JP6699260B2 - 樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルム - Google Patents

Description

本発明は、樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムに関するものであり、より詳しくは、位相差特性に優れた液晶ディスプレイ用に好適な樹脂組成物、およびそれを用いた光学補償フィルムに関する。

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピューター用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられている。特に光学補償フィルムは、正面や斜めから見た場合のコントラスト向上、色調の補償など大きな役割を果たしている。

液晶ディスプレイには、垂直配向型（ＶＡ−ＬＣＤ）、面内配向型液晶（ＩＰＳ−ＬＣＤ）、スーパーツイストネマチック型液晶（ＳＴＮ−ＬＣＤ）、反射型液晶ディスプレイ、半透過型液晶ディスプレイなどの多くの方式が有り、ディスプレイにあわせた光学補償フィルムが必要となっている。

従来の光学補償フィルムとしては、セルロース系樹脂、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンなどの延伸フィルムが用いられている。特にトリアセチルセルロースフィルムなどのセルロース系樹脂からなるフィルムは、偏光子であるポリビニルアルコールとの接着性も良好なことから幅広く使用されている。

しかしながら、セルロース系樹脂からなる光学補償フィルムはいくつかの課題がある。例えば、セルロース系樹脂フィルムは延伸条件を調整することで各種ディスプレイにあわせた位相差値を持つ光学補償フィルムに加工されるが、セルロース系樹脂フィルムの一軸または二軸延伸により得られるフィルムの３次元屈折率は、ｎｘ≧ｎｙ＞ｎｚであり、それ以外の３次元屈折率、例えば、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙや、ｎｘ＝ｎｚ＞ｎｙなどの３次元屈折率を有する光学補償フィルムを製造するためには、フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムの厚み方向に収縮力をかけるなど特殊な延伸方法が必要であり、屈折率（位相差値）の制御も困難である（例えば、特許文献１〜３参照）。

ここで、ｎｘはフィルム面内の延伸軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外（厚み方向）の屈折率を示す。

また、セルロース系樹脂フィルムは一般に溶剤キャスト法により製造されるが、キャスト法により成膜したセルロース系樹脂フィルムはフィルム厚み方向に４０ｎｍ程度の面外位相差（Ｒｔｈ）を有するため、ＩＰＳモードの液晶ディスプレイなどではカラーシフトが起こるなどの問題がある。ここで、面外位相差（Ｒｔｈ）は以下の式で示される位相差値である。

Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率、ｎｚはフィルム面外（厚み方向）の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
また、フマル酸エステル系樹脂からなる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献４参照）。

しかしながら、フマル酸エステル系樹脂からなる延伸フィルムの３次元屈折率は、ｎｚ＞ｎｙ＞ｎｘであり、ｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙや、ｎｘ＝ｎｚ＞ｎｙなどの３次元屈折率を示す光学補償フィルムを得るためには他の光学補償フィルム等との積層などが必要である。

そこで、上記３次元屈折率を示す光学補償フィルムとして、樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムが提案されている（例えば、特許文献５〜特許文献７参照）。

特許文献５〜特許文献７は上記３次元屈折率を示すものの、上記３次元屈折率を示し、かつ、位相差の発現が大きくより薄膜な光学補償フィルムが求められている。

特許２８１８９８３号公報 特開平５−２９７２２３号公報 特開平５−３２３１２０号公報 特開２００８−６４８１７号公報 特開２０１３−２８７４１号公報 特開２０１４−１２５６０９号公報 特開２０１４−１２５６１０号公報

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、位相差特性に優れた樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムを提供することにある。

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムが、上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、セルロース系樹脂３０〜８５重量％、フマル酸エステル残基単位およびケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂５〜６５重量％、ならびに下記一般式（１）で示されるリン系化合物および／または下記一般式（２）で示されるリン系化合物１〜２０重量％を含有する樹脂組成物、ならびにそれを用いた光学補償フィルムである。

（式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３はそれぞれ独立して水素、アルキル基、フェニル基、またはクミル基を示す。）

（式中、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６はそれぞれ独立して水素、またはアルキル基を示す。）
以下、本発明について詳細に説明する。

本発明の樹脂組成物は、セルロース系樹脂３０〜８５重量％、フマル酸エステル残基単位およびケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂５〜６５重量％、ならびに下記一般式（１）で示されるリン系化合物および／または下記一般式（２）で示されるリン系化合物１〜２０重量％を含有する。

