JP6693109B2 - フマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体およびそれを用いた位相差フィルム - Google Patents

Description

本発明は、新規なフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体およびそれを用いた位相差フィルムに関するものであり、さらに詳細には、薄膜においても高い面外位相差を有する位相差フィルム、特に液晶表示素子用の光学補償フィルムに適した新規なフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体に関するものである。

液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュータ用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられており、特に位相差フィルムは正面や斜めから見た場合のコントラストの向上、色調の補償等大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネートや環状ポリオレフィンが使用されており、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は以下に示すように定義される。

延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、図１に示す屈折率楕円体で表すことができる。ここで、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚと示す。なお、進相軸とはフィルム面内における屈折率の低い軸方向を指す。

そして、負の複屈折とは延伸方向が進相軸方向となるものであり、正の複屈折とは延伸方向と垂直方向が進相軸方向となるものである。

つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく（進相軸：延伸方向）、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸と直交する軸方向の屈折率が小さい（進相軸：延伸方向と垂直方向）。

多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、位相差フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きいためにわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、位相差の波長依存性が大きいといった光学特性上の課題、さらに耐熱性が低いという実用上の課題があり、現状用いられていない。

ここで、位相差の波長依存性とは、位相差が測定波長に依存して変化することを意味し、波長４５０ｎｍで測定した位相差（Ｒ４５０）と波長５５０ｎｍで測定した位相差（Ｒ５５０）の比、Ｒ４５０／Ｒ５５０として表すことができる。一般に、芳香族構造の高分子ではこのＲ４５０／Ｒ５５０が大きくなる傾向が強く、低波長領域でのコントラストや視野角特性が低下する。

負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムではフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない位相差フィルムとなるため、例えば、スーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ（ＳＴＮ−ＬＣＤ）や垂直配向型液晶ディスプレイ（ＶＡ−ＬＣＤ）、面内配向型液晶ディスプレイ（ＩＰＳ−ＬＣＤ）、反射型液晶ディスプレイ（反射型ＬＣＤ）等のディスプレイの視角特性の補償用位相差フィルムや偏向板の視野角補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する位相差フィルムに対して市場の要求は強い。

正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法（例えば、特許文献１〜３参照）である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている（例えば、特許文献４参照）。

それ以外にも負の光学異方性を有する微粒子と透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献５参照）。

しかし、特許文献１〜４において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるために生産性が劣る課題がある。また位相差の均一性等の制御も従来の延伸による制御と比べると著しく難しくなる。

ベースフィルムとしてポリカーボネートを使用した場合には室温での光弾性係数が大きくわずかな応力によって位相差が変化することから、位相差の安定性に課題がある。さらに位相差の波長依存性が大きい課題も抱えている。

特許文献５で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することによって負の複屈折を示す位相差フィルムであり、製造方法の簡便化や経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。

また、フマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムが提案されている（例えば、特許文献６〜１０参照）。

特許２８１８９８３号公報 特開平５−２９７２２３号公報 特開平５−３２３１２０号公報 特開平６−８８９０９号公報 特開２００５−１５６８６２号公報 特開２００８−１１２１４１号公報 特開２０１２−０３２７８４号公報 ＷＯ２０１２／００５１２０号公報 特開２００８−１２９４６５号公報 特開２００６-１９３６１６号公報

特許文献６〜１０で提案されたフマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムは、高い面外位相差を有しているものの、現状においては、薄膜においてもより高い面外位相差を有するフィルムが求められている。

本発明の目的は、特定の共重合体を用いた薄膜においても高い面外位相差を有する光学特性に優れた位相差フィルムに適した新規なフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体を提供することにある。

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体が上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、一般式（１）で表されるフマル酸エステル残基単位および一般式（２）で表されるアルコキシケイ皮酸残基単位を含むことを特徴とするフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体ならびにそれを用いた位相差フィルムに関するものである。

（ここで、Ｒ_１は水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、Ｒ_２は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示す。）

（ここで、Ｒ_３は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、ｎは１〜５の整数を示す。）
以下、本発明の位相差フィルムに適したフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体について詳細に説明する。

