WO2016060115A1 - 樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルム - Google Patents

樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルム Download PDF

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acid
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伊藤正泰
北川貴裕
小峯拓也
陶山薫
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東ソー株式会社
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Definitions

  • the present invention relates to a resin composition and an optical compensation film using the same, and more particularly to a resin composition and an optical compensation film for a liquid crystal display excellent in retardation characteristics and wavelength dispersion characteristics.
  • Liquid crystal displays are widely used as the most important display devices in the multimedia society, including mobile phones, computer monitors, notebook computers, and televisions. Many optical films are used in liquid crystal displays to improve display characteristics. In particular, the optical compensation film plays a major role in improving contrast and compensating for color tone when viewed from the front or obliquely.
  • Liquid crystal displays include vertical alignment type (VA-LCD), in-plane alignment type liquid crystal (IPS-LCD), super twisted nematic type liquid crystal (STN-LCD), reflection type liquid crystal display, transflective type liquid crystal display, etc. There are many methods, and an optical compensation film suitable for the display is required.
  • stretched films such as cellulose resin, polycarbonate, and cyclic polyolefin are used.
  • a film made of a cellulose-based resin such as a triacetyl cellulose film is widely used because of its good adhesiveness with a polyvinyl alcohol as a polarizer.
  • optical compensation films made of cellulose resin have several problems.
  • a cellulose resin film is processed into an optical compensation film having a retardation value suitable for various displays by adjusting the stretching conditions, and is obtained by uniaxial or biaxial stretching of a cellulose resin film.
  • nx is the refractive index in the fast axis direction (the direction with the smallest refractive index) in the film surface
  • ny is the refractive index in the slow axis direction (the direction in which the refractive index is the largest) in the film surface
  • nz is the film surface.
  • the refractive index outside (thickness direction) is shown.
  • a cellulose resin film is generally manufactured by a solvent casting method, but a cellulose resin film formed by a casting method has an out-of-plane retardation (Rth) of about 40 nm in the film thickness direction.
  • the IPS mode liquid crystal display has a problem that color shift occurs.
  • the out-of-plane phase difference (Rth) is a phase difference value represented by the following equation.
  • Rth [(nx + ny) / 2 ⁇ nz] ⁇ d (Where nx is the refractive index in the fast axis direction in the film plane, ny is the refractive index in the slow axis direction in the film plane, nz is the refractive index outside the film plane, and d is the film thickness). ) Moreover, the retardation film which consists of a fumarate-type resin is proposed (for example, refer patent document 4).
  • the three-dimensional refractive index of the stretched film made of a fumarate ester resin is nz> ny> nx, and in order to obtain an optical compensation film exhibiting the above three-dimensional refractive index, it is laminated with another optical compensation film or the like. Etc. are necessary.
  • Patent Documents 5 to 7 have excellent performance as an optical compensation film, a thicker film thickness than that of the present invention is required for the purpose of achieving the desired Re.
  • a retardation film is also used as a reflection type liquid crystal display device, a touch panel, or an organic EL antireflection layer.
  • a retardation film (hereinafter referred to as a retardation film having a higher retardation in a longer wavelength region).
  • Patent Document 5 to Patent Document 7 do not have any description about being used as a reverse wavelength dispersion film.
  • the phase difference is preferably about 1/4 of the measurement wavelength ⁇ , and the ratio of the retardation at 450 nm to the retardation at 550 nm Re (450) / Re (550) is preferably close to 0.81. And when the thickness reduction of a display apparatus is considered, it is calculated
  • Various retardation films have been developed for the required characteristics as described above.
  • a retardation film having reverse wavelength dispersion obtained by blending a polymer having positive intrinsic birefringence and a polymer having negative intrinsic birefringence is disclosed.
  • a norbornene-based polymer as a polymer having positive intrinsic birefringence, a copolymer of styrene and maleic anhydride as a polymer having negative intrinsic birefringence, and these polymers are blended.
  • a retardation plate using the composition does not satisfy the relationship between Re and Nz, which is desirable as retardation characteristics of the retardation film.
  • Japanese Patent No. 2818983 Japanese Patent Laid-Open No. 5-297223 Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-323120 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2008-64817 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-28741 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-125609 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2014-125610 Japanese Unexamined Patent Publication No. 2001-337222
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a resin composition suitable for an optical compensation film and an optical compensation film excellent in retardation and wavelength dispersion characteristics using the resin composition. is there.
  • a resin composition comprising 30 to 99% by weight of a cellulose resin represented by the following general formula (1) as a resin component and 1 to 70% by weight of a cinnamic acid ester copolymer .
  • R 1 , R 2 and R 3 each independently represent hydrogen or a substituent having 1 to 12 carbon atoms.
  • R 4 and R 5 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • the cinnamic acid ester copolymer is a fumaric acid monoester residue unit represented by the following general formula (3): 5 to 50 mol%, a fumaric acid diester residue unit represented by the following general formula (4): 0 to
  • R 6 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • R 7 and R 8 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • R 4 and R 5 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • the cinnamic acid ester copolymer is a fumaric acid monoester residue unit represented by the following general formula (3): 10 to 50 mol%, a fumaric acid diester residue unit represented by the following general formula (4): 0 to
  • R 6 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • R 7 and R 8 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • the cinnamic acid ester copolymer is a monomethyl fumarate residue unit, a monoethyl fumarate residue unit, a monoisopropyl fumarate residue unit, a mono-n-propyl fumarate residue unit, or a mono-n fumarate residue.
  • the cinnamate ester copolymer is a fumaric acid diester residue unit of 5 to 85 mol% represented by the following general formula (4), an acrylate residue unit represented by the following general formula (5), the following general formula Selected from the group consisting of a methacrylic acid ester residue unit represented by the following general formula (7) and a methacrylic acid amide residue unit represented by the following general formula (8):
  • R 7 and R 8 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • R 9 , R 10 , R 11 and R 12 each independently represents an alkyl group, alkylene group or ether group having 1 to 12 carbon atoms.
  • R 4 and R 5 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • the cinnamate copolymer is 5 to 65 mol% of a fumaric acid diester residue unit represented by the following general formula (4), an acrylate residue unit represented by the following general formula (5), Selected from the group consisting of a methacrylic acid ester residue unit represented by the following general formula (7) and a methacrylic acid amide residue unit represented by the following general formula (8):
  • R 7 and R 8 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • R 9 , R 10 , R 11 and R 12 each independently represents an alkyl group, alkylene group or ether group having 1 to 12 carbon atoms.
  • R 4 and R 5 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • the cinnamate ester copolymer is 20 mol% or more of a fumaric acid diester residue unit represented by the following general formula (4) and 5 mol of a substituted cinnamate ester unit represented by the following general formula (9) % Or more, The resin composition as described in [1] above.
  • R 7 and R 8 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • R 13 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • X represents a nitro group, a bromo group, an iodo group, a cyano group, a chloro group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a fluoro group, or a phenyl group.
  • [9] A p-substituted cinnamate residue unit in which the cinnamate copolymer is 20 mol% or more of a fumaric acid diester residue unit represented by the following general formula (4) and the following general formula (10): The resin composition as described in [1] above, which contains 5 mol% or more.
  • R 7 and R 8 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • the cinnamate copolymer is a 20-90 mol% fumaric acid diester residue unit represented by the following general formula (4), and a p-position substituted cinnamic acid ester residue represented by the following general formula (10)
  • R 7 and R 8 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • R 14 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • X represents a nitro group, bromo group, iodo group, cyano group, chloro group, sulfonic acid group, carboxylic acid group, fluoro group or phenyl group. .
  • R 6 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • the cinnamate ester copolymer contains 20 to 95 mol% of diethyl fumarate residue units, 5 to 75 mol% of p-substituted cinnamate ester units represented by the following general formula (10), and A fumarate ester copolymer containing 0 to 30 mol% of a fumaric acid monoester residue unit represented by the following general formula (3), 20 to 90 mol% of a diisopropyl fumarate residue unit, represented by the following general formula (10) A fumaric acid ester copolymer comprising 5 to 75 mol% of p-substituted cinnamate residue units and 5 to 30 mol% of a fumaric acid monoester residue unit represented by the following general formula (3): 20-90 mol% of di-t-butyl residue units, 5-75 mol% of p-substituted cinnamate residue
  • R 14 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • X represents a nitro group, bromo group, iodo group, cyano group, chloro group, sulfonic acid group, carboxylic acid group, fluoro group or phenyl group. .
  • R 6 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • the fumaric acid monoester residue unit described in [10] or [11] above is a monomethyl fumarate residue unit, a monoethyl fumarate residue unit, a monoisopropyl fumarate residue unit, or a fumarate mono- n-propyl residue unit, mono-n-butyl fumarate residue unit, mono-s-butyl fumarate residue unit, mono-t-butyl fumarate residue unit, mono-2-ethylhexyl fumarate residue unit
  • the cinnamate copolymer is 20 to 94.5 mol% of a fumaric acid diester residue unit represented by the following general formula (4), and p-substituted cinnamate represented by the following general formula (10)
  • R 7 and R 8 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • R 14 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • X represents a nitro group, bromo group, iodo group, cyano group, chloro group, sulfonic acid group, carboxylic acid group, fluoro group or phenyl group. .
  • p-substituted cinnamic acid ester residue unit is 4-nitrocinnamic acid methyl residue unit, 4-nitrocinnamic acid ethyl residue unit, 4-nitrocinnamic acid isopropyl residue unit, 4-nitrocinnamic acid n-propyl residue unit, 4-nitrocinnamic acid n-butyl residue unit, 4-nitrocinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-nitrocinnamic acid tert-butyl residue unit, 4-nitrocinnamic acid 2- Ethylhexyl residue unit, 4-fluorocinnamic acid methyl residue unit, 4-fluorocinnamic acid ethyl residue unit, 4-fluorocinnamic acid isopropyl residue unit, 4-fluorocinnamic acid
  • An optical compensation film comprising the resin composition according to any one of [1] to [16], and having a thickness of 5 to 200 ⁇ m.
  • An optical compensation film comprising the resin composition according to any one of [1] to [16] and having a thickness of 20 to 60 ⁇ m.
  • the in-plane retardation (Re) represented by the following formula (1) is 80 to 300 nm, and the Nz coefficient represented by the following formula (2) is 0.35 to 0.65, [17] The optical compensation film according to [18].
  • the in-plane retardation (Re) represented by the formula (1) is 0 to 20 nm
  • the out-of-plane retardation (Rth) represented by the following formula (3) is ⁇ 150 to 20 nm.
  • Rth [(nx + ny) / 2 ⁇ nz] ⁇ d (3) (Where nx represents the refractive index in the fast axis direction in the film plane, ny represents the refractive index in the slow axis direction in the film plane, nz represents the refractive index outside the film plane, and d represents the film. Indicates thickness.) [22] The optical compensation film as described in any one of [17] to [21] above, wherein the light transmittance is 85% or more. [23] The optical compensation film as described in any one of [17] to [22] above, wherein the haze is 1% or less.
  • the ratio Re (450) / Re (550) between the retardation at 450 nm and the retardation at 550 nm is 0.60 ⁇ Re (450) / Re (550) ⁇ 1.05
  • a resin composition containing, as a resin component, 30 to 99% by weight of a cellulose resin represented by the following general formula (1) and 1 to 70% by weight of a cinnamate copolymer is dissolved in a solvent, The method for producing an optical compensation film according to any one of [17] to [25] above, wherein the obtained resin solution is cast on a substrate, dried and then peeled off from the substrate.
  • R 1 , R 2 and R 3 each independently represent hydrogen or a substituent having 1 to 12 carbon atoms.
  • the degree of etherification (degree of substitution) when the cellulose resin represented by the general formula (1) is a cellulose ether is 1.5 to 3.0.
  • [28] The method for producing an optical compensation film as described in [19] or [20] above, wherein a film having a thickness of 10 to 200 ⁇ m obtained by casting is uniaxially stretched or unbalanced biaxially stretched.
  • the resin composition of the present invention contains 30 to 99% by weight of a cellulose resin represented by the following general formula (1) as a resin component and 1 to 70% by weight of a cinnamic acid ester copolymer.
  • R 1 , R 2 and R 3 each independently represent hydrogen or a substituent having 1 to 12 carbon atoms.
  • the cellulose resin of the present invention include cellulose ether, cellulose ester, cellulose ether ester, cellulose acylate and the like.
  • the resin composition of the present invention may contain one or more of these cellulose resins.
  • the cellulose resin of the present invention has excellent mechanical properties and excellent moldability during film formation, it can be obtained from an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC).
  • the number average molecular weight (Mn) in terms of standard polystyrene is preferably 1 ⁇ 10 3 to 1 ⁇ 10 6 , more preferably 5 ⁇ 10 3 to 2 ⁇ 10 5 .
  • the cellulose-based resin of the present invention is preferably a cellulose ether because it is excellent in compatibility with the cinnamate ester copolymer, has a large in-plane retardation Re, and is excellent in stretch processability.
  • Cellulose ether which is a cellulose resin of the present invention, is a polymer in which ⁇ -glucose units are linearly polymerized, and one of the hydroxyl groups at the 2nd, 3rd and 6th positions of the glucose unit. It is a polymer that is etherified in part or in whole.
  • Examples of the cellulose ether of the present invention include alkyl celluloses such as methyl cellulose, ethyl cellulose and propyl cellulose; and hydroxyalkyl celluloses such as hydroxyethyl cellulose and hydroxypropyl cellulose.
  • Aralkyl cellulose such as benzyl cellulose and trityl cellulose; Cyanoalkyl cellulose such as cyanethyl cellulose; Carboxyalkyl cellulose such as carboxymethyl cellulose and carboxyethyl cellulose; Carboxymethyl Examples thereof include carboxyalkyl alkyl celluloses such as methyl cellulose and carboxymethyl ethyl cellulose; aminoalkyl celluloses such as aminoethyl cellulose and the like.
  • the degree of substitution (the degree of etherification) in the cellulose ether via the oxygen atom of the cellulose hydroxyl group is the cellulose hydroxyl group for each of the 2-position, 3-position and 6-position.
  • the total degree of substitution DS of ether groups is preferably Is 1.5 to 3.0 (1.5 ⁇ DS ⁇ 3.0), more preferably 1.8 to 2.8.
  • the cellulose ether preferably has a substituent having 1 to 12 carbon atoms from the viewpoint of solubility and compatibility.
  • Examples of the substituent having 1 to 12 carbon atoms include methyl, ethyl, propyl, butyl, pentyl, hexyl, heptyl, octyl, decanyl, dodecanyl, isobutyl, and t-butyl groups. Cyclohexyl group, phenonyl group, benzyl group, naphthyl group and the like. Among these, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and a pentyl group, which are alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms, are preferable from the viewpoint of solubility and compatibility.
  • the cellulose group used in the present invention may have only one type of ether group or may have two or more types of ether groups. In addition to the ether group, it may have an ester group.
  • Cellulose ether is generally synthesized by alkali-decomposing cellulose pulp obtained from wood or cotton and etherifying the alkali-decomposed cellulose pulp.
  • alkali hydroxides of alkali metals such as lithium, potassium and sodium, ammonia and the like can be used.
  • the alkalis are generally used as an aqueous solution.
  • the cellulose pulp made alkaline is etherified by contacting with an etherifying agent used according to the type of cellulose ether.
  • etherifying agents include alkyl halides such as methyl chloride and ethyl chloride; aralkyl halides such as benzyl chloride and trityl chloride; halocarboxylic acids such as monochloroacetic acid and monochloropropionic acid; ethylene oxide, propylene oxide, butylene Examples thereof include alkylene oxides such as oxides, and these etherifying agents can be used alone or in combination of two or more.
  • depolymerization treatment with hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrochloric acid, sulfuric acid or the like may be performed for viscosity adjustment.
  • the cinnamate ester copolymer (hereinafter referred to as cinnamate ester copolymer) contained in the resin composition of the present invention contains a cinnamate ester residue unit.
  • Cinnamate residue units in which the benzene ring in the cinnamate residue units such as methyl cinnamate residue units, ethyl cinnamate residue units, and isopropyl cinnamate residue units does not have a substituent
  • R 13 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • X represents a nitro group, a bromo group, an iodo group, a cyano group, a chloro group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a fluoro group, or a phenyl group. Show.
  • the cinnamate ester copolymer when used as a retardation film, a higher-performance retardation film can be obtained, so that the cinnamate ester residue in which the benzene ring has an electron-donating substituent.
  • a cinnamate ester copolymer containing at least 5 mol% of a cinnamate residue unit in which the unit or benzene ring has an electron-withdrawing substituent is preferable.
  • the cinnamate copolymer further preferably contains 10 to 90 mol% of alkoxycinnamate residue units represented by the following general formula (2).
  • R 4 and R 5 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • the alkoxycinnamate residue unit is 10 mol% or more, the retardation development property is further improved, and when it is 90 mol% or less, the compatibility is further improved. That is, according to the present invention, since the cinnamate ester copolymer is a cinnamate ester copolymer containing 10 to 90 mol% of alkoxycinnamate ester residue units, the compatibility of the copolymer is improved. Re is higher when the resin composition according to the present invention is used as an optical compensation film.
  • R 4 which is an ester substituent of the alkoxycinnamic acid ester residue unit represented by the general formula (2) in the cinnamic acid ester copolymer is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, for example, methyl group, ethyl Group, propyl group, isopropyl group, s-butyl group, t-butyl group, s-pentyl group, t-pentyl group, s-hexyl group, t-hexyl group, 2-ethylhexyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, A cyclohexyl group etc. are mentioned.
  • R 5 which is an ester substituent is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, s-butyl group, t-butyl group, s-pentyl group, t -Pentyl group, s-hexyl group, t-hexyl group, 2-ethylhexyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like.
  • a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, which are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, are preferable from the viewpoint of solubility and compatibility.
  • the alkoxycinnamate residue unit represented by the general formula (2) from the viewpoint of solubility and compatibility, 4-methoxycinnamate methyl residue, 4-methoxycinnamate ethyl residue, 4-methoxycinnamate residue, 4- Isopropyl methoxycinnamate, n-propyl 4-methoxycinnamate, n-butyl 4-methoxycinnamate, sec-butyl 4-methoxycinnamate, 4-methoxycinnamate tert-butyl residue, 4-methoxycinnamic acid 2-ethylhexyl residue, 4-ethoxycinnamic acid methyl residue, 4-ethoxycinnamic acid ethyl residue
  • the cinnamic acid ester copolymer when the cinnamic acid ester copolymer includes an alkoxycinnamic acid residue unit and a fumaric acid monoester residue unit, the cinnamic acid ester copolymer is represented by the following general formula (3).
  • R 6 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • R 7 and R 8 each independently represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • the cinnamic acid ester copolymer includes an alkoxycinnamic acid residue unit
  • the fumaric acid monoester residue unit is larger than 5 mol%
  • the resin is more excellent in compatibility.
  • the residue unit is 5 to 50 mol%
  • the resin exhibits high retardation characteristics and is more compatible.
  • R 6 which is an ester substituent of the residue unit has 1 to 12 carbon atoms.
  • Alkyl groups such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, s-butyl, t-butyl, s-pentyl, t-pentyl, s-hexyl, t-hexyl, 2 -Ethylhexyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like.
  • the fumarate monoester residue unit represented by the general formula (3) includes, for example, monomethyl fumarate residue, monoethyl fumarate residue, mono-n-propyl fumarate residue, monoisopropyl fumarate residue, fumarate Acid mono-n-butyl residue, mono-s-butyl fumarate residue, mono-t-butyl fumarate residue, mono-n-pentyl fumarate residue, mono-s-pentyl fumarate residue, fumarate Acid mono-t-pentyl residue, mono-n-hexyl fumarate residue, mono-s-hexyl fumarate residue, mono-t-hexyl fumarate residue, mono-2-ethylhexyl fumarate, mono
  • a fumarate monoester residue unit selected from a mono-n-butyl fumarate residue unit, a mono-s-butyl fumarate residue unit, and a mono-t-butyl fumarate residue unit is preferred.
  • R 7 and R 8 which are ester substituents of the residue unit have 1 to 12 alkyl groups, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, s-butyl group, t-butyl group, s-pentyl group, t-pentyl group, s-hexyl group, t-hexyl group 2-ethylhexyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like.
  • a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, which are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms, are preferable from the viewpoint of compatibility with the cellulose resin.
  • the fumaric acid diester residue unit represented by the general formula (4) include dimethyl fumarate residue, diethyl fumarate residue, di-n-propyl fumarate residue, diisopropyl fumarate residue, dimer fumarate -N-butyl residue, di-s-butyl fumarate residue, di-t-butyl fumarate residue, di-n-pentyl fumarate residue, di-s-pentyl fumarate residue, di-fumarate -T-pentyl residue, di-n-hexyl fumarate residue, di-s-hexyl fumarate residue, di-t-hexyl fumarate residue, di-2-ethylhexyl fumarate residue
  • dimethyl fumarate residue unit, diethyl fumarate residue unit, diisopropyl fumarate residue unit, fumarate diacid unit Fumaric acid diester residue units selected from -t-butyl residue units are preferred.
  • the cinnamic acid ester copolymer has a fumaric acid monoester residue unit of 5 to 50 mol%, a fumaric acid diester residue unit of 0 to 80 mol%, and an alkoxycinnamate ester unit of 10 to 90. It may contain 0 to 20 mol% of residue units of monomers copolymerizable with cinnamic acid esters, with the total monomer containing at mol% being 100 mol%.
  • the cinnamic acid ester copolymer contains an alkoxycinnamic acid residue unit and is represented by the following general formula (6): an acrylic acid ester residue unit represented by the following general formula (5): A residue unit selected from the group consisting of a methacrylic acid ester residue unit represented by the following general formula (7) and a methacrylic acid amide residue unit represented by the following general formula (8).
  • the fumaric acid diester residue unit represented by the general formula (4) 5 to 85 mol%
  • Residue unit 5 selected from the group consisting of an ester residue unit, an acrylic acid amide residue unit represented by the following general formula (7), and a methacrylic acid amide residue unit represented by the following general formula (8) It is particularly preferred that it contains 40 mol% and 10 to 90 mol% of alkoxycinnamic acid ester residue units represented by the general formula (2), and 5 to 5 fumaric acid diester residue units represented by the general formula (4).
  • acrylic acid ester residue unit represented by the following general formula (5) methacrylic acid ester residue unit represented by the following general formula (6)
  • acrylic acid amide residue represented by the following general formula (7) A unit of 5 to 40 mol% of a residue unit selected from the group consisting of a methacrylic acid amide residue unit represented by the following general formula (8), and an alkoxycinnamate residue unit 30 represented by the general formula (2) Most preferably, it contains ⁇ 90 mol%.
  • R 9 , R 10 , R 11 and R 12 each independently represents an alkyl group, alkylene group or ether group having 1 to 12 carbon atoms.
  • the cinnamic acid ester copolymer includes an alkoxycinnamic acid residue unit, an acrylic acid ester residue unit represented by the general formula (5), a methacrylic acid ester represented by the general formula (6)
  • a residue unit selected from the group consisting of a residue unit, an acrylamide residue unit represented by the general formula (7), and a methacrylamide residue unit represented by the general formula (8) is greater than 5 mol%, The resin is more excellent in compatibility.
