JP2017106833A - 測定装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】対象物の遠近による視差の発生を抑制することができる測定装置を提供する。【解決手段】測定装置2は、光を出射する光源6と、揺動軸30を中心に揺動することにより、光源6からの測定光10を反射して対象物4に向けて測定光20を走査する第1のミラー24と、第1のミラー24から揺動軸30方向に配置され、揺動軸30を中心に揺動することにより対象物4で反射した戻り光32を所定の方向に反射する第2のミラー26と、第2のミラー26で反射した戻り光32を受光する受光部14と、第2のミラー26で反射した光を受光部14に集光する集光レンズ12とを備える。集光レンズ12により集光された光の焦点の位置は、光源6からの光の光軸の延長線上又はその近傍に配置されている。【選択図】図1

Description

本発明は、対象物までの距離を測定するための測定装置に関する。
揺動するミラーを用いて光源からの測定光を対象物に向けて走査し、対象物で反射した戻り光をミラーを介して受光部で受光することにより、対象物までの距離を測定する測定装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。
このような測定装置の一つとして、光源の光軸と受光部の光軸とを所定方向に分離させることにより、測定光と戻り光とが異なる光軸に沿って往復する、いわゆる分離光学系の測定装置が存在する。
特開2009−109310号公報
上述した分離光学系の測定装置では、測定光の光軸と戻り光の光軸とが分離しているため、対象物の遠近によって戻り光の光軸が測定光の光軸に対してずれる、いわゆる視差が発生する場合がある。このように視差が発生した場合には、戻り光が受光部に入射する角度がずれることにより、測定誤差が生じるおそれが生じる。
本発明は、上述した課題を解決しようとするものであり、その目的は、対象物の遠近による視差の発生を抑制することができる測定装置を提供することである。
上記目的を達成するために、本発明の一態様に係る測定装置は、光を出射する光源と、揺動軸を中心に揺動することにより、前記光源からの光を反射して対象物に向けて光を走査する第1のミラーと、前記第1のミラーから前記揺動軸方向に配置され、前記揺動軸を中心に揺動することにより前記対象物で反射した光を所定の方向に反射する第2のミラーと、前記第2のミラーで反射した光を受光する受光部と、前記第2のミラーで反射した光を前記受光部に集光する光学部品と、を備え、前記光学部品により集光された光の焦点の位置は、前記光源からの光の光軸の延長線上又はその近傍に配置されている。
本態様によれば、光学部品により集光された光の焦点の位置は、光源からの光の光軸の延長線上(又はその近傍)に配置されているので、第1のミラーで対象物に向けて反射した光の光軸と、第2のミラーに入射する対象物からの光の光軸とが同軸(又はほぼ同軸)となる。これにより、対象物の遠近による視差の発生を抑制することができる。その結果、対象物の遠近によって光が受光部に入射する角度がずれるのが抑制されるので、測定誤差の発生を抑制することができる。
例えば、本発明の一態様に係る測定装置において、前記測定装置は、さらに、前記第1のミラーから前記揺動軸方向に且つ前記第2のミラーと反対側に配置され、前記揺動軸を中心に揺動することにより前記対象物で反射した光を前記所定の方向に反射する第3のミラーと、を備え、前記第1のミラー、前記第2のミラー及び前記第3のミラーは互いに略平行に配置されているように構成してもよい。
本態様によれば、対象物からの光が2枚のミラー、すなわち第2のミラー及び第3のミラーで反射される。これにより、第2のミラー及び第3のミラーの各々で反射した光が受光部で受光されるので、受光部における受光量を増大させることができ、測定精度を高めることができる。
例えば、本発明の一態様に係る測定装置において、前記光源から前記第1のミラーまでの光路と、前記第2のミラー及び第3のミラーの各々から前記受光部までの光路とは、前記揺動軸方向に重なった状態で直線状に延びているように構成してもよい。
本態様によれば、第1のミラー、光源及び受光部を一直線上に配置することができる。
例えば、本発明の一態様に係る測定装置において、前記測定装置は、さらに、前記光源からの光を前記第1のミラーに向けて反射する偏向ミラーを備え、前記光源から前記第1のミラーまでの光路は、前記偏向ミラーにより屈曲されるように構成してもよい。
本態様によれば、光源から第1のミラーまでの光路は、偏向ミラーにより屈曲される。これにより、光源を、第1のミラーと受光部とを結ぶ直線上から側方にずらした位置に配置することができる。その結果、第1のミラー、光源及び受光部を一直線上に配置した場合と比べて、第1のミラーと受光部との間隔(又は第1のミラーと光源との間隔)を小さく抑えることができ、測定装置全体を小型化することができる。
