JP6848196B2 - 樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルム。 - Google Patents

Description

本発明は、樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムに関するものであり、より詳しくは、樹脂組成物ならびに光学特性、安定性および機械特性に優れた光学補償フィルムに関するものである。

液晶表示装置などのディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話からコンピューター用モニター、ノートパソコン、テレビまで幅広く使用されている。

例えば液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられている。特に位相差フィルムは、正面や斜めから見た場合のコントラスト向上、色調の補償など大きな役割を果たしている。従来の位相差フィルムとしては、ポリカーボネート、環状ポリオレフィンやセルロース樹脂が用いられているが、これらの高分子はいずれも正の複屈折を有する高分子である。ここで、複屈折の正負は下記に示すように定義される。

延伸等で分子配向した高分子フィルムの光学異方性は、図１に示す屈折率楕円体で表すことが出来る。ここで、フィルムを延伸した場合のフィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルム面外の垂直方向の屈折率をｎｚと示す。なお、進相軸とはフィルム面内における屈折率の低い軸方向である。

そして、負の複屈折とは延伸方向が進相軸方向となるものであり、正の複屈折とは延伸方向と垂直方向が進相軸方向となるものである。

つまり、負の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向の屈折率が小さく（進相軸：延伸方向）、正の複屈折を有する高分子の一軸延伸では延伸軸方向と直交する軸方向の屈折率が小さい（進相軸：延伸方向と垂直方向）。

多くの高分子は正の複屈折を有する。負の複屈折を有する高分子としてはアクリル樹脂やポリスチレンがあるが、アクリル樹脂は位相差が小さく、光学補償フィルムとしての特性は十分でない。ポリスチレンは、低温領域での光弾性係数が大きくわずかな応力で位相差が変化するなど位相差の安定性の課題、位相差の波長依存性が大きいといった光学特性上の課題、更に耐熱性が低いといった実用上の課題があり現状用いられていない。

ここで位相差の波長依存性とは、位相差が測定波長に依存して変化することを意味し、波長４５０ｎｍで測定した位相差（Ｒ４５０）と波長５５０ｎｍで測定した位相差（Ｒ５５０）の比、Ｒ４５０／Ｒ５５０として表すことができる。一般に、芳香族構造の高分子ではＲ４５０／Ｒ５５０が大きくなる傾向が強く、低波長領域でのコントラストや視野角特性が低下する。

負の複屈折を示す高分子の延伸フィルムはフィルムの厚み方向の屈折率が高く、従来にない光学補償フィルムとなるため、例えばスーパーツイストネマチック型液晶ディスプレイ（ＳＴＮ−ＬＣＤ）や垂直配向型液晶ディスプレイ（ＶＡ−ＬＣＤ）、面内配向型液晶ディスプレイ（ＩＰＳ−ＬＣＤ）、反射型液晶ディスプレイ（反射型ＬＣＤ）などのディスプレイの視角特性の補償用の光学補償フィルムや偏光板の視角を補償するための光学補償フィルムとして有用であり、負の複屈折を有する光学補償フィルムに対して市場の要求が強い。

正の複屈折を有する高分子を用いてフィルムの厚み方向の屈折率を高めたフィルムの製造方法が提案されている。ひとつは高分子フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムのフィルム厚み方向に収縮力をかける処理方法（例えば、特許文献１〜３参照。）である。また、高分子フィルムに電場を印加しながら面内に一軸延伸する方法が提案されている（例えば、特許文献４参照。）。

それ以外にも、負の光学異方性を有する微粒子と透明性高分子からなる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献５参照。）。

また、フマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムが提案されている（例えば、特許文献６〜１０参照）。

さらに、フマル酸ジイソプロピル残基単位、およびケイ皮酸残基単位または炭素数１〜６のアルキル基を有するケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体、ならびに該フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体を用いた位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献１１参照）。これに加えて、フマル酸ジエステル残基単位、炭素数１〜６のアルキル基を有するケイ皮酸エステル残基単位及び２個以上のラジカル重合性官能基を有する多官能単量体の残基単位を含むフマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体、並びに該フマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体を用いた位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献１２参照）。

特許２８１８９８３号公報 特開平０５−２９７２２３号公報 特開平０５−３２３１２０号公報 特開平０６−０８８９０９号公報 特開平２００５−１５６８６２号公報 特開２００８−１１２１４１号公報 特開２０１２−０３２７８４号公報 ＷＯ２０１２／００５１２０号公報 特開２００８−１２９４６５号公報 特開２００６−１９３６１６号公報 ＷＯ２０１４／０１３９８２号公報 ＷＯ２０１４／０８４１７８号公報

特許文献１〜４において提案された方法は、製造工程が非常に複雑になるため生産性に劣るといった課題がある。また位相差の均一性などの制御も従来の延伸による制御に比べると著しく難しくなる。

また、特許文献５で得られる位相差フィルムは、負の光学異方性を有する微粒子を添加することにより負の複屈折を有する位相差フィルムであり、製造方法の簡便化及び経済性の観点から、微粒子を添加する必要のない位相差フィルムが求められている。また、特許文献６〜１０で提案されたフマル酸ジエステル系樹脂及びそれよりなるフィルムは、高い面外位相差を有しているものの、現状においては、薄膜においてもより高い面外位相差を有するフィルムが求められている。

特許文献１１で提案されたフマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸誘導体系共重合体はフマル酸特許文献６〜１０で提案された樹脂よりも薄膜においてもより高い面外位相差を発現させるものの、得られる膜が割れやすいという課題がある。