  • the resin When the residue unit selected from these groups is from 5 to 40 mol%, the resin exhibits higher retardation characteristics and more excellent compatibility.
  • the cinnamic acid ester copolymer when the cinnamic acid ester copolymer includes a residue unit selected from these groups, when the fumaric acid diester residue unit represented by the general formula (4) is greater than 5%, It becomes a resin excellent in polymerizability.
  • the cinnamate ester copolymer is represented by the acrylate residue unit represented by the general formula (5), the methacrylic ester residue unit represented by the general formula (6), and the general formula (7).
  • a residual unit selected from the group consisting of the methacrylic acid amide residue unit represented by the general formula (8), an acrylic acid ester residue unit, a methacrylic acid ester residue unit, acrylic acid R 9, R 10, R 11 and R 12 which are part of the ester substituent of the amide residue unit or the methacrylic acid amide residue unit are an alkyl group, alkylene group or ether group having 1 to 12 carbon atoms, for example Methyl (methylene) group, ethyl (ethylene) group, propyl (propylene) group, isopropyl (isopropylene) group, s-butyl (s-butylene) group, t -Butyl (t-butyl (t-butyl (t-butyl (t-
  • the cinnamic acid ester copolymer comprises 5 to 85 mol% of a fumaric acid diester residue unit, an acrylic acid ester residue unit represented by the general formula (5), and a methacrylic acid ester residue unit represented by the general formula (6).
  • the fumaric acid diester residue represented by the general formula (4) 20 mol% or more of the unit and 5 mol% or more of the substituted cinnamate residue unit represented by the general formula (9) such as the p-position substituted cinnamate residue unit represented by the following general formula (10) More preferably.
  • R 14 represents an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms.
  • X represents a nitro group, bromo group, iodo group, cyano group, chloro group, sulfonic acid group, carboxylic acid group, fluoro group or phenyl group. .
  • the cinnamate copolymer includes a p-position cinnamate residue unit represented by the general formula (10), when the fumaric acid diester residue unit is 20 mol% or more, more When the polymerizability is improved and the p-substituted cinnamate residue unit is 5 mol% or more, the retardation development property is further improved.
  • the present invention provides a fumaric acid ester in which the fumaric acid ester copolymer contains 20 mol% or more of a fumaric acid diester residue unit and 5 mol% or more of the p-substituted cinnamate ester residue unit.
  • the polymer has high polymerizability, and when the resin composition according to the present invention is used as an optical compensation film, Re is further improved.
  • R 14 which is an ester substituent of the p-substituted cinnamate residue unit represented by the general formula (10) is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl Group, s-butyl group, t-butyl group, s-pentyl group, t-pentyl group, s-hexyl group, t-hexyl group, 2-ethylhexyl group, cyclopropyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group and the like. .
  • the substituent X is a substituent that contributes to an improvement in negative retardation, and is a nitro group, a bromo group, an iodo group, a cyano group, a chloro group, a sulfonic acid group, a carboxylic acid group, a fluoro group, or a phenyl group.
  • Examples of the p-substituted cinnamate residue unit represented by the general formula (10) include, for example, a 4-nitrocinnamate methyl residue unit, a 4-nitrocinnamate ethyl residue unit, and a 4-nitrocinnamate isopropyl residue.
  • Base unit 4-nitrocinnamic acid n-propyl residue unit, 4-nitrocinnamic acid n-butyl residue unit, 4-nitrocinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-nitrocinnamic acid tert-butyl residue unit 4-Nitrocinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 4-fluorocinnamic acid methyl residue unit, 4-fluorocinnamic acid ethyl residue unit, 4-fluorocinnamic acid isopropyl residue unit, 4-fluorosilicic acid unit N-propyl cinnamate residue unit, 4-fluorocinnamic acid n-butyl residue unit, 4-fluorocinnamic acid sec-butyl residue unit, 4-fluorocinnamic acid tert-butyl residue unit, 4- Fluo Locinnamic acid 2-ethylhexyl residue unit, 4-chlorocinnamic acid methyl residue unit, 4-chloro
  • the cinnamate ester copolymer when the cinnamate ester copolymer includes a p-position cinnamate ester residue unit represented by the general formula (10), the cinnamate ester copolymer has a high polymerizability and compatibility. Since it is excellent, the fumaric acid diester residue unit is 20 to 90 mol%, the p-substituted cinnamate residue unit represented by the general formula (10) is 5 to 75 mol%, and the general formula (3) A cinnamic acid ester copolymer containing 5 to 30 mol% of a fumaric acid monoester residue unit represented by the formula (1) is particularly preferred.
  • the cinnamate ester copolymer includes a p-position cinnamate residue unit represented by the general formula (10), and the fumarate diester residue unit is diethyl fumarate.
  • a cinnamate ester copolymer having excellent compatibility is obtained, so that a diethyl fumarate residue unit of 20 to 90 mol%, p-substituted cinnamate represented by the general formula (10) is used.
  • Most preferred is a cinnamic acid ester copolymer containing 5 to 75 mol% of ester residue units and 5 to 30 mol% of a fumaric acid monoester residue unit represented by the general formula (3).
  • the cinnamic acid ester copolymer includes a p-position-substituted cinnamic acid ester residue unit represented by the general formula (10), and the acrylic acid represented by the general formula (5) From an ester residue unit, a methacrylic acid ester residue unit represented by the general formula (6), an acrylic amide residue unit represented by the general formula (7), and a methacrylamide residue unit represented by the general formula (8)
  • the fumaric acid diester residue unit represented by the general formula (4) is 20 to 94.5 mol%
  • a cinnamic acid ester co-polymer comprising a residue unit selected
  • the cinnamate ester copolymer comprises 100 mol% of the total monomers including the fumaric acid diester residue unit and the p-substituted cinnamate residue unit represented by the general formula (10), It may contain 0 to 20 mol% of a residue unit of a monomer copolymerizable with cinnamic acid esters.
  • Residue units of monomers copolymerizable with cinnamic acid esters include, for example, styrene residues such as styrene residues and ⁇ -methylstyrene residues; acrylic acid residues; methyl acrylate residues, Acrylic acid ester residues such as ethyl acrylate residues and butyl acrylate residues; methacrylic acid residues; methacrylic acid ester residues such as methyl methacrylate residues, ethyl methacrylate residues and butyl methacrylate residues Vinyl ester residues such as vinyl acetate residues and vinyl propionate residues; vinyl ether residues such as methyl vinyl ether residues, ethyl vinyl ether residues and butyl vinyl ether residues; N-methylmaleimide residues; N-substituted maleimide residues such as N-cyclohexylmaleimide residues and N-phenylmaleimide residues;
  • the cinnamate ester copolymer has particularly excellent mechanical properties and excellent moldability during film formation, it can be obtained from an elution curve measured by gel permeation chromatography (GPC).
  • the number average molecular weight (Mn) in terms of standard polystyrene is preferably 1 ⁇ 10 3 to 5 ⁇ 10 6 , and more preferably 5 ⁇ 10 3 to 2 ⁇ 10 5 .
  • the composition ratio of the cellulose resin and the cinnamate copolymer is 30 to 99% by weight of the cellulose resin and 1 to 70% by weight of the cinnamate copolymer. is there.
  • the cellulose resin is less than 30% by weight (when the cinnamate copolymer exceeds 70% by weight), or when the cellulose resin exceeds 99% by weight (the cinnamate ester copolymer) Is less than 1% by weight), it is difficult to control the phase difference.
  • the cellulose-based resin is 30 to 90% by weight and the cinnamate ester copolymer is 10 to 70% by weight, and more preferably, the cellulose-based resin is 40 to 80% by weight and the cinnamate ester copolymer. 20 to 60% by weight.
  • the cinnamate ester copolymer may be produced by any method as long as the cinnamate ester copolymer is obtained.
  • the cinnamic acid ester copolymer includes a fumaric acid diester residue unit, a fumaric acid monoester residue unit, and an alkoxycinnamic acid ester residue unit
  • a method for producing a cinnamic acid ester copolymer As, for example, fumaric acid monoesters, fumaric acid diesters and alkoxycinnamic acid esters, and in some cases, fumaric acid monoesters, fumaric acid diesters and alkoxycinnamic acid esters that are copolymerizable It can manufacture by using a body together and performing radical polymerization.
  • fumaric acid monoesters used here include monomethyl fumarate, monoethyl fumarate, mono-n-propyl fumarate, monoisopropyl fumarate, mono-n-butyl fumarate, and mono-s-butyl fumarate.
  • Examples of the diesters of fumaric acid include dimethyl fumarate, diethyl fumarate, di-n-propyl fumarate, diisopropyl fumarate, and fumarate.
  • alkoxycinnamate esters include methyl 4-methoxycinnamate, ethyl 4-methoxycinnamate, isopropyl 4-methoxycinnamate, and 4-methoxycinnamic acid.
  • Monomers copolymerizable with fumaric acid monoesters, fumaric acid diesters and alkoxycinnamic acid esters include, for example, styrenes such as styrene and ⁇ -methylstyrene; acrylic acid; methyl acrylate, acrylic acid Acrylic esters such as ethyl and butyl acrylate; methacrylic acid; methacrylic esters such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate and butyl methacrylate; vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; methyl vinyl ether and ethyl vinyl ester Vinyl ethers such as ter, butyl vinyl ether; N-substituted maleimides such as N-methylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-phenylmaleimide; acrylonitrile; methacrylonitrile; methyl cinnamate, ethyl cinnamate, Cinna
  • a cinnamate ester copolymer when the cinnamate ester copolymer includes a fumarate diester residue unit and a p-substituted cinnamate residue unit represented by the general formula (10), a cinnamate ester copolymer is produced.
  • the method include copolymerization with fumaric acid diesters and p-substituted cinnamates represented by the general formula (10), and in some cases fumaric acid diesters and p-substituted cinnamates. It can be produced by using a monomer together and performing radical polymerization.
  • Examples of the p-substituted cinnamates include methyl 4-nitrocinnamate, ethyl 4-nitrocinnamate, isopropyl 4-nitrocinnamate, 4-nitronitrocinnamate, 4-nitrocinnamate n -Butyl, 4-nitrocinnamic acid sec-butyl, 4-nitrocinnamic acid tert-butyl, 4-nitrocinnamic acid 2-ethylhexyl, 4-fluorocinnamic acid methyl, 4-fluorocinnamic acid ethyl, 4-fluorosilicic acid Isopropyl cinnamate, 4-fluorocinnamic acid n-propyl, 4-fluorocinnamic acid n-butyl, 4-fluorocinnamic acid sec-butyl, 4-fluorocinnamic acid tert-butyl, 4-fluorocinnamic acid 2-ethylhexyl, 4-chloro
  • fumaric acid monoesters are used as the copolymerizable monomer
  • examples of the fumaric acid monoesters include monomethyl fumarate, monoethyl fumarate, mono-n-propyl fumarate, and monofumarate.
  • other copolymerizable monomers used in radical polymerization include, for example, styrenes such as styrene and ⁇ -methylstyrene; acrylic acid; methyl acrylate, ethyl acrylate, butyl acrylate.
  • Acrylic acid esters such as methacrylic acid; methacrylic acid esters such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate and butyl methacrylate; vinyl esters such as vinyl acetate and vinyl propionate; acrylonitrile; methacrylonitrile; methyl cinnamate Cinnamic acid esters such as ethyl cinnamate and propyl cinnamate; cinnamic acid; olefins such as ethylene and propylene; vinyl pyrrolidone; and one or more of vinyl pyridine.
  • radical polymerization method for example, any of bulk polymerization method, solution polymerization method, suspension polymerization method, precipitation polymerization method, emulsion polymerization method and the like can be adopted.
  • polymerization initiator used for radical polymerization examples include benzoyl peroxide, lauryl peroxide, octanoyl peroxide, acetyl peroxide, di-t-butyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2, Organic peroxides such as 5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane; 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobis ( 2-butyronitrile), 2,2′-azobisisobutyronitrile, dimethyl-2,2′-azobisisobutyrate, 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile), etc. An initiator etc. are mentioned.
  • the solvent that can be used in the solution polymerization method or the precipitation polymerization method is not particularly limited.
  • aromatic solvents such as benzene, toluene, xylene; methanol, ethanol, propyl alcohol, butyl alcohol, etc.
  • alcohol solvents include cyclohexane, dioxane, tetrahydrofuran, acetone, methyl ethyl ketone, dimethylformamide, isopropyl acetate and the like, and mixed solvents thereof.
  • the polymerization temperature at the time of performing radical polymerization can be appropriately set according to the decomposition temperature of the polymerization initiator, and it is generally preferable to carry out in the range of 30 to 150 ° C.
  • the resin composition of the present invention may contain an antioxidant in order to improve thermal stability.
  • antioxidants include hindered phenol antioxidants, phosphorus antioxidants, sulfur antioxidants, lactone antioxidants, amine antioxidants, hydroxylamine antioxidants, vitamins E type
  • the resin composition of the present invention may contain a hindered amine light stabilizer or an ultraviolet absorber in order to enhance the weather resistance.
  • a hindered amine light stabilizer or an ultraviolet absorber in order to enhance the weather resistance.
  • the ultraviolet absorber include benzotriazole, benzophenone, triazine, benzoate and the like.
  • a compound known as a so-called plasticizer is added for the purpose of improving mechanical properties, imparting flexibility, imparting water absorption resistance, reducing water vapor permeability, adjusting the retardation, and the like.
  • the plasticizer include phosphoric acid esters and carboxylic acid esters. Acrylic polymers are also used.
  • phosphate esters include triphenyl phosphate, tricresyl phosphate, phenyl diphenyl phosphate, and the like.
  • carboxylic acid esters include phthalic acid esters and citric acid esters.
  • phthalic acid esters examples include dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dicyclohexyl phthalate, dioctyl phthalate, and diethylhexyl phthalate.
  • citrate ester examples include acetyl triethyl citrate and acetyl tributyl citrate.
  • butyl oleate, methylacetyl ricinoleate, dibutyl sebacate, triacetin, trimethylolpropane tribenzoate and the like can also be mentioned.
  • Alkylphthalylalkyl glycolates are also used for this purpose.
  • the alkyl in the alkylphthalylalkyl glycolate is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms.
  • alkyl phthalyl alkyl glycolates include methyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, and octyl phthalyl.
  • the resin composition of the present invention may contain an additive having an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle for the purpose of adjusting the phase difference.
  • the birefringence ⁇ n represented by the following formula (A) of the additive used for the purpose of adjusting the phase difference is not particularly limited. However, since it is an optical compensation film having excellent optical characteristics, it is preferably 0.00. It is 05 or more, more preferably 0.05 to 0.5, particularly preferably 0.1 to 0.5.
  • the ⁇ n of the additive can be obtained by molecular orbital calculation.
  • nx represents the refractive index in the fast axis direction of the additive molecule
  • ny represents the refractive index in the slow axis direction of the additive molecule.
  • the additive having an aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle in the resin composition of the present invention Is not particularly limited as to the number of aromatic hydrocarbon rings or aromatic heterocycles in the molecule, but is preferably 1 to 12 in order to provide an optical compensation film having excellent optical properties. The number is preferably 1 to 8.
  • Examples of the aromatic hydrocarbon ring include a 5-membered ring, a 6-membered ring, a 7-membered ring, or a condensed ring composed of two or more aromatic rings.
  • Examples of the aromatic heterocycle include a furan ring. Thiophene ring, pyrrole ring, oxazole ring, thiazole ring, imidazole ring, triazole ring, pyridine ring, pyrimidine ring, pyrazine ring, 1,3,5-triazine ring, etc. .
  • the aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle may have a substituent.
  • substituents include a hydroxyl group, an ether group, a carbonyl group, an ester group, a carboxylic acid residue, an amino group, Examples include imino group, amide group, imide group, cyano group, nitro group, sulfonyl group, sulfonic acid residue, phosphonyl group, and phosphonic acid residue.
  • Examples of the additive having an aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle used in the present invention include tricresyl phosphate, trixylenyl phosphate, triphenyl phosphate, 2- Phosphate compounds such as ethylhexyl diphenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, bisphenol A bis (diphenyl phosphate); dimethyl phthalate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate -Dioctyl phthalate, 2-ethylhexyl phthalate, diisooctyl phthalate, dicapryl phthalate, dinonyl phthalate, diisononyl phthalate, didecyl phthalate, diisodecyl phthalate -Phthalate-based compounds such as tributyl; tributyl trimellitate, tri-normal Trimellitic acid ester compounds such as sill trim
  • tricresyl phosphate 2-ethylhexyl diphenyl phosphate, 2-hydroxy-4 are preferred.
  • -Methoxybenzophenone and 2,2 ', 4,4'-tetrahydroxybenzophenone are used, and these may be used alone or in combination of two or more as required. Rukoto can.
  • the aromatic carbonization in the resin composition of the present invention is preferable from the viewpoint of optical properties and mechanical properties.
  • the ratio of the additive having a hydrogen ring or aromatic heterocycle is 0.01 to 30% by weight (the above resin component: 70 to 99.99% by weight), more preferably 0.01 to 20% by weight, Particularly preferred is 0.01 to 15% by weight.
  • the resin composition of the present invention contains other polymers, surfactants, polymer electrolytes, conductive complexes, pigments, dyes, antistatic agents, antiblocking agents, lubricants, etc., as long as the gist of the invention is not exceeded. It may be.
  • the resin composition of the present invention can be obtained by blending a cellulose resin and a cinnamate copolymer.
  • the melt blending method in the case where an additive having an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle is contained in the resin composition of the present invention is a method in which a resin and an aromatic hydrocarbon ring or an aromatic heterocycle are formed by heating. In this method, the additive is melted and kneaded.
  • the solution blending method is a method in which a resin and an additive having an aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle are dissolved in a solvent and blended.
  • Solvents used for solution blending include, for example, chlorinated solvents such as methylene chloride and chloroform; aromatic solvents such as toluene and xylene; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methanol, ethanol, and propanol. Alcohol solvents; ether solvents such as dioxane and tetrahydrofuran; dimethylformamide, N-methylpyrrolidone and the like can be used. It is also possible to blend after dissolving each resin and an additive having an aromatic hydrocarbon ring or aromatic heterocycle in a solvent, and it is also possible to dissolve each resin powder, pellets, etc. in a solvent after kneading. Is possible. The obtained blended resin solution can be poured into a poor solvent to precipitate the resin composition, or it can be used in the production of an optical compensation film as it is.
  • the optical compensation film using the resin composition of the present invention preferably has a thickness of 5 to 200 ⁇ m, more preferably 10 to 100 ⁇ m, from the viewpoints of handleability of the film and suitability for thinning of the optical member. 20 to 80 ⁇ m is particularly preferable, and 20 to 60 ⁇ m is most preferable.
  • the retardation characteristics of the optical compensation film using the resin composition of the present invention vary depending on the target optical compensation film.
  • In-plane retardation (Re) represented by the following formula (1) is It is preferably 80 to 300 nm, more preferably 100 to 300 nm, particularly preferably 100 to 280 nm, and the Nz coefficient represented by the following formula (2) is preferably 0.35 to 0.65, more preferably 0.45.
  • the in-plane retardation (Re) is preferably 50 to 200 nm, more preferably 80 to 160 nm, and the Nz coefficient is preferably ⁇ 0.2 to 0.2, more preferably 3)
  • the in-plane retardation (Re) is preferably 0 to 20 nm, more preferably 0 to 5 nm
  • the out-of-plane retardation (R) represented by the following formula (3): h) is preferably -150 ⁇ 20 nm, more preferably -150 ⁇ 10 nm, particularly preferably include such things is -120 ⁇ 0 nm.
  • the phase difference characteristics at this time are measured using a fully automatic birefringence meter (manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd., trade name KOBRA-21ADH) under a measurement wavelength of 589 nm.
  • the wavelength dispersion characteristic of the optical film of the present invention is preferably 0.60 ⁇ Re (450) / Re (550) ⁇ 1.05, and more preferably 0.61 ⁇ Re (450) in order to suppress color misregistration. ) / Re (550) ⁇ 1.02, particularly preferably 0.61 ⁇ Re (450) / Re (550) ⁇ 1.00.
  • an optical film having a low wavelength dispersion can be provided by itself.
  • a resin composition obtained by blending this film with a cinnamate ester copolymer exhibiting negative birefringence in the stretching direction can generally provide an optical film exhibiting reverse wavelength dispersion. is there.
  • the optical compensation film of the present invention has a ratio Re (589) (nm) / film thickness ( ⁇ m) of 4.0 nm / ⁇ m or more at a ratio of the retardation at 589 nm to the film thickness. It is preferable that
  • the optical compensation film of the present invention preferably has a light transmittance of 85% or more, and more preferably 90% or more, for improving luminance.
  • the optical compensation film of the present invention has a haze of preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less for improving contrast.
  • the solution casting method is a method of obtaining an optical compensation film by casting a resin solution (generally referred to as a dope) on a supporting substrate and then evaporating the solvent by heating.
  • a resin solution generally referred to as a dope
  • the casting method for example, a T-die method, a doctor blade method, a bar coater method, a roll coater method, a lip coater method, etc. are used.
  • a method of continuously extruding a dope from a die onto a belt-like or drum-like support substrate is generally used.
  • the support substrate used include a glass substrate, a metal substrate such as stainless steel and ferrotype, and a plastic substrate such as polyethylene terephthalate.
  • a metal substrate having a mirror-finished surface is preferably used.
  • the viscosity of the resin solution is an extremely important factor when producing an optical compensation film with excellent thickness accuracy and surface smoothness.
  • the viscosity of the resin solution is the resin concentration, molecular weight, and type of solvent. It depends on.
  • a resin solution for producing an optical compensation film using the resin composition of the present invention is prepared by dissolving a cellulose resin and a cinnamate copolymer in a solvent.
  • the viscosity of the resin solution can be adjusted by the molecular weight of the polymer, the concentration of the polymer, and the type of solvent.
  • the viscosity of the resin solution is not particularly limited, but is preferably 100 to 10000 cps, more preferably 300 to 5000 cps, and particularly preferably 500 to 3000 cps in order to make the film coatability easier.
  • a method for producing an optical compensation film using the resin composition of the present invention for example, 30 to 99% by weight of a cellulose-based resin represented by the following general formula (1) as a resin component, and cinnamate ester copolymer Examples thereof include dissolving a resin composition containing 1 to 70% by weight of a coalescence in a solvent, casting the obtained resin solution on a base material, drying, and peeling the base material from the base material.
  • a cellulose-based resin represented by the following general formula (1) as a resin component
  • cinnamate ester copolymer examples thereof include dissolving a resin composition containing 1 to 70% by weight of a coalescence in a solvent, casting the obtained resin solution on a base material, drying, and peeling the base material from the base material.
  • the optical compensation film obtained using the resin composition of the present invention is preferably uniaxially stretched or unbalanced biaxially stretched in order to develop in-plane retardation (Re).
  • methods for stretching the optical compensation film include longitudinal uniaxial stretching by roll stretching, transverse uniaxial stretching by tenter stretching, unbalanced sequential biaxial stretching by combining these, and unbalanced simultaneous biaxial stretching. Can be used.