例えば、本発明の一態様に係る測定装置において、前記測定装置は、さらに、前記第2のミラーで反射した光を前記受光部に向けて反射する第1の偏向ミラーと、前記第3のミラーで反射した光を前記受光部に向けて反射する第2の偏向ミラーと、を備え、前記第2のミラーから前記受光部までの光路は、前記第1の偏向ミラーにより屈曲され、前記第3のミラーから前記受光部までの光路は、前記第2の偏向ミラーにより屈曲されるように構成してもよい。
本態様によれば、第2のミラーから受光部までの光路は第1の偏向ミラーにより屈曲され、第3のミラーから受光部までの光路は第2の偏向ミラーにより屈曲される。これにより、受光部を、第1のミラーと光源とを結ぶ直線上から側方にずらした位置に配置することができる。その結果、第1のミラー、光源及び受光部を一直線上に配置した場合と比べて、第1のミラーと受光部との間隔(又は第1のミラーと光源との間隔)を小さく抑えることができ、測定装置全体を小型化することができる。
例えば、本発明の一態様に係る測定装置において、前記測定装置は、さらに、前記第1のミラーから前記揺動軸方向に且つ前記第2のミラーと反対側に配置され、前記揺動軸を中心に揺動することにより前記対象物で反射した光を前記所定の方向に反射する第3のミラーと、を備え、前記第2のミラー及び前記第3のミラーは互いに略平行に配置され、前記第1のミラーは、前記第2のミラー及び前記第3のミラーの各々に対して前記揺動軸回りに傾斜しているように構成してもよい。
本態様によれば、対象物からの光が2枚のミラー、すなわち第2のミラー及び第3のミラーで反射される。これにより、第2のミラー及び第3のミラーの各々で反射した光が受光部で受光されるので、受光部における受光量を増大させることができ、測定精度を高めることができる。さらに、第1のミラーは、第2のミラー及び第3のミラーの各々に対して揺動軸回りに傾斜しているので、光源を、第1のミラーと受光部とを結ぶ直線上から側方にずらした位置に配置することができる。その結果、第1のミラー、光源及び受光部を一直線上に配置した場合と比べて、第1のミラーと受光部との間隔(又は第1のミラーと光源との間隔)を小さく抑えることができ、測定装置全体を小型化することができる。
例えば、本発明の一態様に係る測定装置において、前記光学部品は集光レンズであり、前記光源、前記集光レンズ及び前記受光部は、各々の光軸が略一致する位置に配置されているように構成してもよい。
本態様によれば、光源、集光レンズ及び受光部は、各々の光軸が略一致する位置に配置されているので、第1のミラーで対象物に向けて反射した光の光軸と、第2のミラーに入射する対象物からの光の光軸とが同軸となる。その結果、対象物の遠近による視差の発生を抑制することができる。
例えば、本発明の一態様に係る測定装置において、前記光学部品により集光された光の焦点の位置は、前記光源からの光の前記光軸の延長線上に配置されているように構成してもよい。
本態様によれば、光学部品により集光された光の焦点の位置は、光源からの光の光軸の延長線上に配置されているので、第1のミラーで対象物に向けて反射した光の光軸と、第2のミラーに入射する対象物からの光の光軸とを同軸とすることができる。
本発明の一態様に係る測定装置によれば、対象物の遠近による視差の発生を抑制することができる。
実施の形態1に係る測定装置の構成を示す斜視図である。 実施の形態1に係る測定装置の構成を示す平面図である。 実施の形態1に係る測定装置の構成を示す側面図である。 図3のIV−IV線断面図である。 実施の形態1に係る測定装置の機能構成を示すブロック図である。 比較例1に係る測定装置の構成を示す図である。 比較例2に係る測定装置の構成を示す図である。 比較例3に係る測定装置の構成を示す図である。 実施の形態2に係る測定装置の構成を示す斜視図である。 実施の形態2に係る測定装置の構成を示す平面図である。 実施の形態3に係る測定装置の構成を示す斜視図である。 実施の形態3に係る測定装置の構成を示す平面図である。 実施の形態4に係る測定装置の構成を示す平面図である。 実施の形態4に係る測定装置の構成を示す側面図である。 実施の形態5に係る測定装置の構成を示す平面図である。 実施の形態5に係る測定装置の構成を示す側面図である。
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。なお、以下で説明する実施の形態は、いずれも包括的または具体的な例を示すものである。以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置及び接続形態などは、一例であり、本発明を限定する主旨ではない。また、以下の実施の形態における構成要素のうち、独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。各図は、必ずしも各寸法または各寸法比等を厳密に図示したものではない。