特許文献１２で提案されたフマル酸ジエステル−ケイ皮酸エステル系共重合体を用いた位相差フィルムは、特許文献６〜１０で提案された樹脂よりも薄膜においてもより高い面外位相差を発現させ、かつ、特許文献１１よりも得られる膜が割れにくいものの、より実用的な位相差フィルムとするためには、さらに割れにくい位相差フィルムが求められている

本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、特定のフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体と特定の可塑剤とを含有する樹脂組成物、それを用いた光学補償フィルムが、上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち、本発明は、フマル酸エステル残基単位およびケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体と可塑剤とを含有する樹脂組成物であって、該可塑剤の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が５０〜１０，０００であり、かつ該可塑剤のＦｅｄｏｒｓの方法で算出されるＳＰ値が８．５〜１１．５であることを特徴とする樹脂組成物、それを用いた光学補償フィルムに関するものである。

以下、本発明の樹脂組成物について詳細に説明する。

本発明の樹脂組成物は、フマル酸エステル残基単位およびケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体と可塑剤とを含有し、フィルムとした際のフィルム伸度等の機械特性を向上できることから、フマル酸エステル共重合体１００重量部に対して、該可塑剤０．１〜４０重量部含有することが好ましく、該可塑剤０．５〜２０重量部含有することがさらに好ましく、該可塑剤１〜１５重量部含有することが特に好ましい。

本発明の樹脂組成物が含有するフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体はフマル酸エステル残基単位およびケイ皮酸エステル残基単位を含む共重合体であれば特に制限がないが、薄膜においてもより高い面外位相差を発現させ、かつ、力学的な安定性により優れる（引張試験時の最大伸度向上及びクラックの発生低減等）ため、下記一般式（ａ）で表されるフマル酸エステル残基単位及び下記一般式（ｂ）で表されるケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体であることが好ましい。そして、本発明の樹脂組成物に含まれるフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体は、特定の二残基単位（フマル酸エステル残基単位及びケイ皮酸エステル残基単位）を含んでなることにより、当該樹脂組成物をフィルムとした際により薄膜においても高い面外位相差を発現させることを特徴とするものである。

（ここで、Ｒ_１は水素、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、Ｒ_２は炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示す。）

（ここで、Ｒ_３は水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルコキシ基または分岐状アルコキシ基を示し、ｎは０〜５の整数を示す。また、Ｒ_４は炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示す。）
本発明の一般式（ａ）におけるＲ_１は水素、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基であり、Ｒ_２は炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基である。Ｒ_１、Ｒ_２において、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数３〜６の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体が高い面外位相差を発現することから、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、シクロヘキシル基が好ましく、耐熱性、機械特性のバランスに優れた光学補償フィルムとなることから、イソプロピル基がさらに好ましい。

そして、具体的な一般式（ａ）で表されるフマル酸エステル残基単位としては、例えば、フマル酸モノメチル残基単位、フマル酸モノエチル残基単位、フマル酸モノプロピル残基単位、フマル酸モノヘキシル残基単位、フマル酸モノペンチル残基単位、フマル酸モノイソプロピル残基単位、フマル酸モノｎ−ブチル残基単位、フマル酸モノイソブチル残基単位、フマル酸モノｓｅｃ−ブチル残基単位、フマル酸モノｔｅｒｔ−ブチル残基単位、フマル酸モノシクロプロピル残基単位、フマル酸モノシクロブチル残基単位、フマル酸モノシクロヘキシル残基単位、フマル酸ジメチル残基単位、フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジプロピル残基単位、フマル酸ジヘキシル残基単位、フマル酸ジペンチル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジｎ−ブチル残基単位、フマル酸ジイソブチル残基単位、フマル酸ジｓｅｃ−ブチル残基単位、フマル酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、フマル酸ジシクロプロピル残基単位、フマル酸ジシクロブチル残基単位、フマル酸ジシクロヘキシル残基単位等が挙げられる。これらの中でも、フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体が高い面外位相差を発現することから、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、フマル酸ジシクロヘキシル残基単位が好ましく、フマル酸ジイソプロピル残基単位がさらに好ましい。

本発明の一般式（ｂ）におけるＲ_３は、炭素数１〜１２の直鎖状アルコキシ基または分岐状アルコキシ基を示し、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプピキシ基、ヘキソキシ基、ドデカノキシ基等が挙げられ、ｎは０〜５の整数である。

本発明の一般式（ｂ）におけるＲ_４は、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、炭素数１〜１２の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基等が挙げられ、炭素数１〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、炭素数３〜６の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体が高い面外位相差を発現することから、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が好ましく、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基がさらに好ましい。