  • a phase difference characteristic can be expressed, without using the special extending
  • the thickness of the optical compensation film at the time of stretching is preferably from 10 to 200 ⁇ m, more preferably from 30 to 150 ⁇ m, particularly preferably from 30 to 100 ⁇ m, from the viewpoint of ease of stretching treatment and suitability for thinning optical members. .
  • the stretching temperature is not particularly limited, but is preferably 50 to 200 ° C., more preferably 100 to 180 ° C., because good retardation characteristics can be obtained.
  • the draw ratio of uniaxial stretching is not particularly limited, but is preferably 1.05 to 4.0 times, and more preferably 1.1 to 3.5 times, because good retardation characteristics can be obtained.
  • the stretching ratio of unbalanced biaxial stretching is not particularly limited, but it is preferably 1.05 to 4.0 times in the length direction because of an optical compensation film having excellent optical properties, and 1.1 to 3.5. Is more preferably 1.01 to 1.2 times in the width direction, and more preferably 1.05 to 1.1 times, since an optical compensation film having excellent optical characteristics is obtained.
  • the in-plane retardation (Re) can be controlled by the stretching temperature and the stretching ratio.
  • the optical compensation film using the resin composition of the present invention can be laminated with a film containing another resin as necessary.
  • resins include polyethersulfone, polyarylate, polyethylene terephthalate, polynaphthalene terephthalate, polycarbonate, cyclic polyolefin, maleimide resin, fluorine resin, polyimide, and the like. It is done. It is also possible to laminate a hard coat layer or a gas barrier layer.
  • optical compensation film using the resin composition of the present invention is useful as an optical compensation film for liquid crystal displays or an antireflection film because it is a thin film and exhibits specific retardation characteristics.
  • the polymer contains a fumaric acid monoester residue unit and the composition ratio analysis is more difficult than the 1 H-NMR spectrum analysis, it follows the JIS K 2501 (2003 edition) petroleum product and lubricating oil-neutralization test method. The fumaric acid monoester concentration was determined.
  • ⁇ Measurement of light transmittance and haze of optical compensation film For the light transmittance and haze of the prepared film, a haze meter (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd., trade name: NDH2000) was used, and the light transmittance was measured according to JIS K 7361-1 (1997 edition). ) And haze were measured in accordance with JIS-K 7136 (2000 edition).
  • the retardation characteristics of the optical compensation film were measured using light having a wavelength of 589 nm using a sample tilt type automatic birefringence meter (manufactured by Oji Scientific Instruments, trade name: KOBRA-WR).
  • Synthesis Example 1 (Synthesis 1 of cinnamate ester copolymer (monoethyl fumarate / 4-methoxyethyl cinnamate copolymer) 1) A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 12 g of monoethyl fumarate, 37 g of ethyl 4-methoxycinnamate and 1.40 g of 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane as a polymerization initiator. Then, after repeating nitrogen substitution and depressurization, sealing was performed under reduced pressure. This ampoule was placed in a constant temperature bath at 60 ° C.
  • Synthesis Example 2 (Synthesis 2 of cinnamate ester copolymer (monoethyl fumarate / diisopropyl fumarate / 4-ethoxymethyl cinnamate copolymer)) In a glass ampule with a capacity of 75 mL, 6.3 g of monoethyl fumarate, 15 g of diisopropyl fumarate, 29 g of methyl 4-ethoxycinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl peroxy) as a polymerization initiator ) 1.48 g of hexane was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • Synthesis Example 3 (Synthesis 3 of cinnamate ester copolymer (monoisopropyl fumarate / diethyl fumarate / 4-methoxyisopropyl cinnamate copolymer) 3)
  • a glass ampule with a capacity of 75 mL 4.3 g of monoisopropyl fumarate, 13 g of diethyl fumarate, 33 g of isopropyl 4-methoxycinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl) as a polymerization initiator Peroxy) hexane 1.46 g was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 33,000, the monoisopropyl fumarate residue unit was 16 mol%, the diethyl fumarate residue unit was 41 mol%, and the 4-methoxycinnamate residue unit was 43 mol%. It was.
  • Synthesis Example 4 (Synthesis 4 of cinnamate ester copolymer (monoethyl fumarate / diethyl fumarate / 4-methoxyethyl cinnamate copolymer))
  • a glass ampoule with a capacity of 75 mL 1.0 g of monoethyl fumarate, 11 g of diethyl fumarate, 39 g of ethyl 4-methoxycinnamate and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl parper) as a polymerization initiator Oxy
  • 1.43 g of hexane was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 33,000, monoethyl fumarate residue unit 4.5 mol%, diethyl fumarate residue unit 35.5 mol%, ethyl 4-methoxycinnamate residue unit 60 mol. %Met.
  • Synthesis Example 5 (Synthesis 5 of cinnamate ester copolymer (monoethyl fumarate / diisopropyl fumarate / 4-methoxycinnamic acid n-propyl copolymer))
  • a glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 5.0 g of monoethyl fumarate, 38 g of diisopropyl fumarate, 7.3 g of n-propyl 4-methoxycinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2- Ethylhexanoylperoxy) hexane 1.46 g was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 31,000, monoethyl fumarate residue unit 13 mol%, diisopropyl fumarate residue unit 72 mol%, 4-methoxycinnamic acid n-propyl residue unit 15 mol%. there were.
  • Synthesis Example 6 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (monoethyl fumarate / diisopropyl fumarate / 4-methoxycinnamic acid n-propyl copolymer) 6) A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 1.6 g of monoethyl fumarate, 4.8 g of diisopropyl fumarate, 44 g of n-propyl 4-methoxycinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2- Ethylhexanoylperoxy) hexane (1.88 g) was added, nitrogen substitution and depressurization were repeated, and the mixture was sealed under reduced pressure.
  • This ampoule was placed in a constant temperature bath at 60 ° C. and held for 60 hours for radical polymerization. After completion of the polymerization reaction, the polymer was taken out from the ampule and dissolved in 50 g of tetrahydrofuran. This polymer solution was dropped into hexane, precipitated, washed with 2 kg of hexane, and then vacuum-dried at 80 ° C. for 10 hours to obtain monoethyl fumarate / diisopropyl fumarate / 4-methoxycinnamic acid n-propyl copolymer. 11 g was obtained.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 36,000, monoethyl fumarate residue unit 7 mol%, diisopropyl fumarate residue unit 11 mol%, 4-methoxycinnamic acid n-propyl residue unit 82 mol%. there were.
  • Synthesis Example 7 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (diisopropyl fumarate / N- (n-butoxymethyl) acrylamide / 4-methoxyethyl cinnamate copolymer 7)) A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 10 g of diisopropyl fumarate, 5.0 g of N- (n-butoxymethyl) acrylamide, 35 g of ethyl 4-methoxycinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di ( 2-ethylhexanoylperoxy) hexane (1.44 g) was added, nitrogen substitution and depressurization were repeated, and the mixture was sealed under reduced pressure.
  • Synthesis Example 8 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (diethyl fumarate / 2-hydroxyethyl acrylate / 4-methoxyethyl cinnamate copolymer 8)) A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 9.3 g of diethyl fumarate, 3.7 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 37 g of ethyl 4-methoxycinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2 -Ethylhexanoylperoxy) hexane (1.52 g) was added, nitrogen substitution and depressurization were repeated, and the mixture was sealed under reduced pressure.
  • Synthesis Example 9 (Synthesis 9 of cinnamate ester copolymer (diisopropyl fumarate / 2-hydroxyethyl acrylate / 4-methoxyethyl cinnamate copolymer 9)) A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 23 g of diisopropyl fumarate, 2.3 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 25 g of ethyl 4-methoxycinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethyl) as a polymerization initiator.
  • Hexanoylperoxy) hexane 1.50 g was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • Synthesis Example 10 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (diisopropyl fumarate / 2-hydroxyethyl acrylate / 4-methoxyethyl cinnamate copolymer 10)) A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 18 g of diisopropyl fumarate, 0.30 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 32.0 g of ethyl 4-methoxycinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2 -Ethylhexanoyl peroxy) 1.45 g of hexane was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • Synthesis Example 11 (Synthesis 11 of cinnamate ester copolymer (diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-nitroethyl cinnamate copolymer 11))
  • a glass ampule with a capacity of 75 mL 57 g of diisopropyl fumarate, 5.1 g of monoethyl fumarate, 3.9 g of ethyl 4-nitrocinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl) as a polymerization initiator Peroxy) hexane 1.46 g was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 18,000, diisopropyl fumarate residue unit 78 mol%, monoethyl fumarate residue unit 12 mol%, and 4-nitrocinnamate ethyl residue unit 10 mol%.
  • Synthesis Example 12 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (diisopropyl fumarate / monoisopropyl fumarate / 4-nitroethyl cinnamate copolymer 12)) A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 53 g of diisopropyl fumarate, 5.8 g of monoisopropyl fumarate, 6.0 g of ethyl 4-nitrocinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexahexayl) as a polymerization initiator.
  • Noylperoxy) hexane (1.91 g) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • Synthesis Example 13 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (diisopropyl fumarate / monoisopropyl fumarate / 4-nitroethyl cinnamate copolymer 13)) A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 48 g of diisopropyl fumarate, 5.7 g of monoisopropyl fumarate, 11.0 g of ethyl 4-nitrocinnamate, and 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) as a polymerization initiator. 567 g was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 13,000, diisopropyl fumarate residue unit 51 mol%, monoisopropyl fumarate residue unit 16 mol%, and ethyl 4-nitrocinnamate residue unit 33 mol%. .
  • Synthesis Example 14 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-cyanoethyl cinnamate copolymer 14))
  • a glass ampule with a capacity of 75 mL 40 g of diisopropyl fumarate, 4.9 g of monoethyl fumarate, 5.2 g of ethyl 4-cyanocinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl) as a polymerization initiator Peroxy) hexane 1.49 g was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 25,000, diisopropyl fumarate residue unit 78 mol%, monoethyl fumarate residue unit 9 mol%, and ethyl 4-cyanocinnamate residue unit 13 mol%.
  • Synthesis Example 15 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-cyanoethyl cinnamate copolymer 15))
  • a 75 mL glass ampule 45 g of diisopropyl fumarate, 6.0 g of monoethyl fumarate, 12.9 g of ethyl 4-cyanocinnamate and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl) as a polymerization initiator Peroxy) hexane 1.929 g was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 17,000, diisopropyl fumarate residue unit 58 mol%, monoethyl fumarate residue unit mol 10%, and 4-cyanocinnamate ethyl residue unit mol 32%.
  • Synthesis Example 16 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-bromoethyl cinnamate copolymer 16))
  • a glass ampule with a capacity of 75 mL 47 g of diisopropyl fumarate, 7.2 g of monoethyl fumarate, 11.0 g of ethyl 4-bromocinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl) as a polymerization initiator Peroxy) hexane (1.91 g) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 25,000, diisopropyl fumarate residue unit mole 73%, monoethyl fumarate residue unit mole 12%, and 4-bromocinnamate ethyl residue unit mole 15%.
  • Synthesis Example 17 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-nitroethyl cinnamate copolymer 17))
  • a glass ampule with a capacity of 75 mL 59 g of diisopropyl fumarate, 2.5 g of monoethyl fumarate, 3.8 g of ethyl 4-nitrocinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl) as a polymerization initiator Peroxy) hexane (1.99 g) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 24,000, diisopropyl fumarate residue unit 87 mol%, monoethyl fumarate residue unit 4 mol%, and 4-nitrocinnamate ethyl residue unit 9 mol%.
  • Synthesis Example 18 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-cyanoethyl cinnamate copolymer 18))
  • a glass ampule with a capacity of 75 mL 58 g of diisopropyl fumarate, 3.0 g of monoethyl fumarate, 7.0 g of ethyl 4-cyanocinnamate and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl) as a polymerization initiator Peroxy) hexane (1.90 g) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 21,000, diisopropyl fumarate residue unit 81 mol%, monoethyl fumarate residue unit 4 mol%, and ethyl 4-cyanocinnamate residue unit 15 mol%.
  • Synthesis Example 19 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (diethyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-nitroethyl cinnamate copolymer 19))
  • a glass ampule with a capacity of 75 mL 58 g of diethyl fumarate, 2.7 g of monoethyl fumarate, 4.1 g of ethyl 4-nitrocinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl) as a polymerization initiator Peroxy) hexane (17.17 g) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 16,000, diethyl fumarate residue unit 84 mol%, monoethyl fumarate residue unit 6 mol%, and ethyl 4-nitrocinnamate residue unit 10 mol%.
  • Synthesis Example 20 (Synthesis 20 of cinnamate ester copolymer (diethyl fumarate / 4-nitroethyl cinnamate copolymer) 20) A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 53 g of diethyl fumarate, 12 g of ethyl 4-nitrocinnamate, and 0.567 g of 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carbonitrile) as a polymerization initiator, and the nitrogen substitution and depressurization were performed. After repeating, sealing was performed under reduced pressure. This ampoule was put into a thermostat at 80 ° C. and held for 144 hours for radical polymerization.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 13,000, diethyl fumarate residue units 69 mol%, and ethyl 4-nitrocinnamate residue units 31 mol%.
  • Synthesis Example 21 (Synthesis 21 of cinnamate ester copolymer (diethyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-cyanoethyl cinnamate copolymer) 21)
  • a glass ampule with a capacity of 75 mL 57 g of diethyl fumarate, 2.7 g of monoethyl fumarate, 5.2 g of ethyl 4-cyanocinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl) as a polymerization initiator Peroxy) hexane (17.17 g) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 21,000, diethyl fumarate residue unit 85 mol%, monoethyl fumarate residue unit 5 mol%, and ethyl 4-cyanocinnamate residue unit 10 mol%.
  • Synthesis Example 22 (Synthesis 22 of cinnamate ester copolymer (diethyl fumarate / 4-cyanoethyl cinnamate copolymer) 22)
  • a glass ampule with a capacity of 75 mL 54 g of diethyl fumarate, 11.0 g of ethyl 4-cyanocinnamate and 2.12 g of 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane was sealed under reduced pressure.
  • This ampoule was placed in a constant temperature bath at 65 ° C. and held for 120 hours for radical polymerization.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 15,000, diethyl fumarate residue unit 68 mol%, and ethyl 4-cyanocinnamate residue unit mol 32%.
  • Synthesis Example 23 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (diethyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-bromoethyl cinnamate copolymer 23))
  • a glass ampoule with a capacity of 75 mL 52 g of diethyl fumarate, 3.2 g of monoethyl fumarate, 9.8 g of ethyl 4-bromocinnamate and 2,5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoyl) as a polymerization initiator Peroxy) hexane (17.17 g) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the polymer obtained had a number average molecular weight of 23,000, a diethyl fumarate residue unit mole of 83%, a monoethyl fumarate residue unit mole of 5%, and an ethyl 4-bromocinnamate residue unit mole of 12%.
  • Synthesis Example 24 (Synthesis of di-t-butyl fumarate) A 300 mL autoclave equipped with a stirrer and a thermometer was charged with 60 mL of ethylene glycol dimethyl ether, 20 g of maleic acid and 4 g of sulfuric acid, and then 51 g of 2-methylpropylene was injected under pressure and reacted at 40 ° C. for 2 hours with stirring.
  • Synthesis Example 25 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (di-t-butyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-nitroethyl cinnamate copolymer 24)) A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 57 g of di-t-butyl fumarate, 5.7 g of monoethyl fumarate, 3.4 g of ethyl 4-nitrocinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2 -Ethylhexanoylperoxy) hexane 1.75g was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, it was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 22,000, di-t-butyl fumarate residue unit 77 mol%, monoethyl fumarate residue unit 13 mol%, ethyl 4-nitrocinnamate residue unit 10 mol% Met.
  • Synthesis Example 26 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (di-t-butyl fumarate / monoisopropyl fumarate / 4-nitroethyl cinnamate copolymer 25)) A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 53 g of di-t-butyl fumarate, 5.8 g of monoisopropyl fumarate, 5.5 g of ethyl 4-nitrocinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di ( 1.75 g of 2-ethylhexanoylperoxy) hexane was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 18,000, 69 mol% of fumadi-t-butyl residue unit, 15 mol% of monoisopropyl fumarate residue unit, and 16 mol% of 4-nitrocinnamic acid ethyl residue unit. there were.
  • Synthesis Example 27 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (di-t-butyl fumarate / monoisopropyl fumarate / 4-nitroethyl cinnamate copolymer 26)) A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 48 g of di-t-butyl fumarate, 5.3 g of monoisopropyl fumarate, 10.1 g of ethyl 4-nitrocinnamate, and 1,1′-azobis (cyclohexane-1-carboxylate) as a polymerization initiator. (Nitrile) 0.823 g was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, it was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 15,000, di-t-butyl fumarate residue unit 53 mol%, monoisopropyl fumarate residue unit 15 mol%, ethyl 4-nitrocinnamate residue unit 32 mol%. %Met.
  • Synthesis Example 28 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (di-t-butyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-cyanoethyl cinnamate copolymer 27)) A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 40 g of di-t-butyl fumarate, 4.0 g of monoethyl fumarate, 4.7 g of ethyl 4-cyanocinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2 -Ethylhexanoylperoxy) 1.49 g of hexane was added, nitrogen substitution and depressurization were repeated, and the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 28,000, di-t-butyl fumarate residue unit 77 mol%, monoethyl fumarate residue unit 10 mol%, ethyl 4-cyanocinnamate residue unit 13 mol%. Met.
  • Synthesis Example 29 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (di-t-butyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-cyanoethyl cinnamate copolymer 28))
  • a glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 45 g of di-t-butyl fumarate, 5.1 g of monoethyl fumarate, 11.0 g of ethyl 4-cyanocinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2 -Ethylhexanoylperoxy) hexane 1.696g was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 19,000, di-t-butyl fumarate residue unit 58 mol%, monoethyl fumarate residue unit mol 9%, 4-cyanocinnamate ethyl residue unit mol 33% Met.
  • Synthesis Example 30 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (di-t-butyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-bromoethyl cinnamate copolymer 29)) A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 47 g of di-t-butyl fumarate, 6.0 g of monoethyl fumarate, 9.6 g of ethyl 4-bromocinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2 -1.70 g of ethylhexanoylperoxy) hexane was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 30,000, di-t-butyl fumarate residue unit 74 mol%, monoethyl fumarate residue unit 11 mol%, ethyl 4-bromocinnamate residue unit 15 mol% Met.
  • Synthesis Example 31 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (di-t-butyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-nitroethyl cinnamate copolymer 30)) A glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 59 g of di-t-butyl fumarate, 2.1 g of monoethyl fumarate, 3.2 g of ethyl 4-nitrocinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di (2 -Ethylhexanoylperoxy) hexane 1.68g was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, it was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 29,000, di-t-butyl fumarate residue unit 87 mol%, monoethyl fumarate residue unit 4 mol%, ethyl 4-nitrocinnamate residue unit 9 mol% Met.
  • Synthesis Example 32 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (diisopropyl fumarate / diethyl fumarate / 2-hydroxyethyl acrylate / 4-nitroethyl cinnamate copolymer 31))
  • a glass ampule having a capacity of 75 mL, 49 g of diisopropyl fumarate, 6.7 g of diethyl fumarate, 4.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 4.9 g of ethyl 4-nitrocinnamate, and 2,5-dimethyl-2 which is a polymerization initiator , 5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane (1.97 g) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the obtained polymer has a number average molecular weight of 21,000, diisopropyl fumarate residue unit of 69 mol%, diethyl fumarate residue unit of 10 mol%, 2-hydroxyethyl acrylate residue unit of 10 mol%, 4-nitrosilicate.
  • the ethyl cinnamate residue unit was 11 mol%.
  • Synthesis Example 33 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (diisopropyl fumarate / N- (n-butoxymethyl) acrylamide / 4-nitroethyl cinnamate copolymer 32)) A glass ampoule with a capacity of 75 mL was charged with 50 g of diisopropyl fumarate, 8.0 g of N- (n-butoxymethyl) acrylamide, 6.8 g of ethyl 4-nitrocinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di-polymerization initiator.
  • diisopropyl fumarate / N 28 g of-(n-butoxymethyl) acrylamide / 4-nitroethylcinnamic acid copolymer was obtained.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 15,000, diisopropyl fumarate residue unit 70 mol%, N- (n-butoxymethyl) acrylamide residue unit 15 mol%, 4-nitrocinnamate ethyl residue unit 15 Mol%.
  • Synthesis Example 34 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (diisopropyl fumarate / diethyl fumarate / 2-hydroxyethyl acrylate / 4-nitroethyl cinnamate copolymer 33))
  • a glass ampule with a capacity of 75 mL was charged with 42 g of diisopropyl fumarate, 6.3 g of diethyl fumarate, 4.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 11.0 g of ethyl 4-nitrocinnamate and 1,1′-azobis ( Cyclohexane-1-carbonitrile) (0.918 g) was added, nitrogen substitution and depressurization were repeated, and the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 11,000, diisopropyl fumarate residue unit 47 mol%, diethyl fumarate residue unit 10 mol%, 2-hydroxyethyl acrylate residue unit 9 mol%, 4-nitrosilicate.
  • the ethyl cinnamate residue unit was 34 mol%.
  • Synthesis Example 35 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (diisopropyl fumarate / diethyl fumarate / 2-hydroxyethyl acrylate / 4-cyanoethyl cinnamate copolymer 34))
  • a glass ampule with a capacity of 75 mL 41 g of diisopropyl fumarate, 6.7 g of diethyl fumarate, 4.0 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 13.0 g of ethyl 4-cyanocinnamate, and 2,5-dimethyl-2 which is a polymerization initiator , 5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane (1.97 g) was added, and after nitrogen substitution and depressurization were repeated, the mixture was sealed under reduced pressure.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 15,000, diisopropyl fumarate residue unit 45 mol%, diethyl fumarate residue unit 11 mol%, 2-hydroxyethyl acrylate residue unit 11 mol%, 4-cyanosilicate.
  • the ethyl cinnamate residue unit was 33% mol.
  • Synthesis Example 36 (Synthesis of cinnamate ester copolymer (diisopropyl fumarate / N- (n-butoxymethyl) acrylamide / 4-bromoethyl cinnamate copolymer 35)) A glass ampoule with a capacity of 75 mL was charged with 47 g of diisopropyl fumarate, 7.1 g of N- (n-butoxymethyl) acrylamide, 10.7 g of ethyl 4-bromocinnamate, and 2,5-dimethyl-2,5-di-polymerization initiator.
  • diisopropyl fumarate / N 31 g of-(n-butoxymethyl) acrylamide / 4-bromoethyl cinnamate copolymer was obtained.
  • the number average molecular weight of the obtained polymer was 21,000, diisopropyl fumarate residue unit 72 mol%, N- (n-butoxymethyl) acrylamide residue unit 13 mol%, 4-bromoethylcinnamic acid ethyl residue unit 15 Mol%.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 1.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 1.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 1.
  • the obtained optical compensation film had the in-plane retardation (Re) and the Nz coefficient having the desired optical characteristics, and had a large Re (589) / film thickness.