本発明のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体は、一般式（１）で表されるフマル酸エステル残基単位、及び一般式（２）で表されるアルコキシケイ皮酸残基単位を含むフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体である。そして、本発明のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体は、特定の二残基単位（特定のフマル酸エステル残基単位及び特定のアルコキシケイ皮酸残基単位）を含んでなることにより、より薄膜においても高い面外位相差を発現させることを特徴とするものである。また、本発明のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体は、該二残基単位を含んでなることにより、重合体となる際の単量体の重合転化率が高く、生産性に優れるものであることを特徴とする。

（ここで、Ｒ_１およびＲ_２はそれぞれ独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示す。）

（ここで、Ｒ_３は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、ｎは１〜５の整数を示す。）
本発明の一般式（１）におけるＲ_１は、水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、Ｒ_２はＲ_１とは独立して炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示す。炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数３〜６の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、フマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体が高い面外位相差を発現することから、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基が好ましく、イソプロピル基がさらに好ましい。

そして、具体的な一般式（１）で表されるフマル酸エステル残基単位としては、例えば、フマル酸モノメチル残基単位、フマル酸モノエチル残基単位、フマル酸イソプロピル残基単位、フマル酸モノペンチル残基単位、フマル酸モノへキシル残基単位、フマル酸モノｎ−ブチル残基単位、フマル酸モノイソブチル残基単位、フマル酸モノｓｅｃ−ブチル残基単位、フマル酸モノｔｅｒｔ−ブチル残基単位、フマル酸モノシクロプロピル残基単位、フマル酸モノシクロブチル残基単位、フマル酸モノシクロヘキシル残基単位、フマル酸ジメチル残基単位、フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジプロピル残基単位、フマル酸ジペンチル残基単位、フマル酸ジヘキシル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジｎ−ブチル残基単位、フマル酸ジイソブチル残基単位、フマル酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、フマル酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、フマル酸ジシクロプロピル残基単位、フマル酸ジシクロブチル残基単位、フマル酸ジシクロヘキシル残基単位等が挙げられる。これらの中でも、フマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体が高い面外位相差を発現することから、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、フマル酸ジシクロヘキシル残基単位が好ましく、フマル酸ジイソプロピル残基単位がさらに好ましい。

本発明の一般式（２）におけるＲ_３は、炭素数１〜１２の直鎖状または分岐状のアルキル基を示し、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプピル基、ヘキシル基、ドデシル基等が挙げられ、ｎは１〜５の整数である。

そして、具体的な一般式（２）で表されるアルコキシケイ皮酸残基単位としては、メトキシケイ皮酸残基単位、エトキシケイ皮酸残基単位、プロポキシケイ皮酸残基単位、ブトキシケイ皮酸残基単位、ペントキシケイ皮酸残基単位、ヘキソキシケイ皮酸残基単位、ヘプトキシケイ皮酸残基単位、オクトキシケイ皮酸残基単位、ノナノキシケイ皮酸残基単位、デカノキシケイ皮酸残基単位、ウンデカノキシケイ皮酸残基単位、ドデカノキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。

メトキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、２−メトキシケイ皮酸残基単位、３−メトキシケイ皮酸残基単位、４−メトキシケイ皮酸残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５，６−ペンタメトキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。

エトキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、２−エトキシケイ皮酸残基単位、３−エトキシケイ皮酸残基単位、４−エトキシケイ皮酸残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５，６−ペンタエトキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。

プロポキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、２−プロポキシケイ皮酸残基単位、３−プロポキシケイ皮酸残基単位、４−プロポキシケイ皮酸残基単位、２，３−ジプロポキシケイ皮酸残基単位、２，４−ジプロポキシケイ皮酸残基単位、２，５−ジプロポキシケイ皮酸残基単位、２，６−ジプロポキシケイ皮酸残基単位、２，３，４−トリプロポキシケイ皮酸残基単位、２，３，５−トリプロポキシケイ皮酸残基単位、２，３，６−トリプロポキシケイ皮酸残基単位、２，４，６−トリプロポキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５−テトラプロポキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，６−テトラプロポキシケイ皮酸残基単位、２，３，５，６−テトラプロポキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５，６−ペンタプロポキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。

ブトキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、２−ブトキシケイ皮酸残基単位、３−ブトキシケイ皮酸残基単位、４−ブトキシケイ皮酸残基単位、２，３−ジブトキシケイ皮酸残基単位、２，４−ジブトキシケイ皮酸残基単位、２，５−ジブトキシケイ皮酸残基単位、２，６−ジブトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４−トリブトキシケイ皮酸残基単位、２，３，５−トリブトキシケイ皮酸残基単位、２，３，６−トリブトキシケイ皮酸残基単位、２，４，６−トリブトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５−テトラブトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，６−テトラブトキシケイ皮酸残基単位、２，３，５，６−テトラブトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５，６−ペンタブトキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。

ペントキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、２−ペントキシケイ皮酸残基単位、３−ペントキシケイ皮酸残基単位、４−ペントキシケイ皮酸残基単位、２，３−ジペントキシケイ皮酸残基単位、２，４−ジペントキシケイ皮酸残基単位、２，５−ジペントキシケイ皮酸残基単位、２，６−ジペントキシケイ皮酸残基単位、２，３，４−トリペントキシケイ皮酸残基単位、２，３，５−トリペントキシケイ皮酸残基単位、２，３，６−トリペントキシケイ皮酸残基単位、２，４，６−トリペントキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５−テトラペントキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，６−テトラペントキシケイ皮酸残基単位、２，３，５，６−テトラペントキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５，６−ペンタペントキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。

ヘキソキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、２−ヘキソキシケイ皮酸残基単位、３−ヘキソキシケイ皮酸残基単位、４−ヘキソキシケイ皮酸残基単位、２，３−ジヘキソキシケイ皮酸残基単位、２，４−ジヘキソキシケイ皮酸残基単位、２，５−ジヘキソキシケイ皮酸残基単位、２，６−ジヘキソキシケイ皮酸残基単位、２，３，４−トリヘキソキシケイ皮酸残基単位、２，３，５−トリヘキソキシケイ皮酸残基単位、２，３，６−トリヘキソキシケイ皮酸残基単位、２，４，６−トリヘキソキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５−テトラヘキソキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，６−テトラヘキソキシケイ皮酸残基単位、２，３，５，６−テトラヘキソキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５，６−ペンタヘキソキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。

ヘプトキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、２−ヘプトキシケイ皮酸残基単位、３−ヘプトキシケイ皮酸残基単位、４−ヘプトキシケイ皮酸残基単位、２，３−ジヘプトキシケイ皮酸残基単位、２，４−ジヘプトキシケイ皮酸残基単位、２，５−ジヘプトキシケイ皮酸残基単位、２，６−ジヘプトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４−トリヘプトキシケイ皮酸残基単位、２，３，５−トリヘプトキシケイ皮酸残基単位、２，３，６−トリヘプトキシケイ皮酸残基単位、２，４，６−トリヘプトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５−テトラヘプトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，６−テトラヘプトキシケイ皮酸残基単位、２，３，５，６−テトラヘプトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５，６−ペンタヘプトキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。

オクトキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、２−オクトキシケイ皮酸残基単位、３−オクトキシケイ皮酸残基単位、４−オクトキシケイ皮酸残基単位、２，３−ジオクトキシケイ皮酸残基単位、２，４−ジオクトキシケイ皮酸残基単位、２，５−ジオクトキシケイ皮酸残基単位、２，６−ジオクトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４−トリオクトキシケイ皮酸残基単位、２，３，５−トリオクトキシケイ皮酸残基単位、２，３，６−トリオクトキシケイ皮酸残基単位、２，４，６−トリオクトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５−テトラオクトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，６−テトラオクトキシケイ皮酸残基単位、２，３，５，６−テトラオクトキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５，６−ペンタオクトキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。

ノナノキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、２−ノナノキシケイ皮酸残基単位、３−ノナノキシケイ皮酸残基単位、４−ノナノキシケイ皮酸残基単位、２，３−ジノナノキシケイ皮酸残基単位、２，４−ジノナノキシケイ皮酸残基単位、２，５−ジノナノキシケイ皮酸残基単位、２，６−ジノナノキシケイ皮酸残基単位、２，３，４−トリノナノキシケイ皮酸残基単位、２，３，５−トリノナノキシケイ皮酸残基単位、２，３，６−トリノナノキシケイ皮酸残基単位、２，４，６−トリノナノキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５−テトラノナノキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，６−テトラノナノキシケイ皮酸残基単位、２，３，５，６−テトラノナノキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５，６−ペンタノナノキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。

デカノキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、２−デカノキシケイ皮酸残基単位、３−デカノキシケイ皮酸残基単位、４−デカノキシケイ皮酸残基単位、２，３−ジデカノキシケイ皮酸残基単位、２，４−ジデカノキシケイ皮酸残基単位、２，５−ジデカノキシケイ皮酸残基単位、２，６−ジデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，４−トリデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，５−トリデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，６−トリデカノキシケイ皮酸残基単位、２，４，６−トリデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５−テトラデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，６−テトラデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，５，６−テトラデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５，６−ペンタデカノキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。

ウンデカノキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、２−ウンデカノキシケイ皮酸残基単位、３−ウンデカノキシケイ皮酸残基単位、４−ウンデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３−ジウンデカノキシケイ皮酸残基単位、２，４−ジウンデカノキシケイ皮酸残基単位、２，５−ジウンデカノキシケイ皮酸残基単位、２，６−ジウンデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，４−トリウンデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，５−トリウンデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，６−トリウンデカノキシケイ皮酸残基単位、２，４，６−トリウンデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５−テトラウンデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，６−テトラウンデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，５，６−テトラウンデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５，６−ペンタウンデカノキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。

ドデカノキシケイ皮酸残基単位としては、例えば、２−ドデカノキシケイ皮酸残基単位、３−ドデカノキシケイ皮酸残基単位、４−ドデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３−ジドデカノキシケイ皮酸残基単位、２，４−ジドデカノキシケイ皮酸残基単位、２，５−ジドデカノキシケイ皮酸残基単位、２，６−ジドデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，４−トリドデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，５−トリドデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，６−トリドデカノキシケイ皮酸残基単位、２，４，６−トリドデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５−テトラドデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，６−テトラドデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，５，６−テトラドデカノキシケイ皮酸残基単位、２，３，４，５，６−ペンタドデカノキシケイ皮酸残基単位等が挙げられる。

これらの中でも、高い位相差を発現することから、２−メトキシケイ皮酸残基単位、４−メトキシケイ皮酸残基単位、２−エトキシケイ皮酸残基単位、４−エトキシケイ皮酸残基単位が好ましく、４−メトキシケイ皮酸残基単位がさらに好ましい。

本発明におけるフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位；（メタ）アクリル酸残基単位；（メタ）アクリル酸メチル残基単位、（メタ）アクリル酸エチル残基単位、（メタ）アクリル酸ブチル残基単位等の（メタ）アクリル酸エステル残基単位；酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位；アクリロニトリル残基単位；メタクリロニトリル残基単位；メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位；Ｎ−メチルマレイミド残基単位、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−フェニルマレイミド残基単位等のＮ−置換マレイミド類残基単位；エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位より選ばれる１種また２種以上を挙げることができる。

本発明のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体の組成は、位相差フィルムとしたときの位相差特性や強度が優れたものとなることから、フマル酸エステル残基単位５０〜９９モル％およびアルコキシケイ皮酸残基単位１〜５０モル％が好ましく、フマル酸エステル残基単位７０〜９７モル％およびアルコキシケイ皮酸残基単位３〜３０モル％がさらに好ましい。

本発明のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体は、機械特性に優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が３０，０００〜５００，０００あることが好ましく、３０，０００〜３００，０００であることがさらに好ましい。

本発明のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体の製造方法としては、フマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、例えば、フマル酸エステルとアルコキシケイ皮酸のラジカル重合を行うことにより製造することができる。

前記ラジカル重合は公知の重合方法、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法のいずれも採用可能である。

ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート等の有機過酸化物；２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）等のアゾ系開始剤等が挙げられる。

そして、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族溶媒；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール系溶媒；シクロヘキサン；ジオキサン；テトラヒドロフラン；アセトン；メチルエチルケトン；ジメチルホルムアミド；酢酸イソプロピル；水等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。

また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、反応の制御が容易であることから、一般的には３０〜１５０℃の範囲で行うことが好ましい。

本発明のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体を用いた光学フィルムが得られたときは、薄膜においても高い面外位相差を有し光学特性に優れることから、位相差フィルムとすることが好ましい。