そして、具体的な一般式（ｂ）で表されるケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、ケイ皮酸メチル残基単位、ケイ皮酸エチル残基単位、ケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、ケイ皮酸イソプロピル残基単位、ケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、ケイ皮酸イソブチル残基単位、ケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、ケイ皮酸ｔｅｒｔ − ブチル残基単位、ケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、ケイ皮酸ｎ−ヘキシル残基単位、２−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｓｅｃ-ブチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、２−メトキシケイ皮酸２−エチルへキシル残基単位、３−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｓｅｃ-ブチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、３−メトキシケイ皮酸２−エチルへキシル残基単位、４−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｓｅｃ-ブチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸イソアミル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−へキシル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−オクチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸２−エチルへキシル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，５−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，６−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，５−ジメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，６−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，５−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，６−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４，５−トリメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，５−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，６−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５，６−テトラメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位、ペンタメトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、２−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、２−エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、３−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、３−エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−エトキシケイ皮酸メチル残基単位、４−エトキシケイ皮酸エチル残基単位、４−エトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−エトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，５−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，６−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，５−ジエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，６−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，５−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，６−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４，５−トリエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，５−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，６−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５，６−テトラエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位、ペンタエトキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２−プロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、３−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、３−プロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−プロポキシケイ皮酸メチル残基単位、４−プロポキシケイ皮酸エチル残基単位、４−プロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，５−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，５−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，５−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，５−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，６−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，６−ジプ
ロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，６−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，６−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，５−ジプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、３，５−ジプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、３，５−ジプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，５−ジプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，６−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，６−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，６−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，６−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，５−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，５−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，５−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，５−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，６−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，６−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，６−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，６−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４，５−トリプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４，５−トリプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４，５−トリプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４，５−トリプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，５−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，５−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，５−テトラプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，５−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，６−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，６−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，６−テトラプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，６−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５，６−テトラプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５，６−テトラプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５，６−テトラプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５，６−テトラプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位、ペンタプロポキシケイ皮酸２−エチル残基単位ヘキシル残基単位、２−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２−ヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、３−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、３−ヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−ヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、４−ヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、４−ヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−ヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，５−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，５−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，５−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，５−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，６−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，６−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，６−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，６−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，５−ジヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、３，５−ジヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、３，５−ジヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，５−ジヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，６−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，６−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，６−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，６−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，６−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，６−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，６−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，６−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４，５−トリヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，５−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，５−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，５−テトラヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，５−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，６−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，６−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，６−テトラヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，６−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５，６−テトラヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５，６−テトラヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５，６−テトラヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５，６−テトラヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位、ペンタヘキソキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位、２−ドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、２−ドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、２−ドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２−ドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３−ドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、３−ドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、３−ドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３−ドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−ドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、４−ドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、４−ドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−ドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３−ジドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３−ジドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３−ジドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３−ジドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４−ジドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４−ジドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４−ジドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４−ジドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，５−ジドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、２，５−ジドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、２，５−ジドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，５−ジドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，６−ジドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、２，６−ジドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、２，６−ジドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，６−ジドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４−ジドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４−ジドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４−ジドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４−ジドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，５−ジドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、３，５−ジドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、３，５−ジドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，５−ジドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４−トリドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４−トリドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４−トリドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，５−トリドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５−トリドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５−トリドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５−トリドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，６−トリドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，６−トリドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，６−トリドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，６−トリドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，５−トリドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，５−トリドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，５−トリドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，５−トリドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，４，６−トリドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、２，４，６−トリドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、２，４，６−トリドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，４，６−トリドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、３，４，５−トリドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、３，４，５−トリドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、３，４，５−トリドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、３，４，５−トリドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，５−テトラドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，５−テトラドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，５−テトラドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，５−テトラドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、２，３，４，６−テトラドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，４，６−テトラドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，４，６−テトラドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，４，６−テトラドデカノキシケイ皮酸
イソプロピル残基単位、２，３，５，６−テトラドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、２，３，５，６−テトラドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、２，３，５，６−テトラドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、２，３，５，６−テトラドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタドデカノキシケイ皮酸メチル残基単位、ペンタドデカノキシケイ皮酸エチル残基単位、ペンタドデカノキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、ペンタドデカノキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、ペンタドデカノキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、ペンタドデカノキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、ペンタドデカノキシケイ皮酸ｎ−ペンチル残基単位、ペンタドデカノキシケイ皮酸シクロへキシル残基単位、ペンタドデカノキシケイ皮酸２−エチルヘキシル残基単位等が挙げられる。これらの中でも、高い位相差を発現することから、ケイ皮酸メチル残基単位、ケイ皮酸エチル残基単位、ケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、ケイ皮酸イソプロピル残基単位、ケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、ケイ皮酸イソブチル残基単位、ケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、ケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸エチル単位残基、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸イソブチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｓｅｃ−ブチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ−ブチル残基単位が好ましく、ケイ皮酸メチル残基単位、ケイ皮酸エチル残基単位、ケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、ケイ皮酸イソプロピル残基単位、４−メトキシケイ皮酸メチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸エチル残基単位、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位、４−メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位がさらに好ましい。

本発明における具体的なフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体は、薄膜とした際に位相差に優れるフィルムがより容易に得られることから、フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸メチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸エチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸ｎ−プロピル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸イソプロピル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸ｎ−ブチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸イソブチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸ｔ−ブチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸ｎ−ペンチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸ｎ−ヘキシル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸メチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸イソプロピル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸ｎ−ブチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸イソブチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４-メトキシケイ皮酸ｔ−ブチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸ｎ−ペンチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸イソアミル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸ｎ−へキシル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸ｎ−ヘプチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸ｎ−オクチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸２−エチルへキシル共重合体であることが好ましく、フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸メチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸エチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸ｎ−プロピル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸イソプロピル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸メチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸イソプロピル共重合体がさらに好ましい。

該フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えば、スチレン残基単位、α−メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位；（メタ）アクリル酸残基単位；（メタ）アクリル酸メチル残基単位、（メタ）アクリル酸エチル残基単位、（メタ）アクリル酸ブチル残基単位等の（メタ）アクリル酸エステル残基単位；酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位；アクリロニトリル残基単位；メタクリロニトリル残基単位；メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位；Ｎ−メチルマレイミド残基単位、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ−フェニルマレイミド残基単位等のＮ−置換マレイミド類残基単位；エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位より選ばれる１種または２種以上を挙げることができる。

本発明の樹脂組成物が含有するフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体の組成は、光学補償フィルムとしたときの位相差特性や強度が優れたものとなることから、フマル酸エステル残基単位５０〜９９モル％およびケイ皮酸エステル残基単位１〜５０モル％が好ましく、フマル酸エステル残基単位５５〜９７モル％およびケイ皮酸エステル残基単位３〜４５モル％がさらに好ましく、フマル酸エステル残基単位６０〜９５モル％およびケイ皮酸エステル残基単位５〜４０モル％が特に好ましい。

本発明の樹脂組成物が含有するフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体は、機械特性により優れたものとなることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が３０，０００〜５００，０００であることが好ましく、４０，０００〜４００，０００であることがさらに好ましく、５０，０００〜３００，０００であることが特に好ましい。

本発明の樹脂組成物が含有するフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体の製造方法としては、フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよく、例えば、フマル酸エステルとケイ皮酸エステルのラジカル重合を行うことにより製造することができる。

前記ラジカル重合は、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等、従来公知の方法により製造することができる。

本発明の樹脂組成物が含有する可塑剤は、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が５０〜１０,０００である。該重量平均分子量が５０未満または１０，０００を超えるとき、可塑剤としての効果が得られず、また、ブリードによる可塑剤の長期安定性の低下や耐熱耐湿安定性の低下等の問題が生じ、該樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、安定性や機械特性に優れたものとならない。該重量平均分子量は、５００〜８，０００であることが好ましく、１，０００〜５，０００であることがさらに好ましい。

本発明の樹脂組成物が含有する可塑剤は、Ｆｅｄｏｒｓの方法で算出されるＳＰ値が８．５〜１１．５である。該ＳＰ値が８．５未満または１１．５を超えるとき、本発明の樹脂組成物が含有するフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体と可塑剤との親和性が低下し、可塑剤としての効果が得られない。該ＳＰ値は、９．０〜１１．０であることが好ましい。

本発明の樹脂組成物が含有する可塑剤は、本発明の樹脂組成物が含有するフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体と可塑剤との親和性向上のため、アクリル系可塑剤および／またはポリエステル系可塑剤であることが好ましい。

本発明の樹脂組成物がアクリル系可塑剤を含有するとき、該アクリル系可塑剤はアクリル酸エステルの（共）重合体であり、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸−ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸ｎ−ペンチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ｎ−ヘプチル、アクリル酸ｎ−オクチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸ノニル、アクリル酸デシル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸フェニル、アクリル酸トルイル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−メトキシエチル、アクリル酸−３−メトキシブチル、アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、アクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸２−アミノエチル、γ−（メタクリロイルオキシプロピル）トリメトキシシラン、アクリル酸のエチレンオキサイド付加物、アクリル酸トリフルオロメチルメチル、アクリル酸２−トリフルオロメチルエチル、アクリル酸２−パーフルオロエチルエチル、アクリル酸２−パーフルオロエチル−２−パーフルオロブチルエチル、アクリル酸２−パーフルオロエチル、アクリル酸パーフルオロメチル、アクリル酸ジパーフルオロメチルメチル、アクリル酸２−パーフルオロメチル−２−パーフルオロエチルメチル、アクリル酸２−パーフルオロヘキシルエチル、アクリル酸２−パーフルオロデシルエチル、アクリル酸２−パーフルオロヘキサデシルエチル等のアクリル酸エステル系モノマーの重合体が挙げられる。これらは、単独で用いても良いし、複数を共重合させても構わない。また本発明の効果を損なわない範囲でアクリル酸エステルと共重合可能な単量体との共重合体でも構わない。共重合可能な単量体としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、スチレン等のスチレン誘導体等が挙げられる。

本発明の樹脂組成物がポリエステル系可塑剤を含有するとき、該ポリエステル系可塑剤としては、例えば、脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合体などが挙げられる。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸などが挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

上記アクリル系可塑剤及び／またはポリエステル系可塑剤のガラス転移温度としては、本発明の樹脂組成物の長期安定性、耐熱耐湿安定性のため、０℃以下であることが好ましく、−２０℃以下であることが好ましく、−４０℃以下であることが特に好ましい。

本発明の樹脂組成物は、熱安定性を向上させるために酸化防止剤を含有していてもよい。該酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、ビタミンＥ系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独でもよく、２以上でもよい。そして、相乗的に酸化防止作用が向上することからヒンダード系酸化防止剤とリン系酸化防止剤を併用して用いることが好ましく、その際には例えば、ヒンダード系酸化防止剤１００重量部に対して、リン系酸化防止剤を１００〜５００重量部で混合して使用することがさらに好ましい。また、酸化防止剤の添加量としては、本発明の位相差フィルムを構成するフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体１００重量部に対して酸化防止作用に優れることから、０．０１〜１０重量部が好ましく、０．５〜１重量部がさらに好ましい。

本発明の樹脂組成物は、紫外線吸収剤として、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエート等の紫外線吸収剤を必要に応じて配合してもよい。