  • an optical compensation film resin composition
  • optical compensation film (Ethylcellulose: 60% by weight, monoethyl fumarate / diisopropyl fumarate / 4-methoxycinnamate n-propyl copolymer: 40% by weight).
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 1.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • optical compensation film (Ethyl cellulose: 75% by weight, monoethyl fumarate / diisopropyl fumarate / 4-methoxycinnamic acid n-propyl copolymer: 25% by weight).
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 1.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm (ethyl cellulose: 65% by weight). %, Diisopropyl fumarate / N- (n-butoxymethyl) acrylamide / 4 Methoxycinnamic acid ethyl copolymer: 35 wt%).
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 1.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained optical compensation film had the in-plane retardation (Re) and the Nz coefficient having the desired optical characteristics, and had a large Re (589) / film thickness.
  • optical compensation film having a width of 150 mm was obtained (ethylcellulose: 53% by weight, diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate) after flowing on a polyethylene terephthalate film with a coater and drying at a drying temperature of 25 ° C. / 4 ethyl nitrocinnamate copolymer: 47 layers %).
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm (ethyl cellulose: 50% by weight, Diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-cyanoethyl cinnamate copolymer: 50% by weight).
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm (ethyl cellulose: 60% by weight, Diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-cyanoethyl cinnamate copolymer: 40% by weight).
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm (ethyl cellulose: 50% by weight, Diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-bromoethyl cinnamate copolymer: 50% by weight).
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film had optical characteristics intended for the in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and had a large Re (589) / film thickness.
  • the resin solution was 18% by weight, cast on a support of a solution casting apparatus by the T-die method, dried at a drying temperature of 25 ° C., and then an optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm was obtained ( Ethyl cellulose: 50% by weight, diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-cyanoethyl cinnamate copolymer: 50% by weight).
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film had optical characteristics intended for the in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and had a large Re (589) / film thickness.
  • 80 g, 70 g of diethyl fumarate / monoethyl fumarate / ethyl 4-nitrocinnamate copolymer obtained in Synthesis Example 19 were dissolved
  • optical compensation film having a width of 150 mm was obtained (ethylcellulose: 53% by weight, diethyl fumarate / monoethyl fumarate) after flowing on a polyethylene terephthalate film with a coater and drying at a drying temperature of 25 ° C. / 4 ethyl nitrocinnamate copolymer: 47% by weight).
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • an optical compensation film resin composition
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • an optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm was obtained (ethyl cellulose: 57% by weight, diethyl fumarate / 4-ethyl cyanocinnamate copolymer: 43% by weight).
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • 80 g 70 g of di-t-butyl fumarate / mono
  • optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm (ethyl cellulose: 53 wt%, difumarate diacid). -T-butyl / monoethyl fumarate / 4-nitroethyl cinnamate copolymer: 47 layers %).
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • optical compensation film 70% by weight, di-t-butyl fumarate / monoisopropyl fumarate / 4-nitroethylcinnamate copolymer: 30% by weight).
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • an optical compensation film resin composition
  • the obtained optical compensation film had optical characteristics intended for the in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and had a large Re (589) / film thickness.
  • optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm (ethyl cellulose: 52% by weight, Diisopropyl fumarate / diethyl fumarate / acrylic acid 2 Hydroxyethyl / 4-nitrocinnamic acid ethyl copolymer: 48 wt%).
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics of the obtained optical compensation film were measured. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • optical compensation film (Ethylcellulose: 68% by weight, diisopropyl fumarate / diethyl fumarate / 2-hydroxyethyl acrylate / 4-nitroethylcinnamate copolymer: 32% by weight).
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 2.
  • the obtained optical compensation film has high light transmittance, excellent transparency, small haze, in-plane retardation (Re) and Nz coefficient, and has the desired optical characteristics, and Re (589). / The film thickness was large.
  • the obtained film had a large out-of-plane retardation (Rth) in the thickness direction and did not have the desired optical characteristics.
  • the obtained film had a small out-of-plane retardation (Rth) in the thickness direction and did not have the desired optical characteristics.
  • the obtained film had a small out-of-plane retardation (Rth) in the thickness direction and did not have the desired optical characteristics.
  • the obtained film had a small out-of-plane retardation (Rth) in the thickness direction and did not have the desired optical characteristics.
  • the solution was cast on a support of a solution casting apparatus by the T-die method and dried at a drying temperature of 25 ° C., and then a film (resin composition) having a width of 150 mm and a thickness of 40 ⁇ m was obtained.
  • the resulting film was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 3.
  • the obtained film had a small out-of-plane retardation (Rth) in the thickness direction and did not have the desired optical characteristics.
  • the obtained film had a small out-of-plane retardation (Rth) in the thickness direction and did not have the desired optical characteristics.
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 3.
  • the obtained film did not have the optical characteristics intended for the in-plane retardation (Re) and the Nz coefficient.
  • the obtained film did not have the optical characteristics intended for the in-plane retardation (Re) and the Nz coefficient.
  • the resin solution was 18% by weight, cast on a support of a solution casting apparatus by the T-die method, dried at a drying temperature of 25 ° C., and then an optical compensation film (resin composition) having a width of 150 mm was obtained ( Ethylcellulose: 20% by weight, diisopropyl fumarate / monoethyl fumarate / 4-nitroethylcinnamate copolymer: 80% by weight).
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 3.
  • the obtained film did not have the optical characteristics intended for the in-plane retardation (Re) and the Nz coefficient.
  • the obtained optical compensation film was cut into a 50 mm square and uniaxially stretched 2.0 times at 150 ° C. (thickness after stretching: 30 ⁇ m).
  • the optical compensation film thus obtained was measured for light transmittance, haze, retardation characteristics, and wavelength dispersion characteristics. The results are also shown in Table 3.
  • the obtained film did not have the optical characteristics intended for the in-plane retardation (Re) and the Nz coefficient.
  • an optical compensation film resin composition
  • the obtained film did not have the optical characteristics intended for the in-plane retardation (Re) and the Nz coefficient.
  • the obtained film did not have the optical characteristics intended for the in-plane retardation (Re) and the Nz coefficient.

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Abstract

　光学補償フィルムに適する樹脂組成物、それを用いた位相差特性および波長分散特性に優れた光学補償フィルムならびに光学補償フィルムの製造方法を提供する。樹脂成分として下記一般式（１）で示されるセルロ－ス系樹脂３０～９９重量％、およびケイ皮酸エステル共重合体１～７０重量％を含有することを特徴とする樹脂組成物。（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素または炭素数１～１２の置換基を示す。）

Description

樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルム
　本発明は、樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムに関するものであり、より詳しくは、樹脂組成物ならびに位相差特性および波長分散特性に優れた液晶ディスプレイ用の光学補償フィルムに関する。
　液晶ディスプレイは、マルチメディア社会における最も重要な表示デバイスとして、携帯電話、コンピュ－タ－用モニタ－、ノ－トパソコン、テレビまで幅広く使用されている。液晶ディスプレイには表示特性向上のため多くの光学フィルムが用いられている。特に光学補償フィルムは、正面や斜めから見た場合のコントラスト向上、色調の補償など大きな役割を果たしている。
　液晶ディスプレイには、垂直配向型（ＶＡ－ＬＣＤ）、面内配向型液晶（ＩＰＳ－ＬＣＤ）、ス－パ－ツイストネマチック型液晶（ＳＴＮ－ＬＣＤ）、反射型液晶ディスプレイ、半透過型液晶ディスプレイなどの多くの方式が有り、ディスプレイにあわせた光学補償フィルムが必要となっている。
　従来の光学補償フィルムとしては、セルロ－ス系樹脂、ポリカ－ボネ－トや環状ポリオレフィンなどの延伸フィルムが用いられている。特にトリアセチルセルロ－スフィルムなどのセルロ－ス系樹脂からなるフィルムは、偏光子であるポリビニルアルコ－ルとの接着性も良好なことから幅広く使用されている。
　しかしながら、セルロ－ス系樹脂からなる光学補償フィルムはいくつかの課題がある。例えば、セルロ－ス系樹脂フィルムは延伸条件を調整することで各種ディスプレイにあわせた位相差値を持つ光学補償フィルムに加工されるが、セルロ－ス系樹脂フィルムの一軸または二軸延伸により得られるフィルムの三次元屈折率は、ｎｙ≧ｎｘ＞ｎｚであり、それ以外の３次元屈折率、例えば、ｎｙ＞ｎｚ＞ｎｘや、ｎｙ＝ｎｚ＞ｎｘなどの３次元屈折率を有する光学補償フィルムを製造するためには、フィルムの片面または両面に熱収縮性フィルムを接着し、その積層体を加熱延伸処理して、高分子フィルムの厚み方向に収縮力をかけるなど特殊な延伸方法が必要であり屈折率（位相差値）の制御も困難である（例えば、特許文献１～３参照）。ここでｎｘはフィルム面内の進相軸方向（最も屈折率の小さい方向）の屈折率、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向（最も屈折率の大きい方向）の屈折率、ｎｚはフィルム面外（厚み方向）の屈折率を示す。
　また、セルロ－ス系樹脂フィルムは一般に溶剤キャスト法により製造されるが、キャスト法により成膜したセルロ－ス系樹脂フィルムはフィルム厚み方向に４０ｎｍ程度の面外位相差（Ｒｔｈ）を有するため、ＩＰＳモ－ドの液晶ディスプレイなどではカラ－シフトが起こるなどの問題がある。ここで面外位相差（Ｒｔｈ）は以下の式で示される位相差値である。
　　　Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ］×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
　また、フマル酸エステル系樹脂からなる位相差フィルムが提案されている（例えば、特許文献４参照）。
　しかしながら、フマル酸エステル系樹脂からなる延伸フィルムの３次元屈折率は、ｎｚ＞ｎｙ＞ｎｘであり、上記３次元屈折率を示す光学補償フィルムを得るためには他の光学補償フィルム等との積層などが必要である。
　そこで、上記３次元屈折率を示す光学補償フィルムとして、樹脂組成物およびそれを用いた光学補償フィルムが提案されている（例えば、特許文献５～特許文献７参照）。
　特許文献５～特許文献７は光学補償フィルムとして優れた性能を有するものの、目的とするＲｅの発現のためには本発明よりも厚いフィルム厚が必要である。また、一般に位相差フィルムは反射型液晶表示装置、タッチパネルや有機ＥＬの反射防止層としても用いられるものであり、該用途では、長波長域ほどレタ－デ－ションが大きい位相差フィルム（以下、「逆波長分散フィルム」という）が求められるものであるが、特許文献５～特許文献７には逆波長分散フィルムとして用いられることについて何らの記載がないものである。
　反射防止層として逆波長分散フィルムが用いられる場合、位相差は測定波長λの１／４程度が好ましく、４５０ｎｍにおけるレタ－デ－ションと５５０ｎｍにおけるレタ－デ－ションの比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８１に近いことが好ましい。そして、表示装置の薄型化を鑑みた場合、使用される逆波長分散フィルムも薄いことが求められる。上記のような要求特性に対し、種々の位相差フィルムが開発されている。
　このような位相差フィルムとして、正の固有複屈折を有するポリマ－と、負の固有複屈折を有するポリマ－とをブレンドして得た、逆波長分散性を有する位相差板が開示されている（例えば、特許文献８参照）。しかし、当該文献には、正の固有複屈折を有するポリマ－としてノルボルネン系ポリマ－、負の固有複屈折を有するポリマ－としてスチレンと無水マレイン酸との共重合体、及びそれらポリマ－をブレンドして得られる組成物が開示されているが、該組成物を用いた位相差板は、位相差フィルムの位相差特性として望ましいＲｅとＮｚの関係を満足するものではない。
日本国特許２８１８９８３号公報 日本国特開平５－２９７２２３号公報 日本国特開平５－３２３１２０号公報 日本国特開２００８－６４８１７号公報 日本国特開２０１３－２８７４１号公報 日本国特開２０１４－１２５６０９号公報 日本国特開２０１４－１２５６１０号公報 日本国特開２００１－３３７２２２号公報
　本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、光学補償フィルムに適する樹脂組成物ならびにそれを用いた位相差特性および波長分散特性に優れた光学補償フィルムを提供することにある。
　本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のセルロ－ス系樹脂およびケイ皮酸エステル共重合体を含有する樹脂組成物、それを用いた光学補償フィルムおよびその製造方法が、上記課題を解決することを見出し、本発明を完成するに至った。
　即ち本発明は、以下の［１］及至［２９］に存する。
［１］　樹脂成分として下記一般式（１）で示されるセルロ－ス系樹脂３０～９９重量％、およびケイ皮酸エステル共重合体１～７０重量％を含有することを特徴とする樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素または炭素数１～１２の置換基を示す。）
［２］　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０～９０モル％を含むことを特徴とする上記［１］に記載の樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
（式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
［３］　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位５～５０モル％、下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位０～８５モル％および下記一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０～９０モル％を含むことを特徴とする上記［２］に記載の樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
（式中、Ｒ６は炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
（式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
（式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
［４］　　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位１０～５０モル％、下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位０～６０モル％および下記一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位３０～９０モル％を含むことを特徴とする上記［２］に記載の樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
（式中、Ｒ６は炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
（式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
（式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
［５］　ケイ皮酸エステル共重合体が、フマル酸モノメチル残基単位、フマル酸モノエチル残基単位、フマル酸モノイソプロピル残基単位、フマル酸モノ－ｎ－プロピル残基単位、フマル酸モノ－ｎ－ブチル残基単位、フマル酸モノ－ｔ－ブチル残基単位、フマル酸モノ－２－エチルヘキシル残基単位から選ばれるフマル酸モノエステル残基単位５～５０モル％、フマル酸ジメチル残基単位、フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジ－ｎ－プロピル残基単位、フマル酸ジ－ｎ－ブチル残基単位、フマル酸ジ－ｔ－ブチル残基単位、フマル酸ジ－２－エチルヘキシル残基単位から選ばれるフマル酸ジエステル残基単位０～８５モル％、および下記一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０～９０モル％を含むことを特徴とする上記［２］又は上記［３］に記載の樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
（式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
［６］　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位５～８５モル％、下記一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、下記一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、下記一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、下記一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位５～４０モル％、および下記一般式（２）で示されアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０～９０モル％を含むことを特徴とする上記［２］に記載の樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
（式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
（式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基、アルキレン基またはエーテル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
（式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
［７］　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位５～６５モル％、下記一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、下記一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、下記一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、下記一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位５～４０モル％、および下記一般式（２）で示されアルコキシケイ皮酸エステル残基単位３０～９０モル％を含むことを特徴とする上記［２］に記載の樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
（式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
（式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基、アルキレン基またはエーテル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
（式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
［８］　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位２０モル％以上および下記一般式（９）で示される置換ケイ皮酸エステル残基単位５モル％以上を含むことを特徴とする上記［１］に記載の樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
（式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
（式中、Ｒ１３は炭素数１～１２のアルキル基を示す。Ｘはニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基又はフェニル基を示す。）
［９］　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位２０モル％以上および下記一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位５モル％以上を含むことを特徴とする上記［１］に記載の樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
（式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
（式中、Ｒ１４は炭素数１～１２のアルキル基を示す。Ｘはニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基又はフェニル基を示す。）
［１０］　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位２０～９０モル％、下記一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位５～７５モル％、および下記一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位５～３０モル％を含むことを特徴とする上記［１］に記載の樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
（式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
（式中、Ｒ１４は炭素数１～１２のアルキル基を示す。Ｘはニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基又はフェニル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
（式中、Ｒ６は炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
［１１］　ケイ皮酸エステル共重合体が、フマル酸ジエチル残基単位２０～９５モル％、下記一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位５～７５モル％、および下記一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位０～３０モル％を含むフマル酸エステル共重合体、フマル酸ジイソプロピル残基単位２０～９０モル％、下記一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位５～７５モル％、および下記一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位５～３０モル％を含むフマル酸エステル共重合体、フマル酸ジ－ｔ－ブチル残基単位２０～９０モル％、一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位５～７５モル％、および一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位５～３０モル％を含むフマル酸エステル共重合体からなる群より選ばれるケイ皮酸エステル共重合体であることを特徴とする上記［１］に記載の樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
（式中、Ｒ１４は炭素数１～１２のアルキル基を示す。Ｘはニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基又はフェニル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
（式中、Ｒ６は炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
［１２］　上記［１０］または上記［１１］に記載のフマル酸モノエステル残基単位が、フマル酸モノメチル残基単位、フマル酸モノエチル残基単位、フマル酸モノイソプロピル残基単位、フマル酸モノ－ｎ－プロピル残基単位、フマル酸モノ－ｎ－ブチル残基単位、フマル酸モノ－ｓ－ブチル残基単位、フマル酸モノ－ｔ－ブチル残基単位、フマル酸モノ－２－エチルヘキシル残基単位からなる群より選ばれるフマル酸モノエステル残基単位であることを特徴とする上記［１０］または上記［１１］に記載の樹脂組成物。
［１３］　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位２０～９４．５モル％、下記一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位５～７５モル％、および下記一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、下記一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、下記一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、下記一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位０．５～３０モル％を含むケイ皮酸エステル共重合体であることを特徴とする上記［１］に記載の樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
（式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
（式中、Ｒ１４は炭素数１～１２のアルキル基を示す。Ｘはニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基又はフェニル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
（式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基、アルキレン基またはエーテル基を示す。）
［１４］　ｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位が、４-ニトロケイ皮酸メチル残基単位、４-ニトロケイ皮酸エチル残基単位、４-ニトロケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-ニトロケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-ニトロケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-ニトロケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-ニトロケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-ニトロケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-フルオロケイ皮酸メチル残基単位、４-フルオロケイ皮酸エチル残基単位、４-フルオロケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-フルオロケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-フルオロケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-フルオロケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-フルオロケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-フルオロケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-クロロケイ皮酸メチル残基単位、４-クロロケイ皮酸エチル、４-クロロケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-クロロケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-クロロケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-クロロケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-クロロケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-クロロケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-ブロモケイ皮酸メチル残基単位、４-ブロモケイ皮酸エチル残基単位、４-ブロモケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-ブロモケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-ブロモケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-ブロモケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-ブロモケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-ブロモケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-ヨードケイ皮酸メチル残基単位、４-ヨードケイ皮酸エチル残基単位、４-ヨードケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-ヨードケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-ヨードケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-ヨードケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-ヨードケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-ヨードケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-シアノケイ皮酸メチル残基単位、４-シアノケイ皮酸エチル残基単位、４-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-シアノケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-シアノケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-シアノケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸メチル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸エチル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸エチル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-フェニルケイ皮酸メチル残基単位、４-フェニルケイ皮酸エチル残基単位、４-フェニルケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-フェニルケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-フェニルケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-フェニルケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-フェニルケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-フェニルケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位からからなる群より選ばれることを特徴とする上記［９］～上記［１３］のいずれかに記載の樹脂組成物。
［１５］　一般式（１）で示されるセルロ－ス系樹脂がセルロ－スエ－テルであることを特徴とする上記［１］～上記［１４］のいずれかに記載の樹脂化合物。
［１６］　セルロ－スエ－テルのエ－テル化度（置換度）が１．５～３．０であることを特徴とする上記［１５］に記載の樹脂組成物。
［１７］　上記［１］～上記［１６］のいずれかに記載の樹脂組成物を用いてなり、厚みが５～２００μｍであることを特徴とする光学補償フィルム。
［１８］　上記［１］～上記［１６］のいずれかに記載の樹脂組成物を用いてなり、厚みが２０～６０μｍであることを特徴とする光学補償フィルム。
［１９］　下記式（１）で示される面内位相差（Ｒｅ）が８０～３００ｎｍで、下記式（２）で示されるＮｚ係数が０．３５～０．６５であることを特徴とする上記［１７］または上記［１８］に記載の光学補償フィルム。
　　　　Ｒｅ＝（ｎｙ－ｎｘ）×ｄ　　　　　　　　　　　　　（１）
　　　　Ｎｚ＝（ｎｙ－ｎｚ）／（ｎｙ－ｎｘ）　　　　　　　（２）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
［２０］　式（１）で示される面内位相差（Ｒｅ）が５０～３００ｎｍで、式（２）で示されるＮｚ係数が－０．２～０．２であることを特徴とする上記［１７］または上記［１８］に記載の光学補償フィルム。
［２１］　式（１）で示される面内位相差（Ｒｅ）が０～２０ｎｍで、下記式（３）で示される面外位相差（Ｒｔｈ）が、－１５０～２０ｎｍであることを特徴とする上記［１７］または上記［１８］に記載の光学補償フィルム。
　　　　Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ］×ｄ　　　　　（３）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
［２２］　光線透過率が８５％以上であることを特徴とする上記［１７］～上記［２１］のいずれかに記載の光学補償フィルム。
［２３］　ヘ－ズが１％以下であることを特徴とする上記［１７］～上記［２２］のいずれかに記載の光学補償フィルム。
［２４］　４５０ｎｍにおけるレタ－デ－ションと５５０ｎｍにおけるレタ－デ－ションの比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．６０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０５であることを特徴とする上記［１７］～上記［２３］のいずれかに記載の光学補償フィルム。
［２５］　５８９ｎｍにおけるレタ－デ－ションとフィルム膜厚の比Ｒｅ（５８９）（ｎｍ）／フィルム膜厚（μｍ）が４．０ｎｍ／μｍ以上であることを特徴とする上記［１７］～上記［２４］のいずれかに記載の光学補償フィルム。
［２６］　樹脂成分として下記一般式（１）で示されるセルロ－ス系樹脂３０～９９重量％およびケイ皮酸エステル共重合体１～７０重量％を含有する樹脂組成物を溶剤に溶解し、得られた樹脂溶液を基材にキャストし、乾燥後、基材より剥離することを特徴とする上記［１７］～上記［２５］のいずれかに記載の光学補償フィルムの製造方法。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素または炭素数１～１２の置換基を示す。）
［２７］　一般式（１）で示されるセルロ－ス系樹脂がセルロ－スエ－テルであるときのエ－テル化度（置換度）が１．５～３．０であることを特徴とする上記［２６］に記載の光学補償フィルムの製造方法。
［２８］　キャストして得られた厚み１０～２００μｍのフィルムを一軸延伸またはアンバランス二軸延伸させることを特徴とする上記［１９］または上記［２０］に記載の光学補償フィルムの製造方法。