本発明の位相差フィルムは、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとした場合のそれぞれの関係がｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚであることを特徴とする位相差フィルムであり、前記ｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚを満たすことによりＳＴＮ−ＬＣＤ、ＩＰＳ−ＬＣＤ、反射型ＬＣＤや半透過型ＬＣＤ等の視野角補償性能に優れた位相差フィルムとなるものである。なお、一般的にフィルムの３次元屈折率の制御はフィルムの延伸等によって行われるため製造工程や品質の管理が複雑になるが、本発明の位相差フィルムは未延伸でフィルム厚み方向の屈折率が高いという特異な挙動を示すことを見出している。

また、本発明の位相差フィルムがより光学特性に優れた位相差フィルムとなることから、次の式（ａ）にて示される波長５５０ｎｍで測定した面外位相差（Ｒｔｈ）が−５０〜−２０００ｎｍであることが好ましく、−１００〜−５００ｎｍであることがさらに好ましい。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ （ａ）
（ここで、ｄはフィルムの厚みを示す。）
本発明の位相差フィルムは薄膜においても高い面外位相差を有することから、膜厚と面外位相差の関係が、絶対値で４．５ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）以上が好ましく、５〜１５ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）がさらに好ましい。

位相差の波長依存性は、波長４５０ｎｍで測定した位相差（Ｒ４５０）と波長５５０ｎｍで測定した位相差（Ｒ５５０）の比Ｒ４５０／Ｒ５５０として表すことができる。本発明の位相差フィルムでは、該Ｒ４５０／Ｒ５５０は、１．１以下が好ましく、１．０８以下がさらに好ましく、１．０５以下が特に好ましい。

本発明の位相差フィルムは、液晶表示素子に用いられる際に画質の特性が良好なものとなることから、光線透過率が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。また、位相差フィルムのヘーズ（曇り度）は２％以下であることが好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。

本発明の位相差フィルムの製造方法としては、特に制限はなく、例えば、溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法が挙げられる。

溶液キャスト法は、フマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体を溶媒に溶解した溶液（以下、ドープと称する。）を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Ｔダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が最も一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のフィルム等がある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、１０〜２００００ｃＰｓが好ましく、１００〜１００００ｃＰｓであることがさらに好ましい。

この際のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体の塗布厚は、フィルムの取り扱いが容易であることから、乾燥後１〜２００μｍが好ましく、さらに好ましくは５〜１００μｍ、特に好ましくは１０〜５０μｍである。

また、溶融キャスト法は、フマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体を押出機内で溶融し、Ｔダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアー等で冷却しつつ引き取る成形法である。

本発明の位相差フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。

また、本発明の位相差フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコール／ヨウ素等を含む偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、本発明の位相差フィルム同士または他の位相差フィルムと積層することもできる。

本発明の位相差フィルムは、フィルム成形時または位相差フィルム自体の熱安定性を高めるために酸化防止剤が配合されていることが好ましい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独または併用して用いても良い。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダード系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えば、ヒンダード系酸化防止剤１００重量部に対して、リン系酸化防止剤を１００〜５００重量部で混合して使用することがさらに好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、酸化防止作用のより効果的な発現のため、本発明の位相差フィルムを構成するフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体１００重量部に対して、０．０１〜１０重量部が好ましく、０．５〜１重量部がさらに好ましい。

さらに、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等の紫外線吸収剤を必要に応じて配合してもよい。

本発明の位相差フィルムは、発明の主旨を超えない範囲で、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を配合してもよい。

本発明によると、液晶ディスプレイのコントラストや視野角特性の補償フィルムや反射防止フィルムとして有用となるフィルムの厚み方向の屈折率が大きく、面内位相差が大きく、波長依存性が小さい等の光学特性に優れた位相差フィルムに適したフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体を提供することができる。

本発明のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体は、薄膜においても高い面外位相差を有し、フィルムの厚み方向の屈折率が大きい等の光学特性に優れる位相差フィルムに適したフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体であり、特に液晶表示素子用の光学補償フィルム用として適したものである。

延伸による屈折率楕円体の変化

以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。

＜フマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体の組成＞
核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名ＪＮＭ−ＧＸ２７０）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（^１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。

＜数平均分子量の測定＞
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（東ソー製、商品名Ｃ０−８０１１（カラムＧＭＨ_ＨＲ―Ｈを装着））を用い、テトラヒドロフランを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。

＜透明性の評価方法＞
ヘーズメーター（日本電色工業製、商品名ＮＤＨ５０００）を使用して、フィルムの全光線透過率およびヘーズを測定した。

＜屈折率の測定＞
アッベ屈折率計（アタゴ製）を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１４２（１９８１年版）に準拠して測定した。