（式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３はそれぞれ独立して水素、アルキル基、フェニル基、またはクミル基を示す。）

（式中、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６はそれぞれ独立して水素、またはアルキル基を示す。）
本発明の樹脂組成物はセルロース系樹脂とフマル酸エステル残基単位およびケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂とを含有することにより、光学補償フィルムとして用いる際に該光学補償フィルムがｎｘ＞ｎｚ＞ｎｙや、ｎｘ＝ｎｚ＞ｎｙなどの３次元屈折率を示すものである。

本発明において、セルロース系樹脂としては特に制限はないが、光学補償フィルムとした際にフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂との相溶性により優れ、かつ面内位相差Ｒｅが大きく、更に延伸加工性に優れるものとなることから、下記一般式（３）で示されるセルロース系樹脂であることが好ましい。

（式中、Ｒ_７、Ｒ_８、Ｒ_９はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜１０の置換基を示す。）
ここで、一般式（３）で示されるセルロース系樹脂は、β−グルコース単位が直鎖状に重合した高分子であり、グルコース単位の２位、３位および６位の水酸基の一部または全部を置換したポリマーである。

一般式（３）で示されるセルロース系樹脂は、溶解性、相溶性の点から、水素または炭素数１〜１０の置換基を有するものである。炭素数１〜１０の置換基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、イソブチリル基、ｔ−ブチリル基、シクロヘキサノイル基、ベンゾイル基、ナフトイル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ヘキシロキシ基、オクチロキシ基、デカノキシ基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、シクロヘキロキシ基、フェノキシ基、ベンジロキシ基、ナフトキシ基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシプロピル基、ヒドロキシブチル基、シアノエチル基、カルボキシメチル基、カルボキシエチル基、アミノエチル基等を挙げることができる。また、これらの中でも、溶解性、相溶性がより優れたものになることから、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。

本発明のセルロース系樹脂における置換基は１種類だけでもよいし、２種類以上の置換基を有していてもよい。

本発明のセルロース系樹脂におけるセルロースの水酸基の酸素原子を介して置換している置換度は、２位、３位および６位のそれぞれについて、セルロースの水酸基が置換されている割合（１００％の置換は置換度３）を意味し、溶解性、相溶性、延伸加工性の点から、置換度は、好ましくは１．５〜３．０であり、さらに好ましくは１．８〜２．８である。

具体的な本発明のセルロース系樹脂としては、例えば、メチルセルロース、エチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート等が挙げられ、位相差特性および透明性により優れた光学補償フィルムが得られることから、エチルセルロース、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましい。

本発明のセルロース系樹脂は、機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が１×１０^３〜１×１０^６であることが好ましく、５×１０^３〜２×１０^５であることがさらに好ましい。

本発明のフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂は、フマル酸エステル残基単位およびケイ皮酸エステル残基単位を含むものである。本発明において、フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂がフマル酸エステル残基単位を含まないとき、セルロース系樹脂との相溶性に劣るものとなり、ケイ皮酸エステル残基単位を含まないとき、位相差特性に劣るものとなる。

本発明のフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂はフマル酸エステル残基単位およびケイ皮酸エステル残基単位を含むものであれば特に制限がないが、位相差特性および透明性により優れた光学補償フィルムが得られるため、下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位１〜６５モル％、下記一般式（５）で示されるフマル酸モノエステル残基単位１〜３０モル％および下記一般式（６）で示されるケイ皮酸エステル残基単位９８〜５モル％を含むものであることが好ましい。

（式中、Ｒ_１０、Ｒ_１１はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）

（式中、Ｒ_１２は炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）

（式中、Ｒ_１３、Ｒ_１４はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
一般式（４）におけるフマル酸ジエステル残基単位のＲ_１０、Ｒ_１１はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

具体的な一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位としては、例えば、フマル酸ジメチル残基、フマル酸ジエチル残基、フマル酸ジ−ｎ−プロピル残基、フマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ−ｎ−ブチル残基、フマル酸ジ−ｓ−ブチル残基、フマル酸ジ−ｔ−ブチル残基、フマル酸ジ−ｎ−ペンチル残基、フマル酸ジ−ｓ−ペンチル残基、フマル酸ジ−ｔ−ペンチル残基、フマル酸ジ−ｎ−ヘキシル残基、フマル酸ジ−ｓ−ヘキシル残基、フマル酸ジ−ｔ−ヘキシル残基、フマル酸ジ−２−エチルヘキシル、フマル酸ジシクロプロピル残基、フマル酸ジシクロペンチル残基、フマル酸ジシクロヘキシル残基等が挙げられる。これらの中で相溶性、位相差特性により優れることから、フマル酸ジエチル残基、フマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ−t−ブチル残基が好ましい。

