JP2017129851A - 光レジスト組成物、光レジスト組成物を含むコーティングされた基材、及び電子装置を形成する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
酸感受性ポリマーと、
溶剤と、
式(I)を有する光酸発生剤化合物と、を含む。
EWGが、電子求引基であり、
Yが、単結合または結合基であり、
Rが、水素、直鎖もしくは分岐C1−20アルキル基、直鎖もしくは分岐C2−20アルケニル基、単環式もしくは多環式C3−20シクロアルキル基、単環式もしくは多環式C3−20シクロアルケニル基、単環式もしくは多環式C3−20ヘテロシクロアルキル基、単環式もしくは多環式C3−20ヘテロシクロアルケニル基、単環式もしくは多環式C6−20アリール基、単環式もしくは多環式C1−20ヘテロアリール基であり、水素を除くそれらの各々が、置換または非置換であり、Rが重合性基を含むとき、光酸発生剤が、酸感受性ポリマーの重合単位であり、
M+が、有機カチオンである、光レジスト組成物を提供する。
酸感受性ポリマーと、
溶剤と、
式(I)を有する光酸発生剤化合物と、を含む。
X5及びX6は各々、C(CN)2であり得、
Rは、水素であり得、
Yは、単結合であり得る。
R0は、C1−20アルキル基、C1−20フルオロアルキル基、C3−20シクロアルキル基、C3−20フルオロシクロアルキル基、C2−20アルケニル基、C2−20フルオロアルケニル基、C6−20アリール基、C6−20 フルオロアリール基、C1−20ヘテロアリール基、C7−20アラルキル基、C7−20 フルオロアラルキル基、C2−20 ヘテロアラルキル基、またはC2−20フルオロヘテロアラルキル基であり得、それらの各々が、置換または非置換であり、
Arは、置換または非置換のC6−30芳香族有機基であり、
Arが任意に、R0と結合している。
各R2は、分離しているかまたは単結合もしくは結合基を介して他方の基R2と結合して環を形成し、
Arが、置換または非置換のC6−30芳香族有機基である。
Xが、IまたはSであり、
各R3が独立して、ハロゲン、−CN、−OH、C1−10アルキル基、C1−10フルオロアルキル基、C1−10アルコキシ基、C1−10フルオロアルコキシ基、C3−10シクロアルキル基、C3−10フルオロシクロアルキル基、C3−10シクロアルコキシ基、C3−10フルオロシクロアルコキシ基、またはC6−10アルコキシカルボニルアルキレンオキシ基であり、
各nが、0、1、2、3、4、及び5の整数であり、
mが、2または3の整数であるが、但し、XがIのとき、mが2であり、XがSである場合、mが3であることを条件とする。
R4、R5、R6、R7、R8、R9、及びR10は各々独立して、ハロゲン、−CN、−OH、C1−10アルキル基、C1−10フルオロアルキル基、C1−10アルコキシ基、C1−10フルオロアルコキシ基、C3−10シクロアルキル基、C3−10フルオロシクロアルキル基、C3−10シクロアルコキシ基、またはC3−10フルオロシクロアルコキシ基であり、ハロゲン、−CN、及び−OHを除くそれらの各々は、置換または非置換であり得、
Jが、単結合またはS、O、及びC=Oから選択される結合基であり、
pが各々独立して、0、1、2、3、または4の整数であり、
rが、0、1、2、3、4、及び5の整数であり、
s及びtが各々独立して、0、1、2、3、及び4の整数である。
Claims (11)
- 光レジスト組成物であって、
酸感受性ポリマーと、
溶剤と、
式(I)を有する光酸発生剤化合物と、を含み、
EWGが、電子求引基であり、
Yが、単結合または結合基であり、
Rが、水素、直鎖もしくは分岐C1−20アルキル基、直鎖もしくは分岐C2−20アルケニル基、単環式もしくは多環式C3−20シクロアルキル基、単環式もしくは多環式C3−20シクロアルケニル基、単環式もしくは多環式C3−20ヘテロシクロアルキル基、単環式もしくは多環式C3−20ヘテロシクロアルケニル基、単環式もしくは多環式C6−20アリール基、または単環式もしくは多環式C1−20ヘテロアリール基であり、水素を除くそれらの各々が、置換または非置換であり、Rが重合性基を含むとき、前記光酸発生剤が、前記酸感受性ポリマーの重合単位であり、
M+が、有機カチオンである、光レジスト組成物。 - 前記光酸発生剤化合物が、式(II)または(III)を有し、
X1、X2、X3、及びX4が各々独立して、電子求引基であり、
X5及びX6が各々独立して、C(CN)2、C(NO2)2、C(COR27)2、C(CO2R28)2、C(SO2R29)2、及びC(Rf)2から選択される電子求引基であり、式中、Rfが、C1−C30フルオロアルキル基であり、