(実施の形態1)
[1−1.測定装置の全体構成]
まず、図1〜図4を参照しながら、実施の形態1に係る測定装置2の全体構成について説明する。図1は、実施の形態1に係る測定装置2の構成を示す斜視図である。図2は、実施の形態1に係る測定装置2の構成を示す平面図である。図3は、実施の形態1に係る測定装置2の構成を示す側面図である。図4は、図3のIV−IV線断面図である。なお、説明の都合上、図2では、第1の遮光板16及び第2の遮光板18の図示を省略してある。
図1〜図3に示すように、実施の形態1に係る測定装置2は、例えば測定装置2から対象物4までの距離を測定するためのレーザレンジファインダである。具体的には、測定装置2は、対象物4に向けてレーザ光(光の一例)を走査し、対象物4で反射したレーザ光を受光することにより、測定装置2から対象物4までの距離を測定する。
図1〜図3に示すように、測定装置2は、光源6、コリメートレンズ8、ミラー部10、集光レンズ12(光学部品の一例)、受光部14、第1の遮光板16及び第2の遮光板18を備えている。これらの光源6、コリメートレンズ8、ミラー部10、集光レンズ12、受光部14、第1の遮光板16及び第2の遮光板18は、筐体(図示せず)の内部に収納されている。
光源6は、例えばレーザダイオードで構成されており、測定光20(レーザ光)を出射する。光源6は、ミラー部10と集光レンズ12との間に配置されている。
コリメートレンズ8は、光源6とミラー部10の第1のミラー24(後述する)との間に配置されている。コリメートレンズ8は、光源6からの測定光20を発散光から平行光に変換する。なお、コリメートレンズ8と第1のミラー24との間に、コリメートレンズ8からの測定光20のビーム径を規制するためのアパーチャ(図示せず)をさらに配置してもよい。
ミラー部10は、フレーム22と、3枚のミラー、すなわち第1のミラー24、第2のミラー26及び第3のミラー28とを有している。ミラー部10は、揺動軸30を中心に揺動自在に筐体の内部に支持されており、例えばMEMS(Micro Electro Mechanical System)ミラーで構成されている。なお、揺動軸30は、Z軸方向に第1の遮光板16及び第2の遮光板18の各々を貫通して延びる仮想的な軸線である。
フレーム22は、例えば金属製の薄板(例えば厚み0.2mm)で形成され、揺動軸30方向に長尺状に延びている。フレーム22は、第1のミラー24、第2のミラー26及び第3のミラー28の各々を揺動自在に支持している。
第1のミラー24は、コリメートレンズ8からの測定光20(すなわち、光源6からの測定光20)を対象物4に向けて反射するためのミラーである。第2のミラー26及び第3のミラー28の各々は、対象物4で反射した戻り光32(レーザ光)を受光部14に向けて反射するためのミラーである。
図1及び図3に示すように、第1のミラー24、第2のミラー26及び第3のミラー28は、揺動軸30方向に分離して配置されている。具体的には、第2のミラー26は、第1のミラー24から揺動軸30方向に(すなわち、Z軸のプラス方向に)分離して配置されている。一方、第3のミラー28は、第1のミラー24から揺動軸30方向に且つ第2のミラー26と反対側に(すなわち、Z軸のマイナス方向に)分離して配置されている。第1のミラー24、第2のミラー26及び第3のミラー28は、互いに略平行に(すなわち、同一平面上に)配置されている。第1のミラー24、第2のミラー26及び第3のミラー28は、揺動器(図示せず)によって揺動軸30を中心に同期して揺動する。
集光レンズ12は、ミラー部10と受光部14との間に配置されている。集光レンズ12は、第2のミラー26及び第3のミラー28の各々で反射した戻り光32を受光部14に集光する。なお、ミラー部10と集光レンズ12との間にバンドパスフィルタ(図示せず)をさらに配置してもよい。このバンドパスフィルタは、第2のミラー26及び第3のミラー28の各々で反射した戻り光32に含まれる、測定光20の波長以外の波長を有するノイズ光を除去するためのものである。
受光部14は、集光レンズ12からの戻り光32(すなわち、第2のミラー26及び第3のミラー28の各々で反射した戻り光32)を受光し、受光した戻り光32の強度に応じた受光信号(電気信号)を生成する。受光部14は、例えばフォトダイオード又はアバランシェフォトダイオード等で構成される。
