내지 도 9에서 내부가 채워진 밸브는 닫힌 상태를 나타내고, 내부가 개방된 밸브는 열린 상태를 나타낸다.
버퍼 용기(410)에 케미컬이 채워진 상태에서 버퍼 용기(410) 내로 가스를 공급한다. 버퍼 용기(410) 내 압력 증가로 인해 버퍼 용기(410) 내 액 상의 케미컬이 케미컬 공급관(440)으로 유출된다. 액 상의 케미컬은 기화기(444)에서 기화된 후 공정 챔버(100)로 공급된다. 기화된 케미컬의 공급량이 안정화될 때까지 케미컬은 벤트 펌프(452)를 통해 배기된다. 이때, 자동 밸브들(AV2, AV3, AV4, AV7)은 열리고, 자동 밸브들(AV1, AV5, AV6)은 닫힌다(도 5 참조).
케미컬의 공급량이 안정화되면, 케미컬은 공정 챔버(100)로 공급되고, 공정 챔버(100) 내에서 증착이 이루어진다(스텝 S12). 이때, 자동 밸브들(AV1, AV3, AV4, AV6)은 열리고, 자동 밸브들(AV1, AV5, AV7)은 닫힌다(도 6 참조).
공정이 계속적으로 진행됨에 따라 버퍼 용기(410) 내 케미컬의 수위가 낮아진다. 버퍼 용기(410) 내 케미컬의 수위가 제 1 수위에 도달하였는지 여부를 하부 센서(414b)가 감지한다(스텝 S14). 케미컬의 수위가 제 1 수위에 도달하면, 케미컬을 재충전이 준비된다. 케미컬의 재충전이 시작되기 전에 공정 챔버(100)에서 웨이퍼(W)에 대해 증착 공정이 수행되고 있는지를 판단한다(스텝 S16). 웨이퍼들(W)에 대해 증착 공정이 수행되고 있지 않으면, 버퍼 용기(410) 내 압력을 체크하고, 제어기(470)는 버퍼 용기(410) 내 압력이 설정압력 미만인지 여부를 판단한다(스텝 S20). 웨이퍼들(W)에 대해 증착 공정이 수행되는 중이면, 진행 중인 증착 공정이 완료된 이후에 버퍼 용기(410) 내 압력을 체크한다(스텝 S18). 버퍼 용기(410) 내 압력 측정을 위해 자동 밸브(AV3)는 열리고, 자동 밸브들(AV1, AV2, AV4, AV5, AV6, AV7)은 닫힌다(도 7 참조).
버퍼 용기(410) 내 압력이 설정압력 미만이면, 버퍼 용기(410) 내 압력이 허용범위 이내인 것으로 판단하고 버퍼 용기(410) 내 가스를 배기함이 없이 버퍼 용기(410) 내로 케미컬을 재충전한다(스텝 S22). 케미컬은 버퍼 용기(410) 내 수위가 제 2 수위에 도달할 때까지 공급된다. 이때, 자동 밸브(AV1)는 열리고, 자동 밸브들(AV2, AV3, AV4, AV5, AV6, AV7)은 닫힌다(도 8 참조).
이와 달리 버퍼 용기(410) 내 압력이 설정압력 이상이면, 벤트 라인(450)을 통해 버퍼 용기(410) 내 가스를 강제 배기한다(스텝 S24). 이 때, 자동 밸브들(AV3, AV5)은 열리고, 자동 밸브들(AV2, AV4, AV6, AV7)은 닫힌다(도 9 참조). 벤트 라인(450) 내 가스의 배기는 처음에 설정 시간 동안 자동 밸브(AV3, AV5)를 개방함으로써 이루어진다. 설정 시간이 경과하면 자동 밸브(AV3)는 개방하고 자동 밸브(AV5)를 닫아 버퍼 용기(410) 내 가스의 압력을 재측정한다. 버퍼 용기(410) 내 가스의 압력이 설정 압력 미만이면 재충전을 종료하고, 공정 챔버(100)로 케미컬의 공급을 수행한다. 그러나 버퍼 용기(410) 내 가스의 압력이 설정 압력 이상이면 상기 설정 시간 동안 자동 밸브(AV3, AV5)를 다시 개방하여 가스를 재배기한다.