本発明の樹脂組成物は、発明の主旨を超えない範囲で、その他高分子、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を配合してもよい。

本発明の樹脂組成物を作製する際にフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体と可塑剤との配合方法としては、特に制限はなく、例えば、フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体を可溶な溶媒に溶解した溶液に可塑剤を添加することにより行うことができる。その際のフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体の可溶な溶媒としては、特に制限はなく、例えば、芳香族溶媒としてベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、キュメン、クロロベンゼン等、非芳香族溶媒としてアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル等のエステル系溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，３−ジオキソラン等のエーテル系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒の中でも、良好な光学特性を発現することから、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、キシレン、トルエンが好ましい。

本発明の樹脂組成物を用いてなる光学補償フィルムが得られたときは、薄膜においても高い面外位相差を有し光学特性に優れることから、位相差フィルムとすることが好ましい。

本発明の樹脂組成物を用いてなる光学補償フィルムは、フィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとした場合のそれぞれの関係がｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚであることを特徴とする位相差フィルムであり、前記ｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚを満たすことによりＳＴＮ−ＬＣＤ、ＩＰＳ−ＬＣＤ、反射型ＬＣＤや半透過型ＬＣＤ等の視野角補償性能に優れた位相差フィルムとなるものである。なお、一般的にフィルムの３次元屈折率の制御はフィルムの延伸等によって行われるため製造工程や品質の管理が複雑になるが、本発明の樹脂組成物を用いてなる位相差フィルムは未延伸でフィルム厚み方向の屈折率が高いという特異な挙動を示すことを見出している。

また、本発明の樹脂組成物を用いてなる位相差フィルムがより光学特性に優れた位相差フィルムとなることから、次の式（１）にて示される波長５５０ｎｍで測定した面外位相差（Ｒｔｈ）が−３０〜−２０００ｎｍであることが好ましく、−１００〜−５００ｎｍであることがさらに好ましく、−１８０〜−５００ｎｍであることが特に好ましい。

Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ （１）
（ここで、ｄはフィルムの厚みを示す。）
本発明の樹脂組成物を用いてなる位相差フィルムは薄膜においても高い面外位相差（Ｒｔｈ）を有することから、膜厚と面外位相差の関係（Ｒｔｈ／ｄ）が、絶対値で５．５ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）以上が好ましく、６ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）以上がさらに好ましく、８ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）以上が特に好ましい。

位相差の波長依存性は、波長４５０ｎｍで測定した位相差（Ｒ４５０）と波長５５０ｎｍで測定した位相差（Ｒ５５０）の比Ｒ４５０／Ｒ５５０として表すことができる。本発明の樹脂組成物を用いてなる位相差フィルムでは、該Ｒ４５０／Ｒ５５０は、１．２以下が好ましく、１．１８以下がさらに好ましく、１．１５以下が特に好ましい。

本発明の樹脂組成物を用いてなる位相差フィルムは、液晶表示素子に用いられる際に画質の特性が良好なものとなることから、光線透過率が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。また、位相差フィルムのヘーズ（曇り度）は２％以下であることが好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。

本発明の樹脂組成物を用いてなる位相差フィルムは、各種加工工程においてフィルムを安定に取り扱うために、最大伸度６％以上が好ましい。

本発明の樹脂組成物を用いてなる位相差フィルムの製造方法としては特に制限はなく、例えば、溶液キャスト法、溶融キャスト法等の方法が挙げられる。

溶液キャスト法は、フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体と可塑剤とを含有する樹脂組成物を溶媒に溶解した溶液（以下、ドープと称する。）を支持基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去してフィルムを得る方法である。その際ドープを支持基板上に流延する方法としては、例えば、Ｔダイ法、ドクターブレード法、バーコーター法、ロールコーター法、リップコーター法等が用いられる。特に、工業的にはダイからドープをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が最も一般的である。用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレート等のフィルム等がある。溶液キャスト法において、高い透明性を有し、かつ厚み精度、表面平滑性に優れたフィルムを製膜する際には、ドープの溶液粘度は極めて重要な因子であり、１０〜２００００ｃＰｓが好ましく、１００〜１００００ｃＰｓであることがさらに好ましい。

この際の樹脂組成物の塗布厚は、フィルムの取り扱いが容易であることから、乾燥後１〜２００μｍが好ましく、さらに好ましくは３〜１００μｍ、特に好ましくは５〜５０μｍである。

また、溶融キャスト法は、フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体と可塑剤とを含有する樹脂組成物を押出機内で溶融し、Ｔダイのスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアー等で冷却しつつ引き取る成形法である。

本発明の樹脂組成物を用いてなる位相差フィルムは、基材のガラス基板や他の光学フィルムから剥離して用いることが可能であり、基材のガラス基板や他の光学フィルムとの積層体としても用いることができる。

また、本発明の樹脂組成物を用いてなる位相差フィルムは、偏光板と積層して円または楕円偏光板として用いることが可能であり、ポリビニルアルコール／ヨウ素等を含む偏光子と積層して偏光板とすることも可能である。さらに、本発明の樹脂組成物を用いてなる位相差フィルム同士または他の位相差フィルムと積層することもできる。

本発明によると、液晶ディスプレイのコントラストや視角特性の補償フィルムや反射防止フィルムとして有用なフィルム面内の位相差が大きく、波長依存性が小さい等の光学特性に優れており、また各種加工工程に耐えうる伸度等の機械特性を持ち合わせた光学補償フィルムを提供することができる。

