JP2017038086A - 熱伝導シート、熱伝導シートの製造方法、放熱部材及び半導体装置 - Google Patents

熱伝導シート、熱伝導シートの製造方法、放熱部材及び半導体装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2017038086A
JP2017038086A JP2016218516A JP2016218516A JP2017038086A JP 2017038086 A JP2017038086 A JP 2017038086A JP 2016218516 A JP2016218516 A JP 2016218516A JP 2016218516 A JP2016218516 A JP 2016218516A JP 2017038086 A JP2017038086 A JP 2017038086A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sheet
heat conductive
conductive sheet
heat
carbon fiber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016218516A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6302034B2 (ja
Inventor
荒巻 慶輔
Keisuke Aramaki
慶輔 荒巻
紘希 金谷
Hiroki Kanaya
紘希 金谷
正英 大門
Masahide Daimon
正英 大門
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dexerials Corp
Original Assignee
Dexerials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dexerials Corp filed Critical Dexerials Corp
Publication of JP2017038086A publication Critical patent/JP2017038086A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6302034B2 publication Critical patent/JP6302034B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B3/00Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
    • B81B3/0064Constitution or structural means for improving or controlling the physical properties of a device
    • B81B3/0081Thermal properties
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3737Organic materials with or without a thermoconductive filler
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/42Fillings or auxiliary members in containers or encapsulations selected or arranged to facilitate heating or cooling
    • H01L23/433Auxiliary members in containers characterised by their shape, e.g. pistons
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K7/00Constructional details common to different types of electric apparatus
    • H05K7/20Modifications to facilitate cooling, ventilating, or heating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/40Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs
    • H01L23/4006Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs with bolts or screws
    • H01L2023/4037Mountings or securing means for detachable cooling or heating arrangements ; fixed by friction, plugs or springs with bolts or screws characterised by thermal path or place of attachment of heatsink
    • H01L2023/4068Heatconductors between device and heatsink, e.g. compliant heat-spreaders, heat-conducting bands
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73253Bump and layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16152Cap comprising a cavity for hosting the device, e.g. U-shaped cap

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)

Abstract