＜フィルムの位相差および三次元屈折率の測定＞
全自動複屈折計（王子計測機器製、商品名ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いて測定した。

実施例１（フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸共重合体の合成）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル５０ｇ（０．２５モル）、４−メトキシケイ皮酸２．４ｇ（０．０１３モル）および重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．２９ｇ（０．００１６モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸共重合体２８ｇを得た（収率：５３％）。

得られたフマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸共重合体の数平均分子量は１５２，０００であった。

また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／４−メトキシケイ皮酸残基単位＝９６／４（モル％）であることを確認した。

実施例２（フマル酸ジイソプロピル／２−メトキシケイ皮酸共重合体の合成）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル５０ｇ（０．２５モル）、２−メトキシケイ皮酸７．９ｇ（０．０４４モル）および重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．３２ｇ（０．００１８モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／２−メトキシケイ皮酸共重合体２６ｇを得た（収率：４５％）。

得られたフマル酸ジイソプロピル／２−メトキシケイ皮酸共重合体の数平均分子量は１２６，０００であった。

また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／２−メトキシケイ皮酸残基単位＝８７／１３（モル％）であることを確認した。

実施例３（フマル酸ジイソプロピル／４−エトキシケイ皮酸共重合体の合成）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル５０ｇ（０．２５モル）、４−エトキシケイ皮酸２０．６ｇ（０．１０７モル）および重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．４０ｇ（０．００２３モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／４−エトキシケイ皮酸共重合体２０ｇを得た（収率：２８％）。

得られたフマル酸ジイソプロピル／４−エトキシケイ皮酸共重合体の数平均分子量は８１，０００であった。

また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／４−エトキシケイ皮酸残基単位＝７５／２５（モル％）であることを確認した。

実施例４
実施例１で得られたフマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸共重合体をメチルイソブチルケトンに溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、１３０℃で１０分乾燥することにより、厚み３０μｍのフマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸共重合体を用いたフィルムを得た。

得られたフィルムは、全光線透過率９２％、ヘーズ０．６％、屈折率１．４７５であった。

三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４７２３、ｎｙ＝１．４７２３、ｎｚ＝１．４７９０であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Ｒｔｈは−２００ｎｍと負に大きく、さらに位相差の比（Ｒ４５０／Ｒ５５０）（波長依存性）は１．０６であった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は６．７ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）であった。

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。

実施例５
実施例２で得られたフマル酸ジイソプロピル／２−メトキシケイ皮酸共重合体をトルエン／メチルイソブチルケトン混合溶剤に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、１３０℃で１０分乾燥することにより、厚み３０μｍのフマル酸ジイソプロピル／２−メトキシケイ皮酸共重合体を用いたフィルムを得た。

得られたフィルムは、全光線透過率９２％、ヘーズ０．４％、屈折率１．４８５であった。

三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４８２４、ｎｙ＝１．４８２４、ｎｚ＝１．４８９４であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Ｒｔｈは−２１１ｎｍと負に大きく、さらに位相差の比（Ｒ４５０／Ｒ５５０）（波長依存性）は１．０８であった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は７．０ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）であった。

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。

実施例６
実施例３で得られたフマル酸ジイソプロピル／４−エトキシケイ皮酸共重合体を酢酸エチル／メチルイソブチルケトン混合溶剤に溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、１３０℃で１０分乾燥することにより、厚み１５μｍのフマル酸ジイソプロピル／４−エトキシケイ皮酸共重合体を用いたフィルムを得た。

得られたフィルムは、全光線透過率９２％、ヘーズ０．６％、屈折率１．４９５であった。

三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４９３０、ｎｙ＝１．４９３０、ｎｚ＝１．５０００であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Ｒｔｈは−１０５ｎｍと負に大きく、さらに位相差の比（Ｒ４５０／Ｒ５５０）（波長依存性）は１．１０であった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は７．０ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）であった。

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、さらに面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有することから、位相差フィルムに適したものであった。