延伸による屈折率楕円体の変化

以下に本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれら実施例によりなんら制限されるものではない。なお、断りのない限り用いた試薬は市販品を用いた。

＜フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体の組成＞
核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名ＪＮＭ−ＧＸ２７０）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（^１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。

＜数平均分子量の測定＞
ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置（東ソー製、商品名Ｃ０−８０１１（カラムＧＭＨ_ＨＲ―Ｈを装着））を用い、テトラヒドロフランを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。

＜透明性の評価方法＞
ヘーズメーター（日本電色工業製、商品名ＮＤＨ５０００）を使用して、フィルムの全光線透過率およびヘーズを測定した。

＜屈折率の測定＞
アッベ屈折率計（アタゴ製）を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１４２（１９８１年版）に準拠して測定した。

＜フィルムの位相差および三次元屈折率の測定＞
全自動複屈折計（王子計測機器製、商品名ＫＯＢＲＡ−ＷＲ）を用いて測定した。

＜フィルム強度の測定＞
１０ｍｍ×１００ｍｍ（ＳＳＫ １８７４−１）に打ち抜いた試験片を、テンシロン型引張試験機（株式会社オリエンテック製、商品名ＵＴＭ−２．５Ｔ）にて速度０．５ｍｍ／ｍｉｎで引張り、最大伸度を求めた。

合成例１（フマル酸エステル／ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／ケイ皮酸エチル）の合成１）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル５０ｇ（０．２５モル）、ケイ皮酸エチル７．６ｇ（００４３モル）および重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．３２ｇ（０．００１８モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、１６８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／ケイ皮酸エチル共重合体７ｇを得た（収率：１２％）。得られたフマル酸ジイソプロピル／ケイ皮酸エチル共重合体の数平均分子量は５５，０００であった。また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／ ケイ皮酸エチル残基単位＝８３／１７（モル％）であることを確認した。

合成例２（フマル酸エステル／ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体）の合成２）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル５０ｇ（０．２５モル）、４−メトキシケイ皮酸エチル１２．９ｇ（０．０６２モル）および重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．５４ｇ（０．００３１モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体２８ｇを得た（収率：４５％）。

得られたフマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体は、数平均分子量は７２，０００であった。

また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／４−メトキシケイ皮酸エチル残基単位＝８０／２０（モル％）であることを確認した。

合成例３（フマル酸エステル／ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合体）の合成３）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル５０ｇ（０．２５モル）、４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル１８．３ｇ（０．０８３モル）および重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．５４ｇ（０．００３１モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合体２７ｇを得た（収率：４０％）。

得られたフマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合体の数平均分子量は５５，０００であった。

また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル残基単位＝７６／２４（モル％）であることを確認した。

合成例４（フマル酸ジイソプロピル単独重合体の合成）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル５０ｇ（０．２５モル）および重合開始剤であるｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート０．２７ｇ（０．００１５モル）を入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを５０℃の恒温槽に入れ、３６時間保持することによりラジカル重合を行った。重合反応終了後、アンプルから重合物を取り出し、テトラヒドロフラン４００ｇで溶解させた。このポリマー溶液を３Ｌのメタノール中に滴下して析出させた後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル単独重合体３５ｇを得た（収率：７１％）。

得られたフマル酸ジイソプロピル単独重合体の数平均分子量は１１８，０００であった。

合成例５（フマル酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ビス(２−エチルヘキシル)共重合体）の合成）
攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた１Ｌのオートクレーブに、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（信越化学製、商品名メトローズ６０ＳＨ−５０）１．６ｇ、蒸留水５２０ｇ、フマル酸ジイソプロピル１９６ｇ、フマル酸ビス（２−エチルヘキシル）８４ｇ、及び重合開始剤であるｔ−ブチルパーオキシピバレート１．９ｇを入れ、窒素バブリングを１時間行なった後、４００ｒｐｍで攪拌しながら５０℃で２４時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。室温まで冷却し、生成したポリマー粒子を含む懸濁液をろ別し、蒸留水およびメタノールで洗浄し８０℃で１０時間真空乾燥することによりフマル酸ジイソプロピル／フマル酸ビス(２−エチルヘキシル)共重合体１８４ｇを得た（収率：６６％）。

得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸ビス(２−エチルヘキシル)共重合体の数平均分子量は８６，０００であった。

また、^１Ｈ−ＮＭＲ測定により、共重合体組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／フマル酸ビス（２−エチルヘキシル）残基単位＝８４／１６（モル％）であることを確認した。

実施例１
合成例１で得られたフマル酸ジイソプロピル／ケイ皮酸エチル共重合体をトルエンに溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、さらにフマル酸ジイソプロピル／ケイ皮酸エチル共重合体１００重量部に対し、可塑剤としてアクリル系可塑剤（東亞合成社製、商品名ＡＲＵＦＯＮ ＵＰ−１０２１（重量平均分子量＝１，６００、ＳＰ値(Ｆｅｄｏｒｓ)＝９．８、ガラス転移温度＝−７１℃））５重量部を添加した後、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、１３０℃で１０分乾燥することにより、厚み３０μｍのフマル酸ジイソプロピル／ケイ皮酸エチル共重合体を用いたフィルムを得た。得られたフィルムの物性を表１に示す。