초기에 가스의 배기를 수행할 것인지를 판단하는 설정 압력과 가스의 배기가이 이루어진 후 가스를 재 배기할 것인지 여부를 판단하는 설정 압력은 동일한 압력일 수 있다. 이와 달리 재 배기 여부를 판단하는 설정 압력과 초기에 가스의 배기를 수행할 것인지를 판단하는 설정 압력은 상이할 수 있다.
케미컬의 충전이 완료된 후 케미컬 유입관(420) 내 케미컬을 케미컬 저장 용 기(422)로 회수한 상태에서 대기가 이루어지면, 후에 케미컬 유입관(420) 내에 파티클이 다량 발생한다. 따라서 케미컬 유입관(420) 내부 세정을 위해 많은 시간이 소요되며, 설비 가동률이 저하된다. 따라서 케미컬 유입관(420) 내부 오염을 방지하고 설비 가동률을 향상하기 위해 버퍼 용기(410) 내에 케미컬의 충전이 완료된 이후에 자동 밸브(AV1)는 닫히며, 케미컬 유입관(420) 내에는 자동 밸브(AV1)가 설치된 위치까지 케미컬이 채워진 상태로 대기한다.
도 10a은 버퍼 용기(410) 내 가스를 배기함이 없이 계속적으로 케미컬을 재충전하여 사용할 때 버퍼 용기(410) 내 압력과 케미컬의 재충전량을 보여주고, 도 10b는 벤트 라인(450)을 사용하여 버퍼 용기(410) 내 가스를 배기를 수행하면서 케미컬을 재충전하는 경우 버퍼 용기(410) 내 압력과 케미컬의 재충전량을 보여주는 도면이다. 도 10a를 참조하면, 버퍼 용기(410) 내 가스를 배기함이 없이 케미컬의 재충전이 계속적으로 이루어지는 경우, 재충전 횟수가 증가함에 따라 버퍼 용기(410) 내부 압력은 증가하고, 이와 함께 버퍼 용기(410) 내로 재충전되는 케미컬의 량은 감소하는 것을 알 수 있다. 그러나 도 10b를 참조하면, 버퍼 용기(410) 내 가스의 배기가 이루어지는 시점(T)에서 버퍼 용기(410) 내부 압력이 감소하며, 이로 인해 케미컬의 재충전량이 다시 증가되는 것을 알 수 있다.
본 발명에 의하면, 케미컬의 계속적인 공급이 가능하므로 설비 가동률을 증가된다.
또한, 본 발명에 의하면, 초기에 케미컬의 공급량이 안정화되기까지 소요되 는 시간을 단축할 수 있다.
또한, 본 발명에 의하면, 케미컬이 버퍼 용기에 재충전되는 주기가 계속적으로 짧아져 설비 가동률이 저하되는 것을 방지할 수 있다.

Claims (28)

  1. 액을 공급하는 장치에 있어서,
    내부에 액이 채워지는 공간을 제공하는 버퍼 용기와;
    액 저장 용기로부터 액을 상기 버퍼 용기 내로 공급하는 액 유입관과;
    상기 버퍼 용기 내 액을 상기 버퍼 용기 외부로 공급하는 액 공급관과;
    상기 버퍼 용기 내 액이 상기 액 공급관을 통해 유출되는 압력을 제공하도록 가스 저장 용기로부터 상기 버퍼 용기 내로 가압가스를 공급하는 가스 유입관과; 그리고,
    상기 버퍼 용기에 결합하며, 상기 버퍼 용기 내 가압가스를 상기 버퍼 용기 외부로 배기하는 벤트 라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 액 공급 장치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 액 공급 장치는 상기 버퍼 용기 내 압력을 측정하는 압력 측정 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액 공급 장치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 압력 측정 부재는 상기 벤트 라인에 설치되는 압력 게이지인 것을 특징으로 하는 액 공급 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 액 공급 장치는,
    상기 버퍼 용기 내 공간에 채워진 액의 수위를 측정하는 수위 측정 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액 공급 장치.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 수위 측정 부재는,
    상기 액 저장 용기로부터 상기 버퍼 용기로 액 공급을 시작하는 시기를 결정하기 위한 수위를 측정하는 하부 센서와;
    상기 액 저장 용기로부터 상기 버퍼 용기로의 액 공급을 중단하는 시기를 결정하기 위한 수위를 측정하는 상부 센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 액 공급 장치.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 벤트 라인에는 상기 버퍼 용기 내 가압 가스를 강제 배기하는 펌프가 설치되는 것을 특징으로 하는 액 공급 장치.