【課題】熱伝導シートの接触等の不測の事態においても、電気的な絶縁性を確保するとともに、高い熱伝導率を維持する熱伝導シートの提供。【解決手段】 バインダ樹脂と、絶縁皮膜により被覆された炭素繊維とを含有する熱伝導性樹脂組成物が硬化されたシート本体を有し、前記シート本体の表面に露出した前記炭素繊維は、前記絶縁皮膜により被覆されておらず、且つ前記バインダ樹脂の成分によって被覆されている熱伝導シート。【選択図】図3A

Description

本発明は、半導体素子等の発熱体とヒートシンク等の放熱体との間に配置される熱伝導シート、熱伝導シートの製造方法、熱伝導シートを備えた放熱部材及び半導体装置に関する。
従来、パーソナルコンピュータ等の各種電気機器やその他の機器に搭載されている半導体素子においては、駆動により熱が発生し、発生した熱が蓄積されると半導体素子の駆動や周辺機器へ悪影響が生じることから、各種冷却手段が用いられている。半導体素子等の電子部品の冷却方法としては、当該機器にファンを取り付け、機器筐体内の空気を冷却する方式や、その冷却すべき半導体素子に放熱フィンや放熱板等のヒートシンクを取り付ける方法等が知られている。
半導体素子にヒートシンクを取り付けて冷却する場合、半導体素子の熱を効率よく放出させるために、半導体素子とヒートシンクとの間に熱伝導シートが設けられている。熱伝導シートとしては、シリコーン樹脂に熱伝導性フィラー〔例えば、鱗片状粒子(窒化ホウ素(BN)、黒鉛等)、炭素繊維等〕を分散含有させたものが広く用いられている(特許文献1参照)。
これら熱伝導性フィラーは、熱伝導の異方性を有しており、例えば熱伝導性フィラーとして炭素繊維を用いた場合、繊維方向には約600W/m・K〜1200W/m・Kの熱伝導率を有し、窒化ホウ素を用いた場合には、面方向では約110W/m・K、面方向に垂直な方向では約2W/m・Kの熱伝導率を有し、異方性を有することが知られている。
特開2012−23335号公報
しかし、熱伝導性に優れるが導電性をも備えた炭素繊維等の熱伝導性フィラーを用いた熱伝導シートでは、熱伝導シートが半導体素子周辺の回路に接触した場合や、シートに欠損が生じて回路に落下した場合に、シート表面に露出した熱伝導性フィラーによってショートが生じる等、電子機器の故障を招くことが懸念される。
一方で、熱伝導シートの電気的な絶縁性を確保するために、熱伝導性フィラーをシート本体に埋没させると熱伝導性フィラーによる高い熱伝導率の効果を損なってしまう。
そこで、本発明は、熱伝導シートの接触等の不測の事態においても、電気的な絶縁性を確保するとともに、高い熱伝導率を維持することができる熱伝導シート、熱伝導シートの製造方法、放熱部材及び半導体装置を提供することを目的とする。
上述した課題を解決するために、本発明に係る熱伝導シートは、バインダ樹脂と、絶縁皮膜により被覆された炭素繊維とを含有する熱伝導性樹脂組成物が硬化されたシート本体を有し、
前記シート本体の表面に露出した前記炭素繊維は、前記絶縁皮膜により被覆されておらず、且つ前記バインダ樹脂の成分によって被覆されているものである。
また、本発明に係る熱伝導シートの製造方法は、バインダ樹脂と、絶縁皮膜により被覆された炭素繊維とを含有する熱伝導性樹脂組成物を所定の形状に成型して硬化することにより、前記熱伝導性樹脂組成物の成型体を得る工程と、
前記成型体をシート状に切断し、シート本体を得る工程と、
前記シート本体の表面に露出した前記炭素繊維を、前記バインダ樹脂の成分で被覆する工程とを有し、
前記シート本体を得る工程において、前記シート本体の表面に露出する前記炭素繊維を被覆する前記絶縁皮膜が除去されるものである。
また、本発明に係る放熱部材は、電子部品の発する熱を放熱するヒートスプレッダと、前記ヒートスプレッダに配設され、前記ヒートスプレッダと前記電子部品との間に挟持される前記熱伝導シートとを有するものである。
また、本発明に係る半導体装置は、前記半導体素子の発する熱を放熱するヒートスプレッダと、前記ヒートスプレッダに配設され、前記ヒートスプレッダと前記半導体素子との間に挟持される前記熱伝導シートとを有するものである。
本発明によれば、シート本体の表面に露出された炭素繊維は絶縁皮膜に被覆されていないため前記絶縁皮膜による熱伝導率の低下を抑制できる。また、本発明に係る熱伝導シートは、シート本体の表面に露出した、絶縁皮膜に被覆されていない炭素繊維が、バインダ樹脂の成分で被覆されるため、シートの絶縁性と熱伝導率を両立することができる。
図1は、本発明が適用された熱伝導シート、放熱部材及び半導体装置を示す断面図である。 図2は、樹脂成型体をスライスしシート本体を切り出す工程を示す斜視図である。 図3Aは、樹脂成型体より切り出されたシート本体を示す斜視図である。 図3Bは、シート本体がバインダ樹脂の成分によって被覆された状態を示す斜視図である。 図4は、絶縁皮膜によって被覆された炭素繊維を示す斜視図である。 図5は、熱伝導シートの表面形状の一例を示す断面図である。 図6は、熱伝導シートの表面形状の他の一例を示す断面図である。 図7は、シート本体がスペーサを介してプレスされる状態を示す斜視図である。
以下、本発明が適用された熱伝導シート、熱伝導シートの製造方法、放熱部材及び半導体装置について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施形態のみに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々の変更が可能であることは勿論である。また、図面は模式的なものであり、各寸法の比率等は現実のものとは異なることがある。具体的な寸法等は以下の説明を参酌して判断すべきものである。また、図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。
本発明が適用された熱伝導シート1は、半導体素子等の電子部品3の発する熱を放熱するものであり、図1に示すように、ヒートスプレッダ2の電子部品3と対峙する主面2aに固定され、電子部品3と、ヒートスプレッダ2との間に挟持されるものである。また、熱伝導シートは、ヒートスプレッダ2とヒートシンク5との間に挟持される。そして、熱伝導シートは、ヒートスプレッダ2とともに、電子部品3の熱を放熱する放熱部材4を構成する。