図1及び図3に示すように、第1の遮光板16は、第1のミラー24と第2のミラー26との間に配置されており、透光性を有しない材料で形成されている。第2の遮光板18は、第1のミラー24と第3のミラー28との間に配置されており、透光性を有しない材料で形成されている。第1の遮光板16及び第2の遮光板18の各々は、揺動軸30に対して略垂直に配置され、且つ、ミラー部10から集光レンズ12の近傍に亘って互いに対向するように配置されている。第1の遮光板16及び第2の遮光板18の各々の集光レンズ12側における端部の間には、透光性を有しない材料で形成された第3の遮光板34が配置されている。
第1の遮光板16、第2の遮光板18及び第3の遮光板34で囲まれた送光領域36には、上述した光源6及びコリメートレンズ8が配置されている。第1の遮光板16、第2の遮光板18及び第3の遮光板34の各々は、送光領域36で生じた迷光が集光レンズ12及び受光部14に回り込むのを遮る機能を有している。なお、迷光とは、光源6からの測定光20のうち、ミラー部10等で拡散反射した光である。
なお、図1に示すように、第1の遮光板16及び第2の遮光板18にはそれぞれ、フレーム22を回動自在に挿入するための矩形状の孔38及び40が形成されている。ここで、図4を参照しながら、第1の遮光板16に孔38を形成する方法の一例について簡単に説明する。図4に示すように、第1の遮光板16は、一対の分割遮光板41及び42を組み合わせることにより構成される。一対の分割遮光板41及び42の各々の端部にはそれぞれ凹部41a及び42aが形成されている。これら一対の凹部41a及び42aが対向するように一対の分割遮光板41及び42を近接させた状態で、一対の分割遮光板41及び42の継ぎ目に遮光テープ44を貼り付ける。これにより、一対の分割遮光板41及び42によって第1の遮光板16が形成されるとともに、一対の凹部41a及び42aによって孔38が形成される。
以下、実施の形態1に係る測定装置2の特徴的な構成について説明する。図3に示すように、光源6、第1のミラー24及び受光部14は、揺動軸30に対して略垂直な同一の平面46上に(すなわち、第1のミラー24で反射した測定光20の光軸48と、第2のミラー26及び第3のミラー28の各々に入射する戻り光32の光軸50とが同軸となる位置に)配置されている。この平面46は、X−Y平面に略平行な仮想的な平面である。すなわち、光源6、コリメートレンズ8、集光レンズ12及び受光部14の各光軸と、第1のミラー24の反射面の中心とが同一の平面46上に配置されている。換言すると、集光レンズ12により集光された光の焦点の位置は、光源6からの光(測定光20及び戻り光32を含む)の光軸の延長線上に位置する受光部14に配置されている。
また、図2に示すように、光源6から第1のミラー24までの測定光20の光路と、第2のミラー26及び第3のミラー28の各々から受光部14までの戻り光32の光路とは、揺動軸30方向に重なった状態で直線状に延びている。すなわち、第1のミラー24、光源6、コリメートレンズ8、集光レンズ12及び受光部14は、一直線上に配置されている。
以上の構成により、図1及び図2に示すように、第1のミラー24で反射した測定光20の光軸48と、第2のミラー26及び第3のミラー28の各々に入射する戻り光32の光軸50とが同軸となる。
[1−2.測定装置の機能構成]
次に、図5を参照しながら、測定装置2の機能構成について説明する。図5は、実施の形態1に係る測定装置2の機能構成を示すブロック図である。なお、図5では、細い実線の矢印は信号の流れを表し、太い実線の矢印はレーザ光の光路を表している。
図5に示すように、測定装置2は、上述した光源6、ミラー部10及び受光部14に加えて、光源駆動部52、ミラー駆動部54及び制御部56を有している。
光源駆動部52は、光源6を駆動する。具体的には、光源駆動部52は、制御部56からのレーザ発光制御信号及び変調信号に基づいて、光源6に測定光20を出射させる。
ミラー駆動部54は、ミラー部10(第1のミラー24、第2のミラー26及び第3のミラー28)を駆動する。具体的には、ミラー駆動部54は、制御部56からの駆動信号に基づいて、ミラー部10を駆動するための駆動電流を生成し、生成した駆動電流を揺動器に出力する。これにより、第1のミラー24、第2のミラー26及び第3のミラー28は、揺動器によって揺動軸30を中心に同期して揺動する。
制御部56は、測定装置2を制御するためのコントローラである。制御部56は、例えばシステムLSI(Large Scale Integration)、IC(Integrated Circuit)又はマイクロコントローラ等で構成されている。以下、制御部56の主な機能について説明する。
制御部56は、光源駆動部52及びミラー駆動部54を制御する。具体的には、制御部56は、光源駆動部52に対してレーザ発光制御信号及び変調信号を出力し、且つ、ミラー駆動部54に対して駆動信号を出力する。