  7. 기판을 처리하는 설비에 있어서,
    기판에 대해 공정을 수행하는 공간을 제공하는 처리 장치와;
    내부에 액상의 케미컬이 채워지는 공간을 제공하는 버퍼 용기와;
    액 저장 용기로부터 액상의 케미컬을 상기 버퍼 용기 내로 공급하는 케미컬 유입관과;
    상기 버퍼 용기 내 케미컬을 상기 처리 장치로 공급하는, 그리고 상기 액상의 케미컬을 기화시키는 기화기가 설치되는 케미컬 공급관과;
    상기 버퍼 용기 내 액상의 케미컬이 상기 케미컬 공급관을 통해 유출되는 압력을 제공하도록 가스 저장 용기로부터 상기 버퍼 용기 내로 가압가스를 공급하는 가스 유입관과; 그리고
    상기 버퍼 용기 내 가압가스를 상기 버퍼 용기 외부로 배기하는 벤트 라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 기판 처리 설비는 상기 벤트 라인에 설치되어 상기 버퍼 용기 내 가압 가스를 강제 배기하는 벤트 펌프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 기판 처리 설비는 상기 버퍼 용기 내 압력을 측정하는 압력 측정 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  10. 제 9 항에 있어서,
    상기 압력 측정 부재는 상기 벤트 라인에 설치되는 압력 게이지인 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  11. 제 7 항에 있어서,
    상기 기판 처리 설비는,
    상기 액 저장 용기로부터 상기 버퍼 용기로 케미컬 공급을 시작하는 시기를 결정하기 위한 상기 버퍼 용기 내 케미컬의 수위를 측정하는 하부 센서와;
    상기 액 저장 용기로부터 상기 버퍼 용기로의 케미컬 공급을 중단하는 시기를 결정하기 위한 상기 버퍼 용기 내 케미컬의 수위를 측정하는 상부 센서를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  12. 제 7 항에 있어서,
    상기 기판 처리 설비는,
    상기 버퍼 용기 내 압력을 측정하는 압력 측정 부재와;
    상기 액 저장 용기로부터 상기 버퍼 용기로 케미컬 공급을 시작하는 시기를 결정하기 위한 상기 버퍼 용기 내 케미컬의 수위를 측정하는 하부 센서와;
    상기 액 유입관, 상기 가스 유입관, 상기 공급관, 그리고 벤트 라인 각각에 설치된 밸브들과;
    상기 하부 센서 및 상기 압력 측정 부재로부터 측정된 신호를 전송받고, 상기 밸브들 각각의 개폐를 제어하는 제어기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  13. 제 8 항에 있어서,
    상기 기판 처리 설비는 상기 공정 챔버 내를 설정 압력으로 유지하는 공정 펌프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 기판 처리 설비는 상기 공급관으로부터 분기되어 상기 벤트 펌프에 연결되는 연결관을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 설비.
  15. 버퍼 용기 내로 가스를 공급하여 상기 버퍼 용기 내부를 가압함으로써 상기 버퍼 용기 내에 채워진 액을 상기 버퍼 용기 외부로 공급하는 액 공급 방법에 있어서,
    상기 버퍼 용기 내에 상기 액이 기설정량 이하가 되면 상기 액을 상기 버퍼 용기로 공급하여 상기 버퍼 탱크 내를 채우는 충전 과정을 반복하되, 기설정된 조건 하에서 상기 버퍼 용기 내 가스를 상기 버퍼 용기에 연결된 벤트 라인을 통해 배기하는 것을 특징으로 하는 액 공급 방법.