一般式（５）におけるフマル酸モノエステル残基単位のＲ_１２は炭素数１〜１２のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

具体的な一般式（５）で示されるフマル酸モノエステル残基単位としては、例えば、フマル酸モノメチル残基、フマル酸モノエチル残基、フマル酸モノ−ｎ−プロピル残基、フマル酸モノイソプロピル残基、フマル酸モノ−ｎ−ブチル残基、フマル酸モノ−ｓ−ブチル残基、フマル酸モノ−ｔ−ブチル残基、フマル酸モノ−ｎ−ペンチル残基、フマル酸モノ−ｓ−ペンチル残基、フマル酸モノ−ｔ−ペンチル残基、フマル酸モノ−ｎ−ヘキシル残基、フマル酸モノ−ｓ−ヘキシル残基、フマル酸モノ−ｔ−ヘキシル残基、フマル酸モノ−２−エチルヘキシル、フマル酸モノシクロプロピル残基、フマル酸モノシクロペンチル残基、フマル酸モノシクロヘキシル残基等が挙げられる。これらの中で相溶性、位相差特性により優れることから、フマル酸モノエチル残基、フマル酸モノイソプロピル残基、フマル酸モノ−ｎ−プロピル残基、フマル酸モノ−ｎ−ブチル残基、フマル酸モノ−２−エチルヘキシル残基が好ましい。

一般式（６）におけるケイ皮酸エステル残基単位のＲ_１３、Ｒ_１４は炭素数１〜１２のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

具体的な一般式（６）で示されるケイ皮酸エステル残基としては、例えば、４-メトキシケイ皮酸メチル残基、４-メトキシケイ皮酸エチル残基、４-メトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４-メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、４-メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、４-メトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、４-メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、４-メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、４-エトキシケイ皮酸メチル残基、４-エトキシケイ皮酸エチル残基、４-エトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４-エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、４-エトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、４-エトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、４-エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、４-エトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、４-イソプロポキシケイ皮酸メチル残基、４-イソプロポキシケイ皮酸エチル残基、４-イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、４-イソプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、４-イソプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、４-イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、４-イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、４-イソプロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、４-ｎ‐プロポキシケイ皮酸メチル残基、４-ｎ‐プロポキシケイ皮酸エチル残基、４-ｎ‐プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、４-ｎ‐プロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、４-ｎ‐プロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、４-ｎ‐プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、４-ｎ‐プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、４-ｎ‐プロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、４-ｎ‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、４-ｎ‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、４-ｎ‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４-ｎ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、４-ｎ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、４-ｎ‐ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、４-ｎ‐ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、４-ｎ‐ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、４-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、４-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、４-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、４-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、４-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、４-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、４-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、４-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、４-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、４-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、４-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、４-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、４-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、４-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、３-メトキシケイ皮酸メチル残基、３-メトキシケイ皮酸エチル残基、３-メトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３-メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、３-メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、３-メトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、３-メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、３-メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、３-エトキシケイ皮酸メチル残基、３-エトキシケイ皮酸エチル残基、３-エトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３-エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、３-エトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、３-エトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、３-エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、３-エトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、３-イソプロポキシケイ皮酸メチル残基、３-イソプロポキシケイ皮酸エチル残基、３-イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、３-イソプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、３-イソプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、３-イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、３-イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、３-イソプロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、３-ｎ‐プロポキシケイ皮酸メチル残基、３-ｎ‐プロポキシケイ皮酸エチル残基、３-ｎ‐プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、３-ｎ‐プロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、３-ｎ‐プロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、３-ｎ‐プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、３-ｎ‐プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、３-ｎ‐プロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、３-ｎ‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、３-ｎ‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、３-ｎ‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３-ｎ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、３-ｎ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、３-ｎ‐ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、３-ｎ‐ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、３-ｎ‐ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、３-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、３-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、３-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、３-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、３-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、３-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、３-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸３−エチルヘキシル残基、３-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、３-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、３-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、３-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、３-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、３-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、３-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、２-メトキシケイ皮酸メチル残基、２-メトキシケイ皮酸エチル残基、２-メトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２-メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、２-メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、２-メトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、２-メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、２-メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、２-エトキシケイ皮酸メチル残基、２-エトキシケイ皮酸エチル残基、２-エトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２-エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、２-エトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、２-エトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、２-エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、２-エトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、２-イソプロポキシケイ皮酸メチル残基、２-イソプロポキシケイ皮酸エチル残基、２-イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、２-イソプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、２-イソプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、２-イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、２-イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、２-イソプロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、２-ｎ‐プロポキシケイ皮酸メチル残基、２-ｎ‐プロポキシケイ皮酸エチル残基、２-ｎ‐プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、２-ｎ‐プロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、２-ｎ‐プロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、２-ｎ‐プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、２-ｎ‐プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、２-ｎ‐プロポキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、２-ｎ‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、２-ｎ‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、２-ｎ‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２-ｎ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、２-ｎ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、２-ｎ‐ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、２-ｎ‐ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、２-ｎ‐ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、２-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、２-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、２-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、２-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、２-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、２-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、２-ｓｅｃ‐ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基、２-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸メチル残基、２-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸エチル残基、２-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、２-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基、２-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基、２-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基、２-ｔｅｒｔ‐ブトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基等が挙げられる。これらの中で相溶性、位相差特性により優れることから、４−メトキシケイ皮酸メチル残基、４−メトキシケイ皮酸エチル残基、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基、４−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基が好ましい。

