JP2017132881A - 樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルム - Google Patents
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Abstract
【課題】熱耐久性が高く安定性に優れた光学補償フィルムを提供する。【解決手段】樹脂成分として式（１）で示されるセルロ−ス系樹脂３０〜９９重量％及び負の複屈折性を示すエステル系樹脂１〜７０重量％を含有し、さらに、該樹脂成分８５〜９９．９９重量％及びＦｅｄｏｒの方法で求めた溶解度パラメーターδが１７Ｊ／ｃｍ３以上で、分子量が３５０以上である安定性付与可塑剤０．０１〜１５重量％を含有する樹脂組成物。（Ｒ１〜Ｒ３は夫々独立にＨ又はＣ１〜１２の置換基）好ましくは、負の複屈折性を示すエステル系樹脂が、ケイ皮酸エステル残基単位及び／又はフマル酸エステル残基を含むエステル系樹脂である樹脂組成物。面内位相差が８０〜３００ｎｍで【選択図】なし
Description
本発明は、樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムに関するものであり、より詳しくは、樹脂組成物ならびに位相差特性および波長分散特性に優れた液晶ディスプレイ用の光学補償フィルムに関する。
液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュ−タ−用モニタ−、ノ−トパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられている。特に光学補償フィルムは、正面や斜めから見た場合のコントラスト向上、色調の補償など大きな役割を果たしている。
液晶ディスプレイには、垂直配向型（ＶＡ−ＬＣＤ）、面内配向型液晶（ＩＰＳ−ＬＣＤ）、ス−パ−ツイストネマチック型液晶（ＳＴＮ−ＬＣＤ）、反射型液晶ディスプレイ、半透過型液晶ディスプレイなどの多くの方式が有り、ディスプレイにあわせた光学補償フィルムが必要となっている。
従来の光学補償フィルムとしては、セルロ−ス系樹脂、ポリカ−ボネ−トや環状ポリオレフィンなどの延伸フィルムが用いられている。特にトリアセチルセルロ−スフィルムなどのセルロ−ス系樹脂からなるフィルムは、偏光子であるポリビニルアルコ−ルとの接着性も良好なことから幅広く使用されている。
しかしながら、セルロ−ス系樹脂からなる光学補償フィルムはいくつかの課題がある。例えば、セルロ−ス系樹脂フィルムは延伸条件を調整することで各種ディスプレイにあわせた位相差値を持つ光学補償フィルムに加工されるが、セルロ−ス系樹脂フィルムの一軸または二軸延伸により得られるフィルムの三次元屈折率は、ｎｙ≧ｎｘ＞ｎｚであり、それ以外の３次元屈折率、例えば、ｎｙ＞ｎｚ＞ｎｘや、ｎｙ＝ｎｚ＞ｎｘなどの３次元屈折率を有する光学補償フィルムを製造するためには、フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムの厚み方向に収縮力をかけるなど特殊な延伸方法が必要であり屈折率（位相差値）の制御も困難である（例えば、特許文献１〜３参照）。ここでｎｘはフィルム面内の進相軸方向（最も屈折率の小さい方向）の屈折率、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向（最も屈折率の大きい方向）の屈折率、ｎｚはフィルム面外（厚み方向）の屈折率を示す。
また、セルロ−ス系樹脂フィルムは一般に溶剤キャスト法により製造されるが、キャスト法により成膜したセルロ−ス系樹脂フィルムはフィルム厚み方向に４０ｎｍ程度の面外位相差（Ｒｔｈ）を有するため、ＩＰＳモ−ドの液晶ディスプレイなどではカラ−シフトが起こるなどの問題がある。ここで面外位相差（Ｒｔｈ）は以下の式で示される位相差値である。
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
また、フマル酸エステル系樹脂からなる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献４参照）。
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
また、フマル酸エステル系樹脂からなる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献４参照）。
しかしながら、フマル酸エステル系樹脂からなる延伸フィルムの３次元屈折率は、ｎｚ＞ｎｙ＞ｎｘであり、上記３次元屈折率を示す光学補償フィルムを得るためには他の光学補償フィルム等との積層などが必要である。
そこで、上記３次元屈折率を示す光学補償フィルムとして、樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムが提案されている（例えば、特許文献５〜特許文献７参照）。
特許文献５〜特許文献７は光学補償フィルムとして優れた性能を有するものの、目的とするＲｅの発現のためには本発明よりも厚いフィルム厚が必要である。また、一般に位相差フィルムは反射型液晶表示装置、タッチパネルや有機ＥＬの反射防止層としても用いられるものであり、該用途では、特に長波長域ほどレタ−デ−ションが大きい位相差フィルム（以下、「逆波長分散フィルム」という）が求められるものである。
例えば、有機ＥＬ用円偏光板の位相差フィルムとして逆波長分散フィルムが用いられる場合、位相差は測定波長λの１／４程度が好ましく、４５０ｎｍにおけるレタ−デ−ションと５５０ｎｍにおけるレタ−デ−ションの比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８１に近いことが好ましい。そして、表示装置の薄型化を鑑みた場合、使用される逆波長分散フィルムも薄いことが求められる。上記のような要求特性に対し、種々の位相差フィルムが開発されている。
上記３次元屈折率を示し、かつ、逆波長分散フィルムとして用いられる位相差フィルムとしてセルロースエーテルであるセルロース系樹脂およびフマル酸エステル重合体を含有する位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献８参照）。また、特許文献８では、より高性能な位相差フィルムの製造のため、機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水蒸気透過率低減、レターデーション調整等が可能となる可塑剤の添加を提案している。
しかしながら、特許文献８で提案された可塑剤を用いるとき、得られる位相差フィルムの熱耐久性が低いという問題があった。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、可塑剤として知られる化合物が、機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水蒸気透過率低減、レタ−デ−ション調整、波長分散調整、酸化防止等の目的で含まれる樹脂組成物を用いた光学補償フィルムであって、熱耐久性が高く安定性に優れた光学補償フィルムを提供することにある。
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のセルロ−ス系樹脂および特定のエステル系樹脂、特定の可塑剤を含有する樹脂組成物を用いた光学補償フィルムおよびその製造方法が、上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、樹脂成分として所定の式で示されるセルロ−ス系樹脂３０〜９９重量％および負の複屈折性を示すエステル系樹脂１〜７０重量％を含有し、さらに、該樹脂成分８５〜９９．９９重量％およびＦｅｄｏｒの方法で求めた溶解度パラメーターδが１７Ｊ／ｃｍ３以上で分子量が３５０以上である安定性付与可塑剤０．０１〜１５重量％を含有することを特徴とする樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルム、ならびにその製造方法である。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の樹脂組成物は、樹脂成分として下記一般式（１）で示されるセルロ−ス系樹脂および負の複屈折性を示すエステル系樹脂を含有する。
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜１２の置換基を示す。）
本発明のセルロ−ス系樹脂としては、例えば、セルロ−スエ−テル、セルロ−スエステル、セルロ−スエ−テルエステル等が挙げられる。そして、本発明の樹脂組成物は、これらのセルロ−ス系樹脂を１種または２種以上含有していてもよい。
本発明のセルロ−ス系樹脂としては、例えば、セルロ−スエ−テル、セルロ−スエステル、セルロ−スエ−テルエステル等が挙げられる。そして、本発明の樹脂組成物は、これらのセルロ−ス系樹脂を１種または２種以上含有していてもよい。