ヒートスプレッダ2は、例えば方形板状に形成され、電子部品3と対峙する主面2aと、主面2aの外周に沿って立設された側壁2bとを有する。ヒートスプレッダ2は、側壁2bに囲まれた主面2aに熱伝導シート1が設けられ、また主面2aと反対側の他面2cに熱伝導シート1を介してヒートシンク5が設けられる。ヒートスプレッダ2は、高い熱伝導率を有するほど、熱抵抗が減少し、効率よく半導体素子等の電子部品4の熱を吸熱することから、例えば、熱伝導性の良い銅やアルミニウムを用いて形成することができる。
電子部品3は、例えばBGA等の半導体素子であり、配線基板6へ実装される。またヒートスプレッダ2も、側壁2bの先端面が配線基板6に実装され、これにより側壁2bによって所定の距離を隔てて電子部品3を囲んでいる。
そして、ヒートスプレッダ2の主面2aに、熱伝導シート1が接着されることにより、半導体素子の発する熱を吸収し、ヒートシンク5より放熱する放熱部材4が形成される。ヒートスプレッダ2と熱伝導シート1との接着は、後述する熱伝導シート1自身の粘着力によって行うことができるが、適宜、接着剤を用いてもよい。接着剤としては、熱伝導シート1のヒートスプレッダ2への接着と熱伝導を担う公知の放熱性樹脂、あるいは放熱性の接着フィルムを用いることができる。
[熱伝導シート]
熱伝導シート1は、バインダ樹脂と、絶縁皮膜に被覆された炭素繊維11とを含有する熱伝導性樹脂組成物が硬化されたシート本体7を有し、前記シート本体7の表面に露出した炭素繊維11は、前記絶縁皮膜により被覆されておらず、前記シート本体7より滲み出た前記バインダ樹脂の未硬化成分8によって被覆されている。
熱伝導シート1は、図2、図3A及び図3Bに示すように、バインダ樹脂と、絶縁皮膜に被覆された炭素繊維11とを含有する熱伝導性樹脂組成物を硬化して形成した樹脂成型体9を、シート状に切断してシート表面に炭素繊維11が露出されたシート本体7を得、その後、シート本体7をプレスして又は放置して、シート本体7及びシート本体7の表面に露出された炭素繊維11をバインダ樹脂の未硬化成分8によって被覆することにより製造される。なお、シート本体7の表面に露出された炭素繊維11は、絶縁皮膜12によって被覆されていない。詳しくは後述する。
熱伝導シート1を構成する炭素繊維11は、電子部品3からの熱を効率良くヒートスプレッダ2に伝導させるためのものである。炭素繊維11は、平均径が小さすぎるとその比表面積が過大となって熱伝導シート1を作成する際の樹脂組成物の粘度が高く成りすぎることが懸念され、大きすぎると成型体の作成が困難になるおそれがあることから、炭素繊維11の平均径は、好ましくは5μm〜12μmである。また、その平均繊維長は、好ましくは30μm〜300μmである。炭素繊維11の平均繊維長が、30μm未満ではその比表面積が過大となって熱伝導性樹脂組成物の粘度が高くなりすぎる傾向があり、300μmより大きすぎると熱伝導シート1の圧縮を阻害する傾向がある。
炭素繊維11は、熱伝導シート1に対して要求される機械的性質、熱的性質、電気的性質などの特性に応じて選択される。中でも、高弾性率、良好な熱伝導性、高導電性、電波遮蔽性、低熱膨張性等を示す点からピッチ系炭素繊維あるいはポリベンザゾールを黒鉛化した炭素繊維を好ましく使用することができる。
炭素繊維11の熱伝導シート1中の含有量は、少なすぎると熱伝導率が低くなり、多すぎると粘度が高くなる傾向があるので、好ましくは16体積%〜40体積%である。
[絶縁皮膜]
図4に示すように、炭素繊維11は表面が絶縁皮膜12によって被覆されている。絶縁皮膜12は、例えば酸化ケイ素、窒化ホウ素等の優れた電気絶縁性を有する材料を用いることができる。また、絶縁皮膜12により炭素繊維11を被覆する方法としては、例えばゾルゲル法、液相堆積法、ポリシロキサン法等が挙げられる。なお、炭素繊維11と絶縁皮膜12との接着性を高めるために、炭素繊維11の表面を気相法、薬液処理法、電解法などによって酸化させてもよい。
炭素繊維11を被覆する絶縁皮膜12を酸化ケイ素とした場合、断面TEM観察により観察される絶縁皮膜12の平均厚さを50nm以上、100nm未満とすることが好ましい。
平均厚さ50nm未満の絶縁皮膜12を形成しようとすると、皮膜処理濃度を低下させる必要があるため、皮膜形成に長時間を要し生産性が損なわれるほか、バッチの処理量が減り廃液が増える。また、皮膜処理濃度を高めても厚み制御が難しく、生産性が損なわれるほか、炭素繊維11が部分的に露出するなど絶縁性能を損なうおそれもある。
また、平均厚さ100nm以上の絶縁皮膜12を形成する場合、炭素繊維11を被覆する絶縁皮膜12の形成に寄与するシリカの他に、微粒子状のシリカが形成されてしまう。このため、絶縁皮膜12により被覆された炭素繊維11をバインダ樹脂に混合しようとすると、微粒子状のシリカも同時に混合されてしまい、熱抵抗値の悪化を招く。また、被膜処理濃度を調整して複数回繰り返して膜厚を調整する方法も考えられるが、被覆処理の回数が増える事で、生産効率の低下と廃液量の増加につながるため、好ましくない。
[熱伝導性フィラー]
なお、炭素繊維11の他に、本発明の効果を損なわない範囲で、繊維状フィラー、板状フィラー、鱗片状フィラー、球状フィラー等の熱伝導性フィラーを併用することができる。
熱伝導性フィラーとしては、例えば、金属(例えば、ニッケル、鉄等)、ガラス、セラミックス〔例えば、酸化物(例えば、酸化アルミニウム、二酸化ケイ素等)、窒化物(例えば、窒化ホウ素、窒化アルミニウム等)、ホウ化物(例えば、ホウ化アルミニウム等)、炭化物(例えば、炭化ケイ素等)等の非金属系無機繊維〕等の各種フィラーを挙げることができる。
特に、炭素繊維11の熱伝導性樹脂組成物中での二次凝集の抑制という観点から、0.1μm〜10μm径の球状フィラー(好ましくは球状アルミナや球状窒化アルミ)を、炭素繊維11を100質量部に対し、好ましくは50質量部〜900質量部併用することが好ましい。
[バインダ樹脂]
バインダ樹脂は、炭素繊維11及び適宜添加された熱伝導性フィラーを熱伝導シート1内に保持するものであり、熱伝導シート1に要求される機械的強度、耐熱性、電気的性質等の特性に応じて選択される。このようなバインダ樹脂としては、熱可塑性樹脂、熱可塑性エラストマー、熱硬化性樹脂の中から選択することができる。