本発明のフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂は、特に機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が１×１０^３〜５×１０^６であることが好ましく、５×１０^３〜２×１０^５であることがさらに好ましい。

本発明の樹脂組成物は下記一般式（１）で示されるリン系化合物および／または下記一般式（２）で示されるリン系化合物を含有することで、位相差特性に優れることを特徴とする。

（式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３はそれぞれ独立して水素、アルキル基、フェニル基、またはクミル基を示す。）

（式中、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６はそれぞれ独立して水素、またはアルキル基を示す。）
本発明の一般式（１）で表わされるリン系化合物のＲ_１、Ｒ_２、Ｒ_３はそれぞれ独立して水素、アルキル基、フェニル基、またはクミル基を示し、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

具体的な一般式（１）で示されるリン系化合物としては、例えば、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，４'−n−ブチリデンビス（２−ｔ−ブチル−５−メチルフェノール）ジホスファイト等が挙げられる。これらの中でも位相差特性に優れることから、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトが好ましい。

本発明の一般式（２）で表わされるリン系化合物のＲ_４、Ｒ_５、Ｒ_６はそれぞれ独立して水素、またはアルキル基を示し、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。

具体的な一般式（２）で示されるリン系化合物としては、例えば、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｎ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト等が挙げられ、これらの中でも位相差特性に優れることから、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイトが好ましい。

本発明において、セルロース系樹脂とフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂とリン系化合物との組成の割合は、位相差性能の制御が可能でより優れた位相差を発現させることが可能となることから、セルロース系樹脂３０〜８５重量％、フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂５〜６５重量％、およびリン系化合物１〜２０重量％であり、好ましくは、セルロース系樹脂３０〜８０重量％、フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂１０〜６０重量％、およびリン系化合物１〜１５重量％であり、さらに好ましくは、セルロース系樹脂４０〜８０重量％、フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂２０〜６０重量％、およびリン系化合物１〜１０重量％である。

本発明のフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂の製造方法としては、該樹脂が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよい。例えば、一般式（４）および一般式（５）で示される残基単位を有する単量体、場合によっては一般式（４）および一般式（５）で示される残基単位を有する単量体、ならびにこれと共重合可能な単量体を併用し、ラジカル重合を行うことにより製造することができる。この際の共重合可能な単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン類；アクリル酸；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチルなどのアクリル酸エステル類；メタクリル酸；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチルなどのメタクリル酸エステル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル類；アクリロニトリル；メタクリロニトリル；Ｎ―メチルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−フェニルマレイミドなどのＮ−置換マレイミド類；エチレン、プロピレンなどのオレフィン類；ビニルピロリドン；ビニルピリジン等の１種または２種以上を挙げることができる。