比較例１（フマル酸ジエステル系共重合体（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ビス２−エチルヘキシル共重合体）の合成１）
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた１Ｌのオートクレーブに、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（信越化学製、商品名メトローズ６０ＳＨ−５０）１．６ｇ、蒸留水５２０ｇ、フマル酸ジイソプロピル１９６ｇ、フマル酸ビス２−エチルヘキシル８４ｇ、及び重合開始剤であるｔ−ブチルパーオキシピバレート１．９ｇを入れ、窒素バブリングを１時間行なった後、４００ｒｐｍで攪拌しながら５０℃で２４時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。室温まで冷却し、生成したポリマー粒子を含む懸濁液をろ別し、蒸留水およびメタノールで洗浄することによりフマル酸ジエステル系共重合体を得た（収率：６６％）。

得られたフマル酸ジエステル系共重合体の数平均分子量は８６，０００であった。また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／フマル酸ビス２−エチルヘキシル残基単位＝８４／１６（モル％）であることを確認した。

比較例２（フマル酸ジエステル系共重合体（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジｎ−ブチル共重合体）の合成２）
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた１Ｌのオートクレーブに、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（信越化学製、商品名メトローズ６０ＳＨ−５０）１．６ｇ、蒸留水５２０ｇ、フマル酸ジイソプロピル２３０ｇ、フマル酸ジｎ−ブチル５０ｇ、および重合開始剤であるｔ−ブチルパーオキシピバレート２．１ｇを入れ、窒素バブリングを１時間行なった後、４００ｒｐｍで攪拌しながら５０℃で２４時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。室温まで冷却し、生成したポリマー粒子を含む懸濁液をろ別し、蒸留水およびメタノールで洗浄することによりフマル酸ジエステル系共重合体を得た（収率：８０％）。

得られたフマル酸ジエステル系共重合体の数平均分子量は１５０，０００であった。また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／フマル酸ジｎ−ブチル残基単位＝８７／１３（モル％）であることを確認した。

比較例３
比較例１で得られたフマル酸ジエステル系共重合体をトルエン／メチルエチルケトン＝５０／５０混合溶剤に溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、７０℃で１０分乾燥することにより、厚み３０μｍのフィルムを得た。

得られたフィルムは、全光線透過率９２％、ヘーズ０．６％、屈折率１．４７３であった。

三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４７２３、ｎｙ＝１．４７２３、ｎｚ＝１．４７３８であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差は−４５ｎｍと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も１．５ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）と小さかった。

比較例４
比較例２で得られたフマル酸ジエステル系共重合体をトルエン／メチルエチルケトン＝５０／５０混合溶剤に溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、７０℃で１０分乾燥することにより、厚み１５μｍのフィルムを得た。

得られたフィルムは、全光線透過率９２％、ヘーズ０．６％、屈折率１．４７２であった。

三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４７１２、ｎｙ＝１．４７１２、ｎｚ＝１．４７４３であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差は−４７ｎｍと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も３．１ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）と小さかった。

ｎｘ；フィルム面内の進相軸方向の屈折率を示す。
ｎｙ；ｎｘと直交するフィルム面内方向の屈折率を示す。
ｎｚ；フィルムの厚み方向の屈折率を示す。

Claims (7)

1. 下記一般式（１）で表されるフマル酸エステル残基単位および下記一般式（２）で表されるアルコキシケイ皮酸残基単位を含むことを特徴とするフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体。
   （ここで、Ｒ_１は水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、Ｒ_２は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示す。）
   （ここで、Ｒ_３は炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基または分岐状アルキル基を示し、ｎは１〜５の整数を示す。）
2. フマル酸エステル残基単位５０〜９９モル％、アルコキシケイ皮酸残基単位１〜５０モル％を含むことを特徴とする請求項１に記載のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体。
3. フマル酸エステル残基単位が、フマル酸ジイソプロピル残基単位であることを特徴とする請求項１または２に記載のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体。
4. アルコキシケイ皮酸残基単位が２−メトキシケイ皮酸残基単位、２−エトキシケイ皮酸残基単位、４−メトキシケイ皮酸残基単位、４−エトキシケイ皮酸残基単位からなる群より選択されるアルコキシケイ皮酸残基単位であることを特徴とする請求項１乃至３いずれか一項に記載のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体。
5. 標準ポリスチレン換算の数平均分子量が３０，０００〜５００，０００であることを特徴とする請求項１乃至４いずれか一項に記載のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体。
6. 請求項１乃至５いずれか一項に記載のフマル酸エステル−アルコキシケイ皮酸共重合体を用いたことを特徴とする位相差フィルム。
7. フィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとした場合のそれぞれの関係がｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚであることを特徴とする請求項６に記載の位相差フィルム。