熱可塑性樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体等のエチレン−αオレフィン共重合体、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、ポリフッ化ビニリデン及びポリテトラフルオロエチレン等のフッ素系重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリスチレン、ポリアクリロニトリル、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体(ABS)樹脂、ポリフェニレン−エーテル共重合体(PPE)樹脂、変性PPE樹脂、脂肪族ポリアミド類、芳香族ポリアミド類、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸メチルエステル等のポリメタクリル酸エステル類、ポリアクリル酸類、ポリカーボネート、ポリフェニレンスルフィド、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルニトリル、ポリエーテルケトン、ポリケトン、液晶ポリマー、シリコーン樹脂、アイオノマー等が挙げられる。
熱可塑性エラストマーとしては、スチレン−ブタジエンブロック共重合体又はその水添化物、スチレン−イソプレンブロック共重合体又はその水添化物、スチレン系熱可塑性エラストマー、オレフィン系熱可塑性エラストマー、塩化ビニル系熱可塑性エラストマー、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、ポリウレタン系熱可塑性エラストマー、ポリアミド系熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
熱硬化性樹脂としては、架橋ゴム、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ジアリルフタレート樹脂等が挙げられる。架橋ゴムの具体例としては、天然ゴム、アクリルゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、ニトリルゴム、水添ニトリルゴム、クロロプレンゴム、エチレン−プロピレン共重合ゴム、塩素化ポリエチレンゴム、クロロスルホン化ポリエチレンゴム、ブチルゴム、ハロゲン化ブチルゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴム、及びシリコーンゴムが挙げられる。
熱伝導性樹脂組成物は、繊維状フィラーとバインダ樹脂とに加えて、必要に応じて各種添加剤や揮発性溶剤を、公知の手法により均一に混合することにより調整することができる。
このような熱伝導シート1は、後述するように、バインダ樹脂中に絶縁皮膜12によって被覆された炭素繊維11を含有する熱伝導性樹脂組成物を硬化して形成した樹脂成型体9を、シート状にスライスしてシート表面に炭素繊維11が露出されたシート本体7を得、その後、シート本体7をプレスする又は放置することにより製造される。
このとき、スライスにより、シート表面に露出された炭素繊維11の絶縁皮膜12が除去されるため、熱伝導シート1は、絶縁皮膜12による熱伝導率の低下を抑制できる。その後、熱伝導シート1は、シート本体7をプレスする又は放置することにより表面に滲み出したバインダ樹脂の未硬化成分8で絶縁皮膜12が除去された炭素繊維11が被覆されるため、シートの絶縁性と熱伝導率を両立することができる。
また、熱伝導シート1は、プレスされる又は放置されることにより、シート本体7より全表面にわたってバインダ樹脂の未硬化成分8が滲み出し、当該未硬化成分8によって以下の(1)及び(2)が被覆されている。
(1)シート本体7の表面
(2)シート本体7の表面に露出された炭素繊維11
これにより、熱伝導シート1は、シート表面に微粘着性(タック性)が発現する。したがって、熱伝導シート1は、電子部品3やヒートスプレッダ2の表面に対する追従性、密着性が向上し、低荷重領域においても熱抵抗を低減させることができる。
また、熱伝導シート1は、シート本体7の表面がバインダ樹脂の未硬化成分8によって被覆され、表面に微粘着性が発現することにより、ヒートスプレッダ2の主面2aへの接着、あるいは、電子部品3の上面3aへの仮固定が可能となる。したがって、熱伝導シート1は、別途接着剤を用いる必要がなく、製造工程の省力化、低コスト化を実現することができる。
なお、未硬化成分8によるシート本体7の表面の被覆、及び未硬化成分8による絶縁皮膜12が除去された炭素繊維11の被覆は、必ずしも絶縁皮膜12が除去された炭素繊維11が完全に埋没する厚みは必要なく、シート本体7の表面ならびに絶縁皮膜12が除去された炭素繊維11が被覆されていれば、絶縁皮膜12が除去された炭素繊維11の形状が判断できる程度の厚みであっても十分である。
ここで、熱伝導シート1は、熱伝導性樹脂組成物のバインダ樹脂の主剤と硬化剤の成分比を調整することにより、所望の微粘着性(タック性)を得ることができる。例えば、熱伝導性樹脂組成物のバインダ樹脂として2液性の付加反応型液状シリコーン樹脂を用いた場合、主剤と硬化剤の成分比率は、
主剤:硬化剤=50:50〜65:35(質量比)
とすることが好ましい。
この成分比で調整することにより、熱伝導シート1は、シート形状を維持しつつ、プレスする又は放置することによってバインダ樹脂の未硬化成分8が滲み出し、シート本体7の全表面を被覆して、シート全体に適度な微粘着性を得ることができる。
一方、この成分比よりも主剤の成分が少ないと、熱伝導シート1は、バインダ樹脂の硬化が進み、柔軟性に欠けるとともに、シート本体7のバインダ樹脂の未硬化成分8による被覆も不十分でシート本体7の少なくとも一部では微粘着性も発現しない。また、この成分比よりも硬化剤の成分が少ないと、粘着性が過剰に発現してシート形状が維持できず、また成型体からシート状に切り出すことも困難となり、取扱い性を損なう。