本発明のセルロ−ス系樹脂は、機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パ−ミエイション・クロマトグラフィ−（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が１×１０３〜１×１０６であることが好ましく、５×１０３〜２×１０５であることがさらに好ましい。
本発明のセルロ−ス系樹脂としては、エステル共重合体との相溶性に優れ、かつ面内位相差Ｒｅが大きく、更に延伸加工性に優れるため、セルロ−スエ−テルが好ましい。
以下、本発明の光学補償フィルムに用いられるセルロ−ス系樹脂として好ましいセルロ−スエ−テルについて説明する。
本発明のセルロ−ス系樹脂であるセルロ−スエ−テルは、β−グルコース単位が直鎖状に重合した高分子であり、グルコ−ス単位の２位、３位および６位の水酸基の一部または全部をエ−テル化したポリマ−である。本発明のセルロ−スエ−テルとしては、例えば、メチルセルロ−ス、エチルセルロ−ス、プロピルセルロ−ス等のアルキルセルロ−ス；ヒドロキシエチルセルロ−ス、ヒドロキシプロピルセルロ−ス等のヒドロキシアルキルセルロ−ス；ベンジルセルロ−ス、トリチルセルロ−ス等のアラルキルセルロ−ス；シアノエチルセルロ−ス等のシアノアルキルセルロ−ス；カルボキシメチルセルロ−ス、カルボキシエチルセルロ−ス等のカルボキシアルキルセルロ−ス；カルボキシメチルメチルセルロ−ス、カルボキシメチルエチルセルロ−ス等のカルボキシアルキルアルキルセルロ−ス；アミノエチルセルロ−ス等のアミノアルキルセルロ−ス等が挙げられる。
該セルロ−スエ−テルにおけるセルロ−スの水酸基の酸素原子を介して置換している置換度（エ−テル化度）は、２位、３位および６位のそれぞれについて、セルロ−スの水酸基がエ−テル化している割合（１００％のエ−テル化は置換度１）を意味し、溶解性、相溶性、延伸加工性の点から、エ−テル基の全置換度ＤＳは、好ましくは１．５〜３．０（１．５≦ＤＳ≦３．０）であり、さらに好ましくは１．８〜２．８である。セルロ−スエ−テルは、溶解性、相溶性の点から、炭素数１〜１２の置換基を有することが好ましい。炭素数１〜１２の置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デカニル基、ドデカニル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、フェノニル基、ベンジル基、ナフチル基等を挙げることができる。これらの中でも、溶解性、相溶性の点から、炭素数１〜５のアルキル基であるメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基が好ましい。本発明で用いるセルロ−ス系ポリマ−のエ−テル基は１種類だけでもよいし、２種類以上のエ−テル基を有していてもよい。また、エ−テル基の他にエステル基を有していてもよい。
セルロ−スエ−テルは一般に、木材又はコットンより得たセルロ−スパルプをアルカリ分解し、アルカリ分解したセルロ−スパルプをエ−テル化することで合成される。アルカリとしては、リチウム，カリウム，ナトリウムなどのアルカリ金属の水酸化物やアンモニアなどが利用できる。前記アルカリ類は一般に、水溶液として使用される。そして、アルカリ性にされたセルロ−スパルプは、セルロ−スエ−テルの種類に応じて用いられるエ−テル化剤と接触されることによりエ−テル化されるものである。エ−テル化剤としては、例えば、塩化メチル、塩化エチル等のハロゲン化アルキル；ベンジルクロライド、トリチルクロライド等のハロゲン化アラルキル；モノクロロ酢酸、モノクロロプロピオン酸等のハロカルボン酸；エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等のアルキレンオキサイド等が挙げられ、これらのエ−テル化剤は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
なお、必要であれば、反応終了後、粘度調整のため塩化水素、臭化水素、塩酸、及び硫酸等で解重合処理してもよい。
本発明の樹脂組成物が含有する負の複屈折性を示すエステル系樹脂（以下、負の複屈折性を示すエステル系樹脂という）は、負の複屈折性を示すエステル残基単位を有する樹脂であれば特に制限はなく、該残基単位としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル残基単位、ケイ皮酸エステル残基単位、フマル酸エステル残基単位等が挙げられ、これらの１種または２種以上が挙げられる。
なお、本発明において、複屈折の正負は以下に示すように定義される。
負の複屈折とは延伸方向が進相軸方向となるものであり、正の複屈折とは延伸方向の垂直方向が進相軸方向となるものである。
つまり、一軸延伸すると延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さく（進相軸：延伸方向の垂直方向）なるものを正の複屈折を示す樹脂、一軸延伸すると延伸軸方向の屈折率が小さく（進相軸：延伸方向）なるものを負の複屈折を示す樹脂という。
負の複屈折性を示すエステル系樹脂としては、負の複屈折の発現性が大きく、光学補償フィルムの薄膜化が図れるため、下記一般式（２）で示されるケイ皮酸エステル残基単位および／または下記一般式（３）で示されるフマル酸エステル残基単位を含むエステル系樹脂であることが好ましい。
負の複屈折性を示すエステル系樹脂は、負の複屈折性を示すエステル残基単位に係る単量体を１００モル％として、該単量体と共重合可能な単量体の残基単位０〜２０モル％を含んでいてもよい。
負の複屈折性を示すエステル残基単位に係る単量体と共重合可能な単量体の残基単位としては、例えば、スチレン残基、α−メチルスチレン残基などのスチレン類残基；アクリル酸残基；メタクリル酸残基；酢酸ビニル残基、プロピオン酸ビニル残基などのビニルエステル類残基；メチルビニルエ−テル残基、エチルビニルエ−テル残基、ブチルビニルエ−テル残基などのビニルエ−テル残基；Ｎ−メチルマレイミド残基、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド残基、Ｎ−フェニルマレイミド残基などのＮ−置換マレイミド残基；アクリロニトリル残基；メタクリロニトリル残基；ケイ皮酸残基；エチレン残基、プロピレン残基などのオレフィン類残基；ビニルピロリドン残基；ビニルピリジン残基等の１種または２種以上を挙げることができる。
負の複屈折性を示すエステル系樹脂は、特に機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パ−ミエイション・クロマトグラフィ−（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が１×１０３〜５×１０６のものであることが好ましく、５×１０３〜２×１０５であることがさらに好ましい。
本発明の樹脂組成物におけるセルロ−ス系樹脂と負の複屈折性を示すエステル系樹脂の組成の割合は、セルロ−ス系樹脂３０〜９９重量％および負の複屈折性を示すエステル系樹脂１〜７０重量％である。セルロ−ス系樹脂が３０重量％未満の場合（負の複屈折性を示すエステル系樹脂が７０重量％を超える場合）、またはセルロ−ス系樹脂が９９重量％を超える場合（負の複屈折性を示すエステル系樹脂が１重量％未満の場合）は、位相差の制御が困難である。好ましくは、セルロ−ス系樹脂３０〜９０重量％および負の複屈折性を示すエステル系樹脂１０〜７０重量％であり、さらに好ましくはセルロ−ス系樹脂４０〜８０重量％および負の複屈折性を示すエステル系樹脂２０〜６０重量％である。
負の複屈折性を示すエステル系樹脂の製造方法としては、該エステル系樹脂が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、ラジカル重合を行うことにより製造することができる。負の複屈折性を示すエステル類と共重合可能な単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン類；アクリル酸；メタクリル酸；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル類；メチルビニルエ−テル、エチルビニルエ−テル、ブチルビニルエ−テルなどのビニルエ−テル；Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミドなどのＮ−置換マレイミド；アクリロニトリル；メタクリロニトリル；ケイ皮酸；エチレン、プロピレンなどのオレフィン類；ビニルピロリドン；ビニルピリジン等の１種または２種以上を挙げることができる。
ラジカル重合の方法としては、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。
ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパ−オキサイド、ラウリルパ−オキサイド、オクタノイルパ−オキサイド、アセチルパ−オキサイド、ジ−ｔ−ブチルパ−オキサイド、ｔ−ブチルクミルパ−オキサイド、ジクミルパ−オキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパ−オキシ）ヘキサンなどの有機過酸化物；２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレ−ト、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）などのアゾ系開始剤等が挙げられる。
そして、溶液重合法または沈殿重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族溶媒；メタノ−ル、エタノ−ル、プロピルアルコ−ル、ブチルアルコ−ルなどのアルコ−ル系溶媒；シクロヘキサン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミド、酢酸イソプロピル等が挙げられ、これらの混合溶媒をも挙げられる。
また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には３０〜１５０℃の範囲で行うことが好ましい。
本発明の樹脂組成物は、熱安定性を向上させるために酸化防止剤を含有していても良い。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダ−ドフェノ−ル系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、ビタミンＥ系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独でもよく、２種以上を組み合わせてもよい。
本発明の樹脂組成物は、耐候性を高めるためヒンダ−ドアミン系光安定剤や紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾ−ル、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエ−ト等が挙げられる。
本発明の樹脂組成物は、従来知られている通り、いわゆる可塑剤として知られる化合物が、機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水蒸気透過率低減、レタ−デ−ション調整、波長分散調整等の目的で添加されている。そして、本発明に係る安定性付与可塑剤は、これらの目的で添加されており、かつ、該安定性付与可塑剤を含む樹脂組成物を用いて得られる光学補償フィルムが、熱耐久性が高く安定性に優れたものになることを特徴とするものである。
本発明の安定性付与可塑剤は、Ｆｅｄｏｒの方法で求めた溶解度パラメーターδが１７Ｊ／ｃｍ３以上で、かつ、分子量が３５０以上であることを特徴とする。本発明において、Ｆｅｄｏｒの方法で求めた溶解度パラメーターδが１７Ｊ／ｃｍ３未満であるとき、または、分子量が３５０未満であるとき、高温環境時の可塑剤の析出及び滲出の問題、または高温環境時の可塑剤の揮発の問題が生じ、光学補償フィルムとしての性能が維持できず、熱耐久性が低下する。本発明の安定性付与可塑剤は、Ｆｅｄｏｒの方法で求めた溶解度パラメーターδが１８Ｊ／ｃｍ３以上であることが好ましい。また、本発明の安定性付与剤は、分子量が４００以上であることが好ましく、５００以上であることがさらに好ましく、６００以上であることが特に好ましい。
本発明の樹脂組成物における安定性付与可塑剤の割合は０．０１〜１５重量％であり（上記の樹脂成分：８５〜９９．９重量％）、さらに好ましくは０．１〜１３重量％、特に好ましくは０．３〜１０重量％である。本発明において、安定性付与可塑剤の割合が０．０１重量％未満であるとき、機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水蒸気透過率低減、レタ−デ−ション調整、波長分散調整等が困難となり、１５重量％より大きいとき、可塑剤の析出や滲出が起こりやすい。
本発明の安定性付与可塑剤としては、Ｆｅｄｏｒの方法で求めた溶解度パラメーターδが１７Ｊ／ｃｍ３以上で分子量３５０以上であれば特に制限がなく、例えば、カルボン酸エステル、９，９ビス置換フルオレン、リン酸エステル、アクリル系ポリマ−等が挙げられる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル、トリメリット酸エステル、ピロメリット酸エステル、クエン酸エステル、オレイン酸エステル、リシノール酸エステル、セバチン酸エステル、ステアリン酸エステル、アジピン酸エステル及びアルキルフタリルアルキルグリコレート等を挙げることが出来る。９，９ビス置換フルオレンとしては、９，９−ビス(４−ヒドロキシフェニル)フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、９，９−ビス(４−グリシジルオキシフェニル)フルオレン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−アミノ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（２−シアノエチル)フルオレン等を挙げることが出来る。これらの中でも、入手が容易で樹脂との相溶性が良く、樹脂に添加後も熱耐久性に優れているため、アジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジウンデシル、アジピン酸ビス（２−エチルヘキシル）等のアジピン酸エステル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジウンデシル等のフタル酸エステル、トリメリット酸トリブチル、トリメリット酸トリス（２−エチルヘキシル）等のトリメリット酸エステル、ピロメリット酸テトラ（２−エチルヘキシル）等のピロメリット酸エステル、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン等の９，９ビス置換フルオレンが好ましく、アジピン酸ジイソデシル、アジピン酸ジウンデシル、フタル酸ジイソデシル、フタル酸ジウンデシル、９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンがさらに好ましい。これらの安定性付与可塑剤は１種でもよく、２種以上混合して使用してもよい。
本発明の樹脂組成物は、発明の主旨を超えない範囲で、その他ポリマ−、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を含有していてもよい。
本発明の樹脂組成物は、セルロ−ス系樹脂と負の複屈折性を示すエステル系樹脂、安定性付与可塑剤（以下、樹脂等という）をブレンドすることにより得ることができる。
ブレンドの方法としては、溶融ブレンド、溶液ブレンド等の方法を用いることができる。溶融ブレンド法とは、加熱により樹脂等を溶融させて混練することにより製造する方法である。溶液ブレンド法とは樹脂等を溶剤に溶解しブレンドする方法である。溶液ブレンドに用いる溶剤としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルムなどの塩素系溶剤；トルエン、キシレンなどの芳香族溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤；メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル等のアルコ−ル溶剤；ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ−テル溶剤；ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等を用いることができる。樹脂等を溶剤に溶解したのちブレンドすることも可能であり、各樹脂の粉体、ペレット等を混練後、溶剤に溶解させることも可能である。得られたブレンド樹脂溶液を貧溶剤に投入し、樹脂組成物を析出させることも可能であり、またブレンド樹脂溶液のまま光学補償フィルムの製造に用いることも可能である。
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、フィルムの取扱い性及び光学部材の薄膜化への適合性の観点から、厚みが５〜２００μｍであることが好ましく、１０〜１００μｍがさらに好ましく、２０〜８０μｍが特に好ましく、１０〜６０μｍがもっとも好ましい。