ラジカル重合の方法としては、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。

ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイドなどの有機過酸化物；２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）などのアゾ系開始剤等が挙げられる。

そして、溶液重合法または沈殿重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族溶媒；メタノール、エタノール、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどのアルコール系溶媒；シクロヘキサン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミド、酢酸イソプロピル等が挙げられ、これらの混合溶媒をも挙げられる。

また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には３０〜１５０℃の範囲で行うことが好ましい。

本発明の光学補償フィルムは、発明の主旨を超えない範囲で、その他ポリマー、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を含有していてもよい。

本発明の光学補償フィルムは、フィルムの取扱い性及び光学部材の薄膜化への適合性の観点から、厚みが５〜２００μｍであることが好ましく、５〜１５０μｍがさらに好ましく、５〜１２０μｍが特に好ましい。

本発明の光学補償フィルムの位相差特性は、ディスプレイの表示特性としてより優れたものとなることから、下記式（ａ）で示される面内位相差（Ｒｅ）が５０〜３００ｎｍで、下記式（ｂ）で示されるＮｚ係数が０．３５＜Ｎｚ＜０．６５であることが好ましい。このときの位相差特性は全自動複屈折計（王子計測機器株式会社製、商品名ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用い、測定波長５８９ｎｍの条件で測定されるものである。

Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ （ａ）
Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ） （ｂ）
（式中、ｎｘはフィルム面内の延伸軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の延伸軸に直交する方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外（厚み方向）の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
本発明において、面内位相差（Ｒｅ）が好ましくは６０〜３００ｎｍ、さらに好ましくは７０〜２８０ｎｍであって、Ｎｚ係数が好ましくは０．３５〜０．６５、さらに好ましくは０．４５〜０．５５である。

これらは、一般的な光学補償フィルムでは発現が困難な位相差特性を有している。

本発明の光学補償フィルムの波長分散特性としては、色ずれ抑制のため、４５０ｎｍにおけるレターデーションと５５０ｎｍにおけるレターデーションの比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が好ましくは０．６０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．１０であり、さらに好ましくは０．６０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０５であり、特に好ましくは０．６１＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０２である。

本発明の光学補償フィルムは、輝度向上のため、光線透過率が好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上である。

本発明の光学補償フィルムは、コントラスト向上のため、ヘーズが好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。

本発明の光学補償フィルムは、必要膜厚を薄くするため、５８９ｎｍにおけるレタ−デ−ションとフィルム膜厚の比Ｒｅ（５８９）（ｎｍ）／フィルム膜厚（μｍ）が４．０ｎｍ／μｍ以上であることが好ましい。

本発明の光学補償フィルムの製造方法としては、本発明の光学補償フィルムの製造が可能であれば如何なる方法を用いてもよいが、光学特性、耐熱性、表面特性などに優れる光学補償フィルムが得られることから、溶液キャスト法により製造することが好ましい。ここで、溶液キャスト法とは、樹脂溶液（一般にはドープと称する。）を支持基板上に流延した後、加熱することにより溶媒を蒸発させて光学補償フィルムを得る方法である。流延する方法としては、例えば、Ｔダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられ、工業的には、ダイからドープをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が一般的に用いられている。また、用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のプラスチック基板などがある。高度に表面性、光学均質性の優れた基板を工業的に連続製膜するには、表面を鏡面仕上げした金属基板が好ましく用いられる。溶液に用いる溶剤としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルムなどの塩素系溶剤；トルエン、キシレンなどの芳香族溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶剤；メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール溶剤；ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル溶剤；ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等を用いることができる。各樹脂および添加剤を溶剤に溶解したのちブレンドすることも可能であり、各樹脂の粉体、ペレット等を混練後、溶剤に溶解させることも可能である。

溶液キャスト法において、厚み精度、表面平滑性に優れた光学補償フィルムを製造する際には、樹脂溶液の粘度は極めて重要な因子であり、樹脂溶液の粘度は樹脂の濃度、分子量、溶媒の種類に依存するものである。本発明の光学補償フィルムを製造する際の樹脂溶液の粘度は、重合体の分子量、重合体の濃度、溶媒の種類で調整可能である。樹脂溶液の粘度としては、特に制限はないが、フィルム塗工性をより容易にするため、好ましくは１００〜１００００ｃｐｓ、さらに好ましくは３００〜５０００ｃｐｓ、特に好ましくは５００〜３０００ｃｐｓである。