さらに、制御部56は、光源6から出射した測定光20と受光部14で受光された戻り光32との間の位相差に基づいて、測定装置2から対象物4までの距離を算出する。具体的には、制御部56は、光源駆動部52に出力した変調信号及び受光部14により生成された受光信号に基づいて、上記位相差を算出する。その後、制御部56は、算出された位相差を用いて、光源6が測定光20を出射してから受光部14が戻り光32を受光するまでの時間を算出する。その後、制御部56は、算出した時間の1/2に光速を乗算することにより、測定装置2から対象物4までの距離を算出する。
[1−3.測定装置の動作]
次に、図1及び図2を参照しながら、実施の形態1に係る測定装置2の動作について説明する。
図1及び図2に示すように、光源6からの測定光20は、コリメートレンズ8を介して第1のミラー24に入射し、且つ、第1のミラー24で反射する。このとき、第1のミラー24が揺動軸30を中心に揺動することにより、第1のミラー24で反射した測定光20は、筐体内から筐体外に存在する対象物4に向けて所定の走査範囲Rで走査する。
図1及び図2に示すように、対象物4で反射した戻り光32は、筐体外から筐体内の第2のミラー26及び第3のミラー28の各々に入射し、且つ、第2のミラー26及び第3のミラー28の各々で反射する。このとき、第2のミラー26及び第3のミラー28の各々が揺動軸30を中心に揺動することにより、第2のミラー26及び第3のミラー28の各々で反射した戻り光32は、集光レンズ12を介して受光部14で受光される。
なお、上述したように、第1のミラー24で反射した測定光20の光軸48と、第2のミラー26及び第3のミラー28の各々に入射する戻り光32の光軸50とは同軸となる。
[1−4.効果]
次に、実施の形態1に係る測定装置2により得られる効果について、比較例1〜3との対比に基づいて説明する。
図6は、比較例1に係る測定装置300の構成を示す図である。図6に示すように、比較例1に係る測定装置300は、同軸光学系の測定装置の一例である。この同軸光学系の測定装置300では、光源302から出射した測定光304の光軸と、集光レンズ306により受光部308に集光される戻り光310の光軸とが、有孔ミラー312で同一の光軸となる。これにより、光源302から出射した測定光304と受光部308で受光される戻り光310とが同一の光軸に沿って往復するようになる。さらに、光源302からの測定光304は、ミラー314により走査され、筐体窓316から測定エリア(筐体の外部のエリア)に出射する。この比較例1に係る測定装置300では、有孔ミラー312、ミラー314及び筐体窓316の内面で発生した迷光318が受光部308で受光されることにより、受光部308におけるS/N比(Signal−to−Noise ratio)が低下するおそれがある。
図7は、比較例2に係る測定装置320の構成を示す図である。図7に示すように、比較例2に係る測定装置320は、同軸光学系の測定装置の一例である。この同軸光学系の測定装置320では、光源302から出射した測定光304の光軸と、集光レンズ306により受光部308に集光される戻り光310の光軸とが、ミラー322で同一の光軸となる。これにより、光源302から出射した測定光304と受光部308で受光される戻り光310とが同一の光軸に沿って往復するようになる。さらに、光源302からの測定光304は、ミラー314により走査され、筐体窓316から測定エリアに出射する。この比較例2に係る測定装置320では、ミラー322、ミラー314及び筐体窓316の内面で発生した迷光318が受光部308で受光されることにより、受光部308におけるS/N比が低下するおそれがある。
図8は、比較例3に係る測定装置324の構成を示す図である。図8に示すように、比較例3に係る測定装置324は、背景技術の欄で説明した分離光学系の測定装置の一例である。この分離光学系の測定装置324では、筐体の内部は、遮光板326により送光領域328と受光領域330とに仕切られている。送光用ミラー332は、受光用ミラー334から揺動軸336方向に分離して配置されている。遮光板326は、送光用ミラー332と受光用ミラー334との間に配置されている。
送光領域328では、光源302から出射した測定光304が送光用ミラー332により走査され、筐体窓316から測定エリアに出射する。また、受光領域330では、筐体窓316から入射した戻り光310a及び310bが、受光用ミラー334で受光部308に向けて反射した後に、集光レンズ306を介して受光部308で受光される。なお、戻り光310a及び310bはそれぞれ、測定装置324から遠距離に配置された対象物及び測定装置324から近距離に配置された対象物からの戻り光である。
この比較例3に係る測定装置324では、送光領域328と受光領域330とが遮光板326により仕切られているので、送光領域328で発生した迷光318が受光領域330に回り込むのを抑制することができる。このように、分離光学系の測定装置では、上述した同軸光学系の測定装置で発生する問題が解決される。