  16. 제 15 항에 있어서,
    상기 기설정된 조건은 상기 버퍼 용기 내 압력 조건을 포함하여,
    상기 버퍼 용기 내 압력이 기설정된 압력 이상이면 상기 버퍼 용기 내 상기 가스의 배기가 이루어지는 것을 특징으로 하는 액 공급 방법.
  17. 제 15 항에 있어서,
    상기 가스의 배기는 상기 벤트 라인에 연결된 감압 부재를 사용하여 강제 배기되는 것을 특징으로 하는 액 공급 방법.
  18. 버퍼 용기로부터 공급된 액상의 케미컬을 기화하여 처리 장치로 제공함으로써 기판 상에 공정을 수행하되,
    상기 버퍼 용기 내로 가스를 공급하여 상기 버퍼 용기 내부를 가압함으로써 상기 버퍼 용기 내에 채워진 상기 액상의 케미컬을 상기 버퍼 용기 외부로 공급하며,
    상기 버퍼 용기 내에 상기 액이 기설정량 이하가 되면 상기 액을 상기 버퍼 용기로 공급하여 상기 버퍼 탱크 내를 채우는 충전 과정을 반복하되, 기설정된 조건 하에서 상기 버퍼 용기 내 가스를 상기 버퍼 용기에 연결된 벤트 라인을 통해 상기 버퍼 용기 외부로 배기하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 공정은 기판 상에 유기 금속을 증착하는 공정이고,
    상기 케미컬은 유기 금속 증착에 사용되는 전구체인 것을 특징으로 하는 기 판 처리 방법.
  20. 제 19 항에 있어서,
    상기 가스는 질소, 헬륨, 또는 아르곤 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  21. 제 18 항에 있어서,
    상기 가스의 배기는 상기 벤트 라인에 연결된 펌프를 사용하여 강제 배기되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  22. 제 21 항에 있어서,
    상기 벤트 라인에 연결된 펌프와 상기 처리 장치 내에서 공정 진행시 상기 처리 장치 내 압력을 조절하는 펌프는 서로 상이한 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  23. 제 22 항에 있어서,
    상기 기화된 케미컬은 그 공급률이 안정화된 후 상기 처리 장치로 공급되되, 초기에 상기 기화된 케미컬의 공급률이 안정화될 때까지 상기 기화된 케미컬은 상기 벤트 라인에 연결된 펌프를 통해 배기되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  24. 제 18 항에 있어서,
    상기 기설정된 조건은 상기 버퍼 용기 내 압력 조건을 포함하여,
    상기 버퍼 용기 내 압력을 측정하고, 압력 측정값이 제 1 압력 이상이면 상기 버퍼 용기 내 상기 가스의 배기가 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  25. 제 24 항에 있어서,
    상기 버퍼 용기 내에 채워진 케미컬의 수위를 감지하고, 상기 가스의 배기는 상기 케미컬이 제 1 수위에 도달한 것으로 감지된 이후에 이루어진 상기 압력 측정값에 근거하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  26. 제 25 항에 있어서,
    상기 케미칼이 상기 제 1 수위에 도달한 것으로 감지된 시기에 상기 처리 장치에서 공정 수행 중이면, 상기 가스의 배기는 상기 처리 장치에서 공정이 완료된 이후에 이루어진 상기 압력 측정값에 근거하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  27. 제 24 항에 있어서,
    상기 가스의 배기는 상기 벤트 라인에 설치된 개폐 밸브를 설정 시간 동안 개방함으로써 이루어지고 상기 개폐 밸브가 닫힌 이후에 상기 버퍼 용기 내 압력을 재측정하여 상기 버퍼 용기 내 압력이 기설정된 제 2 압력 이하가 아니면 상기 개폐 밸브의 개방 및 상기 버퍼 용기 내 압력 재측정 과정을 반복하여 수행하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
  28. 제 18 항에 있어서,
    상기 버퍼 탱크 내의 케미컬을 공급하는 유입관에는 개폐 밸브가 설치되고, 상기 개폐 밸브가 닫힌 상태에서 케미컬은 상기 유입관 내에 상기 케미칼이 저장되는 용기로부터 상기 개폐 밸브까지 채워진 상태로 대기하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 방법.
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