［２９］　キャストして得られた厚み３０～１００μｍのフィルムを一軸延伸またはアンバランス二軸延伸させることを特徴とする上記［１９］または上記［２０］に記載の光学補償フィルムの製造方法。
　以下、本発明を詳細に説明する。
　本発明の樹脂組成物は、樹脂成分として下記一般式（１）で示されるセルロ－ス系樹脂３０～９９重量％、およびケイ皮酸エステル共重合体１～７０重量％を含有する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素または炭素数１～１２の置換基を示す。）
　本発明のセルロ－ス系樹脂としては、例えば、セルロ－スエ－テル、セルロ－スエステル、セルロ－スエ－テルエステル、セルロ－スアシレ－ト等が挙げられる。そして、本発明の樹脂組成物は、これらのセルロ－ス系樹脂を１種または２種以上含有していてもよい。
　本発明のセルロ－ス系樹脂は、機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パ－ミエイション・クロマトグラフィ－（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が１×１０３～１×１０６であることが好ましく、５×１０３～２×１０５であることがさらに好ましい。
　本発明のセルロ－ス系樹脂としては、ケイ皮酸エステル共重合体との相溶性に優れ、かつ面内位相差Ｒｅが大きく、更に延伸加工性に優れるため、セルロ－スエ－テルが好ましい。
　以下、本発明の光学補償フィルムに用いられるセルロ－ス系樹脂として好ましいセルロ－スエ－テルについて説明する。
　本発明のセルロ－ス系樹脂であるセルロ－スエ－テルは、β－グルコース単位が直鎖状に重合した高分子であり、グルコ－ス単位の２位、３位および６位の水酸基の一部または全部をエ－テル化したポリマ－である。本発明のセルロ－スエ－テルとしては、例えば、メチルセルロ－ス、エチルセルロ－ス、プロピルセルロ－ス等のアルキルセルロ－ス；ヒドロキシエチルセルロ－ス、ヒドロキシプロピルセルロ－ス等のヒドロキシアルキルセルロ－ス；ベンジルセルロ－ス、トリチルセルロ－ス等のアラルキルセルロ－ス；シアンエチルセルロ－ス等のシアノアルキルセルロ－ス；カルボキシメチルセルロ－ス、カルボキシエチルセルロ－ス等のカルボキシアルキルセルロ－ス；カルボキシメチルメチルセルロ－ス、カルボキシメチルエチルセルロ－ス等のカルボキシアルキルアルキルセルロ－ス；アミノエチルセルロ－ス等のアミノアルキルセルロ－ス等が挙げられる。
　該セルロ－スエ－テルにおけるセルロ－スの水酸基の酸素原子を介して置換している置換度（エ－テル化度）は、２位、３位および６位のそれぞれについて、セルロ－スの水酸基がエ－テル化している割合（１００％のエ－テル化は置換度１）を意味し、溶解性、相溶性、延伸加工性の点から、エ－テル基の全置換度ＤＳは、好ましくは１．５～３．０（１．５≦ＤＳ≦３．０）であり、さらに好ましくは１．８～２．８である。セルロ－スエ－テルは、溶解性、相溶性の点から、炭素数１～１２の置換基を有することが好ましい。炭素数１～１２の置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デカニル基、ドデカニル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、シクロヘキシル基、フェノニル基、ベンジル基、ナフチル基等を挙げることができる。これらの中でも、溶解性、相溶性の点から、炭素数１～５のアルキル基であるメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基が好ましい。本発明で用いるセルロ－ス系ポリマ－のエ－テル基は１種類だけでもよいし、２種類以上のエ－テル基を有していてもよい。また、エ－テル基の他にエステル基を有していてもよい。
　セルロ－スエ－テルは一般に、木材又はコットンより得たセルロ－スパルプをアルカリ分解し、アルカリ分解したセルロ－スパルプをエ－テル化することで合成される。アルカリとしては、リチウム，カリウム，ナトリウムなどのアルカリ金属の水酸化物やアンモニアなどが利用できる。前記アルカリ類は一般に、水溶液として使用される。そして、アルカリ性にされたセルロ－スパルプは、セルロ－スエ－テルの種類に応じて用いられるエ－テル化剤と接触されることによりエ－テル化されるものである。エ－テル化剤としては、例えば、塩化メチル、塩化エチル等のハロゲン化アルキル；ベンジルクロライド、トリチルクロライド等のハロゲン化アラルキル；モノクロロ酢酸、モノクロロプロピオン酸等のハロカルボン酸；エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等のアルキレンオキサイド等が挙げられ、これらのエ－テル化剤は単独で又は二種以上組み合わせて使用できる。
　なお、必要であれば、反応終了後、粘度調整のため塩化水素、臭化水素、塩酸、及び硫酸等で解重合処理してもよい。
　本発明の樹脂組成物が含有するケイ皮酸エステル共重合体（以下、ケイ皮酸エステル共重合体という）はケイ皮酸エステル残基単位を含むものであり、該残基単位としては、例えば、ケイ皮酸メチル残基単位、ケイ皮酸エチル残基単位、ケイ皮酸イソプロピル残基単位等のケイ皮酸エステル残基単位中のベンゼン環が置換基を有しないケイ皮酸エステル残基単位；アミノケイ皮酸エステル残基単位、アルキルケイ皮酸エステル残基単位、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位等のベンゼン環が電子供与性置換基を有するケイ皮酸エステル残基単位;下記一般式（９）で示される置換ケイ皮酸エステル残基単位等のベンゼン環が電子吸引性置換基を有するケイ皮酸エステル残基単位等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
（式中、Ｒ１３は炭素数１～１２のアルキル基を示す。Ｘはニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基、又はフェニル基を示す。）
　本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体は、位相差フィルムとして用いられるとき、より高性能な位相差フィルムが得られることから、ベンゼン環が電子供与性置換基を有するケイ皮酸エステル残基単位またはベンゼン環が電子吸引性置換基を有するケイ皮酸エステル残基単位５モル％以上を含むケイ皮酸エステル共重合体であることが好ましい。
　また、本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体は、下記一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０～９０モル％を含むものであることがさらに好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
（式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
　本発明において、アルコキシケイ皮酸エステル残基単位が１０モル％以上の場合、位相差発現性がより向上し、９０モル％以下の場合、相溶性がより向上する。すなわち、本発明はケイ皮酸エステル共重合体がアルコキシケイ皮酸エステル残基単位を１０～９０モル％含んでなるケイ皮酸エステル共重合体であることにより、該共重合体の相溶性がより高く、かつ、本発明に係る樹脂組成物が光学補償フィルムとして用いられるとき、Ｒｅがより向上しているものである。
　ケイ皮酸エステル共重合体における一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位のエステル置換基であるＲ４は炭素数１～１２のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｓ－ペンチル基、ｔ－ペンチル基、ｓ－ヘキシル基、ｔ－ヘキシル基、２－エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、セルロ－ス樹脂との相溶性から、炭素数１～４のアルキル基であるメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が好ましい。エステル置換基であるＲ５は、炭素数１～１２のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｓ－ペンチル基、ｔ－ペンチル基、ｓ－ヘキシル基、ｔ－ヘキシル基、２－エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、溶解性、相溶性の点から、炭素数１～４のアルキル基であるメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が好ましい。一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位としては、溶解性、相溶性の点から、４－メトキシケイ皮酸メチル残基、４－メトキシケイ皮酸エチル残基、４－メトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４－メトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－メトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－メトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－メトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－エトキシケイ皮酸メチル残基、４－エトキシケイ皮酸エチル残基、４－エトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４－エトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－エトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－エトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－エトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－イソプロポキシケイ皮酸メチル残基、４－イソプロポキシケイ皮酸エチル残基、４－イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、４－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－イソプロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸メチル残基、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸エチル残基、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、３－メトキシケイ皮酸メチル残基、３－メトキシケイ皮酸エチル残基、３－メトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３－メトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、３－メトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、３－メトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、３－メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、３－メトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、３－エトキシケイ皮酸メチル残基、３－エトキシケイ皮酸エチル残基、３－エトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３－エトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、３－エトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、３－エトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、３－エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、３－エトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、３－イソプロポキシケイ皮酸メチル残基、３－イソプロポキシケイ皮酸エチル残基、３－イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、３－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、３－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、３－イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、３－イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、３－イソプロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸メチル残基、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸エチル残基、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸３－エチルヘキシル残基、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、２－メトキシケイ皮酸メチル残基、２－メトキシケイ皮酸エチル残基、２－メトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２－メトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、２－メトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、２－メトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、２－メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、２－メトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、２－エトキシケイ皮酸メチル残基、２－エトキシケイ皮酸エチル残基、２－エトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２－エトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、２－エトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、２－エトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、２－エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、２－エトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、２－イソプロポキシケイ皮酸メチル残基、２－イソプロポキシケイ皮酸エチル残基、２－イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、２－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、２－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、２－イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、２－イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、２－イソプロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸メチル残基、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸エチル残基、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸イソプロピル残基、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸メチル残基、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸エチル残基、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル残基、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル残基、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル残基、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル残基から選ばれるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位が好ましい。
　本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体がアルコキシケイ皮酸残基単位及びフマル酸モノエステル残基単位を含むものであるとき、ケイ皮酸エステル共重合体は、下記一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位５～５０モル％、下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位０～８５モル％および一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０～９０モル％を含むものであることが特に好ましく、下記一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位１０～５０モル％、下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位０～６０モル％および一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位３０～９０モル％を含むものであることが最も好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
（式中、Ｒ６は炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
（式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
　本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体がアルコキシケイ皮酸残基単位を含むものであるとき、フマル酸モノエステル残基単位が５モル％より大きい場合、より相溶性に優れる樹脂となる。そして、該残基単位が５～５０モル％である場合、位相差特性の発現が高く、かつ、より相溶性に優れる樹脂となるものである。
　本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体が一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位を有する場合、該残基単位のエステル置換基であるＲ６は炭素数１～１２のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｓ－ペンチル基、ｔ－ペンチル基、ｓ－ヘキシル基、ｔ－ヘキシル基、２－エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、セルロ－ス樹脂との相溶性から、炭素数１～４のアルキル基であるメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が好ましい。一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位としては、例えば、フマル酸モノメチル残基、フマル酸モノエチル残基、フマル酸モノ－ｎ－プロピル残基、フマル酸モノイソプロピル残基、フマル酸モノ－ｎ－ブチル残基、フマル酸モノ－ｓ－ブチル残基、フマル酸モノ－ｔ－ブチル残基、フマル酸モノ－ｎ－ペンチル残基、フマル酸モノ－ｓ－ペンチル残基、フマル酸モノ－ｔ－ペンチル残基、フマル酸モノ－ｎ－ヘキシル残基、フマル酸モノ－ｓ－ヘキシル残基、フマル酸モノ－ｔ－ヘキシル残基、フマル酸モノ－２－エチルヘキシル、フマル酸モノシクロプロピル残基、フマル酸モノシクロペンチル残基、フマル酸モノシクロヘキシル残基等が挙げられる。これらの中でも、セルロ－ス系樹脂との相溶性が良いことから、フマル酸モノメチル残基単位、フマル酸モノエチル残基単位、フマル酸モノイソプロピル残基単位、フマル酸モノ－ｎ－プロピル残基単位、フマル酸モノ－ｎ－ブチル残基単位、フマル酸モノ－ｓ－ブチル残基単位、フマル酸モノ－ｔ－ブチル残基単位から選ばれるフマル酸モノエステル残基単位が好ましい。
　本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体が一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位を有する場合、該残基単位のエステル置換基であるＲ７、Ｒ８は炭素数１～１２のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｓ－ペンチル基、ｔ－ペンチル基、ｓ－ヘキシル基、ｔ－ヘキシル基、２－エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、セルロ－ス樹脂との相溶性から、炭素数１～４のアルキル基であるメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が好ましい。一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位としては、例えば、フマル酸ジメチル残基、フマル酸ジエチル残基、フマル酸ジ－ｎ－プロピル残基、フマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ－ｎ－ブチル残基、フマル酸ジ－ｓ－ブチル残基、フマル酸ジ－ｔ－ブチル残基、フマル酸ジ－ｎ－ペンチル残基、フマル酸ジ－ｓ－ペンチル残基、フマル酸ジ－ｔ－ペンチル残基、フマル酸ジ－ｎ－ヘキシル残基、フマル酸ジ－ｓ－ヘキシル残基、フマル酸ジ－ｔ－ヘキシル残基、フマル酸ジ－２－エチルヘキシル残基、フマル酸ジシクロプロピル残基、フマル酸ジシクロペンチル残基、フマル酸ジシクロヘキシル残基等が挙げられる。これらの中でも、重合性、位相差発現性、セルロ－ス系樹脂との相溶性が良いことから、フマル酸ジメチル残基単位、フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジ－ｔ－ブチル残基単位から選ばれるフマル酸ジエステル残基単位が好ましい。
　本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体は、フマル酸モノエステル残基単位５～５０モル％、フマル酸ジエステル残基単位０～８０モル％、およびアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０～９０モル％の割合で含む合計単量体を１００モル％として、ケイ皮酸エステル類と共重合可能な単量体の残基単位０～２０モル％を含んでいてもよい。
　本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体がアルコキシケイ皮酸残基単位を含むものであって、下記一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、下記一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、下記一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、下記一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位を含むものであるとき、一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位５～８５モル％、下記一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、下記一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、下記一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、下記一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位５～４０モル％、および一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０～９０モル％を含むものであることが特に好ましく、一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位５～６５モル％、下記一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、下記一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、下記一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、下記一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位５～４０モル％、および一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位３０～９０モル％を含むものであることが最も好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
（式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基、アルキレン基またはエーテル基を示す。）
　本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体がアルコキシケイ皮酸残基単位を含むものであるとき、一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位が５モル％より大きい場合、より相溶性に優れる樹脂となる。そして、これらの群より選ばれる残基単位が５～４０モル％である場合、位相差特性の発現がより高く、かつ、より相溶性に優れる樹脂となるものである。また、本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体がこれらの群より選ばれる残基単位を含む場合において、一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位が５％より大きい場合、より重合性に優れる樹脂となるものである。
　本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体が一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位を含む場合、アクリル酸エステル残基単位、メタクリル酸エステル残基単位、アクリル酸アミド残基単位またはメタクリル酸アミド残基単位のエステル置換基の一部であるＲ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２は炭素数１～１２のアルキル基、アルキレン基またはエーテル基であり、例えば、メチル（メチレン）基、エチル（エチレン）基、プロピル（プロピレン）基、イソプロピル（イソプロピレン）基、ｓ－ブチル（ｓ－ブチレン）基、ｔ－ブチル（ｔ－ブチレン）基、ｓ－ペンチル（ｓ－ペンチレン）基、ｔ－ペンチル（ｔ－ペンチレン）基、ｓ－ヘキシル（ｓ－ヘキシレン）基、ｔ－ヘキシル（ｔ－ヘキシレン）基、２－エチルヘキシル（２－エチルヘキシレン）基、シクロプロピル（シクロプロピレン）基、シクロペンチル（シクロプロペンチレン）基、シクロヘキシル（シクロヘキシレン）基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ｎ－ブトキシメチル基、ｓ－ブトキシメチル基、ｔ－ブトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、イソプロポキシエチル基、ｎ－ブトキシエチル基、ｓ－ブトキシエチル基、ｔ－ブトキシエチル基等が挙げられる。
　ケイ皮酸エステル共重合体は、フマル酸ジエステル残基単位５～８５モル％、一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位５～４０モル％、およびアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０～９０モル％の割合で含む合計単量体を１００モル％として、ケイ皮酸エステル類と共重合可能な単量体の残基単位０～２０モル％を含んでいてもよい。
　また、本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体は、ベンゼン環が電子吸引性置換基を有するケイ皮酸エステル残基単位を含むものであるとき、一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位２０モル％以上、および下記一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位等の一般式（９）で示される置換ケイ皮酸エステル残基単位５モル％以上を含むことがさらに好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
（式中、Ｒ１４は炭素数１～１２のアルキル基を示す。Ｘはニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基又はフェニル基を示す。）
　本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体が一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位を含むものであるとき、フマル酸ジエステル残基単位が２０モル％以上の場合、より重合性が向上し、該ｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位５モル％以上の場合、位相差発現性がより向上する。すなわち、本発明は、フマル酸エステル共重合体がフマル酸ジエステル残基単位を２０モル％以上含み、かつ、該ｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位を５モル％以上含んでなるフマル酸エステル共重合体であることにより、該共重合体の重合性が高く、かつ、本発明に係る樹脂組成物が光学補償フィルムとして用いられるとき、Ｒｅがより向上しているものである。
　一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位のエステル置換基であるＲ１４は炭素数１～１２のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｓ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ｓ－ペンチル基、ｔ－ペンチル基、ｓ－ヘキシル基、ｔ－ヘキシル基、２－エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。これらの中でも、セルロース樹脂との相溶性から、炭素数１～４のエステル基であるメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基が特に好ましい。置換基Ｘは負の位相差向上に寄与する置換基であり、ニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基又はフェニル基である。一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位としては、例えば、４-ニトロケイ皮酸メチル残基単位、４-ニトロケイ皮酸エチル残基単位、４-ニトロケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-ニトロケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-ニトロケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-ニトロケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-ニトロケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-ニトロケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-フルオロケイ皮酸メチル残基単位、４-フルオロケイ皮酸エチル残基単位、４-フルオロケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-フルオロケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-フルオロケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-フルオロケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-フルオロケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-フルオロケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-クロロケイ皮酸メチル残基単位、４-クロロケイ皮酸エチル、４-クロロケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-クロロケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-クロロケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-クロロケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-クロロケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-クロロケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-ブロモケイ皮酸メチル残基単位、４-ブロモケイ皮酸エチル残基単位、４-ブロモケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-ブロモケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-ブロモケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-ブロモケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-ブロモケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-ブロモケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-ヨードケイ皮酸メチル残基単位、４-ヨードケイ皮酸エチル残基単位、４-ヨードケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-ヨードケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-ヨードケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-ヨードケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-ヨードケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-ヨードケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-シアノケイ皮酸メチル残基単位、４-シアノケイ皮酸エチル残基単位、４-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-シアノケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-シアノケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-シアノケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸メチル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸エチル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸エチル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-フェニルケイ皮酸メチル残基単位、４-フェニルケイ皮酸エチル残基単位、４-フェニルケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-フェニルケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-フェニルケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-フェニルケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-フェニルケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-フェニルケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位から選ばれるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位が挙げられる。
　本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体が一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位を含むものであるとき、ケイ皮酸エステル共重合体は、重合性および相溶性により優れたものとなることから、フマル酸ジエステル残基単位２０～９０モル％、一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位５～７５モル％、および一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位５～３０モル％を含むケイ皮酸エステル共重合体であることが特に好ましい。
　また、本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体が一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位を含むものであり、かつ、フマル酸ジエステル残基単位がフマル酸ジエチル残基単位であるとき、相溶性により優れたケイ皮酸エステル共重合体となることから、フマル酸ジエチル残基単位２０～９０モル％、一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位５～７５モル％、および一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位５～３０モル％を含むケイ皮酸エステル共重合体であることが最も好ましい。
　また、本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体が一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位を含むものであり、かつ、一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位を含むものであるとき、位相差特性および相溶性の点で、一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位２０～９４．５モル％、一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位５～７５モル％、および一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位０．５～３０モル％を含むケイ皮酸エステル共重合体であることが最も好ましい。
　本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体は、フマル酸ジエステル残基単位および一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位を含む合計単量体を１００モル％として、ケイ皮酸エステル類と共重合可能な単量体の残基単位０～２０モル％を含んでいてもよい。
　ケイ皮酸エステル類と共重合可能な単量体の残基単位としては、例えば、スチレン残基、α－メチルスチレン残基などのスチレン類残基；アクリル酸残基；アクリル酸メチル残基、アクリル酸エチル残基、アクリル酸ブチル残基などのアクリル酸エステル類残基；メタクリル酸残基；メタクリル酸メチル残基、メタクリル酸エチル残基、メタクリル酸ブチル残基などのメタクリル酸エステル類残基；酢酸ビニル残基、プロピオン酸ビニル残基などのビニルエステル類残基；メチルビニルエ－テル残基、エチルビニルエ－テル残基、ブチルビニルエ－テル残基などのビニルエ－テル残基；Ｎ－メチルマレイミド残基、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド残基、Ｎ－フェニルマレイミド残基などのＮ－置換マレイミド残基；アクリロニトリル残基；メタクリロニトリル残基；ケイ皮酸メチル残基、ケイ皮酸エチル残基、ケイ皮酸イソプロピル残基、ケイ皮酸－ｎ－プロピル残基、ケイ皮酸－ｎ－ブチル残基、ケイ皮酸－ｓ－ブチル残基、ケイ皮酸－ｔ－ブチル残基などのケイ皮酸エステル残基；ケイ皮酸残基；エチレン残基、プロピレン残基などのオレフィン類残基；ビニルピロリドン残基；ビニルピリジン残基等の１種または２種以上を挙げることができる。
　ケイ皮酸エステル共重合体は、特に機械特性に優れ、製膜時の成形加工性に優れたものとなることから、ゲル・パ－ミエイション・クロマトグラフィ－（ＧＰＣ）により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が１×１０３～５×１０６のものであることが好ましく、５×１０３～２×１０５であることがさらに好ましい。
　本発明の樹脂組成物におけるセルロ－ス系樹脂とケイ皮酸エステル共重合体の組成の割合は、セルロ－ス系樹脂３０～９９重量％およびケイ皮酸エステル共重合体１～７０重量％である。セルロ－ス系樹脂が３０重量％未満の場合（ケイ皮酸エステル共重合体が７０重量％を超える場合）、またはセルロ－ス系樹脂が９９重量％を超える場合（ケイ皮酸エステル共重合体が１重量％未満の場合）は、位相差の制御が困難である。好ましくは、セルロ－ス系樹脂３０～９０重量％およびケイ皮酸エステル共重合体１０～７０重量％であり、さらに好ましくはセルロ－ス系樹脂４０～８０重量％およびケイ皮酸エステル共重合体２０～６０重量％である。
　ケイ皮酸エステル共重合体の製造方法としては、該ケイ皮酸エステル共重合体が得られる限りにおいて如何なる方法により製造してもよい。