得られたフィルムは、全光線透過率９２％、ヘーズ０．５％、屈折率１．４８７であった。三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４８４８ 、ｎｙ＝１．４８４８、ｎｚ＝１．４９１５であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Ｒｔｈは−２０１ｎｍと負に大きく、さらに位相差の比（Ｒ４５０／Ｒ５５０）（波長依存性）は１．１１であった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は６．７ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）であった。また、得られたフィルムの最大伸度は６．８％であった。

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、また面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有するものであった。さらに、伸度に優れたものであった。

実施例２
合成例２で得られたフマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体をシクロペンタノンに溶解して１５重量％の樹脂溶液とし、可塑剤としてアクリル系可塑剤（東亞合成社製、商品名ＡＲＵＦＯＮ ＵＧ−４０１０（重量平均分子量＝２，９００、ＳＰ値(Ｆｅｄｏｒｓ)＝-１０．０、ガラス転移温度＝−５７℃））７重量部を添加した後、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、１３０℃で１０分乾燥することにより、厚み３０μｍのフマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体を用いたフィルムを得た。得られたフィルムの物性を表１に合わせて示す。

得られたフィルムは、全光線透過率９２％、ヘーズ０．６％、屈折率１．４８３であった。三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４８０４、ｎｙ＝１．４８０４、ｎｚ＝１．４８８６であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Ｒｔｈは−２４６ｎｍと負に大きく、さらに位相差の比（Ｒ４５０／Ｒ５５０）（波長依存性）は１．１０であった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は８．２ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）であった。また、得られたフィルムの最大伸度は７．１％であった。

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、また面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有するものであった。さらに、伸度に優れたものであった。

実施例３
合成例３で得られたフマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合体をシクロヘキサノンに溶解して１７重量％の樹脂溶液とし、可塑剤としてアジピン酸ポリエステル系可塑剤（ＤＩＣ社製、商品名ポリサイザー Ｗ−１０２０−ＥＬ（重量平均分子量＝１，０００、ＳＰ値(Ｆｅｄｏｒｓ)＝９．９、ガラス転移温度＝−７５℃））１０重量部を添加した後、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、１１０℃で１０分乾燥することにより、厚み３０μｍのフマル酸ジイソプロピル／４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合体を用いたフィルムを得た。得られたフィルムの物性を表１に合わせて示す。

得られたフィルムは、全光線透過率９２％、ヘーズ０．７％、屈折率１．４８４であった。三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４８０９、ｎｙ＝１．４８０９、ｎｚ＝１．４８８２であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Ｒｔｈは−２２０ｎｍと負に大きく、さらに位相差の比（Ｒ４５０／Ｒ５５０）（波長依存性）は１．０９であった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は７．３ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）であった。また、得られたフィルムの最大伸度は６．９％であった。

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、また面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有するものであった。さらに、伸度に優れたものであった。

実施例４
アクリル系可塑剤（東亞合成社製、商品名ＡＲＵＦＯＮ ＵＰ−１０２１）をポリエステル系可塑剤（ＤＩＣ社製、商品名ポリサイザー Ｗ−２３０−Ｈ（重量平均分子量＝１，０００、ＳＰ値(Ｆｅｄｏｒｓ)＝９．９、ガラス転移温度＝−８１℃））に変更した以外は実施例１と同様の方法により、厚み３０μｍのフィルムを得た。得られたフィルムの物性を表１に合わせて示す。

得られたフィルムは、全光線透過率９２％ 、ヘーズ０．６％、屈折率１．４８７であった。また、３次元屈折率測定の結果ｎｘ＝１．４８４８ 、ｎｙ＝１．４８４８、ｎｚ＝１．４９１５であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Ｒｔｈは−２０１ｎｍと負に大きく、さらに位相差の比（Ｒ４５０／Ｒ５５０）（波長依存性）は１．１１であった。また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は６．７ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）であった。また、得られたフィルムの最大伸度は６．２％であった。

これらの結果から、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きく、また面外位相差が負に大きく、薄膜においても高い面外位相差を有するものであった。さらに、伸度に優れたものであった。

比較例１
合成例４で得られたフマル酸ジイソプロピル単独重合体をテトラヒドロフランに溶解して２２重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、７０℃で１０分乾燥することにより、厚み２１μｍのフィルムを得た。得られたフィルムの物性を表１に合わせて示す。

得られたフィルムは、全光線透過率９３％、ヘーズ０．３％、屈折率１．４７０であった。三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４６８９、ｎｙ＝１．４６８９、ｎｚ＝１．４７２３であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示すものであったが、面外位相差Ｒｔｈは−７１ｎｍと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も３．４ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）と小さかった。また、得られたフィルムの最大伸度は１．２％であった。

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差が小さく、薄膜において高い面外位相差を期待できないものであり、伸度に劣るものであった。

比較例２
合成例５で得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸ビス(２−エチルヘキシル)共重合体をトルエン／メチルエチルケトン＝５０／５０混合溶剤に溶解して２０重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流延し、７０℃で１０分乾燥することにより、厚み３０μｍのフィルムを得た。得られたフィルムの物性を表１に合わせて示す。

得られたフィルムは、全光線透過率９２％、ヘーズ０．６％、屈折率１．４７２であった。三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４７１２、ｎｙ＝１．４７１２、ｎｚ＝１．４７４３であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差は−９３ｎｍと小さく、面外位相差の絶対値と膜厚の比も３．１ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）と小さかった。また、得られたフィルムの最大伸度は５．１％であった。

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差が小さく、薄膜において高い面外位相差を期待できず、伸度に劣るであった。