本発明の光学補償フィルムの製造方法としては、例えば、セルロース系樹脂、フマル酸エステル残基単位およびケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂、ならびに一般式（１）で示されるリン系化合物または一般式（２）で示されるリン系化合物を含有する樹脂組成物を溶剤に溶解し、得られた樹脂溶液を基材にキャストし、乾燥後、基材より剥離することが挙げられる。

本発明の光学補償フィルムは、面内位相差（Ｒｅ）を発現するために一軸延伸またはアンバランス二軸延伸することが好ましい。光学補償フィルムを延伸する方法としては、ロール延伸による縦一軸延伸法やテンター延伸による横一軸延伸法、これらの組み合わせによるアンバランス逐次二軸延伸法やアンバランス同時二軸延伸法等を用いることができる。また本発明では、熱収縮性フィルムの収縮力の作用下に延伸を行う特殊延伸法を用いずに位相差特性を発現させることができる。

延伸する際の光学補償フィルムの厚みは、延伸処理のし易さおよび光学部材の薄膜化への適合性の観点から、１０〜２００μｍが好ましく、３０〜１８０μｍがさらに好ましく、３０〜１５０μｍが特に好ましい。

延伸の温度は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、好ましくは５０〜２００℃、さらに好ましくは１００〜１８０℃である。一軸延伸の延伸倍率は良好な位相差特性が得られることから、１．０５〜３．５倍が好ましく、１．１〜３．０倍がさらに好ましい。アンバランス二軸延伸の延伸倍率は良好な位相差特性が得られることから、長さ方向には１．０５〜３．５倍が好ましく、１．１〜３．０倍がさらに好ましく、幅方向には１．０〜１．２倍が好ましく、１．０〜１．１倍がさらに好ましい。延伸温度、延伸倍率により面内位相差（Ｒｅ）を制御することができる。

本発明の光学補償フィルムは、必要に応じて他樹脂を含むフィルムと積層することができる。他樹脂としては、例えば、ポリエーテルサルフォン、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリナフタレンテレフタレート、ポリカーボネート、環状ポリオレフィン、マレイミド系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド等が挙げられる。また、ハードコート層やガスバリア層を積層することも可能である。

本発明の光学補償フィルムは、特定の位相差特性を示すことから、液晶ディスプレイ用光学補償フィルムや反射防止用フィルムとして有用である。

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。

＜重合体の解析＞
重合体の構造解析は核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名：ＪＮＭ−ＧＸ２７０）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（^１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。

＜数平均分子量の測定＞
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（東ソー製、商品名：Ｃ０−８０１１（カラムＧＭＨ_ＨＲ―Ｈを装着））を用い、テトラヒドロフラン、またはジメチルホルムアミドを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。

＜光学補償フィルムの光線透過率およびヘーズの測定＞
作製したフィルムの光線透過率およびヘーズの測定は、ヘーズメーター（日本電色工業製、商品名：ＮＤＨ２０００）を使用し、光線透過率の測定はＪＩＳ Ｋ ７３６１−１（１９９７版）に、ヘーズの測定はＪＩＳ−Ｋ ７１３６（２０００年版）に、それぞれ準拠して測定した。

＜位相差特性の測定＞
試料傾斜型自動複屈折計（王子計測機器製、商品名：ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いて波長５８９ｎｍの光を用いて光学補償フィルムの位相差特性を測定した。

＜波長分散特性の測定＞
試料傾斜型自動複屈折計（王子計測機器製、商品名：ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用い、波長４５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（５５０）の比として光学補償フィルムの波長分散特性を測定した。

合成例１（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂の合成）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル１１ｇ、フマル酸モノエチル３ｇ、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル４２ｇおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．５６ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン２００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を４Ｌのヘキサン中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂２３ｇを得た。得られた共重合樹脂の数平均分子量は３３，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位２１モル％、フマル酸モノエチル残基単位８モル％、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位７１モル％であった。

合成例２（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合樹脂の合成）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル２６ｇ、フマル酸モノエチル６ｇ、４−メトキシケイ皮酸エチル２４ｇおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．５６ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン２００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を４Ｌのヘキサン中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合樹脂３１ｇを得た。得られた共重合樹脂の数平均分子量は４１，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位３８モル％、フマル酸モノエチル残基単位１５モル％、４−メトキシケイ皮酸エチル残基単位４７モル％であった。