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの位相差特性は、目的とする光学補償フィルムにより異なるものであり、例えば、１）下記式（１）で示される面内位相差（Ｒｅ）が好ましくは８０〜３００ｎｍ、さらに好ましくは１００〜３００ｎｍ、特に好ましくは１００〜２８０ｎｍであって、下記式（２）で示されるＮｚ係数が好ましくは０．３５〜０．６５、さらに好ましくは０．４５〜０．５５であるもの、２）面内位相差（Ｒｅ）が好ましくは５０〜２００ｎｍ、さらに好ましくは８０〜１６０ｎｍであって、Ｎｚ係数が好ましくは−０．２〜０．２、さらに好ましくは−０．１〜０．１であるもの、３）面内位相差（Ｒｅ）が好ましくは０〜２０ｎｍ、さらに好ましくは０〜５ｎｍ、下記式（３）で示される面外位相差（Ｒｔｈ）が好ましくは−１５０〜２０ｎｍ、さらに好ましくは−１５０〜１０ｎｍ、特に好ましくは−１２０〜０ｎｍであるもの等が挙げられる。このときの位相差特性は全自動複屈折計（王子計測機器株式会社製、商品名ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用い、測定波長５８９ｎｍの条件で測定されるものである。
これらは、従来のセルロ−ス系樹脂からなる光学補償フィルムでは発現が困難な位相差特性を有している。
Ｒｅ＝（ｎｙ−ｎｘ）×ｄ （１）
Ｎｚ＝（ｎｙ−ｎｚ）／（ｎｙ−ｎｘ） （２）
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ （３）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
本発明の光学フィルムの波長分散特性としては、色ずれ抑制のため、好ましくは０．６０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０５であり、さらに好ましくは０．７０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０２であり、特に好ましくは０．７５＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００である。
Ｎｚ＝（ｎｙ−ｎｚ）／（ｎｙ−ｎｘ） （２）
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ （３）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
本発明の光学フィルムの波長分散特性としては、色ずれ抑制のため、好ましくは０．６０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０５であり、さらに好ましくは０．７０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０２であり、特に好ましくは０．７５＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．００である。
本発明のセルロ−ス系樹脂としてセルロ−スエ−テルを使用した場合、単独では、低波長分散の光学フィルムを提供することができる。このフィルムに、延伸方向に対して負の複屈折性を示すエステル系樹脂をブレンドした樹脂組成物は、一般的に逆波長分散性を示す光学フィルムを提供することができるものである。
これらの位相差特性および波長分散特性を同時に満足することは、一般にセルロ−ス系樹脂を用いた光学補償フィルムでは発現が困難であるが、本発明においてセルロ−スエ−テルを用いる場合には、本発明に係る樹脂組成物を用いた光学補償フィルムがこれらの特性を同時に満足するものである。
本発明の光学補償フィルムは、必要膜厚を薄くするため、５８９ｎｍにおけるレタ−デ−ションとフィルム膜厚の比Ｒｅ（５８９）（ｎｍ）／フィルム膜厚（μｍ）が４．０ｎｍ／μｍ以上であることが好ましい。
本発明の光学補償フィルムは、輝度向上のため、光線透過率が好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上である。
本発明の光学補償フィルムは、コントラスト向上のため、ヘ−ズが好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの製造方法としては、本発明の光学補償フィルムの製造が可能であれば如何なる方法を用いてもよいが、光学特性、耐熱性、表面特性などに優れる光学補償フィルムが得られることから、溶液キャスト法により製造することが好ましい。ここで、溶液キャスト法とは、樹脂溶液（一般にはド−プと称する。）を支持基板上に流延した後、加熱することにより溶媒を蒸発させて光学補償フィルムを得る方法である。流延する方法としては、例えば、Ｔダイ法、ドクタ−ブレ−ド法、バ−コ−タ−法、ロ−ルコ−タ−法、リップコ−タ−法等が用いられ、工業的には、ダイからド−プをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が一般的に用いられている。また、用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレ−ト等のプラスチック基板などがある。高度に表面性、光学均質性の優れた基板を工業的に連続製膜するには、表面を鏡面仕上げした金属基板が好ましく用いられる。溶液キャスト法において、厚み精度、表面平滑性に優れた光学補償フィルムを製造する際には、樹脂溶液の粘度は極めて重要な因子であり、樹脂溶液の粘度は樹脂の濃度、分子量、溶媒の種類に依存するものである。
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムを製造する際の樹脂溶液は、セルロ−ス系樹脂、負の複屈折性を示すエステル系樹脂、安定性付与可塑剤を溶媒に溶解し調製する。樹脂溶液の粘度は、重合体の分子量、重合体の濃度、溶媒の種類で調整可能である。樹脂溶液の粘度としては特に制限はないが、フィルム塗工性をより容易にするため、好ましくは１００〜１００００ｃｐｓ、さらに好ましくは３００〜５０００ｃｐｓ、特に好ましくは５００〜３０００ｃｐｓである。
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの製造方法としては、例えば、樹脂成分として下記一般式（１）で示されるセルロ−ス系樹脂３０〜９９重量％および負の複屈折性を示すエステル系樹脂１〜７０重量％を含有し、さらに、該樹脂成分８５〜９９．９９重量％およびＦｅｄｏｒの方法で求めた溶解度パラメーターδが１７Ｊ／ｃｍ３以上で分子量が３５０以上である安定性付与可塑剤を含有する樹脂組成物を溶剤に溶解し、得られた樹脂溶液を基材にキャストし、乾燥後、基材より剥離することが挙げられる。
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜１２の置換基を示す。）
本発明の樹脂組成物を用いて得られた光学補償フィルムは、面内位相差（Ｒｅ）を発現するために一軸延伸またはアンバランス二軸延伸することが好ましい。光学補償フィルムを延伸する方法としては、ロ−ル延伸による縦一軸延伸法やテンタ−延伸による横一軸延伸法、これらの組み合わせによるアンバランス逐次二軸延伸法やアンバランス同時二軸延伸法等を用いることができる。また本発明では、熱収縮性フィルムの収縮力の作用下に延伸を行う特殊延伸法を用いずに位相差特性を発現させることができる。
本発明の樹脂組成物を用いて得られた光学補償フィルムは、面内位相差（Ｒｅ）を発現するために一軸延伸またはアンバランス二軸延伸することが好ましい。光学補償フィルムを延伸する方法としては、ロ−ル延伸による縦一軸延伸法やテンタ−延伸による横一軸延伸法、これらの組み合わせによるアンバランス逐次二軸延伸法やアンバランス同時二軸延伸法等を用いることができる。また本発明では、熱収縮性フィルムの収縮力の作用下に延伸を行う特殊延伸法を用いずに位相差特性を発現させることができる。
延伸する際の光学補償フィルムの厚みは、延伸処理のし易さおよび光学部材の薄膜化への適合性の観点から、１０〜２００μｍが好ましく、１５〜１５０μｍがさらに好ましく、１５〜１００μｍが特に好ましい。
延伸の温度は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、好ましくは５０〜２００℃、さらに好ましくは１００〜１８０℃である。一軸延伸の延伸倍率は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、１．０５〜４.０倍が好ましく、１．１〜３．５倍がさらに好ましい。アンバランス二軸延伸の延伸倍率は特に制限はないが、光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから長さ方向には１．０５〜４.０倍が好ましく、１．１〜３．５倍がさらに好ましく、光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから、幅方向には１．０１〜１．２倍が好ましく、１．０５〜１．１倍がさらに好ましい。延伸温度、延伸倍率により面内位相差（Ｒｅ）を制御することができる。