また、熱伝導シート1は、ASTM−D2240の測定方法によるショアOO硬度が70以下であることが好ましい。熱伝導シート1の硬度がショアOO硬度で70を超えると、シート本体7が十分な柔軟性を発揮することができず、電子部品3やヒートスプレッダ2の表面に対する追従性、密着性が低下し、熱抵抗を上昇させるおそれがある。なお、熱伝導シート1の硬度の下限は特に限定されない。
なお、熱伝導シート1の体積抵抗率は、1×10Ω・cm以上が好ましい。これにより、周辺の回路部品に熱伝導シート1が接触しても、電子機器の故障等を招く懸念がない。
熱伝導シートの表面形状は、例えば、以下の例が挙げられる。
一つは、図5に示すように、表面が平滑な態様である。この場合、炭素繊維11を被覆する未硬化成分8の表面が平滑である。
もう一つは、図6に示すように、表面が、シート本体7の表面に露出した炭素繊維11に由来する凸部を有する態様である。この場合、炭素繊維11を被覆する未硬化成分8の表面が平滑ではなく、炭素繊維11に由来する凸部を有している。
なお、図5及び図6においては、炭素繊維11を被覆する絶縁皮膜12を省略している。
[熱伝導シートの製造工程]
本発明の熱伝導シート1は、以下の工程(A)〜(D)を有する製造方法によって製造することができる。以下、工程毎に詳細に説明する。
<工程A>
まず、絶縁皮膜12によって被覆された炭素繊維11及び適宜添加される熱伝導性フィラーをバインダ樹脂に分散させることにより熱伝導シート1形成用の熱伝導性樹脂組成物を調製する。この調製は、炭素繊維11及び熱伝導性フィラーとバインダ樹脂と必要に応じて配合される各種添加剤や揮発性溶剤とを公知の手法により均一に混合することにより行うことができる。
<工程B>
次に、調製された熱伝導性樹脂組成物から、押出し成型法又は金型成型法によりブロック状の樹脂成型体9を形成する。
押出し成型法、金型成型法としては、特に制限されず、公知の各種押出し成型法、金型成型法の中から、熱伝導性樹脂組成物の粘度や熱伝導シート1に要求される特性等に応じて適宜採用することができる。
押出し成型法において、熱伝導性樹脂組成物をダイより押し出す際、あるいは金型成型法において、熱伝導性樹脂組成物を金型へ圧入する際、バインダ樹脂が流動し、その流動方向に沿って一部の炭素繊維11が配向するが、多くは配向がランダムになっている。
なお、ダイの先端にスリットを取り付けた場合、押し出された樹脂成型体9の幅方向に対して中央部は、炭素繊維11が配向しやすい傾向がある。その一方、樹脂成型体9の幅方向に対して周辺部は、スリット壁の影響を受けて炭素繊維11がランダムに配向されやすい。
樹脂成型体9の大きさ・形状は、求められる熱伝導シート1の大きさに応じて決めることができる。例えば、断面の縦の大きさが0.5cm〜15cmで横の大きさが0.5cm〜15cmの直方体が挙げられる。直方体の長さは必要に応じて決定すればよい。
<工程C>
次に、形成された樹脂成型体9をシート状にスライスする。これによりシート本体7が得られる。このシート本体7は、スライスにより得られるシートの表面(スライス面)に炭素繊維11が露出する。このとき、樹脂成型体9とともに炭素繊維11もカットされることから、シート表面に露出された炭素繊維11を被覆する絶縁皮膜12が除去される(即ち、シート表面に露出された炭素繊維11は、絶縁皮膜12によって被覆されていない)。したがって、熱伝導シート1は厚さ方向に亘って良好な熱伝導率を維持することができる。
スライスする方法としては特に制限はなく、樹脂成型体9の大きさや機械的強度により公知のスライス装置13(好ましくは超音波カッターやかんな)の中から適宜選択することができる。樹脂成型体9のスライス方向としては、成型方法が押出し成型方法である場合には、押出し方向に配向しているものもあるために押出し方向に対して60度〜120度、より好ましくは70度〜100度の方向である。特に好ましくは90度(垂直)の方向である。
スライス厚としても、特に制限はなく、熱伝導シート1の使用目的等に応じて適宜選択することができる。
<工程D>
次いで、シート本体7の表面に露出した炭素繊維11を、バインダ樹脂の成分で被覆する。この方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。
(1)シート本体7をプレスすることにより、シート本体7より滲み出たバインダ樹脂の未硬化成分8によって、シート本体の7表面及びシート本体7の表面より露出する炭素繊維11を被覆する。
(2)シート本体7を放置することにより、シート本体7より滲み出たバインダ樹脂の未硬化成分8によって、シート本体7の表面及びシート本体7の表面より露出する炭素繊維11を被覆する。
まず、前記(1)の方法について説明する。
得られたシート本体7のスライス面をプレスする。プレスの方法としては、平盤と表面が平坦なプレスヘッドとからなる一対のプレス装置を使用することができる。また、ピンチロールでプレスしてもよい。
プレスの条件によって、得られる熱伝導シートの表面の形状は異なる。
次に、前記(2)の方法について説明する。
得られたシート本体7を放置する。放置時間によって、得られる熱伝導シートの表面の形状は異なる。
例えば、短時間の放置であれば、図6に示すような、表面がシート本体7の表面に露出した炭素繊維11に由来する凸部を有する熱伝導シートが得られる。
一方、長時間の放置であれば、図5に示すような、表面が平滑な熱伝導シートが得られる。
これにより、シート本体7からバインダ樹脂の未硬化成分8が滲み出し、当該未硬化成分8によってシート本体7の表面が被覆された熱伝導シート1を得る(図3B参照)。熱伝導シート1は、スライス面に露出されていた炭素繊維11(絶縁皮膜により被覆されていない炭素繊維11)が、バインダ樹脂の未硬化成分8に被覆される。したがって、熱伝導シート1は、電気的な絶縁性を確保することができ、半導体素子周辺の回路に接触した場合や、熱伝導シート1に欠損が生じて回路に落下した場合にも、ショートによる電子機器の故障を防止することができる。
また、熱伝導シート1は、シート表面に微粘着性(タック性)が発現する。したがって、熱伝導シート1は、電子部品3やヒートスプレッダ2の表面に対する追従性、密着性が向上し、熱抵抗を低減させることができる。