比較例３
合成例１で得られたフマル酸ジイソプロピル／ケイ皮酸エチル共重合体に対し、可塑剤としてアクリル系可塑剤（東亞合成社製、商品名ＡＲＵＦＯＮ ＵＰ−１０２１）を添加しないことに変更した以外は、実施例１と同様の方法により、厚み３０μｍのフマル酸ジイソプロピル／ケイ皮酸エチル共重合体を用いたフィルムを得た。得られたフィルムの物性を表１に合わせて示す。

得られたフィルムは、全光線透過率９３％、ヘーズ０．５％、屈折率１．４８７４であった。三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４８５０ 、ｎｙ＝１．４８５０、ｎｚ＝１．４９２２であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示した。また、面外位相差Ｒｔｈは−２１６ｎｍと負に大きく、また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は７．２ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）であった。また、得られたフィルムの最大伸度は２．１％であった。

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きいものであったが、伸度に劣るものであった。

比較例４
合成例４で得られたフマル酸ジイソプロピル単独重合体に対し、可塑剤としてアクリル系可塑剤（東亞合成社製、商品名ＡＲＵＦＯＮ ＵＰ−１０２１）５重量部添加したこと以外は、実施例１と同様の方法により、厚み２１μｍのフィルムを得た。得られたフィルムの物性を表１に合わせて示す。

得られたフィルムは、全光線透過率９２％、ヘーズ０．５％、屈折率１．４６８５であった。三次元屈折率は、ｎｘ＝１．４６７８、ｎｙ＝１．４６７８、ｎｚ＝１．４６９９であり、得られたフィルムはｎｘ＝ｎｙ＜ｎｚとフィルムの厚み方向の屈折率が大きい値を示すものであったが、面外位相差Ｒｔｈは−６３ｎｍと小さく、また、面外位相差の絶対値と膜厚の比は３．０ｎｍ／フィルム膜厚（μｍ）と小さかった。また、得られたフィルムの最大伸度は３．３％であった。

これらの結果より、得られたフィルムは負の複屈折を有し、厚み方向の屈折率が大きいものであったが、面外位相差が小さく、薄膜において高い面外位相差を期待できず、伸度に劣るものであった。

ｎｘ；フィルム面内の進相軸方向の屈折率を示す。
ｎｙ；ｎｘと直交するフィルム面内方向の屈折率を示す。
ｎｚ；フィルム面外の垂直方向の屈折率を示す。

Claims (9)

1. フマル酸エステル残基単位およびケイ皮酸エステル残基単位を含むフマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体と可塑剤とを含有する樹脂組成物であって、該可塑剤がアクリル系可塑剤および／またはポリエステル系可塑剤であり、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が５００〜５０００、ガラス転移温度が−２０℃以下であり、かつ該可塑剤のＦｅｄｏｒｓの方法で算出されるＳＰ値が８．５〜１１．５であることを特徴とする樹脂組成物。
2. フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体が、下記一般式（ａ）により示されるフマル酸エステル残基単位および下記一般式（ｂ）で示されるケイ皮酸エステル残基単位を含むことを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
   

   

   （ここで、Ｒ_１は水素、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示し、Ｒ_２は炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示す。）
   

   

   （ここで、Ｒ_３は水素、炭素数１〜１２の直鎖状アルコキシ基または分岐状アルコキシ基を示し、ｎは０〜５の整数を示す。また、Ｒ_４は炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状アルキル基、または炭素数３〜６の環状アルキル基を示す。）
3. フマル酸エステル残基単位がフマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジｔｅｒｔ−ブチル残基単位、フマル酸ジシクロヘキシル残基単位からなる群より選択されることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の樹脂組成物。
4. フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体が、フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸メチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸エチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸n−プロピル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−ケイ皮酸イソプロピル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸メチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸エチル共重合体、フマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸ｎ−プロピル共重合体およびフマル酸ジイソプロピル−４−メトキシケイ皮酸イソプロピル共重合体からなる群より選択されることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の樹脂組成物。
5. フマル酸エステル−ケイ皮酸エステル共重合体１００重量部に対して、可塑剤０．１〜４０重量部含有することを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載の樹脂組成物。
6. 請求項１〜請求項５のいずれかに記載の樹脂組成物を用いてなり、厚みが１〜２００μｍであることを特徴とする光学補償フィルム。
7. フィルム面内の進相軸方向の屈折率をｎｘ、それと直交するフィルム面内方向の屈折率をｎｙ、フィルムの厚み方向の屈折率をｎｚとした場合のそれぞれの関係がｎｘ≦ｎｙ＜ｎｚの関係にあり、波長４５０ｎｍで測定した位相差と波長５５０ｎｍで測定した位相差の比（Ｒ４５０／Ｒ５５０）が１．２以下であることを特徴とする請求項６に記載の光学補償フィルム。
8. 下記式（１）により示されるフィルム面外位相差（Ｒｔｈ）が−３０〜−２０００ｎｍであり、フィルムの厚みをｄ（μｍ）とするとき、Ｒｔｈ／ｄの絶対値が５．５（ｎｍ）／ｄ（μｍ）以上であることを特徴とする請求項６または請求項７に記載の光学補償フィルム。
   Ｒｔｈ ＝ 〔（ｎｘ ＋ ｎｙ）／２ − ｎｚ〕 × ｄ （１）
9. フィルムの最大伸度が６％以上であることを特徴とする請求項６〜請求項８のいずれかに記載の光学補償フィルム。

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