しかしながら、比較例3に係る測定装置324では、光源302の光軸と受光部308の光軸とが揺動軸336方向に分離しているため、対象物の遠近による視差が発生するおそれが生じる。具体的には、図8に示すように、近距離の対象物からの戻り光310bの光軸が遠距離の対象物からの戻り光310aの光軸に対してずれることにより、戻り光310a及び310bの各集光点が距離dだけずれるようになる。そのため、例えば集光レンズ306及び受光部308を遠距離の対象物からの戻り光310aに合わせて配置した場合には、近距離の対象物からの戻り光310bが受光部308に入射する角度がずれるので、測定誤差が生じてしまう。
そこで、本発明者は、上述した視差の問題を解決するために、実施の形態1に係る測定装置2を提案する。実施の形態1に係る測定装置2は、上述した分離光学系の測定装置に改良を加えたものである。具体的には、上述したように、光源6、第1のミラー24及び受光部14は、揺動軸30に対して略垂直な同一の平面46上に配置されている。換言すると、集光レンズ12により集光された光の焦点の位置は、光源6からの光の光軸の延長線上に配置されている。これにより、第1のミラー24で反射した測定光20の光軸48と、第2のミラー26及び第3のミラー28の各々に入射する戻り光32の光軸50とが同軸となるので、対象物4の遠近による視差の発生を抑制することができる。その結果、対象物4の遠近によって戻り光32が受光部14に入射する角度がずれるのが抑制されるので、測定誤差の発生を抑制することができる。
なお、集光レンズ12により集光された光の焦点の位置は、光源6からの光の光軸の延長線上の近傍、すなわち、当該光軸の延長線上から例えばZ軸方向又はY軸方向等に僅かにずれた位置に配置されていてもよい。この場合であっても、第1のミラー24で反射した測定光20の光軸48と、第2のミラー26及び第3のミラー28の各々に入射する戻り光32の光軸50とがほぼ同軸となり、上述と同様の効果を得ることができる。
さらに、第1のミラー24と第2のミラー26との間に第1の遮光板16が配置され、且つ、第1のミラー24と第3のミラー28との間に第2の遮光板18が配置されている。これにより、第1のミラー24で発生した迷光の受光部14への回り込みが第1の遮光板16及び第2の遮光板18により遮られるので、受光部14におけるS/N比を高めることができる。
さらに、対象物4からの戻り光32が2枚のミラー、すなわち第2のミラー26及び第3のミラー28で反射される。これにより、第2のミラー26及び第3のミラー28の各々で反射した戻り光32が受光部14で受光されるので、受光部14における受光量を増大させることができ、測定精度を高めることができる。
(実施の形態2)
次に、図9及び図10を参照しながら、実施の形態2に係る測定装置2Aの構成について説明する。図9は、実施の形態2に係る測定装置2Aの構成を示す斜視図である。図10は、実施の形態2に係る測定装置2Aの構成を示す平面図である。なお、説明の都合上、図10では、第1の遮光板16A及び第2の遮光板18Bの図示を省略してある。以下に示す各実施の形態において、上記実施の形態1と同一の構成要素には同一の符号を付して、その説明を省略する。
図9及び図10に示すように、実施の形態2に係る測定装置2Aと上記実施の形態1に係る測定装置2とでは、光源6及びコリメートレンズ8の各配置と、第1の遮光板16A及び第2の遮光板18Aの各構成が異なっている。
具体的には、図9及び図10に示すように、第1のミラー24、光源6、コリメートレンズ8、集光レンズ12及び受光部14は、一直線上に配置されていない。すなわち、光源6及びコリメートレンズ8は、第1のミラー24と受光部14とを結ぶ直線上から側方にずれた位置に配置されている。
また、図9及び図10に示すように、ミラー部10と集光レンズ12との間における送光領域36には、偏向ミラー58が配置されている。偏向ミラー58は、光源6からの測定光20を第1のミラー24に向けて反射するためのミラーである。これにより、光源6から第1のミラー24までの測定光20の光路は、この偏向ミラー58により屈曲されるようになる。
さらに、図9に示すように、第1の遮光板16A及び第2の遮光板18Aの各々は、揺動軸30に対して略垂直に配置され、且つ、ミラー部10から偏向ミラー58を介して光源6に亘って屈曲しながら延びている。
実施の形態2に係る測定装置2Aにおいても、光源6、第1のミラー24及び受光部14は、揺動軸30に対して略垂直な同一の平面46(図3参照)上に配置されているので、上記実施の形態1と同様の効果を得ることができる。さらに、光源6及びコリメートレンズ8は、第1のミラー24と受光部14とを結ぶ直線上から側方にずれた位置に配置されているので、第1のミラー24と受光部14との間隔を小さく抑えることができ、測定装置2A全体を小型化することができる。