また、熱伝導シート1は、シート本体7の表面がバインダ樹脂の未硬化成分8によって被覆され、表面に微粘着性が発現することにより、ヒートスプレッダ2の主面2aへの接着、あるいは、電子部品3の上面3aへの仮固定が可能となる。したがって、熱伝導シート1は、別途接着剤を用いる必要がなく、製造工程の省力化、低コスト化を実現することができる。
さらに、熱伝導シート1は、取扱い中に表面の微粘着性を喪失した場合にも、プレスを行うと、再度シート本体7よりバインダ樹脂の未硬化成分8が滲み出し、当該未硬化成分8によって表面が被覆される。したがって、熱伝導シート1は、ヒートスプレッダ2への接着位置や、電子部品3への仮固定位置がずれた場合にも、リペアが可能となる。
また、熱伝導シート1は、バインダ樹脂の未硬化成分8がシート本体7の全面から滲み出し、シート本体7の表裏面のみならず側面も被覆される。バインダ樹脂の未硬化成分8は絶縁性を有するため、熱伝導シート1は、側面に絶縁性が付与される。したがって、熱伝導シート1は、電子部品3とヒートスプレッダ2とに挟持されて周辺に膨出し、周辺に配置された導電性の部材と接触した場合にも、熱伝導シート1を介して半導体素子やヒートシンクと当該導電性部材とが短絡することを防止することができる。
なお、熱伝導シート1は、プレスされることにより厚み方向に圧縮され、炭素繊維11や熱伝導性フィラー同士の接触の頻度を増大させることができる。これにより、熱伝導シート1の熱抵抗を低減させることが可能となる。また、熱伝導シート1は、プレスされることにより、表面が平滑化される。
プレスの際の圧力としては、低すぎるとプレスをしない場合と熱抵抗が変わらない傾向があり、高すぎるとシートが延伸する傾向があるので、好ましくは0.0098MPa〜9.8MPa、より好ましくは0.049MPa〜9.3MPaである。
また、熱伝導シート1は、図7に示すように、プレスヘッドと対峙する載置面にスペーサ10を配置してシート本体7がプレスされることにより、当該スペーサ10の高さに応じた所定のシート厚に形成することができる。
熱伝導シート1は、プレスされることにより、シート本体7内のバインダ樹脂の未硬化成分8が滲み出し、シート表面の全体を被覆すると、滲み出しが止まる。プレス時間は、バインダ樹脂中のバインダ樹脂の成分と硬化剤成分の配合比、プレス圧力、シート面積等に応じて、バインダ樹脂の未硬化成分8が滲み出し、シート本体7の表面の全体を被覆するのに十分な時間を適宜設定することができる。
また、プレス工程は、バインダ樹脂の未硬化成分8の滲み出し、シート本体7表面の被覆の効果をより促進させるために、ヒータを内蔵したプレスヘッドを用いて、加熱しながら行ってもよい。このような効果を高めるため、加熱温度はバインダ樹脂のガラス転移温度以上で行うことが好ましい。これにより、プレス時間を短縮することができる。
次いで、本発明の実施例について説明する。本実施例では、熱伝導性樹脂組成物のバインダ成分と硬化剤成分の成分比、及び絶縁皮膜による炭素繊維の絶縁被覆の有無を変えて熱伝導シートのサンプルを形成し、各サンプルについて、微粘着性の有無、ショアOO硬度、圧縮応力[N]、シートの初期厚み[mm]、熱抵抗(K・cm/W)、体積抵抗率[Ω・cm]を測定、評価した。
[製造例1:炭素繊維の絶縁皮膜処理]
各実施例に用いた炭素繊維への絶縁被膜の形成は、以下の方法により行った。
樹脂容器(PE)に、第一配合物〔平均繊維長100μm、平均繊維径9μmのピッチ系炭素繊維(熱伝導性繊維:日本グラファイトファイバー株式会社製)300g、テトラエトキシシラン600g、及びエタノール2700g〕を投入し撹拌翼にて混合した。これに、第二配合物(10質量%アンモニア水1050g)を5分間かけて投入した。第二配合物の投入が完了した時点を0分として3時間攪拌を行った。攪拌終了後、真空ポンプを用いて吸引濾過を行い、回収したサンプルをビーカーに移し、水やエタノールで洗浄後、再度濾過を行い、サンプルを回収した。回収したサンプルを100℃で2時間乾燥し、200℃で8時間焼成を行い、被覆炭素繊維を得た。
TEMにて断面測長することにより、平均厚み77nmのSiOを主とする皮膜が観察された。
[製造例2:炭素繊維の絶縁皮膜処理]
製造例1において、ピッチ系炭素繊維を以下のピッチ系炭素繊維に代えた以外は、製造例1と同様にして、炭素繊維の絶縁皮膜処理を行い、被覆炭素繊維を得た。
・ピッチ系炭素繊維(熱伝導性繊維、平均繊維長150μm、平均繊維径9μm、日本グラファイトファイバー株式会社製)
TEMにて断面測長することにより、平均厚み55nmのSiOを主とする皮膜が観察された。
[製造例3:炭素繊維の絶縁皮膜処理]
製造例1において、ピッチ系炭素繊維を以下のピッチ系炭素繊維に代えた以外は、製造例1と同様にして、炭素繊維の絶縁皮膜処理を行い、被覆炭素繊維を得た。
・ピッチ系炭素繊維(熱伝導性繊維、平均繊維長90μm、平均繊維径9μm、日本グラファイトファイバー株式会社製)
TEMにて断面測長することにより、平均厚み95nmのSiOを主とする皮膜が観察された。
[製造例4:炭素繊維の絶縁皮膜処理]
製造例1において、ピッチ系炭素繊維を以下のピッチ系炭素繊維に代えた以外は、製造例1と同様にして、炭素繊維の絶縁皮膜処理を行い、被覆炭素繊維を得た。
・ピッチ系炭素繊維(熱伝導性繊維、平均繊維長110μm、平均繊維径9μm、日本グラファイトファイバー株式会社製)
TEMにて断面測長することにより、平均厚み65nmのSiOを主とする皮膜が観察された。
なお、製造例1〜4においては、ピッチ系炭素繊維の平均繊維長を変えた以外は、同じ処理条件である。同じ処理条件でも、ピッチ系炭素繊維の平均繊維長を変えることで、形成される皮膜の厚みが変化した。具体的には、炭素繊維の平均繊維長が長くなるほど、形成される皮膜の厚みが薄くなった。なお、炭素繊維の平均繊維長は、被覆の厚みが変わる要素の一つである。
[ショアOO硬度の測定]
実施例1〜16、及び比較例1〜6に係る各熱伝導シートサンプルについて、ASTM−D2240の測定方法によるショアOO硬度を測定した。
[圧縮応力の測定]
また、実施例1〜16、及び比較例1〜6に係るシート本体プレス後の熱伝導シートについて、引張圧縮試験機((株)エーアンドデー製、テンシロンRTG1225)を用いて、圧縮速度25.4mm/minで40%圧縮した際の最大圧縮応力を測定した。
[熱抵抗値の測定]