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、必要に応じて他樹脂を含むフィルムと積層することができる。他樹脂としては、例えば、ポリエ−テルサルフォン、ポリアリレ−ト、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリナフタレンテレフタレ−ト、ポリカ−ボネ−ト、環状ポリオレフィン、マレイミド系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド等が挙げられる。また、ハ−ドコ−ト層やガスバリア層を積層することも可能である。
本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、薄膜で特定の位相差特性を示すことから、液晶ディスプレイ用光学補償フィルムや反射防止用フィルムとして有用である。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。
＜重合体の解析＞
重合体の構造解析は核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名：ＪＮＭ−ＧＸ２７０）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。
重合体の構造解析は核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名：ＪＮＭ−ＧＸ２７０）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。
１Ｈ−ＮＭＲスペクトル分析より組成比解析が困難な場合はＪＩＳ Ｋ ２５０１（２００３版）石油製品及び潤滑油−中和価試験方法に則ってフマル酸モノエステル濃度を求めた。
＜数平均分子量の測定＞
ゲル・パ−ミエイション・クロマトグラフィ−（ＧＰＣ）装置（東ソ−製、商品名：Ｃ０−８０１１（カラムＧＭＨＨＲ−Ｈを装着））を用い、テトラヒドロフラン、またはジメチルホルムアミドを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
ゲル・パ−ミエイション・クロマトグラフィ−（ＧＰＣ）装置（東ソ−製、商品名：Ｃ０−８０１１（カラムＧＭＨＨＲ−Ｈを装着））を用い、テトラヒドロフラン、またはジメチルホルムアミドを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
＜光学補償フィルムの光線透過率およびヘ−ズの測定＞
作成したフィルムの光線透過率およびヘ−ズは、ヘ−ズメ−タ−（日本電色工業製、商品名：ＮＤＨ２０００）を使用し、光線透過率の測定はＪＩＳ Ｋ ７３６１−１（１９９７版）に、ヘ−ズの測定はＪＩＳ−Ｋ ７１３６（２０００年版）に、それぞれ準拠して測定した。
作成したフィルムの光線透過率およびヘ−ズは、ヘ−ズメ−タ−（日本電色工業製、商品名：ＮＤＨ２０００）を使用し、光線透過率の測定はＪＩＳ Ｋ ７３６１−１（１９９７版）に、ヘ−ズの測定はＪＩＳ−Ｋ ７１３６（２０００年版）に、それぞれ準拠して測定した。
＜位相差特性の測定＞
試料傾斜型自動複屈折計（王子計測機器製、商品名：ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いて波長５８９ｎｍの光を用いて光学補償フィルムの位相差特性を測定した。
試料傾斜型自動複屈折計（王子計測機器製、商品名：ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いて波長５８９ｎｍの光を用いて光学補償フィルムの位相差特性を測定した。
＜波長分散特性の測定＞
試料傾斜型自動複屈折計（王子計測機器製、商品名：ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用い、波長４５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（５５０）の比として光学補償フィルムの波長分散特性を測定した。
試料傾斜型自動複屈折計（王子計測機器製、商品名：ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用い、波長４５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（５５０）の比として光学補償フィルムの波長分散特性を測定した。
＜溶解度パラメーターδの算出方法＞
先行技術文献（Ｄ．Ｗ．ｖａｎ Ｋｒｅｖｅｌｅｎ著、ＰＲＯＰＥＲＴＩＥＳ ＯＦ ＰＯＬＹＭＥＲＳ第３版、１９６〜１９７ページ）記載の凝集エネルギーおよびモル体積よりＦｅｄｏｒの原子団寄与法による溶解度パラメーター算出方法を用いて以下の式より可塑剤の溶解度パラメーターδを算出した。
δ＝［ΣＥｃｏｈ／ΣＶ］1／２
ここで、ΣＥｃｏｈは分子を構成する各基の凝集エネルギー（Ｊ／ｍｏｌ）を足し合わせた値を示し、ΣＶは分子を構成する各基のモル体積（ｃｍ３／ｍｏｌ）を足し合わせた値を示す。
先行技術文献（Ｄ．Ｗ．ｖａｎ Ｋｒｅｖｅｌｅｎ著、ＰＲＯＰＥＲＴＩＥＳ ＯＦ ＰＯＬＹＭＥＲＳ第３版、１９６〜１９７ページ）記載の凝集エネルギーおよびモル体積よりＦｅｄｏｒの原子団寄与法による溶解度パラメーター算出方法を用いて以下の式より可塑剤の溶解度パラメーターδを算出した。
δ＝［ΣＥｃｏｈ／ΣＶ］1／２
ここで、ΣＥｃｏｈは分子を構成する各基の凝集エネルギー（Ｊ／ｍｏｌ）を足し合わせた値を示し、ΣＶは分子を構成する各基のモル体積（ｃｍ３／ｍｏｌ）を足し合わせた値を示す。
＜熱耐久性の測定＞
ギヤーオーブン（東洋精機製作所製、商品名：ＳＴＤ６０Ｐ）（置換率３回／ｍｉｎ）を用いて８５℃の高温環境下とし、５００時間後のＲｅを調べる（以下、「熱耐久試験」という）ことで熱耐久性の測定をした。本発明において、熱耐久試験後のＲｅの変化率が１０％以下であるとき、熱耐久性が高いものとなる。
ギヤーオーブン（東洋精機製作所製、商品名：ＳＴＤ６０Ｐ）（置換率３回／ｍｉｎ）を用いて８５℃の高温環境下とし、５００時間後のＲｅを調べる（以下、「熱耐久試験」という）ことで熱耐久性の測定をした。本発明において、熱耐久試験後のＲｅの変化率が１０％以下であるとき、熱耐久性が高いものとなる。
合成例１（負の複屈折性を示すエステル系樹脂（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル系樹脂）の合成１）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル４２ｇ、フマル酸モノエチル７．７ｇおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．６６ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５５℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン２００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を４Ｌのヘキサン中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル系樹脂２７ｇを得た。得られた樹脂の数平均分子量は５３，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位８２モル％、フマル酸モノエチル残基単位１８モル％であった。
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル４２ｇ、フマル酸モノエチル７．７ｇおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．６６ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５５℃の恒温槽に入れ、２４時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン２００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を４Ｌのヘキサン中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル系樹脂２７ｇを得た。得られた樹脂の数平均分子量は５３，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位８２モル％、フマル酸モノエチル残基単位１８モル％であった。