(実施の形態3)
次に、図11及び図12を参照しながら、実施の形態3に係る測定装置2Bの構成について説明する。図11は、実施の形態3に係る測定装置2Bの構成を示す斜視図である。図12は、実施の形態3に係る測定装置2Bの構成を示す平面図である。なお、説明の都合上、図12では、第1の遮光板16及び第2の遮光板18の図示を省略してある。
図11及び図12に示すように、実施の形態3に係る測定装置2Bと上記実施の形態1に係る測定装置2とでは、受光部14及び集光レンズ12の各配置が異なっている。
具体的には、図11及び図12に示すように、第1のミラー24、光源6、コリメートレンズ8、集光レンズ12及び受光部14は、一直線上に配置されていない。すなわち、集光レンズ12及び受光部14は、第1のミラー24と光源6とを結ぶ直線上から側方にずれた位置に配置されている。
また、第2のミラー26及び集光レンズ12の各々に対向する位置に第1の偏向ミラー60が配置され、第3のミラー28及び集光レンズ12の各々に対向する位置に第2の偏向ミラー62が配置されている。第1の偏向ミラー60は、第2のミラー26で反射した戻り光32を受光部14に向けて反射するためのミラーである。第2の偏向ミラー62は、第3のミラー28で反射した戻り光32を受光部14に向けて反射するためのミラーである。第2のミラー26から受光部14までの戻り光32の光路は、第1の偏向ミラー60により屈曲されるようになる。また、第3のミラー28から受光部14までの戻り光32の光路は、第2の偏向ミラー62により屈曲されるようになる。
実施の形態3に係る測定装置2Bにおいても、光源6、第1のミラー24及び受光部14は、揺動軸30に対して略垂直な同一の平面46(図3参照)上に配置されているので、上記実施の形態1と同様の効果を得ることができる。さらに、集光レンズ12及び受光部14は、第1のミラー24と光源6とを結ぶ直線上から側方にずれた位置に配置されているので、第1のミラー24と集光レンズ12との間隔を小さく抑えることができ、測定装置2B全体を小型化することができる。
(実施の形態4)
次に、図13及び図14を参照しながら、実施の形態4に係る測定装置2Cの構成について説明する。図13は、実施の形態4に係る測定装置2Cの構成を示す平面図である。図14は、実施の形態4に係る測定装置2Cの構成を示す側面図である。なお、説明の都合上、図13では、第1の遮光板16及び第2の遮光板18の図示を省略してある。
図13及び図14に示すように、実施の形態4に係る測定装置2Cと上記実施の形態1に係る測定装置2とでは、ミラー部10Cの構成と、光源6及びコリメートレンズ8の各配置とが異なっている。
具体的には、図13に示すように、第2のミラー26及び第3のミラー28は互いに略平行に配置され、第1のミラー24Cは、第2のミラー26及び第3のミラー28の各々に対して揺動軸30回りに所定角度だけ傾斜している。これに伴い、第1のミラー24C、光源6、コリメートレンズ8、集光レンズ12及び受光部14は、一直線上に配置されていない。すなわち、光源6及びコリメートレンズ8は、第1のミラー24Cと受光部14とを結ぶ直線上から側方にずれた位置に配置されている。
実施の形態4に係る測定装置2Cにおいても、光源6、第1のミラー24C及び受光部14は、揺動軸30に対して略垂直な同一の平面46(図14参照)上に配置されているので、上記実施の形態1と同様の効果を得ることができる。さらに、上述したように、光源6及びコリメートレンズ8は、第1のミラー24Cと受光部14とを結ぶ直線上から側方にずれた位置に配置されているので、第1のミラー24Cと受光部14との間隔を小さく抑えることができ、測定装置2C全体を小型化することができる。
(実施の形態5)
次に、図15及び図16を参照しながら、実施の形態5に係る測定装置2Dの構成について説明する。図15は、実施の形態5に係る測定装置2Dの構成を示す平面図である。図16は、実施の形態5に係る測定装置2Dの構成を示す側面図である。なお、説明の都合上、図15では、第1の遮光板16及び第2の遮光板18の図示を省略してある。
図15及び図16に示すように、実施の形態5に係る測定装置2Dと上記実施の形態1に係る測定装置2とでは、ミラー部10Dの構成と、集光レンズ12Dの構成とが異なっている。
具体的には、図16に示すように、ミラー部10Dは、2枚のミラー、すなわち、第1のミラー24及び第2のミラー26Dを有している。第2のミラー26Dは、第1のミラー24から揺動軸30方向に(すなわち、Z軸のマイナス方向に)分離して配置されている。また、集光レンズ12D(光学部品の一例)は、例えば平凸レンズの一部をカットした形状を有しており、第2のミラー26Dに対向する位置に配置されている。光源6、集光レンズ12D及び受光部14は、各々の光軸が略一致する位置に配置されている。