　本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体がフマル酸ジエステル残基単位、フマル酸モノエステル残基単位、及びアルコキシケイ皮酸エステル残基単位を含む場合、ケイ皮酸エステル共重合体の製造方法としては、例えば、フマル酸モノエステル類とフマル酸ジエステル類とアルコキシケイ皮酸エステル類、場合によってはフマル酸モノエステル類、フマル酸ジエステル類およびアルコキシケイ皮酸エステル類と共重合可能な単量体を併用し、ラジカル重合を行うことにより製造することができる。この際の該フマル酸モノエステル類としては、例えば、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、フマル酸モノ－ｎ－プロピル、フマル酸モノイソプロピル、フマル酸モノ－ｎ－ブチル、フマル酸モノ－ｓ－ブチル、フマル酸モノ－ｔ－ブチル、フマル酸モノ－ｓ－ペンチル、フマル酸モノ－ｔ－ペンチル、フマル酸モノ－ｓ－ヘキシル、フマル酸モノ－ｔ－ヘキシル、フマル酸モノ－２－エチルヘキシル、フマル酸モノシクロプロピル、フマル酸モノシクロペンチル、フマル酸モノシクロヘキシル等が挙げられ、該フマル酸ジエステル類としては、例えば、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジ－ｎ－プロピル、フマル酸ジイソプロピル、フマル酸ジ－ｎ－ブチル、フマル酸ジ－ｓ－ブチル、フマル酸ジ－ｔ－ブチル、フマル酸ジ－ｓ－ペンチル、フマル酸ジ－ｔ－ペンチル、フマル酸ジ－ｓ－ヘキシル、フマル酸ジ－ｔ－ヘキシル、フマル酸ジ－２－エチルヘキシル、フマル酸ジシクロプロピル、フマル酸ジシクロペンチル、フマル酸ジシクロヘキシル等が挙げられ、該アルコキシケイ皮酸エステル類としては、例えば、４－メトキシケイ皮酸メチル、４－メトキシケイ皮酸エチル、４－メトキシケイ皮酸イソプロピル、４－メトキシケイ皮酸ｎ－プロピル、４－メトキシケイ皮酸ｎ－ブチル、４－メトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、４－メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、４－メトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、４－エトキシケイ皮酸メチル、４－エトキシケイ皮酸エチル、４－エトキシケイ皮酸イソプロピル、４－エトキシケイ皮酸ｎ－プロピル、４－エトキシケイ皮酸ｎ－ブチル、４－エトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、４－エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、４－エトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、４－イソプロポキシケイ皮酸メチル、４－イソプロポキシケイ皮酸エチル、４－イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル、４－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル、４－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル、４－イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、４－イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、４－イソプロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸メチル、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸エチル、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸イソプロピル、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、４－ｎ－プロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸メチル、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸エチル、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、４－ｎ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸メチル、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸エチル、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、４－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸メチル、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸エチル、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、４－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、３－メトキシケイ皮酸メチル、３－メトキシケイ皮酸エチル、３－メトキシケイ皮酸イソプロピル、３－メトキシケイ皮酸ｎ－プロピル、３－メトキシケイ皮酸ｎ－ブチル、３－メトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、３－メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、３－メトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、３－エトキシケイ皮酸メチル、３－エトキシケイ皮酸エチル、３－エトキシケイ皮酸イソプロピル、３－エトキシケイ皮酸ｎ－プロピル、３－エトキシケイ皮酸ｎ－ブチル、３－エトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、３－エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、３－エトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、３－イソプロポキシケイ皮酸メチル、３－イソプロポキシケイ皮酸エチル、３－イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル、３－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル、３－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル、３－イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、３－イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、３－イソプロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸メチル、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸エチル、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸イソプロピル、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、３－ｎ－プロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸メチル、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸エチル、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、３－ｎ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸メチル、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸エチル、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、３－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸３－エチルヘキシル、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸メチル、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸エチル、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、３－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、２－メトキシケイ皮酸メチル、２－メトキシケイ皮酸エチル、２－メトキシケイ皮酸イソプロピル、２－メトキシケイ皮酸ｎ－プロピル、２－メトキシケイ皮酸ｎ－ブチル、２－メトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、２－メトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、２－メトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、２－エトキシケイ皮酸メチル、２－エトキシケイ皮酸エチル、２－エトキシケイ皮酸イソプロピル、２－エトキシケイ皮酸ｎ－プロピル、２－エトキシケイ皮酸ｎ－ブチル、２－エトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、２－エトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、２－エトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、２－イソプロポキシケイ皮酸メチル、２－イソプロポキシケイ皮酸エチル、２－イソプロポキシケイ皮酸イソプロピル、２－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル、２－イソプロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル、２－イソプロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、２－イソプロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、２－イソプロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸メチル、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸エチル、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸イソプロピル、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－プロピル、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｎ－ブチル、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、２－ｎ－プロポキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸メチル、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸エチル、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、２－ｎ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸メチル、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸エチル、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、２－ｓｅｃ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸メチル、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸エチル、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸イソプロピル、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－プロピル、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｎ－ブチル、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、２－ｔｅｒｔ－ブトキシケイ皮酸２－エチルヘキシル等が挙げられる。フマル酸モノエステル類、フマル酸ジエステル類およびアルコキシケイ皮酸エステル類と共重合可能な単量体としては、例えば、スチレン、α－メチルスチレンなどのスチレン類；アクリル酸；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチルなどのアクリル酸エステル類；メタクリル酸；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチルなどのメタクリル酸エステル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル類；メチルビニルエ－テル、エチルビニルエ－テル、ブチルビニルエ－テルなどのビニルエ－テル；Ｎ－メチルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド、Ｎ－フェニルマレイミドなどのＮ－置換マレイミド；アクリロニトリル；メタクリロニトリル；ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸エチル、ケイ皮酸イソプロピル、ケイ皮酸－ｎ－プロピル、ケイ皮酸－ｎ－ブチル、ケイ皮酸－ｓ－ブチル、ケイ皮酸－ｔ－ブチルなどのケイ皮酸エステル；ケイ皮酸；エチレン、プロピレンなどのオレフィン類；ビニルピロリドン；ビニルピリジン等の１種または２種以上を挙げることができる。
　本発明において、ケイ皮酸エステル共重合体がフマル酸ジエステル残基単位及び一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位を含む場合、ケイ皮酸エステル共重合体の製造方法としては、例えば、フマル酸ジエステル類と一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル類、場合によってはフマル酸ジエステル類および該ｐ位置換ケイ皮酸エステル類と共重合可能な単量体を併用し、ラジカル重合を行うことにより製造することができる。該ｐ位置換ケイ皮酸エステル類としては、例えば、４-ニトロケイ皮酸メチル、４-ニトロケイ皮酸エチル、４-ニトロケイ皮酸イソプロピル、４-ニトロケイ皮酸ｎ－プロピル、４-ニトロケイ皮酸ｎ－ブチル、４-ニトロケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、４-ニトロケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、４-ニトロケイ皮酸２－エチルヘキシル、４-フルオロケイ皮酸メチル、４-フルオロケイ皮酸エチル、４-フルオロケイ皮酸イソプロピル、４-フルオロケイ皮酸ｎ－プロピル、４-フルオロケイ皮酸ｎ－ブチル、４-フルオロケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、４-フルオロケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、４-フルオロケイ皮酸２－エチルヘキシル、４-クロロケイ皮酸メチル、４-クロロケイ皮酸エチル、４-クロロケイ皮酸イソプロピル、４-クロロケイ皮酸ｎ－プロピル、４-クロロケイ皮酸ｎ－ブチル、４-クロロケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、４-クロロケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、４-クロロケイ皮酸２－エチルヘキシル、４-ブロモケイ皮酸メチル、４-ブロモケイ皮酸エチル、４-ブロモケイ皮酸イソプロピル、４-ブロモケイ皮酸ｎ－プロピル、４-ブロモケイ皮酸ｎ－ブチル、４-ブロモケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、４-ブロモケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、４-ブロモケイ皮酸２－エチルヘキシル、４-ヨードケイ皮酸メチル、４-ヨードケイ皮酸エチル、４-ヨードケイ皮酸イソプロピル、４-ヨードケイ皮酸ｎ－プロピル、４-ヨードケイ皮酸ｎ－ブチル、４-ヨードケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、４-ヨードケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、４-ヨードケイ皮酸２－エチルヘキシル、４-シアノケイ皮酸メチル、４-シアノケイ皮酸エチル、４-シアノケイ皮酸イソプロピル、４-シアノケイ皮酸ｎ－プロピル、４-シアノケイ皮酸ｎ－ブチル、４-シアノケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、４-シアノケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、４-シアノケイ皮酸２－エチルヘキシル、４-スルホン酸ケイ皮酸メチル、４-スルホン酸ケイ皮酸エチル、４-スルホン酸ケイ皮酸イソプロピル、４-スルホン酸ケイ皮酸ｎ－プロピル、４-スルホン酸ケイ皮酸ｎ－ブチル、４-スルホン酸ケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、４-スルホン酸ケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、４-スルホン酸ケイ皮酸２－エチルヘキシル、４-カルボン酸ケイ皮酸エチル、４-カルボン酸ケイ皮酸イソプロピル、４-カルボン酸ケイ皮酸ｎ－プロピル、４-カルボン酸ケイ皮酸ｎ－ブチル、４-カルボン酸ケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、４-カルボン酸ケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、４-カルボン酸ケイ皮酸２－エチルヘキシル、４-フェニルケイ皮酸メチル、４-フェニルケイ皮酸エチル、４-フェニルケイ皮酸イソプロピル、４-フェニルケイ皮酸ｎ－プロピル、４-フェニルケイ皮酸ｎ－ブチル、４-フェニルケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル、４-フェニルケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル、４-フェニルケイ皮酸２－エチルヘキシル等が挙げられる。また、該共重合可能な単量体としてフマル酸モノエステル類が用いられる場合、フマル酸モノエステル類としては、例えば、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、フマル酸モノ－ｎ－プロピル、フマル酸モノイソプロピル、フマル酸モノ－ｎ－ブチル、フマル酸モノ－ｓ－ブチル、フマル酸モノ－ｔ－ブチル、フマル酸モノ－ｎ－ペンチル、フマル酸モノ－ｓ－ペンチル、フマル酸モノ－ｔ－ペンチルフマル酸モノ－ｎ－ヘキシル、フマル酸モノ－ｓ－ヘキシル、フマル酸モノ－ｔ－ヘキシル、フマル酸モノ－２－エチルヘキシル、フマル酸モノシクロプロピル、フマル酸モノシクロペンチル、フマル酸モノシクロヘキシル等が挙げられる。また、本発明において、ラジカル重合において用いられるその他の共重合可能な単量体としては、例えば、スチレン、α－メチルスチレンなどのスチレン類；アクリル酸；アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチルなどのアクリル酸エステル類；メタクリル酸；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチルなどのメタクリル酸エステル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのビニルエステル類；アクリロニトリル；メタクリロニトリル；ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸エチル、ケイ皮酸プロピルなどのケイ皮酸エステル；ケイ皮酸；エチレン、プロピレンなどのオレフィン類；ビニルピロリドン；ビニルピリジン等の１種または２種以上を挙げることができる。
　ラジカル重合の方法としては、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等のいずれもが採用可能である。
　ラジカル重合を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパ－オキサイド、ラウリルパ－オキサイド、オクタノイルパ－オキサイド、アセチルパ－オキサイド、ジ－ｔ－ブチルパ－オキサイド、ｔ－ブチルクミルパ－オキサイド、ジクミルパ－オキサイド、２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパ－オキシ）ヘキサンなどの有機過酸化物；２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）、２，２’－アゾビス（２－ブチロニトリル）、２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル－２，２’－アゾビスイソブチレ－ト、１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）などのアゾ系開始剤等が挙げられる。
　そして、溶液重合法または沈殿重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族溶媒；メタノ－ル、エタノ－ル、プロピルアルコ－ル、ブチルアルコ－ルなどのアルコ－ル系溶媒；シクロヘキサン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、アセトン、メチルエチルケトン、ジメチルホルムアミド、酢酸イソプロピル等が挙げられ、これらの混合溶媒をも挙げられる。
　また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には３０～１５０℃の範囲で行うことが好ましい。
　本発明の樹脂組成物は、熱安定性を向上させるために酸化防止剤を含有していても良い。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダ－ドフェノ－ル系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシルアミン系酸化防止剤、ビタミンＥ系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられ、これら酸化防止剤はそれぞれ単独でもよく、２種以上を組み合わせてもよい。
　本発明の樹脂組成物は、耐候性を高めるためヒンダ－ドアミン系光安定剤や紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾ－ル、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエ－ト等が挙げられる。
　本発明の樹脂組成物は、いわゆる可塑剤として知られる化合物を、機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水蒸気透過率低減、レタ－デ－ション調整等の目的で添加してもよく、可塑剤としては、例えば、リン酸エステルやカルボン酸エステル等が挙げられる。また、アクリル系ポリマ－なども用いられる。リン酸エステルとしては、例えば、トリフェニルホスフェ－ト、トリクレジルホスフェ－ト、フェニルジフェニルホスフェ－ト等を挙げることが出来る。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステル及びクエン酸エステル等、フタル酸エステルとしては、例えば、ジメチルフタレ－ト、ジエチルフタレ－ト、ジシクロヘキシルフタレ－ト、ジオクチルフタレ－ト及びジエチルヘキシルフタレ－ト等、またクエン酸エステルとしては、クエン酸アセチルトリエチル及びクエン酸アセチルトリブチル等を挙げることが出来る。またその他、オレイン酸ブチル、リシノ－ル酸メチルアセチル、セバチン酸ジブチル、トリアセチン、トリメチロ－ルプロパントリベンゾエ－ト等も挙げられる。アルキルフタリルアルキルグリコレ－トもこの目的で用いられる。アルキルフタリルアルキルグリコレ－トのアルキルは炭素原子数１～８のアルキル基である。アルキルフタリルアルキルグリコレ－トとしては、メチルフタリルメチルグリコレ－ト、エチルフタリルエチルグリコレ－ト、プロピルフタリルプロピルグリコレ－ト、ブチルフタリルブチルグリコレ－ト、オクチルフタリルオクチルグリコレ－ト、メチルフタリルエチルグリコレ－ト、エチルフタリルメチルグリコレ－ト、エチルフタリルプロピルグリコレ－ト、プロピルフタリルエチルグリコレ－ト、メチルフタリルプロピルグリコレ－ト、メチルフタリルブチルグリコレ－ト、エチルフタリルブチルグリコレ－ト、ブチルフタリルメチルグリコレ－ト、ブチルフタリルエチルグリコレ－ト、プロピルフタリルブチルグリコレ－ト、ブチルフタリルプロピルグリコレ－ト、メチルフタリルオクチルグリコレ－ト、エチルフタリルオクチルグリコレ－ト、オクチルフタリルメチルグリコレ－ト、オクチルフタリルエチルグリコレ－ト等を挙げることが出来る。これら可塑剤を２種以上混合して使用してもよい。
　本発明の樹脂組成物は位相差を調整する目的で、芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤を含有していてもよい。位相差を調整する目的で使用される添加剤の下記式（Ａ）で示される複屈折Δｎについては、特に制限はないが、光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから、好ましくは０．０５以上であり、さらに好ましくは０．０５～０．５、特に好ましくは０．１～０．５である。添加剤のΔｎは分子軌道計算によって求めることができる。
　　　　Δｎ＝ｎｙ－ｎｘ　　　　　　　　　　　　（Ａ）
（式中、ｎｘは添加剤分子の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙは添加剤分子の遅相軸方向の屈折率を示す。）
　本発明の樹脂組成物に芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤が含有される場合、本発明の樹脂組成物における芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤は、芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環の分子内の個数については、特に制限はないが、光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから、好ましくは１～１２個であり、さらに好ましくは１～８個である。芳香族炭化水素環としては、例えば、５員環、６員環、７員環または二つ以上の芳香族環からなる縮合環等が挙げられ、芳香族性ヘテロ環としては、例えば、フラン環、チオフェン環、ピロ－ル環、オキサゾ－ル環、チアゾ－ル環、イミダゾ－ル環、トリアゾ－ル環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、１，３，５－トリアジン環等が挙げられる。
　芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、水酸基、エ－テル基、カルボニル基、エステル基、カルボン酸残基、アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基、スルホン酸残基、ホスホニル基、ホスホン酸残基等が挙げられる。
　本発明で用いられる芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤としては、例えば、トリクレジルホスフェ－ト、トリキシレニルホスフェ－ト、トリフェニルホスフェ－ト、２－エチルヘキシルジフェニルホスフェ－ト、クレジルジフェニルホスフェ－ト、ビスフェノ－ルＡビス（ジフェニルホスフェ－ト）等のリン酸エステル系化合物；ジメチルフタレ－ト、ジエチルフタレ－ト、ジブチルフタレ－ト、ジヘキシルフタレ－ト、ジノルマルオクチルフタレ－ト、２－エチルヘキシルフタレ－ト、ジイソオクチルフタレ－ト、ジカプリルフタレ－ト、ジノニルフタレ－ト、ジイソノニルフタレ－ト、ジデシルフタレ－ト、ジイソデシルフタレ－ト等のフタル酸エステル系化合物；トリブチルトリメリテ－ト、トリ－ノルマルヘキシルトリメリテ－ト、トリ（２－エチルヘキシル）トリメリテ－ト、トリ－ノルマルオクチルトリメリテ－ト、トリ－イソクチルトリメリテ－ト、トリ－イソデシルトリメリテ－ト等のトリメリット酸エステル系化合物；トリ（２－エチルヘキシル）ピロメリテ－ト、テトラブチルピロメリテ－ト、テトラ－ノルマルヘキシルピロメリテ－ト、テトラ（２－エチルヘキシル）ピロメリテ－ト、テトラ－ノルマルオクチルピロメリテ－ト、テトラ－イソクチルピロメリテ－ト、テトラ－イソデシルピロメリテ－ト等のピロメリット酸エステル系化合物；安息香酸エチル、安息香酸イソプロピル、パラオキシ安息香酸エチル等の安息香酸エステル系化合物；フェニルサリシレ－ト、ｐ－オクチルフェニルサリシレ－ト、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニルサリシレ－ト等のサリチル酸エステル系化合物；メチルフタリルエチルグリコレ－ト、エチルフタリルエチルグリコレ－ト、ブチルフタリルブチルグリコレ－ト等のグリコ－ル酸エステル系化合物；２－（２’－ヒドロキシ－５’－ｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル、２－（２’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ－ル等のベンゾトリアゾ－ル系化合物；２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２，２’－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２，４－ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－メトキシ－５－スルホベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、Ｎ－ベンゼンスルホンアミド等のスルホンアミド系化合物、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－６－（２－ヒドロキシ－４－エトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－（２－ヒドロキシ－４－プロポキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ジフェニル－（２－ヒドロキシ－４－ブトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン等のトリアジン系化合物等が挙げられ、樹脂との相溶性の点から、好ましくはトリクレジルホスフェ－ト、２－エチルヘキシルジフェニルホスフェ－ト、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’－テトラヒドロキシベンゾフェノンが挙げられ、これらは必要に応じて１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
　本発明の樹脂組成物に芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤が含有される場合、光学特性及び機械的特性の観点から、好ましくは本発明の樹脂組成物における芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤の割合は０．０１～３０重量％であり（上記の樹脂成分：７０～９９．９９重量％）、さらに好ましくは０．０１～２０重量％、特に好ましくは０．０１～１５重量％である。
　本発明の樹脂組成物は、発明の主旨を超えない範囲で、その他ポリマ－、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等を含有していてもよい。
　本発明の樹脂組成物は、セルロ－ス系樹脂とケイ皮酸エステル共重合体をブレンドすることにより得ることができる。
　ブレンドの方法としては、溶融ブレンド、溶液ブレンド等の方法を用いることができる。芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤が本発明の樹脂組成物に含有される場合における溶融ブレンド法とは、加熱により樹脂と芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤を溶融させて混練することにより製造する方法である。溶液ブレンド法とは樹脂と芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤を溶剤に溶解しブレンドする方法である。溶液ブレンドに用いる溶剤としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルムなどの塩素系溶剤；トルエン、キシレンなどの芳香族溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メタノ－ル、エタノ－ル、プロパノ－ル等のアルコ－ル溶剤；ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエ－テル溶剤；ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルピロリドン等を用いることができる。各樹脂および芳香族炭化水素環または芳香族性ヘテロ環を有する添加剤を溶剤に溶解したのちブレンドすることも可能であり、各樹脂の粉体、ペレット等を混練後、溶剤に溶解させることも可能である。得られたブレンド樹脂溶液を貧溶剤に投入し、樹脂組成物を析出させることも可能であり、またブレンド樹脂溶液のまま光学補償フィルムの製造に用いることも可能である。
　本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、フィルムの取扱い性及び光学部材の薄膜化への適合性の観点から、厚みが５～２００μｍであることが好ましく、１０～１００μｍがさらに好ましく、２０～８０μｍが特に好ましく、２０～６０μｍがもっとも好ましい。
　本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの位相差特性は、目的とする光学補償フィルムにより異なるものであり、例えば、１）下記式（１）で示される面内位相差（Ｒｅ）が好ましくは８０～３００ｎｍ、さらに好ましくは１００～３００ｎｍ、特に好ましくは１００～２８０ｎｍであって、下記式（２）で示されるＮｚ係数が好ましくは０．３５～０．６５、さらに好ましくは０．４５～０．５５であるもの、２）面内位相差（Ｒｅ）が好ましくは５０～２００ｎｍ、さらに好ましくは８０～１６０ｎｍであって、Ｎｚ係数が好ましくは－０．２～０．２、さらに好ましくは－０．１～０．１であるもの、３）面内位相差（Ｒｅ）が好ましくは０～２０ｎｍ、さらに好ましくは０～５ｎｍ、下記式（３）で示される面外位相差（Ｒｔｈ）が好ましくは－１５０～２０ｎｍ、さらに好ましくは－１５０～１０ｎｍ、特に好ましくは－１２０～０ｎｍであるもの等が挙げられる。このときの位相差特性は全自動複屈折計（王子計測機器株式会社製、商品名ＫＯＢＲＡ－２１ＡＤＨ）を用い、測定波長５８９ｎｍの条件で測定されるものである。
　これらは、従来のセルロ－ス系樹脂からなる光学補償フィルムでは発現が困難な位相差特性を有している。
　　　Ｒｅ＝（ｎｙ－ｎｘ）×ｄ　　　　　　　　　　　（１）
　　　Ｎｚ＝（ｎｙ－ｎｚ）／（ｎｙ－ｎｘ）　　　　　（２）
　　　Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ］×ｄ　　　（３）
（式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
　本発明の光学フィルムの波長分散特性としては、色ずれ抑制のため、好ましくは０．６０＜Ｒｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）＜１．０５であり、さらに好ましくは０．６１＜Ｒｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）＜１．０２であり、特に好ましくは０．６１＜Ｒｅ（４５０）/Ｒｅ（５５０）＜１．００である。
　本発明のセルロ－ス系樹脂としてセルロ－スエ－テルを使用した場合、単独では、低波長分散の光学フィルムを提供することができる。このフィルムに、延伸方向に対して負の複屈折性を示すケイ皮酸エステル共重合体をブレンドした樹脂組成物は、一般的に逆波長分散性を示す光学フィルムを提供することができるものである。
　これらの位相差特性および波長分散特性を同時に満足することは、従来のセルロ－ス系樹脂を用いた光学補償フィルムでは発現が困難であるが、本発明においてセルロ－スエ－テルを用いる場合には、本発明に係る樹脂組成物を用いた光学補償フィルムがこれらの特性を同時に満足するものである。
　本発明の光学補償フィルムは、必要膜厚を薄くするため、５８９ｎｍにおけるレタ－デ－ションとフィルム膜厚の比Ｒｅ（５８９）（ｎｍ）／フィルム膜厚（μｍ）が４．０ｎｍ／μｍ以上であることが好ましい。
　本発明の光学補償フィルムは、輝度向上のため、光線透過率が好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上である。
　本発明の光学補償フィルムは、コントラスト向上のため、ヘ－ズが好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。
　本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの製造方法としては、本発明の光学補償フィルムの製造が可能であれば如何なる方法を用いてもよいが、光学特性、耐熱性、表面特性などに優れる光学補償フィルムが得られることから、溶液キャスト法により製造することが好ましい。ここで、溶液キャスト法とは、樹脂溶液（一般にはド－プと称する。）を支持基板上に流延した後、加熱することにより溶媒を蒸発させて光学補償フィルムを得る方法である。流延する方法としては、例えば、Ｔダイ法、ドクタ－ブレ－ド法、バ－コ－タ－法、ロ－ルコ－タ－法、リップコ－タ－法等が用いられ、工業的には、ダイからド－プをベルト状またはドラム状の支持基板に連続的に押し出す方法が一般的に用いられている。また、用いられる支持基板としては、例えば、ガラス基板、ステンレスやフェロタイプ等の金属基板、ポリエチレンテレフタレ－ト等のプラスチック基板などがある。高度に表面性、光学均質性の優れた基板を工業的に連続製膜するには、表面を鏡面仕上げした金属基板が好ましく用いられる。溶液キャスト法において、厚み精度、表面平滑性に優れた光学補償フィルムを製造する際には、樹脂溶液の粘度は極めて重要な因子であり、樹脂溶液の粘度は樹脂の濃度、分子量、溶媒の種類に依存するものである。
　本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムを製造する際の樹脂溶液は、セルロ－ス系樹脂とケイ皮酸エステル共重合体を溶媒に溶解し調製する。樹脂溶液の粘度は、重合体の分子量、重合体の濃度、溶媒の種類で調整可能である。樹脂溶液の粘度としては特に制限はないが、フィルム塗工性をより容易にするため、好ましくは１００～１００００ｃｐｓ、さらに好ましくは３００～５０００ｃｐｓ、特に好ましくは５００～３０００ｃｐｓである。
　本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムの製造方法としては、例えば、樹脂成分として下記一般式（１）で示されるセルロ－ス系樹脂３０～９９重量％、およびケイ皮酸エステル共重合体１～７０重量％を含有する樹脂組成物を溶剤に溶解し、得られた樹脂溶液を基材にキャストし、乾燥後、基材より剥離することが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素または炭素数１～１２の置換基を示す。）
　本発明の樹脂組成物を用いて得られた光学補償フィルムは、面内位相差（Ｒｅ）を発現するために一軸延伸またはアンバランス二軸延伸することが好ましい。光学補償フィルムを延伸する方法としては、ロ－ル延伸による縦一軸延伸法やテンタ－延伸による横一軸延伸法、これらの組み合わせによるアンバランス逐次二軸延伸法やアンバランス同時二軸延伸法等を用いることができる。また本発明では、熱収縮性フィルムの収縮力の作用下に延伸を行う特殊延伸法を用いずに位相差特性を発現させることができる。
　延伸する際の光学補償フィルムの厚みは、延伸処理のし易さおよび光学部材の薄膜化への適合性の観点から、１０～２００μｍが好ましく、３０～１５０μｍがさらに好ましく、３０～１００μｍが特に好ましい。
　延伸の温度は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、好ましくは５０～２００℃、さらに好ましくは１００～１８０℃である。一軸延伸の延伸倍率は特に制限はないが、良好な位相差特性が得られることから、１．０５～４.０倍が好ましく、１．１～３．５倍がさらに好ましい。アンバランス二軸延伸の延伸倍率は特に制限はないが、光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから長さ方向には１．０５～４.０倍が好ましく、１．１～３．５倍がさらに好ましく、光学特性に優れた光学補償フィルムとなることから、幅方向には１．０１～１．２倍が好ましく、１．０５～１．１倍がさらに好ましい。延伸温度、延伸倍率により面内位相差（Ｒｅ）を制御することができる。
　本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、必要に応じて他樹脂を含むフィルムと積層することができる。他樹脂としては、例えば、ポリエ－テルサルフォン、ポリアリレ－ト、ポリエチレンテレフタレ－ト、ポリナフタレンテレフタレ－ト、ポリカ－ボネ－ト、環状ポリオレフィン、マレイミド系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド等が挙げられる。また、ハ－ドコ－ト層やガスバリア層を積層することも可能である。
　本発明の樹脂組成物を用いた光学補償フィルムは、薄膜で特定の位相差特性を示すことから、液晶ディスプレイ用光学補償フィルムや反射防止用フィルムとして有用である。
　以下、本発明を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
　なお、実施例により示す諸物性は、以下の方法により測定した。
　＜重合体の解析＞
　重合体の構造解析は核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名：ＪＮＭ－ＧＸ２７０）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（１Ｈ－ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。
　重合体がフマル酸モノエステル残基単位を含む場合において、１Ｈ－ＮＭＲスペクトル分析より組成比解析が困難な場合はＪＩＳ　Ｋ　２５０１（２００３版）石油製品及び潤滑油－中和価試験方法に則ってフマル酸モノエステル濃度を求めた。
　＜数平均分子量の測定＞
　ゲル・パ－ミエイション・クロマトグラフィ－（ＧＰＣ）装置（東ソ－製、商品名：Ｃ０－８０１１（カラムＧＭＨＨＲ－Ｈを装着））を用い、テトラヒドロフラン、またはジメチルホルムアミドを溶媒として、４０℃で測定し、標準ポリスチレン換算値として求めた。
　＜光学補償フィルムの光線透過率およびヘ－ズの測定＞
　作成したフィルムの光線透過率およびヘ－ズは、ヘ－ズメ－タ－（日本電色工業製、商品名：ＮＤＨ２０００）を使用し、光線透過率の測定はＪＩＳ　Ｋ　７３６１－１（１９９７版）に、ヘ－ズの測定はＪＩＳ－Ｋ　７１３６（２０００年版）に、それぞれ準拠して測定した。
　＜位相差特性の測定＞
　試料傾斜型自動複屈折計（王子計測機器製、商品名：ＫＯＢＲＡ－ＷＲ）を用いて波長５８９ｎｍの光を用いて光学補償フィルムの位相差特性を測定した。
　＜波長分散特性の測定＞
　試料傾斜型自動複屈折計（王子計測機器製、商品名：ＫＯＢＲＡ－ＷＲ）を用い、波長４５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（４５０）と波長５５０ｎｍの光による位相差Ｒｅ（５５０）の比として光学補償フィルムの波長分散特性を測定した。
　合成例１（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸モノエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体）の合成１）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸モノエチル１２ｇ、４－メトキシケイ皮酸エチル３７ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４０ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝５０／５０（重量％／重量％）２ｋｇ中に滴下して析出、メタノール／水＝５０／５０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フフマル酸モノエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体２３ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は３１，０００、フマル酸モノエチル残基単位４０モル％、４－メトキシケイ皮酸エチル残基単位６０モル％であった。
　合成例２（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４－エトキシケイ皮酸メチル共重合体）の合成２）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸モノエチル６．３ｇ、フマル酸ジイソプロピル１５ｇ、４－エトキシケイ皮酸メチル２９ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４８ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇ中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４－エトキシケイ皮酸メチル共重合体３１ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は３８，０００、フマル酸モノエチル残基単位２２モル％、フマル酸ジイソプロピル残基単位４０モル％、４－エトキシケイ皮酸メチル残基単位３８モル％であった。
　合成例３（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸モノイソプロピル／フマル酸ジエチル／４－メトキシケイ皮酸イソプロピル共重合体）の合成３）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸モノイソプロピル４．３ｇ、フマル酸ジエチル１３ｇ、４－メトキシケイ皮酸イソプロピル３３ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４６ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、１０時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸モノイソプロピル／フマル酸ジエチル／４－メトキシケイ皮酸イソプロピル共重合体２９ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は３３，０００、フマル酸モノイソプロピル残基単位１６モル％、フマル酸ジエチル残基単位４１モル％、４－メトキシケイ皮酸イソプロピル残基単位４３モル％であった。
　合成例４（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸モノエチル／フマル酸ジエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体）の合成４）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸モノエチル１．０ｇ、フマル酸ジエチル１１ｇ、４－メトキシケイ皮酸エチル３９ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４３ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、１０時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸モノエチル／フマル酸ジエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体２７ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は３３，０００、フマル酸モノエチル残基単位４．５モル％、フマル酸ジエチル残基単位３５．５モル％、４－メトキシケイ皮酸エチル残基単位６０モル％であった。
　合成例５（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４－メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル共重合体）の合成５）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸モノエチル５．０ｇ、フマル酸ジイソプロピル３８ｇ、４－メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル７．３ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４６ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝７０／３０（重量％／重量％）中に滴下して析出、メタノール／水＝７０／３０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４－メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル共重合体２４ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は３１，０００、フマル酸モノエチル残基単位１３モル％、フマル酸ジイソプロピル残基単位７２モル％、４－メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル残基単位１５モル％であった。