合成例２（負の複屈折性を示すエステル系樹脂（フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル系樹脂）の合成２）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸モノエチル６．７ｇ、フマル酸ジイソプロピル３７ｇ、４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル６．１ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４８ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝７０／３０（重量％／重量％）中に滴下して析出、メタノール／水＝７０／３０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル系樹脂２６ｇを得た。得られた樹脂の数平均分子量は３２，０００、フマル酸モノエチル残基単位１５モル％、フマル酸ジイソプロピル残基単位７２モル％、４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル残基単位１３モル％であった。
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸モノエチル６．７ｇ、フマル酸ジイソプロピル３７ｇ、４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル６．１ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４８ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝７０／３０（重量％／重量％）中に滴下して析出、メタノール／水＝７０／３０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル系樹脂２６ｇを得た。得られた樹脂の数平均分子量は３２，０００、フマル酸モノエチル残基単位１５モル％、フマル酸ジイソプロピル残基単位７２モル％、４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル残基単位１３モル％であった。
合成例３（負の複屈折性を示すエステル系樹脂（フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル系樹脂）の合成３）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸モノエチル１．６ｇ、フマル酸ジイソプロピル４．８ｇ、４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル４４ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．１８ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、６０時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をヘキサン中に滴下して析出、ヘキサン２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル系樹脂１１ｇを得た。得られた樹脂の数平均分子量は３６，０００、フマル酸モノエチル残基単位７モル％、フマル酸ジイソプロピル残基単位１１モル％、４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル残基単位８２モル％であった。
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸モノエチル１．６ｇ、フマル酸ジイソプロピル４．８ｇ、４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル４４ｇおよび重合開始剤である２，５−ジメチル−２，５−ジ（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．１８ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、６０時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をヘキサン中に滴下して析出、ヘキサン２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル系樹脂１１ｇを得た。得られた樹脂の数平均分子量は３６，０００、フマル酸モノエチル残基単位７モル％、フマル酸ジイソプロピル残基単位１１モル％、４−メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル残基単位８２モル％であった。
実施例１
セルロース系樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）９３ｇと合成例１により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル系樹脂５７ｇと安定性付与可塑剤としてトリメリット酸トリブチル（分子量：３７８、δ：２０．８）７．８８ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
セルロース系樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製 エトセル スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）９３ｇと合成例１により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル系樹脂５７ｇと安定性付与可塑剤としてトリメリット酸トリブチル（分子量：３７８、δ：２０．８）７．８８ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、熱耐久性を測定した。その結果を表１に示す。
得られたフィルムの熱耐久性試験後のＲｅ変化率は小さく、熱耐久性の高いものであった。また、各光学特性が光学補償フィルムとして好適であった。
実施例２
安定性付与可塑剤としてトリメリット酸トリブチルの代わりにトリメリット酸トリス（２−エチルヘキシル）（分子量：５４７、δ：１９．４）７．８８ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルムを得た。
安定性付与可塑剤としてトリメリット酸トリブチルの代わりにトリメリット酸トリス（２−エチルヘキシル）（分子量：５４７、δ：１９．４）７．８８ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルムを得た。
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、熱耐久性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られたフィルムの熱耐久性試験後のＲｅ変化率は小さく、熱耐久性の高いものであった。また、各光学特性が光学補償フィルムとして好適であった。
実施例３
安定性付与可塑剤としてトリメリット酸トリブチルの代わりにピロメリット酸テトラ（２−エチルヘキシル）（分子量：７０２、δ：１９．４）７．８８ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルムを得た。
安定性付与可塑剤としてトリメリット酸トリブチルの代わりにピロメリット酸テトラ（２−エチルヘキシル）（分子量：７０２、δ：１９．４）７．８８ｇを用いたこと以外は実施例１と同様にして、光学補償フィルムを得た。
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、熱耐久性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られたフィルムの熱耐久性試験後のＲｅ変化率は小さく、熱耐久性の高いものであった。また、各光学特性が光学補償フィルムとして好適であった。
実施例４
実施例１で用いたエチルセルロース１１５．５ｇと合成例３により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル系樹脂３４．５ｇと安定性付与可塑剤としてフタル酸ジイソデシル（分子量：４４７、δ：１９．１）１１．２４ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
