JP2017111311A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017111311A5 JP2017111311A5 JP2015245648A JP2015245648A JP2017111311A5 JP 2017111311 A5 JP2017111311 A5 JP 2017111311A5 JP 2015245648 A JP2015245648 A JP 2015245648A JP 2015245648 A JP2015245648 A JP 2015245648A JP 2017111311 A5 JP2017111311 A5 JP 2017111311A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wavelength
- optical system
- projection optical
- spherical aberration
- phase shift
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015245648A JP6674250B2 (ja) | 2015-12-16 | 2015-12-16 | 露光装置、露光方法、および物品の製造方法 |
| TW105133072A TWI656410B (zh) | 2015-12-16 | 2016-10-13 | 曝光裝置、曝光方法、及物品的製造方法 |
| KR1020160165530A KR102130481B1 (ko) | 2015-12-16 | 2016-12-07 | 노광 장치, 노광 방법, 및 물품의 제조 방법 |
| CN201611142628.0A CN106886131B (zh) | 2015-12-16 | 2016-12-13 | 曝光装置、曝光方法以及物品的制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015245648A JP6674250B2 (ja) | 2015-12-16 | 2015-12-16 | 露光装置、露光方法、および物品の製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017111311A JP2017111311A (ja) | 2017-06-22 |
| JP2017111311A5 true JP2017111311A5 (enExample) | 2018-12-27 |
| JP6674250B2 JP6674250B2 (ja) | 2020-04-01 |
Family
ID=59079685
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2015245648A Expired - Fee Related JP6674250B2 (ja) | 2015-12-16 | 2015-12-16 | 露光装置、露光方法、および物品の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6674250B2 (enExample) |
| KR (1) | KR102130481B1 (enExample) |
| CN (1) | CN106886131B (enExample) |
| TW (1) | TWI656410B (enExample) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109240044B (zh) * | 2018-10-10 | 2020-09-18 | 德淮半导体有限公司 | 曝光系统及减小曝光过程中掩膜板三维效应的方法 |
| KR102655261B1 (ko) * | 2018-10-19 | 2024-04-08 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. | 소스 및 마스크 최적화로 이상적인 소스 스펙트럼들을 생성하는 방법 |
| JP7390804B2 (ja) * | 2019-05-17 | 2023-12-04 | キヤノン株式会社 | 露光装置、露光方法、決定方法および物品製造方法 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2723405B2 (ja) * | 1991-11-12 | 1998-03-09 | 松下電器産業株式会社 | 微細電極の形成方法 |
| JP3259347B2 (ja) * | 1992-09-11 | 2002-02-25 | 株式会社ニコン | 投影露光方法及び装置、並びに半導体素子の製造方法 |
| JPH07220988A (ja) * | 1994-01-27 | 1995-08-18 | Canon Inc | 投影露光方法及び装置及びこれを用いたデバイス製造方法 |
| JPH1022198A (ja) * | 1996-07-04 | 1998-01-23 | Hitachi Ltd | 露光方法および光露光装置 |
| JP3080024B2 (ja) * | 1997-02-20 | 2000-08-21 | 日本電気株式会社 | 露光方法および球面収差量の測定方法 |
| US6096457A (en) * | 1998-02-27 | 2000-08-01 | Micron Technology, Inc. | Method for optimizing printing of a phase shift mask having a phase shift error |
| JP4436029B2 (ja) * | 2001-02-13 | 2010-03-24 | 株式会社ニコン | 投影光学系の製造方法及び調整方法、露光装置及びその製造方法、デバイス製造方法、並びにコンピュータシステム |
| JP2002329651A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Nikon Corp | 露光装置、露光装置の製造方法、及びマイクロデバイスの製造方法 |
| JP2004205874A (ja) * | 2002-12-26 | 2004-07-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | マスクおよび半導体装置の製造方法 |
| EP2453465A3 (en) * | 2003-05-28 | 2018-01-03 | Nikon Corporation | Exposure method, exposure apparatus, and method for producing a device |
| JP2006080454A (ja) * | 2004-09-13 | 2006-03-23 | Renesas Technology Corp | パターン形成方法 |
| US7580113B2 (en) * | 2006-06-23 | 2009-08-25 | Asml Netherlands B.V. | Method of reducing a wave front aberration, and computer program product |
| CN100470377C (zh) * | 2007-08-22 | 2009-03-18 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 光刻机投影物镜彗差原位检测系统及检测方法 |
| JP5201979B2 (ja) * | 2007-12-26 | 2013-06-05 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| JP5472101B2 (ja) * | 2008-04-30 | 2014-04-16 | 株式会社ニコン | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| KR101898921B1 (ko) * | 2011-11-16 | 2018-09-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 노광 시스템 이를 이용한 패턴 형성 방법 및 표시 기판의 제조 방법 |
| JP2014135368A (ja) * | 2013-01-09 | 2014-07-24 | Canon Inc | 露光装置、計測方法及びデバイスの製造方法 |
-
2015
- 2015-12-16 JP JP2015245648A patent/JP6674250B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2016
- 2016-10-13 TW TW105133072A patent/TWI656410B/zh active
- 2016-12-07 KR KR1020160165530A patent/KR102130481B1/ko active Active
- 2016-12-13 CN CN201611142628.0A patent/CN106886131B/zh active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101649812B1 (ko) | 광 투사 어레이 노출 시스템 | |
| US10012911B2 (en) | Projection exposure apparatus with wavefront measuring device and optical wavefront manipulator | |
| KR101624758B1 (ko) | 마이크로리소그래픽 투사 시스템용 텔레센트릭성 교정기 | |
| KR20200130749A (ko) | 오버레이 계측을 위한 국부적인 텔레센트릭시티와 초점 최적화 | |
| KR101483338B1 (ko) | 결정 방법, 기억 매체 및 정보 처리 장치 | |
| US10684550B2 (en) | Exposure apparatus, adjusting method, and article manufacturing method | |
| US9348235B2 (en) | Exposure apparatus and method of manufacturing device | |
| JP2016164675A5 (enExample) | ||
| US8741510B2 (en) | Method of calculating amount of fluctuation of imaging characteristic of projection optical system, exposure apparatus, and method of fabricating device | |
| JP2015018234A (ja) | 浸漬媒体を検出し浸漬媒体の供給を制御するための方法 | |
| JP2017111311A5 (enExample) | ||
| WO2018220670A1 (ja) | 観察装置 | |
| CN107450277B (zh) | 确定方法、信息处理装置、曝光装置以及物品制造方法 | |
| JP2022526282A (ja) | リソグラフィ測定のためのセンサ装置及び方法 | |
| JP6674250B2 (ja) | 露光装置、露光方法、および物品の製造方法 | |
| US9772566B2 (en) | Mask alignment mark, photomask, exposure apparatus, exposure method, and manufacturing method of device | |
| JP6623847B2 (ja) | 光源装置及びこれを備えた露光装置 | |
| JP6463087B2 (ja) | 露光装置、および物品の製造方法 | |
| WO2012060099A1 (ja) | 光源調整方法、露光方法、デバイス製造方法、照明光学系、及び露光装置 | |
| JP5908297B2 (ja) | 露光装置 | |
| TW201807508A (zh) | 曝光裝置、曝光方法以及物品製造方法 | |
| JP6970548B2 (ja) | 照明光学系、露光装置、及び物品製造方法 | |
| JP6570298B2 (ja) | 照明光学系及び露光装置並びにデバイス製造方法 | |
| KR100842750B1 (ko) | 이색 조명을 구비한 노광 장비 | |
| JP2013084958A5 (ja) | 照明光学系、照明方法、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 |