　合成例６（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４－メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル共重合体）の合成６）
容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸モノエチル１．６ｇ、フマル酸ジイソプロピル４．８ｇ、４－メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル４４ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．１８ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、６０時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をヘキサン中に滴下して析出、ヘキサン２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４－メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル共重合体１１ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は３６，０００、フマル酸モノエチル残基単位７モル％、フマル酸ジイソプロピル残基単位１１モル％、４－メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル残基単位８２モル％であった。
　合成例７（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体）の合成７）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル１０ｇ、Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド５．０ｇ、４－メトキシケイ皮酸エチル３５ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４４ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇ中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体２４ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は２４，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位３５モル％、Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド残基単位１５モル％、４－メトキシケイ皮酸エチル残基単位５０モル％であった。
　合成例８（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体）の合成８）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジエチル９．３ｇ、アクリル酸２－ヒドロキシエチル３．７ｇ、４－メトキシケイ皮酸エチル３７ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．５２ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇ中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体２２ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は２２，０００、フマル酸ジエチル残基単位３６モル％、アクリル酸２－ヒドロキシエチル残基単位１４モル％、４－メトキシケイ皮酸エチル残基単位５０モル％であった。
　合成例９（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体）の合成９）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル２３ｇ、アクリル酸２－ヒドロキシエチル２．３ｇ、４－メトキシケイ皮酸エチル２５ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．５０ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇ中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体２９ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は３６，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位５８モル％、アクリル酸２－ヒドロキシエチル残基単位１０モル％、４－メトキシケイ皮酸エチル残基単位３２モル％であった。
　合成例１０（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体）の合成１０）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル１８ｇ、アクリル酸２－ヒドロキシエチル０．３０ｇ、４－メトキシケイ皮酸エチル３２．０ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４５ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６０℃の恒温槽に入れ、４８時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液をメタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇ中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体２７ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は３７，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位５７モル％、アクリル酸２－ヒドロキシエチル残基単位３モル％、４－メトキシケイ皮酸エチル残基単位４０％モルであった。
　合成例１１（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体）の合成１１）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル５７ｇ、フマル酸モノエチル５．１ｇ、４－ニトロケイ皮酸エチル３．９ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４６ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体２２ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は１８，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位７８モル％、フマル酸モノエチル残基単位１２モル％、４－ニトロケイ皮酸エチル残基単位１０モル％であった。
　合成例１２（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノイソプロピル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体）の合成１２）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル５３ｇ、フマル酸モノイソプロピル５．８ｇ、４－ニトロケイ皮酸エチル６．０ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．９１ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６５℃の恒温槽に入れ、１２０時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノイソプロピル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体３１ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は１６，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位６８モル％、フマル酸モノイソプロピル残基単位１５モル％、４－ニトロケイ皮酸エチル残基単位１７モル％であった。
　合成例１３（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノイソプロピル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体）の合成１３）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル４８ｇ、フマル酸モノイソプロピル５．７ｇ、４－ニトロケイ皮酸エチル１１．０ｇおよび重合開始剤である１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）０．５６７ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを８０℃の恒温槽に入れ、１４４時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノイソプロピル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体１０ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は１３，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位５１モル％、フマル酸モノイソプロピル残基単位１６モル％、４－ニトロケイ皮酸エチル残基単位３３モル％であった。
　合成例１４（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体）の合成１４）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル４０ｇ、フマル酸モノエチル４．９ｇ、４－シアノケイ皮酸エチル５．２ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４９ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６５℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体１７ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は２５，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位７８モル％、フマル酸モノエチル残基単位９モル％、４－シアノケイ皮酸エチル残基単位１３モル％であった。
　合成例１５（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体）の合成１５）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル４５ｇ、フマル酸モノエチル６．０ｇ、４－シアノケイ皮酸エチル１２．９ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．９２９ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６５℃の恒温槽に入れ、１２０時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体１４ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は１７，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位５８モル％、フマル酸モノエチル残基単位モル１０％、４－シアノケイ皮酸エチル残基単位モル３２％であった。
　合成例１６（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－ブロモケイ皮酸エチル共重合体）の合成１６）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル４７ｇ、フマル酸モノエチル７．２ｇ、４－ブロモケイ皮酸エチル１１．０ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．９１ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６５℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－ブロモケイ皮酸エチル共重合体３３ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は２５，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位モル７３％、フマル酸モノエチル残基単位モル１２％、４－ブロモケイ皮酸エチル残基単位モル１５％であった。
　合成例１７（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体）の合成１７）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル５９ｇ、フマル酸モノエチル２．５ｇ、４－ニトロケイ皮酸エチル３．８ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．９９ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体３０ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は２４，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位８７モル％、フマル酸モノエチル残基単位４モル％、４－ニトロケイ皮酸エチル残基単位９モル％であった。
　合成例１８（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体）の合成１８）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル５８ｇ、フマル酸モノエチル３．０ｇ、４－シアノケイ皮酸エチル７．０ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．９０ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体１６ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は２１，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位８１モル％、フマル酸モノエチル残基単位４モル％、４－シアノケイ皮酸エチル残基単位１５モル％であった。
　合成例１９（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体）の合成１９）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジエチル５８ｇ、フマル酸モノエチル２．７ｇ、４－ニトロケイ皮酸エチル４．１ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン２．１７ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６５℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体２７ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は１６，０００、フマル酸ジエチル残基単位８４モル％、フマル酸モノエチル残基単位６モル％、４－ニトロケイ皮酸エチル残基単位１０モル％であった。
　合成例２０（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体）の合成２０）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジエチル５３ｇ、４－ニトロケイ皮酸エチル１２ｇおよび重合開始剤である１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）０．５６７ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを８０℃の恒温槽に入れ、１４４時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体１３ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は１３，０００、フマル酸ジエチル残基単位６９モル％、４－ニトロケイ皮酸エチル残基単位３１モル％であった。
　合成例２１（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体）の合成２１）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジエチル５７ｇ、フマル酸モノエチル２．７ｇ、４－シアノケイ皮酸エチル５．２ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン２．１７ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６５℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体３３ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は２１，０００、フマル酸ジエチル残基単位８５モル％、フマル酸モノエチル残基単位５モル％、４－シアノケイ皮酸エチル残基単位１０モル％であった。
　合成例２２（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体）の合成２２）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジエチル５４ｇ、４－シアノケイ皮酸エチル１１．０ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン２．１２ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６５℃の恒温槽に入れ、１２０時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体１５ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は１５，０００、フマル酸ジエチル残基単位６８モル％、４－シアノケイ皮酸エチル残基単位モル３２％であった。
　合成例２３（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４－ブロモケイ皮酸エチル共重合体）の合成２３）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジエチル５２ｇ、フマル酸モノエチル３．２ｇ、４－ブロモケイ皮酸エチル９．８ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン２．１７ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６５℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４－ブロモケイ皮酸エチル共重合体３４ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は２３，０００、フマル酸ジエチル残基単位モル８３％、フマル酸モノエチル残基単位モル５％、４－ブロモケイ皮酸エチル残基単位モル１２％であった。
　合成例２４（フマル酸ジ－ｔ－ブチルの合成）
　攪拌機および温度計を備えた３００ｍＬのオートクレーブに、エチレングリコールジメチルエーテル６０ｍＬ、マレイン酸２０ｇ、硫酸４ｇを仕込んだ後２－メチルプロピレン５１ｇを圧入し、撹拌しながら４０℃で２時間反応した。
　上記反応で得られた反応液を中和および水洗することにより得られたマレイン酸ジ－ｔ－ブチルのエチレングリコールジメチルエーテル溶液８０ｍＬおよびピペリジン０．３ｇを攪拌機、冷却器および温度計を備えた１５０ｍＬの三口に仕込み、撹拌しながら１１０℃で２時間反応させた。得られた反応液をＧＣ分析した結果、フマル酸ジ－ｔ－ブチルへの異性化率は９９％だった。得られた反応液の溶媒を留去した後昇華をし、純度９９％のフマル酸ジ－ｔ－ブチル２２ｇを得た。
　合成例２５（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体）の合成２４）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジ－ｔ－ブチル５７ｇ、フマル酸モノエチル５．７ｇ、４－ニトロケイ皮酸エチル３．４ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．７５ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体２６ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は２２，０００、フマル酸ジ－ｔ－ブチル残基単位７７モル％、フマル酸モノエチル残基単位１３モル％、４－ニトロケイ皮酸エチル残基単位１０モル％であった。
　合成例２６（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノイソプロピル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体）の合成２５）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジ－ｔ－ブチル５３ｇ、フマル酸モノイソプロピル５．８ｇ、４－ニトロケイ皮酸エチル５．５ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．７５ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６５℃の恒温槽に入れ、１２０時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノイソプロピル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体３３ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は１８，０００、フマルジ－ｔ－ブチル残基単位６９モル％、フマル酸モノイソプロピル残基単位１５モル％、４－ニトロケイ皮酸エチル残基単位１６モル％であった。
　合成例２７（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノイソプロピル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体）の合成２６）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジ－ｔ－ブチル４８ｇ、フマル酸モノイソプロピル５．３ｇ、４－ニトロケイ皮酸エチル１０．１ｇおよび重合開始剤である１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）０．８２３ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを８０℃の恒温槽に入れ、１４４時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノイソプロピル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体１３ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は１５，０００、フマル酸ジ－ｔ－ブチル残基単位５３モル％、フマル酸モノイソプロピル残基単位１５モル％、４－ニトロケイ皮酸エチル残基単位３２モル％であった。
　合成例２８（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体）の合成２７）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジ－ｔ－ブチル４０ｇ、フマル酸モノエチル４．０ｇ、４－シアノケイ皮酸エチル４．７ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．４９ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６５℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体２１ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は２８，０００、フマル酸ジ－ｔ－ブチル残基単位７７モル％、フマル酸モノエチル残基単位１０モル％、４－シアノケイ皮酸エチル残基単位１３モル％であった。
　合成例２９（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体）の合成２８）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジ－ｔ－ブチル４５ｇ、フマル酸モノエチル５．１ｇ、４－シアノケイ皮酸エチル１１．０ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．６９６ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６５℃の恒温槽に入れ、１２０時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体１５ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は１９，０００、フマル酸ジ－ｔ－ブチル残基単位５８モル％、フマル酸モノエチル残基単位モル９％、４－シアノケイ皮酸エチル残基単位モル３３％であった。
　合成例３０（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－ブロモケイ皮酸エチル共重合体）の合成２９）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジ－ｔ－ブチル４７ｇ、フマル酸モノエチル６．０ｇ、４－ブロモケイ皮酸エチル９．６ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．７０ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６５℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－ブロモケイ皮酸エチル共重合体３８ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は３０，０００、フマル酸ジ－ｔ－ブチル残基単位７４モル％、フマル酸モノエチル残基単位１１モル％、４－ブロモケイ皮酸エチル残基単位１５モル％であった。
　合成例３１（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体）の合成３０）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジ－ｔ－ブチル５９ｇ、フマル酸モノエチル２．１ｇ、４－ニトロケイ皮酸エチル３．２ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．６８ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６２℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体３５ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は２９，０００、フマル酸ジ－ｔ－ブチル残基単位８７モル％、フマル酸モノエチル残基単位４モル％、４－ニトロケイ皮酸エチル残基単位９モル％であった。
　合成例３２（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体）の合成３１）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル４９ｇ、フマル酸ジエチル６．７ｇ、アクリル酸２－ヒドロキシエチル４．０ｇ、４－ニトロケイ皮酸エチル４．９ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．９７ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６５℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体２７ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は２１，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位６９モル％、フマル酸ジエチル残基単位１０モル％、アクリル酸２－ヒドロキシエチル残基単位１０モル％、４－ニトロケイ皮酸エチル残基単位１１モル％であった。
　合成例３３（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体）の合成３２）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル５０ｇ、Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド８．０ｇ、４－ニトロケイ皮酸エチル６．８ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．９１ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６５℃の恒温槽に入れ、１２０時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体２８ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は１５，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位７０モル％、Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド残基単位１５モル％、４－ニトロケイ皮酸エチル残基単位１５モル％であった。
　合成例３４（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体）の合成３３）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル４２ｇ、フマル酸ジエチル６．３ｇ、アクリル酸２－ヒドロキシエチル４．０ｇ、４－ニトロケイ皮酸エチル１１．０ｇおよび重合開始剤である１，１’－アゾビス（シクロヘキサン－１－カルボニトリル）０．９１８ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを８０℃の恒温槽に入れ、１４４時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体１０ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は１１，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位４７モル％、フマル酸ジエチル残基単位１０モル％、アクリル酸２－ヒドロキシエチル残基単位９モル％、４－ニトロケイ皮酸エチル残基単位３４モル％であった。
　合成例３５（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体）の合成３４）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル４１ｇ、フマル酸ジエチル６．７ｇ、アクリル酸２－ヒドロキシエチル４．０ｇ、４－シアノケイ皮酸エチル１３．０ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．９７ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６５℃の恒温槽に入れ、１２０時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体１２ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は１５，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位４５モル％、フマル酸ジエチル残基単位１１モル％、アクリル酸２－ヒドロキシエチル残基単位１１モル％、４－シアノケイ皮酸エチル残基単位３３％モルであった。
　合成例３６（ケイ皮酸エステル共重合体（フマル酸ジイソプロピル／Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド／４－ブロモケイ皮酸エチル共重合体）の合成３５）
　容量７５ｍＬのガラスアンプルにフマル酸ジイソプロピル４７ｇ、Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド７．１ｇ、４－ブロモケイ皮酸エチル１０．７ｇおよび重合開始剤である２，５－ジメチル－２，５－ジ（２－エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン１．８５ｇを入れ、窒素置換と抜圧を繰り返したのち減圧状態で熔封した。このアンプルを６５℃の恒温槽に入れ、７２時間保持することによりラジカル重合をした。重合反応終了後、アンプルから重合物を取出し、テトラヒドロフラン５０ｇで溶解させた。このポリマー溶液を２ｋｇのヘキサン中に滴下して析出、メタノール／水＝６０／４０（重量％／重量％）２ｋｇで洗浄した後、８０℃で１０時間真空乾燥することにより、フマル酸ジイソプロピル／Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド／４－ブロモケイ皮酸エチル共重合体３１ｇを得た。得られた重合体の数平均分子量は２１，０００、フマル酸ジイソプロピル残基単位７２モル％、Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド残基単位１３モル％、４－ブロモケイ皮酸エチル残基単位１５モル％であった。
　実施例１
　セルロース系樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製　エトセル　スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ　ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）１０５ｇ、合成例１により得られたフマル酸モノエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体４５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：７０重量％、フマル酸モノエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体：３０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
　得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000086
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例２
　実施例１で用いたエチルセルロース１０５ｇ、合成例２により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４－エトキシケイ皮酸メチル共重合体４５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：７０重量％、フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４－エトキシケイ皮酸メチル共重合体：３０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例３
　実施例１で用いたエチルセルロース９７ｇ、合成例３により得られたフマル酸モノイソプロピル／フマル酸ジエチル／４－メトキシケイ皮酸イソプロピル共重合体５３ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６５重量％、フマル酸モノイソプロピル／フマル酸ジエチル／４－メトキシケイ皮酸イソプロピル共重合体：３５重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例４
　実施例１で用いたエチルセルロース１０５ｇ、合成例４により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体４５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：７０重量％、フマル酸モノエチル／フマル酸ジエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体：３０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例５
　実施例１で用いたエチルセルロース９２ｇ、合成例５により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４－メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル共重合体５８ｇをトルエン：アセトン＝９５：５（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃の後１４０℃にて２段乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６０重量％、フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４－メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル共重合体：４０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例６
　実施例１で用いたエチルセルロース１１２ｇ、合成例６により得られたフマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４－メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル共重合体３８ｇをトルエン：アセトン＝９０：１０（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度６０℃にて乾燥した後１４０℃にて２段乾燥後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：７５重量％、フマル酸モノエチル／フマル酸ジイソプロピル／４－メトキシケイ皮酸ｎ‐プロピル共重合体：２５重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例７
　実施例１で用いたエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製　エトセル　スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ　ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）９７ｇ、合成例７により得られたフマル酸ジイソプロピル／Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体５３ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６５重量％、フマル酸ジイソプロピル／Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体：３５重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
　得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例８
　実施例１で用いたエチルセルロース９７ｇ、合成例８により得られたフマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体５３ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６５重量％、フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体：３５重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例９
　実施例１で用いたエチルセルロース９０ｇ、合成例９により得られたフマル酸ジイソプロピル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体６０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６０重量％、フマル酸ジイソプロピル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体：４０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例１０
　実施例１で用いたエチルセルロース９７ｇ、合成例１０により得られたフマル酸ジイソプロピル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体５３ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６５重量％、フマル酸ジイソプロピル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体：３５重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表１に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例１１
　セルロース系樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製　エトセル　スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ　ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）８０ｇ、合成例１１により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体７０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５３重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体：４７重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
　得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000087
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例１２
　実施例１で用いたエチルセルロース９０ｇ、合成例１２により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノイソプロピル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体６０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６０重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノイソプロピル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体：４０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例１３
　実施例１で用いたエチルセルロース１０５ｇ、合成例１３により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノイソプロピル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体４５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：７０重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノイソプロピル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体：３０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例１４
　実施例１で用いたエチルセルロース７５ｇ、合成例１４により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体７５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５０重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体：５０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例１５
　実施例１で用いたエチルセルロース９０ｇ、合成例１５により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体６０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６０重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体：４０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例１６