実施例１で用いたエチルセルロース１１５．５ｇと合成例３により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル系樹脂３４．５ｇと安定性付与可塑剤としてフタル酸ジイソデシル（分子量：４４７、δ：１９．１）１１．２４ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、熱耐久性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られたフィルムの熱耐久性試験後のＲｅ変化率は小さく、熱耐久性の高いものであった。また、各光学特性が光学補償フィルムとして好適であった。
実施例５
実施例１で用いたエチルセルロース９４．５ｇと合成例２により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル系樹脂５５．５ｇと安定性付与可塑剤としてアジピン酸ジイソデシル（分子量：４２７、δ：１９．１）１１．２４ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
実施例１で用いたエチルセルロース９４．５ｇと合成例２により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル系樹脂５５．５ｇと安定性付与可塑剤としてアジピン酸ジイソデシル（分子量：４２７、δ：１９．１）１１．２４ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、熱耐久性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られたフィルムの熱耐久性試験後のＲｅ変化率は小さく、熱耐久性の高いものであった。また、各光学特性が光学補償フィルムとして好適であった。
実施例６
安定性付与可塑剤としてアジピン酸ジイソデシルの代わりにアジピン酸ビス（２−エチルヘキシル）（分子量：３７１、δ：１８．２）１１．２４ｇを用いたこと以外は実施例５と同様にして、光学補償フィルムを得た。
安定性付与可塑剤としてアジピン酸ジイソデシルの代わりにアジピン酸ビス（２−エチルヘキシル）（分子量：３７１、δ：１８．２）１１．２４ｇを用いたこと以外は実施例５と同様にして、光学補償フィルムを得た。
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、熱耐久性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られたフィルムの熱耐久性試験後のＲｅ変化率は小さく、熱耐久性の高いものであった。また、各光学特性が光学補償フィルムとして好適であった。
実施例７
実施例１で用いたエチルセルロース９３．０ｇと合成例２により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル系樹脂５７．０ｇと安定性付与可塑剤として９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（分子量：４３９、δ：２３．９）６．２４ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
実施例１で用いたエチルセルロース９３．０ｇと合成例２により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル系樹脂５７．０ｇと安定性付与可塑剤として９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（分子量：４３９、δ：２３．９）６．２４ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、熱耐久性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られたフィルムの熱耐久性試験後のＲｅ変化率は小さく、熱耐久性の高いものであった。また、各光学特性が光学補償フィルムとして好適であった。
実施例８
安定性付与可塑剤として９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの代わりに９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（分子量：３５０、δ：２５．６）６．２４ｇを用いたこと以外は実施例７と同様にして、光学補償フィルムを得た。
安定性付与可塑剤として９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの代わりに９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（分子量：３５０、δ：２５．６）６．２４ｇを用いたこと以外は実施例７と同様にして、光学補償フィルムを得た。
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、熱耐久性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られたフィルムの熱耐久性試験後のＲｅ変化率は小さく、熱耐久性の高いものであった。また、各光学特性が光学補償フィルムとして好適であった。
実施例９
実施例１で用いたエチルセルロース９６．０ｇと合成例１により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル系樹脂５４．０ｇと安定性付与可塑剤としてアジピン酸ジイソデシル（分子量：４２７、δ：１８．１）１６．５０ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
実施例１で用いたエチルセルロース９６．０ｇと合成例１により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル系樹脂５４．０ｇと安定性付与可塑剤としてアジピン酸ジイソデシル（分子量：４２７、δ：１８．１）１６．５０ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、熱耐久性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られたフィルムの熱耐久性試験後のＲｅ変化率は小さく、熱耐久性の高いものであった。また、各光学特性が光学補償フィルムとして好適であった。
比較例１
実施例１で用いたエチルセルロース９４．５ｇと合成例１により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル系樹脂５５．５ｇと可塑剤としてリン酸トリフェニル（分子量：３２６、δ：２２．０）１１．２４ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
実施例１で用いたエチルセルロース９４．５ｇと合成例１により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル系樹脂５５．５ｇと可塑剤としてリン酸トリフェニル（分子量：３２６、δ：２２．０）１１．２４ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、熱耐久性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られたフィルムの熱耐久性試験後のＲｅ変化率は大きく、熱耐久性の低いものであった。
比較例２
実施例１で用いたエチルセルロース９３．０ｇと合成例２により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル系樹脂５７．０ｇと可塑剤としてクエン酸アセチル２−エチルヘキシル（分子量：３１８、δ：２０．７）７．８８ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
実施例１で用いたエチルセルロース９３．０ｇと合成例２により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル系樹脂５７．０ｇと可塑剤としてクエン酸アセチル２−エチルヘキシル（分子量：３１８、δ：２０．７）７．８８ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、熱耐久性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られたフィルムの熱耐久性試験後のＲｅ変化率は大きく、熱耐久性の低いものであった。
比較例３
実施例１で用いたエチルセルロース９４．５ｇと合成例２により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル系樹脂５５．５ｇと可塑剤としてリン酸トリス（２−エチルヘキシル）（分子量：４３５、δ：１６．９）１１．２４ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