合成例３（フマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂の合成）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジエチル１５ｇ、フマル酸モノエチル１０ｇ、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル３１ｇおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．５６ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン２００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を４Ｌのヘキサン中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂２２ｇを得た。得られた共重合樹脂の数平均分子量は３１，０００、フマル酸ジエチル残基単位６２モル％、フマル酸モノエチル残基単位９モル％、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位２９モル％であった。

合成例４（フマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合樹脂の合成）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジエチル１３ｇ、フマル酸モノエチル２０ｇ、４−メトキシケイ皮酸エチル１７ｇおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．５６ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン２００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を４Ｌのヘキサン中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合樹脂１９ｇを得た。得られた共重合樹脂の数平均分子量は３５，０００、フマル酸ジエチル残基単位４０モル％、フマル酸モノエチル残基単位２１モル％、４−メトキシケイ皮酸エチル残基単位３９モル％であった。

合成例５（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノｎ−ブチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂の合成）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル１３ｇ、フマル酸モノｎ−ブチル２０ｇ、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル１７ｇおよび重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．５６ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン２００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を４Ｌのヘキサン中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノｎ−ブチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂２５ｇを得た。得られた共重合樹脂の数平均分子量は４２，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位５７モル％、フマル酸モノｎ−ブチル残基単位２８モル％、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位１５モル％であった。

実施例１
エチルセルロース（数平均分子量８６，０００、全置換度２．５）１３．４ｇ、合成例１により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂１０ｇおよびビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト０．９７ｇを酢酸ブチルに溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５５重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂：４１重量％、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト：４重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に示す。

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。

実施例２
セルロースアセテートブチレート（数平均分子量３３，０００、アセチル基＝１５モル％、ブチリル基＝７０モル％、全置換度ＤＳ＝２．５５）１４．５ｇ、合成例１により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂９ｇおよびビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト１．５ｇを酢酸ブチルに溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（セルロースアセテートブチレート：５８重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂：３６重量％、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト：６重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。

実施例３
エチルセルロース（数平均分子量８６，０００、全置換度２．５）１７ｇ、合成例２により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合樹脂７．３ｇおよびテトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト０．７５ｇを酢酸ブチルに溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６８重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合樹脂：２９重量％、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト：３重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。

実施例４
セルロースアセテートプロピオネート（数平均分子量２５，０００、アセチル基＝７モル％、プロピオニル基＝８０モル％、全置換度ＤＳ＝２．６）１６．５ｇ、合成例３により得られたフマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂７．３ｇおよびテトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト１．２５ｇを酢酸ブチルに溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（セルロースアセテートプロピオネート：６６重量％、フマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂：２９重量％、テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト：５重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。

実施例５
エチルセルロース（数平均分子量８６，０００、全置換度２．５）９．８ｇ、合成例４により得られたフマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合樹脂１１．５ｇおよびビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト３．７５ｇを酢酸ブチルに溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：３９重量％、フマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合樹脂：４６重量％、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト：１５重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。

実施例６
エチルセルロース（数平均分子量８６，０００、全置換度２．５）１１．３ｇ、合成例５により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノｎ−ブチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂１０．８ｇおよびビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト３ｇを酢酸ブチルに溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：４５重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノｎ−ブチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂：４３重量％、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト：１２重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。

実施例７
セルロースアセテートブチレート（数平均分子量３３，０００、アセチル基＝１５モル％、ブチリル基＝７０モル％、全置換度ＤＳ＝２．５５）１５ｇ、合成例５により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノｎ−ブチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂８ｇおよびビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト２ｇを酢酸ブチルに溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（セルロースアセテートブチレート：６０重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノｎ−ブチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂：３２重量％、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト：８重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。

得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであった。

比較例１
エチルセルロース（数平均分子量８６，０００、全置換度２．５）１７ｇ、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファィト３ｇを酢酸ブチルに溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：８５重量％、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト：１５重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。

得られた光学補償フィルムは全光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さいものの、Ｎｚ係数が目的とする光学特性を有していなかった。