　実施例１で用いたエチルセルロース７５ｇ、合成例１６により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－ブロモケイ皮酸エチル共重合体７５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５０重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－ブロモケイ皮酸エチル共重合体：５０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例１７
　実施例１で用いたエチルセルロース７５ｇ、合成例１７により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体７５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５０重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル：５０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有しており、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例１８
　実施例１で用いたエチルセルロース７５ｇ、合成例１８により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体７５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５０重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体：５０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有しており、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例１９
　セルロース系樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製　エトセル　スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ　ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）８０ｇ、合成例１９により得られたフマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体７０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５３重量％、フマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体：４７重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
　得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例２０
　実施例１で用いたエチルセルロース９０ｇ、合成例２０により得られたフマル酸ジエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体６０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６０重量％、フマル酸ジエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体：４０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例２１
　実施例１で用いたエチルセルロース７５ｇ、合成例２１により得られたフマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体７５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５０重量％、フマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体：５０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例２２
　実施例１で用いたエチルセルロース８５ｇ、合成例２２により得られたフマル酸ジエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体６５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５７重量％、フマル酸ジエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体：４３重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例２３
　実施例１で用いたエチルセルロース７５ｇ、合成例２３により得られたフマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４－ブロモケイ皮酸エチル共重合体７５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５０重量％、フマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４－ブロモケイ皮酸エチル共重合体：５０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例２４
　セルロース系樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製　エトセル　スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ　ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）８０ｇ、合成例２５により得られたフマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体７０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５３重量％、フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体：４７重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
　得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例２５
　実施例１で用いたエチルセルロース９０ｇ、合成例２６により得られたフマル酸ジ－t－ブチル／フマル酸モノイソプロピル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体６０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６０重量％、フマル酸ジ－t－ブチル／フマル酸モノイソプロピル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体：４０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例２６
　実施例１で用いたエチルセルロース１０５ｇ、合成例２７により得られたフマル酸ジ－t－ブチル／フマル酸モノイソプロピル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体４５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：７０重量％、フマル酸ジ－t－ブチル／フマル酸モノイソプロピル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体：３０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例２７
　実施例１で用いたエチルセルロース７５ｇ、合成例２８により得られたフマル酸ジ－t－ブチル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体７５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５０重量％、フマル酸ジ－t－ブチル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体：５０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例２８
　実施例１で用いたエチルセルロース９０ｇ、合成例２９により得られたフマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体６０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６０重量％、フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体：４０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例２９
　実施例１で用いたエチルセルロース７５ｇ、合成例３０により得られたフマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－ブロモケイ皮酸エチル共重合体７５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５０重量％、フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－ブロモケイ皮酸エチル共重合体：５０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例３０
　実施例１で用いたエチルセルロース７５ｇ、合成例３１により得られたフマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体７５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５０重量％、フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル：５０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有しており、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例３１
　セルロース系樹脂としてエチルセルロース（ダウ・ケミカル社製　エトセル　スタンダード（ＥＴＨＯＣＥＬ　ｓｔａｎｄａｒｄ）１００、分子量Ｍｎ＝５５，０００、分子量Ｍｗ＝１７６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．２、全置換度ＤＳ＝２．５）７８ｇ、合成例３２により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体７２ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５２重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体：４８重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。
　得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例３２
　実施例１で用いたエチルセルロース８８ｇ、合成例３３により得られたフマル酸ジイソプロピル／Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体６２ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５９重量％、フマル酸ジイソプロピル／Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体：４１重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例３３
　実施例１で用いたエチルセルロース１０２ｇ、合成例３４により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体４８ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：６８重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体：３２重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例３４
　実施例１で用いたエチルセルロース８８ｇ、合成例３５により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体６２ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５９重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－シアノケイ皮酸エチル共重合体：４１重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　実施例３５
　実施例１で用いたエチルセルロース７５ｇ、合成例３６により得られたフマル酸ジイソプロピル／Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド／４－ブロモケイ皮酸エチル共重合体７５ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、コーターによりポリエチレンテレフタレートフィルム上に流涎し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：５０重量％、フマル酸ジイソプロピル／Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド／４－ブロモケイ皮酸エチル共重合体：５０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表２に合わせて示す。
　得られた光学補償フィルムは、光線透過率が高く透明性に優れる、ヘーズが小さい、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有するものであり、かつ、Ｒｅ（５８９）／フィルム膜厚が大きいものであった。
　比較例１
　実施例１で用いたエチルセルロース１５０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍのフィルムを得た。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で１．４倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られたフィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000088
　得られたフィルムは、厚み方向の面外位相差（Ｒｔｈ）が大きく目的とする光学特性を有していなかった。
　比較例２
　実施例１で用いたフマル酸モノエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体１８０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍ、厚み４０μｍのフィルム（樹脂組成物）を得た。得られたフィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表３に合わせて示す。
　得られたフィルムは、厚み方向の面外位相差（Ｒｔｈ）が小さく目的とする光学特性を有していなかった。
　比較例３
　実施例１１で用いたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体１８０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍ、厚み４０μｍのフィルム（樹脂組成物）を得た。得られたフィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表３に合わせて示す。
　得られたフィルムは、厚み方向の面外位相差（Ｒｔｈ）が小さく目的とする光学特性を有していなかった。
　比較例４
　実施例１９で用いたフマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体１８０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍ、厚み４０μｍのフィルム（樹脂組成物）を得た。得られたフィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表３に合わせて示す。
　得られたフィルムは厚み方向の面外位相差（Ｒｔｈ）が小さく目的とする光学特性を有していなかった。
　比較例５
　実施例２４で用いたフマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体１８０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍ、厚み４０μｍのフィルム（樹脂組成物）を得た。得られたフィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表３に合わせて示す。
　得られたフィルムは厚み方向の面外位相差（Ｒｔｈ）が小さく目的とする光学特性を有していなかった。
　比較例６
　実施例３１で用いたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体１８０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍ、厚み４０μｍのフィルム（樹脂組成物）を得た。得られたフィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表３に合わせて示す。
　得られたフィルムは厚み方向の面外位相差（Ｒｔｈ）が小さく目的とする光学特性を有していなかった。
　比較例７
　実施例１で用いたエチルセルロース３０ｇ、合成例１により得られたフマル酸モノエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体１２０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：２０重量％、フマル酸モノエチル／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体：８０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表３に合わせて示す。
　得られたフィルムは、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有していなかった。
　比較例８
　実施例１で用いたエチルセルロース３０ｇ、合成例７により得られたフマル酸ジイソプロピル／Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体１２０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：２０重量％、フマル酸ジイソプロピル／Ｎ－（ｎ－ブトキシメチル）アクリルアミド／４－メトキシケイ皮酸エチル共重合体：８０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表３に合わせて示す。
　得られたフィルムは、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有していなかった。
　比較例９
　実施例１で用いたエチルセルロース３０ｇ、合成例１１により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体１２０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：２０重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体：８０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表３に合わせて示す。
　得られたフィルムは、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有していなかった。
　比較例１０
　実施例１で用いたエチルセルロース３０ｇ、合成例１９により得られたフマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体１２０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：２０重量％、フマル酸ジエチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体：８０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表３に合わせて示す。
　得られたフィルムは、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有していなかった。
　比較例１１
　実施例１で用いたエチルセルロース３０ｇ、合成例２５により得られたフマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体１２０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：２０重量％、フマル酸ジ－ｔ－ブチル／フマル酸モノエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体：８０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表３に合わせて示す。
　得られたフィルムは、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有していなかった。
　比較例１２
　実施例１で用いたエチルセルロース３０ｇ、合成例３２により得られたフマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体１２０ｇを塩化メチレン：アセトン＝８：２（重量比）に溶解して１８重量％の樹脂溶液とし、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持体に流延し、乾燥温度２５℃にて乾燥した後、幅１５０ｍｍの光学補償フィルム（樹脂組成物）を得た（エチルセルロース：２０重量％、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジエチル／アクリル酸２－ヒドロキシエチル／４－ニトロケイ皮酸エチル共重合体：８０重量％）。得られた光学補償フィルムを５０ｍｍ角に切り出し、１５０℃で２．０倍に一軸延伸した（延伸後の厚み３０μｍ）。得られた光学補償フィルムの光線透過率、ヘーズ、位相差特性、波長分散特性を測定した。その結果を表３に合わせて示す。
　得られたフィルムは、面内位相差（Ｒｅ）およびＮｚ係数が目的とする光学特性を有していなかった。
　なお、２０１４年１０月１５日に出願された日本特許出願２０１４－２１０３５７号、２０１４年１０月１５日に出願された日本特許出願２０１４－２１０３５８号、２０１４年１１月２５日に出願された日本特許出願２０１４－２３８１４０号、２０１４年１１月２６日に出願された日本特許出願２０１４－２３９３６６号、２０１４年１１月２６日に出願された日本特許出願２０１４－２３９３６７号及び２０１５年９月１８日に出願された日本特許出願２０１５－１８５７６４号の明細書、特許請求の範囲及び要約書の全内容をここに引用し、本発明の明細書の開示として、取り入れるものである。

Claims (29)

  1. 　樹脂成分として下記一般式（１）で示されるセルロ－ス系樹脂３０～９９重量％、およびケイ皮酸エステル共重合体１～７０重量％を含有することを特徴とする樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素または炭素数１～１２の置換基を示す。）
  2. 　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０～９０モル％を含むことを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     （式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
  3. 　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位５～５０モル％、下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位０～８５モル％および下記一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０～９０モル％を含むことを特徴とする請求項２に記載の樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     （式中、Ｒ６は炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     （式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
     （式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
  4. 　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位１０～５０モル％、下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位０～６０モル％および下記一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位３０～９０モル％を含むことを特徴とする請求項２に記載の樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
     （式中、Ｒ６は炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
     （式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
     （式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
  5. 　ケイ皮酸エステル共重合体が、フマル酸モノメチル残基単位、フマル酸モノエチル残基単位、フマル酸モノイソプロピル残基単位、フマル酸モノ－ｎ－プロピル残基単位、フマル酸モノ－ｎ－ブチル残基単位、フマル酸モノ－ｔ－ブチル残基単位、フマル酸モノ－２－エチルヘキシル残基単位から選ばれるフマル酸モノエステル残基単位５～５０モル％、フマル酸ジメチル残基単位、フマル酸ジエチル残基単位、フマル酸ジイソプロピル残基単位、フマル酸ジ－ｎ－プロピル残基単位、フマル酸ジ－ｎ－ブチル残基単位、フマル酸ジ－ｔ－ブチル残基単位、フマル酸ジ－２－エチルヘキシル残基単位から選ばれるフマル酸ジエステル残基単位０～８５モル％、および下記一般式（２）で示されるアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０～９０モル％を含むことを特徴とする請求項２又は請求項３に記載の樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
     （式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
  6. 　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位５～８５モル％、下記一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、下記一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、下記一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、下記一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位５～４０モル％、および下記一般式（２）で示されアルコキシケイ皮酸エステル残基単位１０～９０モル％を含むことを特徴とする請求項２に記載の樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
     （式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
     （式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基、アルキレン基またはエーテル基を示す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
     （式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
  7. 　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位５～６５モル％、下記一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、下記一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、下記一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、下記一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位５～４０モル％、および下記一般式（２）で示されアルコキシケイ皮酸エステル残基単位３０～９０モル％を含むことを特徴とする請求項２に記載の樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
     （式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
     （式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基、アルキレン基またはエーテル基を示す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
     （式中、Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
  8. 　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位２０モル％以上および下記一般式（９）で示される置換ケイ皮酸エステル残基単位５モル％以上を含むことを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
     （式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
     （式中、Ｒ１３は炭素数１～１２のアルキル基を示す。Ｘはニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基又はフェニル基を示す。）
  9. 　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位２０モル％以上および下記一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位５モル％以上を含むことを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
     （式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
     （式中、Ｒ１４は炭素数１～１２のアルキル基を示す。Ｘはニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基又はフェニル基を示す。）
  10. 　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位２０～９０モル％、下記一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位５～７５モル％、および下記一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位５～３０モル％を含むことを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
     （式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
     （式中、Ｒ１４は炭素数１～１２のアルキル基を示す。Ｘはニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基又はフェニル基を示す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
     （式中、Ｒ６は炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
  11. 　ケイ皮酸エステル共重合体が、フマル酸ジエチル残基単位２０～９５モル％、下記一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位５～７５モル％、および下記一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位０～３０モル％を含むフマル酸エステル共重合体、フマル酸ジイソプロピル残基単位２０～９０モル％、下記一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位５～７５モル％、および下記一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位５～３０モル％を含むフマル酸エステル共重合体、フマル酸ジ－ｔ－ブチル残基単位２０～９０モル％、一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位５～７５モル％、および一般式（３）で示されるフマル酸モノエステル残基単位５～３０モル％を含むフマル酸エステル共重合体からなる群より選ばれるケイ皮酸エステル共重合体であることを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
     （式中、Ｒ１４は炭素数１～１２のアルキル基を示す。Ｘはニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基又はフェニル基を示す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
     （式中、Ｒ６は炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
  12. 　請求項１０または請求項１１に記載のフマル酸モノエステル残基単位が、フマル酸モノメチル残基単位、フマル酸モノエチル残基単位、フマル酸モノイソプロピル残基単位、フマル酸モノ－ｎ－プロピル残基単位、フマル酸モノ－ｎ－ブチル残基単位、フマル酸モノ－ｓ－ブチル残基単位、フマル酸モノ－ｔ－ブチル残基単位、フマル酸モノ－２－エチルヘキシル残基単位からなる群より選ばれるフマル酸モノエステル残基単位であることを特徴とする請求項１０または請求項１１に記載の樹脂組成物。
  13. 　ケイ皮酸エステル共重合体が下記一般式（４）で示されるフマル酸ジエステル残基単位２０～９４．５モル％、下記一般式（１０）で示されるｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位５～７５モル％、および下記一般式（５）で示されるアクリル酸エステル残基単位、下記一般式（６）で示されるメタクリル酸エステル残基単位、下記一般式（７）で示されるアクリル酸アミド残基単位、下記一般式（８）で示されるメタクリル酸アミド残基単位からなる群より選ばれる残基単位０．５～３０モル％を含むケイ皮酸エステル共重合体であることを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
     （式中、Ｒ７、Ｒ８はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基を示す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
     （式中、Ｒ１４は炭素数１～１２のアルキル基を示す。Ｘはニトロ基、ブロモ基、ヨード基、シアノ基、クロロ基、スルホン酸基、カルボン酸基、フルオロ基又はフェニル基を示す。）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
     （式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２はそれぞれ独立して炭素数１～１２のアルキル基、アルキレン基またはエーテル基を示す。）
  14. 　ｐ位置換ケイ皮酸エステル残基単位が、４-ニトロケイ皮酸メチル残基単位、４-ニトロケイ皮酸エチル残基単位、４-ニトロケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-ニトロケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-ニトロケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-ニトロケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-ニトロケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-ニトロケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-フルオロケイ皮酸メチル残基単位、４-フルオロケイ皮酸エチル残基単位、４-フルオロケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-フルオロケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-フルオロケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-フルオロケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-フルオロケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-フルオロケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-クロロケイ皮酸メチル残基単位、４-クロロケイ皮酸エチル残基単位、４-クロロケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-クロロケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-クロロケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-クロロケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-クロロケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-クロロケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-ブロモケイ皮酸メチル残基単位、４-ブロモケイ皮酸エチル残基単位、４-ブロモケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-ブロモケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-ブロモケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-ブロモケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-ブロモケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-ブロモケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-ヨードケイ皮酸メチル残基単位、４-ヨードケイ皮酸エチル残基単位、４-ヨードケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-ヨードケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-ヨードケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-ヨードケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-ヨードケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-ヨードケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-シアノケイ皮酸メチル残基単位、４-シアノケイ皮酸エチル残基単位、４-シアノケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-シアノケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-シアノケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-シアノケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-シアノケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-シアノケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸メチル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸エチル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-スルホン酸ケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸エチル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-カルボン酸ケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位、４-フェニルケイ皮酸メチル残基単位、４-フェニルケイ皮酸エチル残基単位、４-フェニルケイ皮酸イソプロピル残基単位、４-フェニルケイ皮酸ｎ－プロピル残基単位、４-フェニルケイ皮酸ｎ－ブチル残基単位、４-フェニルケイ皮酸ｓｅｃ－ブチル残基単位、４-フェニルケイ皮酸ｔｅｒｔ－ブチル残基単位、４-フェニルケイ皮酸２－エチルヘキシル残基単位からからなる群より選ばれることを特徴とする請求項９～請求項１３のいずれかの項に記載の樹脂組成物。
  15. 　一般式（１）で示されるセルロ－ス系樹脂がセルロ－スエ－テルであることを特徴とする請求項１～請求項１４のいずれかの項に記載の樹脂化合物。
  16. 　セルロ－スエ－テルのエ－テル化度（置換度）が１．５～３．０であることを特徴とする請求項１５に記載の樹脂組成物。
  17. 　請求項１～請求項１６のいずれかの項に記載の樹脂組成物を用いてなり、厚みが５～２００μｍであることを特徴とする光学補償フィルム。
  18. 　請求項１～請求項１６のいずれかの項に記載の樹脂組成物を用いてなり、厚みが２０～６０μｍであることを特徴とする光学補償フィルム。
  19. 　下記式（１）で示される面内位相差（Ｒｅ）が８０～３００ｎｍで、下記式（２）で示されるＮｚ係数が０．３５～０．６５であることを特徴とする請求項１７または請求項１８に記載の光学補償フィルム。
    　　　　Ｒｅ＝（ｎｙ－ｎｘ）×ｄ　　　　　　　　　　　　　（１）
    　　　　Ｎｚ＝（ｎｙ－ｎｚ）／（ｎｙ－ｎｘ）　　　　　　　（２）
    （式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
  20. 　式（１）で示される面内位相差（Ｒｅ）が５０～３００ｎｍで、式（２）で示されるＮｚ係数が－０．２～０．２であることを特徴とする請求項１７または請求項１８に記載の光学補償フィルム。
  21. 　式（１）で示される面内位相差（Ｒｅ）が０～２０ｎｍで、下記式（３）で示される面外位相差（Ｒｔｈ）が、－１５０～２０ｎｍであることを特徴とする請求項１７または請求項１８に記載の光学補償フィルム。
    　　　　Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２－ｎｚ］×ｄ　　　　　（３）
    （式中、ｎｘはフィルム面内の進相軸方向の屈折率を示し、ｎｙはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率を示し、ｎｚはフィルム面外の屈折率を示し、ｄはフィルム厚みを示す。）
  22. 　光線透過率が８５％以上であることを特徴とする請求項１７～請求項２１のいずれかの項に記載の光学補償フィルム。
  23. 　ヘ－ズが１％以下であることを特徴とする請求項１７～請求項２２のいずれかの項に記載の光学補償フィルム。
  24. 　４５０ｎｍにおけるレタ－デ－ションと５５０ｎｍにおけるレタ－デ－ションの比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．６０＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．０５であることを特徴とする請求項１７～請求項２３のいずれかの項に記載の光学補償フィルム。
  25. 　５８９ｎｍにおけるレタ－デ－ションとフィルム膜厚の比Ｒｅ（５８９）（ｎｍ）／フィルム膜厚（μｍ）が４．０ｎｍ／μｍ以上であることを特徴とする請求項１７～請求項２４のいずれかの項に記載の光学補償フィルム。
  26. 　樹脂成分として下記一般式（１）で示されるセルロ－ス系樹脂３０～９９重量％およびケイ皮酸エステル共重合体１～７０重量％を含有する樹脂組成物を溶剤に溶解し、得られた樹脂溶液を基材にキャストし、乾燥後、基材より剥離することを特徴とする請求項１７～請求項２５のいずれかの項に記載の光学補償フィルムの製造方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
     （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３はそれぞれ独立して水素または炭素数１～１２の置換基を示す。）
  27. 　一般式（１）で示されるセルロ－ス系樹脂がセルロ－スエ－テルであるときのエ－テル化度（置換度）が１．５～３．０であることを特徴とする請求項２６に記載の光学補償フィルムの製造方法。
  28. 　キャストして得られた厚み１０～２００μｍのフィルムを一軸延伸またはアンバランス二軸延伸させることを特徴とする請求項１９または請求項２０に記載の光学補償フィルムの製造方法。
  29. 　キャストして得られた厚み３０～１００μｍのフィルムを一軸延伸またはアンバランス二軸延伸させることを特徴とする請求項１９または請求項２０に記載の光学補償フィルムの製造方法。
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