Z1及びZ2が各々独立して、水素、直鎖もしくは分岐C1−50アルキル基、単環式もしくは多環式C3−50シクロアルキル基、単環式もしくは多環式C3−50ヘテロシクロアルキル基、単環式もしくは多環式C6−50アリール基、単環式もしくは多環式C5−20ヘテロアリール基、またはそれらの組み合わせであり、基Z1及びZ2が任意に、互いに結合して環を形成し、
Y、R、及びMが、請求項1の場合と同じであり、
各
- 式(III)において、
EWGが、CNであり、
Rが、多環式C3−20シクロアルキル基であり、
Yが、単結合、−C(R30)2−、−N(R31)−、−O−、−S−、−S(=O)2−、−(C=O)−、またはそれらの組み合わせであり、各R30及びR31が独立して、水素またはC1−6アルキル基であり、
M+が、有機スルホニウムカチオンまたは有機ヨードニウムカチオンである、請求項2に記載の光レジスト組成物。 - 式(III)において、
X5及びX6が各々、C(CN)2であり、
Rが、水素であり、
Yが、単結合である、請求項2または3に記載の光レジスト組成物。 - M+が、式(V)を有する有機カチオンであり、
各R2が独立して、C1−20アルキル基、C1−20フルオロアルキル基、C3−20シクロアルキル基、C3−20フルオロシクロアルキル基、C2−20アルケニル基、C2−20フルオロアルケニル基、C6−20アリール基、C6−20フルオロアリール基、C1−20ヘテロアリール基、C7−20アラルキル基、C7−20フルオロアラルキル基、C2−20ヘテロアラルキル基、またはC2−20フルオロヘテロアラルキル基であり、それらの各々が、置換または非置換であり、
各R2が、分離しているかまたは単結合もしくは結合基を介して他方の基R2と結合しているかのどちらかであり、
Arが、置換または非置換のC6−30芳香族有機基である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光レジスト組成物。 - M+が、式(VI)を有する有機カチオンであり、
Xが、IまたはSであり、
各R3が独立して、ハロゲン、C1−10アルキル基、C1−10フルオロアルキル基、C1−10アルコキシ基、C1−10フルオロアルコキシ基、C3−10シクロアルキル基、C3−10フルオロシクロアルキル基、C3−10シクロアルコキシ基、C3−10フルオロシクロアルコキシ基、またはC6−10アルコキシカルボニルアルキレンオキシ基であり、
各nが、0、1、2、3、4、及び5の整数であり、
mが、2または3の整数であるが、但し、XがIのとき、mが2であり、XがSである場合、mが3であることを条件とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の光レジスト組成物。 - M+が、式(VII)または(VIII)を有する有機カチオンであり、
R4、R5、R6、R7、R8、R9、及びR10が各々独立して、ハロゲン、−CN、−OH、C1−10アルキル基、C1−10フルオロアルキル基、C1−10アルコキシ基、C1−10フルオロアルコキシ基、C3−10シクロアルキル基、C3−10フルオロシクロアルキル基、C3−10シクロアルコキシ基、またはC3−10フルオロシクロアルコキシ基であり、ハロゲン、−CN、及び−OHを除くそれらの各々が、置換または非置換であり、
Jが、単結合またはS、O、及びC=Oから選択される結合基であり、
pが各々独立して、0、1、2、3、または4の整数であり、
rが、0、1、2、3、4、及び5の整数であり、
s及びtが各々独立して、0、1、2、3、及び4の整数である、請求項1〜7のいずれか一項に記載の光レジスト組成物。 - Rが、重合性基を含み、前記光酸発生剤が、前記酸感受性ポリマーの重合単位である、請求項1、2、6、及び8のいずれか一項に記載の光レジスト組成物。
- (a)表面上でパターン化される1つ以上の層を有する基材と、(b)前記パターン化される1つ以上の層上の、請求項1〜9のいずれか一項に記載の光レジスト組成物の層と、を含む、コーティングされた基材。
- 電子装置を形成する方法であって、(a)請求項1〜9のいずれか一項に記載の光レジスト組成物の層を基材に適用することと、(b)前記光レジスト組成物層を活性化放射線にパターン露光することと、(c)前記露光された光レジスト組成物層を現像して、レジストリリーフ画像を提供することと、を含む、方法。
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