比較例２
合成例１により得られたフマル酸ジイソプロピル・フマル酸モノエチル・４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂１７ｇ、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト３ｇを酢酸ブチルに溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（フマル酸ジイソプロピル・フマル酸モノエチル・４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂：８５重量％、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト：１５重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で１．２倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。

得られた光学補償フィルムは全光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さいものの、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有していなかった。

比較例３
セルロースアセテートプロピオネート（数平均分子量２５，０００、アセチル基＝７モル％、プロピオニル基＝８０モル％、全置換度ＤＳ＝２．６）６ｇ、合成例１により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂１２ｇおよびビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト６ｇを酢酸ブチルに溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（セルロースアセテートプロピオネート：１５重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合樹脂：７５重量％、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト：１０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１４０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み４０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。

得られた光学補償フィルムは全光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さいものの、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有していなかった。

Claims (13)

1. セルロース系樹脂３０〜８５重量％、
   下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位１〜６５モル％、下記一般式（５）で示されるフマル酸モノエステル残基単位１〜３０モル％および下記一般式（６）で示されるケイ皮酸エステル残基単位９８〜５モル％を含むフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合樹脂５〜６５重量％、
   ならびに下記一般式（１）で示されるリン系化合物および／または下記一般式（２）で示されるリン系化合物１〜２０重量％を含有する樹脂組成物。
   （式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３はそれぞれ独立して水素、アルキル基、フェニル基、またはクミル基を示す。）
   （式中、Ｒ_４、Ｒ_５、Ｒ_６はそれぞれ独立して水素、またはアルキル基を示す。）
   （式中、Ｒ _１０ 、Ｒ _１１ はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
   （式中、Ｒ _１２ は炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
   （式中、Ｒ _１３ 、Ｒ _１４ はそれぞれ独立して炭素数１〜１２のアルキル基を示す。）
2. セルロース系樹脂が、下記一般式（３）で示され、置換度が１．５〜３．０であることを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
   （式中、Ｒ_７、Ｒ_８、Ｒ_９はそれぞれ独立して水素または炭素数１〜１０の置換基を示す。）
3. セルロース系樹脂が、メチルセルロース、エチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートからなる群より選択されることを特徴とする請求項１または２に記載の樹脂組成物。
4. フマル酸ジエステル残基単位が、フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジ−ｔ−ブチル残基単位からなる群より選ばれることを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
5. フマル酸モノエステル残基単位が、フマル酸モノエチル残基単位、フマル酸モノイソプロピル残基単位、フマル酸モノ−ｎ−プロピル残基単位、フマル酸モノ−ｎ−ブチル残基単位、フマル酸モノ−２−エチルヘキシル残基単位からなる群より選ばれることを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
6. ケイ皮酸エステル残基単位が、４−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位からなる群より選ばれることを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
7. 請求項１乃至６いずれか一項に記載の樹脂組成物を用いたことを特徴とする光学補償フィルム。
8. 下記式（ａ）で示される面内位相差（Ｒｅ）が５０〜３００ｎｍで、下記式（ｂ）で示されるＮｚ係数が０．３５＜Ｎｚ＜０．５５であることを特徴とする請求項７に記載の光学補償フィルム。
   Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ （ａ）
   Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ） （ｂ）
9. ５８９ｎｍにおけるレターデーションとフィルム膜厚の比Ｒｅ（５８９）（ｎｍ）／フィルム膜厚（μｍ）が４．０ｎｍ／μｍ以上であることを特徴とする請求項７または８に記載の光学補償フィルム。
10. 樹脂組成物を溶剤に溶解し、得られた樹脂溶液を基材にキャストし、乾燥後、基材より剥離して得られることを特徴とする請求項７乃至９いずれか一項に記載の光学補償フィルムの製造方法。
11. キャストして得られた厚み１０〜２００μｍのフィルムを少なくとも一軸以上で延伸させることを特徴とする請求項１０に記載の光学補償フィルムの製造方法。
12. キャストして得られた厚み１０〜２００μｍのフィルムを１．０５倍〜３．５倍で一軸延伸させることを特徴とする請求項１０または１１に記載の光学補償フィルムの製造方法。
13. キャストして得られた厚み１０〜２００μｍのフィルムを長さ方向に１．０５〜３．５倍、幅方向に１．０〜１．２倍でアンバランス二軸延伸させることを特徴とする請求項１０または１１に記載の光学補償フィルムの製造方法。