実施の形態5に係る測定装置2Dにおいても、光源6、第1のミラー24及び受光部14は、揺動軸30に対して略垂直な同一の平面46(図16参照)上に配置されているので、上記実施の形態1と同様の効果を得ることができる。
(他の変形例)
以上、本発明の実施の形態1〜5に係る測定装置について説明したが、本発明は、これらの実施の形態1〜5に限定されるものではない。例えば、上記実施の形態1〜5をそれぞれ組み合わせてもよい。
本発明の測定装置は、例えば対象物までの距離を測定するためのレーザレンジファインダ等として適用することができる。
2,2A,2B,2C,2D,300,320,324 測定装置
4 対象物
6,302 光源
8 コリメートレンズ
10,10C,10D ミラー部
12,12D,306 集光レンズ
14,308 受光部
16,16A 第1の遮光板
18,18A 第2の遮光板
20,304 測定光
22 フレーム
24,24C 第1のミラー
26,26D 第2のミラー
28 第3のミラー
30,336 揺動軸
32,310,310a,310b 戻り光
34 第3の遮光板
36,328 送光領域
38,40 孔
41,42 分割遮光板
41a,42a 凹部
44 遮光テープ
46 平面
48,50 光軸
52 光源駆動部
54 ミラー駆動部
56 制御部
58 偏向ミラー
60 第1の偏向ミラー
62 第2の偏向ミラー
312 有孔ミラー
314,322 ミラー
316 筐体窓
326 遮光板
330 受光領域
332 送光用ミラー
334 受光用ミラー

Claims (8)

  1. 光を出射する光源と、
    揺動軸を中心に揺動することにより、前記光源からの光を反射して対象物に向けて光を走査する第1のミラーと、
    前記第1のミラーから前記揺動軸方向に配置され、前記揺動軸を中心に揺動することにより前記対象物で反射した光を所定の方向に反射する第2のミラーと、
    前記第2のミラーで反射した光を受光する受光部と、
    前記第2のミラーで反射した光を前記受光部に集光する光学部品と、を備え、
    前記光学部品により集光された光の焦点の位置は、前記光源からの光の光軸の延長線上又はその近傍に配置されている
    測定装置。
  2. 前記測定装置は、さらに、
    前記第1のミラーから前記揺動軸方向に且つ前記第2のミラーと反対側に配置され、前記揺動軸を中心に揺動することにより前記対象物で反射した光を前記所定の方向に反射する第3のミラーと、を備え、
    前記第1のミラー、前記第2のミラー及び前記第3のミラーは互いに略平行に配置されている
    請求項1に記載の測定装置。
  3. 前記光源から前記第1のミラーまでの光路と、前記第2のミラー及び第3のミラーの各々から前記受光部までの光路とは、前記揺動軸方向に重なった状態で直線状に延びている
    請求項2に記載の測定装置。
  4. 前記測定装置は、さらに、前記光源からの光を前記第1のミラーに向けて反射する偏向ミラーを備え、
    前記光源から前記第1のミラーまでの光路は、前記偏向ミラーにより屈曲される
    請求項2に記載の測定装置。
  5. 前記測定装置は、さらに、
    前記第2のミラーで反射した光を前記受光部に向けて反射する第1の偏向ミラーと、
    前記第3のミラーで反射した光を前記受光部に向けて反射する第2の偏向ミラーと、を備え、
    前記第2のミラーから前記受光部までの光路は、前記第1の偏向ミラーにより屈曲され、
    前記第3のミラーから前記受光部までの光路は、前記第2の偏向ミラーにより屈曲される
    請求項2に記載の測定装置。
  6. 前記測定装置は、さらに、
    前記第1のミラーから前記揺動軸方向に且つ前記第2のミラーと反対側に配置され、前記揺動軸を中心に揺動することにより前記対象物で反射した光を前記所定の方向に反射する第3のミラーと、を備え、
    前記第2のミラー及び前記第3のミラーは互いに略平行に配置され、
    前記第1のミラーは、前記第2のミラー及び前記第3のミラーの各々に対して前記揺動軸回りに傾斜している
    請求項1に記載の測定装置。
  7. 前記光学部品は集光レンズであり、
    前記光源、前記集光レンズ及び前記受光部は、各々の光軸が略一致する位置に配置されている
    請求項1に記載の測定装置。
  8. 前記光学部品により集光された光の焦点の位置は、前記光源からの光の前記光軸の延長線上に配置されている
    請求項1〜7のいずれか1項に記載の測定装置。
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