実施例１で用いたエチルセルロース９４．５ｇと合成例２により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル系樹脂５５．５ｇと可塑剤としてリン酸トリス（２−エチルヘキシル）（分子量：４３５、δ：１６．９）１１．２４ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、熱耐久性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られたフィルムの熱耐久性試験後のＲｅ変化率は大きく、熱耐久性の低いものであった。
比較例４
可塑剤としてリン酸トリス（２−エチルヘキシル）の代わりにステアリン酸ブチル（分子量：３４１、δ：１７．６）１１．２４ｇを用いたこと以外は比較例３と同様にして、光学補償フィルムを得た。
可塑剤としてリン酸トリス（２−エチルヘキシル）の代わりにステアリン酸ブチル（分子量：３４１、δ：１７．６）１１．２４ｇを用いたこと以外は比較例３と同様にして、光学補償フィルムを得た。
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、熱耐久性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られたフィルムの熱耐久性試験後のＲｅ変化率は大きく、熱耐久性の低いものであった。
比較例５
可塑剤としてフタル酸ジイソデシルの代わりにブチルフタリルブチルグリコラート（分子量：３３６、δ：２１．３）１１．２４ｇを用いたこと以外は実施例３と同様にして、光学補償フィルムを得た。
可塑剤としてフタル酸ジイソデシルの代わりにブチルフタリルブチルグリコラート（分子量：３３６、δ：２１．３）１１．２４ｇを用いたこと以外は実施例３と同様にして、光学補償フィルムを得た。
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、熱耐久性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られたフィルムの熱耐久性試験後のＲｅ変化率は大きく、熱耐久性の低いものであった。
比較例６
実施例１で用いたエチルセルロース９９．０ｇと合成例２により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル系樹脂５１．０ｇと可塑剤として９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（分子量：４３９、δ：２３．９）２７．８４ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
実施例１で用いたエチルセルロース９９．０ｇと合成例２により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル系樹脂５１．０ｇと可塑剤として９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（分子量：４３９、δ：２３．９）２７．８４ｇとをトルエン／アセトン＝８／２（重量比）溶液に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を作製した。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、所定の延伸温度で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、熱耐久性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られたフィルムの熱耐久性試験後のＲｅ変化率は大きく、熱耐久性の低いものであった。
比較例７
可塑剤として９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの代わりにピロメリット酸テトラ（２−エチルヘキシル）（分子量：７０２、δ：１９．４）２７．８４ｇを用いたこと以外は比較例６と同様にして、光学補償フィルムを得た。
可塑剤として９，９−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレンの代わりにピロメリット酸テトラ（２−エチルヘキシル）（分子量：７０２、δ：１９．４）２７．８４ｇを用いたこと以外は比較例６と同様にして、光学補償フィルムを得た。
得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性、熱耐久性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
得られたフィルムの熱耐久性試験後のＲｅ変化率は大きく、熱耐久性の低いものであった。
Claims (15)
- 樹脂成分として下記一般式（１）で示されるセルロ−ス系樹脂３０〜９９重量％および負の複屈折性を示すエステル系樹脂１〜７０重量％を含有し、さらに、該樹脂成分８５〜９９．９９重量％およびＦｅｄｏｒの方法で求めた溶解度パラメーターδが１７Ｊ／ｃｍ３以上で分子量が３５０以上である安定性付与可塑剤０．０１〜１５重量％を含有することを特徴とする樹脂組成物。
- 負の複屈折性を示すエステル系樹脂が下記一般式（２）で示されるケイ皮酸エステル残基単位および／または下記一般式（３）で示されるフマル酸エステル残基単位を含むエステル系樹脂であることを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
- 一般式（１）で示されるセルロ−ス系樹脂がセルロ−スエ−テルであることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の樹脂組成物。
- セルロ−スエ−テルのエ−テル化度（置換度）が１．５〜３．０であることを特徴とする請求項３に記載の樹脂組成物。
- 請求項１〜請求項４のいずれかの項に記載の樹脂組成物を用いてなり、厚みが５〜２００μｍであることを特徴とする光学補償フィルム。
- 下記式（１）で示される面内位相差（Ｒｅ）が８０〜３００ｎｍで、下記式（２）で示されるＮｚ係数が０．３５〜０．６５であることを特徴とする請求項５に記載の光学補償フィルム。
Ｒｅ＝（ｎｙ−ｎｘ）×ｄ （１）
Ｎｚ＝（ｎｙ−ｎｚ）／（ｎｙ−ｎｘ） （２）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。） - 式（１）で示される面内位相差（Ｒｅ）が５０〜３００ｎｍで、式（２）で示されるＮｚ係数が−０．２〜０．２であることを特徴とする請求項６に記載の光学補償フィルム。
- 式（１）で示される面内位相差（Ｒｅ）が０〜２０ｎｍで、下記式（３）で示される面外位相差（Ｒｔｈ）が、−１５０〜２０ｎｍであることを特徴とする請求項６に記載の光学補償フィルム。
Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ （３）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。） - ８５℃環境下５００時間後における面内位相差の変化が加熱前の１０％以下であることを特徴とする請求項５〜請求項８のいずれかの項に記載の光学補償フィルム。
- 光線透過率が８５％以上であることを特徴とする請求項５〜請求項９のいずれかの項に記載の光学補償フィルム。
- ヘーズが１％以下であることを特徴とする請求項５〜請求項１０のいずれかの項に記載の光学補償フィルム。
- ４５０ｎｍにおけるレタ−デ−ションと５５０ｎｍにおけるレタ−デ−ションの比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．６０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０５であることを特徴とする請求項５〜請求項１１のいずれかの項に記載の光学補償フィルム。
- 樹脂成分として一般式（１）で示されるセルロ−ス系樹脂３０〜９９重量％および負の複屈折性を示すエステル系樹脂１〜７０重量％を含有し、さらに、該樹脂成分８５〜９９．９９重量％およびＦｅｄｏｒの方法で求めた溶解度パラメーターδが１７Ｊ／ｃｍ３以上で分子量が３５０以上である安定性付与可塑剤を含有する樹脂組成物を溶剤に溶解し、得られた樹脂溶液を基材にキャストし、乾燥後、基材より剥離することを特徴とする請求項５〜請求項１２のいずれかの項に記載の光学補償フィルムの製造方法。
- 一般式（１）で示されるセルロ−ス系樹脂がセルロ−スエ−テルであるときのエ−テル化度（置換度）が１．５〜３．０であることを特徴とする請求項１３に記載の光学補償フィルムの製造方法。
- キャストして得られた厚み１０〜２００μｍのフィルムを一軸延伸またはアンバランス二軸延伸させることを特徴とする請求項６または請求項７に記載の光学補償フィルムの製造方法。
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