また、実施例1〜16、及び比較例1〜6に係る各熱伝導シートサンプルについて、ASTM−D5470に準拠した方法で荷重1.0kgf/cmの範囲で熱抵抗値を測定した。
[体積抵抗率の測定]
また、実施例1〜16、及び比較例1〜6に係る各熱伝導シートサンプルについて、JIS K−6911に準拠した方法で、三菱化学アナリテック社製ハイレスタ(MCP−HT800)及びURSプローブを用いて、体積抵抗率を測定した。印加電圧は実施例1〜16では100V、比較例1〜4では1V、比較例5〜6では100Vとした。
なお、比較例1〜4において、印加電圧を1Vとするのは、実施例や、比較例5〜6とは異なり、印加電圧が低くても測定が可能な為である。
[実施例1]
実施例1では、2液性の付加反応型液状シリコーン樹脂に、シランカップリング剤でカップリング処理したアルミナ粒子(熱伝導性粒子:電気化学工業株式会社製、平均粒径4μm)20vol%と、製造例1で得られた被覆炭素繊維(平均繊維長100μm、平均繊維径9μm)22vol%と、シランカップリング剤でカップリング処理した窒化アルミ(熱伝導性粒子:株式会社トクヤマ製、平均粒径1μm)24vol%とを分散させて、シリコーン樹脂組成物(熱伝導性樹脂組成物)を調製した。
2液性の付加反応型液状シリコーン樹脂は、シリコーンA液50質量%、シリコーンB液50質量%の比率で混合したものである。なお、以下の実施例・比較例において用いたシリコーンA液、及びシリコーンB液は、前記シリコーンA液、及び前記シリコーンB液とそれぞれ同じものである。
得られたシリコーン樹脂組成物を、内壁に剥離処理したPETフィルムを貼った直方体状の中空金型(30mm×30mm)の中に押し出してシリコーン成型体を成型した。得られたシリコーン成型体をオーブンにて100℃で6時間硬化してシリコーン硬化物とした。得られたシリコーン硬化物を、超音波カッターで切断し、厚み約2mmの成型体シートを得た。超音波カッターのスライス速度は、毎秒50mmとした。また、超音波カッターに付与する超音波振動は、発振周波数を20.5kHzとし、振幅を60μmとした。
得られた成型体シートを剥離処理をしたPETフィルムで挟んだ後、厚さ1.97mmのスペーサを入れてプレスすることにより、シート表面がバインダ樹脂の未硬化成分で覆われた熱伝導シートサンプルを得た。プレス条件は、80℃、1MPa設定で、3minとした。
被覆炭素繊維は絶縁皮膜の厚さが77nmであった。
熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が61、シートの初期厚みが1.998mm、圧縮応力が900Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、実施例1に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が1.00[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が2.3×1010[Ω・cm]であった。
[実施例2]
実施例2では、2液性の付加反応型液状シリコーン樹脂として、シリコーンA液55質量%と、シリコーンB液45質量%とを混合したものを用いた他は、実施例1と同じ条件で、熱伝導シートサンプルを作成した。
被覆炭素繊維は絶縁皮膜の厚さが77nmであった。
熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が55、シートの初期厚みが2.031mm、圧縮応力が700Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、実施例2に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が0.95[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が2.7×1010[Ω・cm]であった。
[実施例3]
実施例3では、2液性の付加反応型液状シリコーン樹脂として、シリコーンA液60質量%と、シリコーンB液40質量%とを混合したものを用いた他は、実施例1と同じ条件で、熱伝導シートサンプルを作成した。
被覆炭素繊維は絶縁皮膜の厚さが77nmであった。
熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が50、シートの初期厚みが2.005mm、圧縮応力が450Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、実施例3に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が0.92[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が3.6×1010[Ω・cm]であった。
[実施例4]
実施例4では、2液性の付加反応型液状シリコーン樹脂として、シリコーンA液65質量%と、シリコーンB液35質量%とを混合したものを用いた他は、実施例1と同じ条件で、熱伝導シートサンプルを作成した。
被覆炭素繊維は絶縁皮膜の厚さが77nmであった。
熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が42、シートの初期厚みが1.982mm、圧縮応力が300Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、実施例4に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が0.94[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が4.4×1010[Ω・cm]であった。
[実施例5]
実施例5では、炭素繊維として、製造例2で得られた被覆炭素繊維(平均繊維長150μm)を用いた他は、実施例1と同じ条件で、熱伝導シートサンプルを作成した。
被覆炭素繊維は絶縁皮膜の厚さが55nmであった。
熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が70、シートの初期厚みが2.000mm、圧縮応力が950Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、実施例5に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が0.91[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が3.6×10[Ω・cm]であった。
[実施例6]
実施例6では、炭素繊維として、製造例2で得られた被覆炭素繊維(平均繊維長150μm)を用いた他は、実施例2と同じ条件で、熱伝導シートサンプルを作成した。
被覆炭素繊維は絶縁皮膜の厚さが55nmであった。
熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が58、シートの初期厚みが2.009mm、圧縮応力が800Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、実施例6に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が0.88[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が4.7×10[Ω・cm]であった。
[実施例7]
実施例7では、炭素繊維として、製造例2で得られた被覆炭素繊維(平均繊維長150μm)を用いた他は、実施例3と同じ条件で、熱伝導シートサンプルを作成した。
被覆炭素繊維は絶縁皮膜の厚さが55nmであった。
熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が57、シートの初期厚みが1.991mm、圧縮応力が550Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、実施例7に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が0.86[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が6.7×10[Ω・cm]であった。
[実施例8]
実施例8では、炭素繊維として、製造例2で得られた被覆炭素繊維(平均繊維長150μm)を用いた他は、実施例4と同じ条件で、熱伝導シートサンプルを作成した。
被覆炭素繊維は絶縁皮膜の厚さが55nmであった。
熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が50、シートの初期厚みが2.016mm、圧縮応力が350Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、実施例8に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が0.88[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が8.2×10[Ω・cm]であった。
[実施例9]
実施例9では、2液性の付加反応型液状シリコーン樹脂に、シランカップリング剤でカップリング処理したアルミナ粒子(熱伝導性粒子:電気化学工業株式会社製、平均粒径4μm)43vol%と、製造例3で得られた被覆炭素繊維(平均繊維長90μm、平均繊維径9μm)23vol%を分散させて、シリコーン樹脂組成物(熱伝導性樹脂組成物)を調製した。
2液性の付加反応型液状シリコーン樹脂は、シリコーンA液50質量%、シリコーンB液50質量%の比率で混合したものである。
得られたシリコーン樹脂組成物を、内壁に剥離処理したPETフィルムを貼った直方体状の中空金型(30mm×30mm)の中に押し出してシリコーン成型体を成型した。得られたシリコーン成型体をオーブンにて100℃で6時間硬化してシリコーン硬化物とした。得られたシリコーン硬化物を、超音波カッターで切断し、厚み約2mmの成型体シートを得た。超音波カッターのスライス速度は、毎秒50mmとした。また、超音波カッターに付与する超音波振動は、発振周波数を20.5kHzとし、振幅を60μmとした。
得られた成型体シートを剥離処理をしたPETフィルムで挟んだ後、スペーサを入れてプレスすることにより、シート表面がバインダ樹脂の未硬化成分で覆われた熱伝導シートサンプルを得た。プレス条件は、80℃、1MPa設定で、3minとした。
被覆炭素繊維は絶縁皮膜の厚さが95nmであった。
熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が59、シートの初期厚みが2.017mm、圧縮応力が900Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、実施例9に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が1.89[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が1.2×1010[Ω・cm]であった。
[実施例10]
実施例10では、2液性の付加反応型液状シリコーン樹脂として、シリコーンA液55質量%と、シリコーンB液45質量%とを混合したものを用いた他は、実施例9と同じ条件で、熱伝導シートサンプルを作成した。
被覆炭素繊維は絶縁皮膜の厚さが95nmであった。
熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が53、シートの初期厚みが2.008mm、圧縮応力が800Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、実施例10に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が1.83[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が2.9×1010[Ω・cm]であった。
[実施例11]
実施例11では、2液性の付加反応型液状シリコーン樹脂として、シリコーンA液60質量%と、シリコーンB液40質量%とを混合したものを用いた他は、実施例9と同じ条件で、熱伝導シートサンプルを作成した。
被覆炭素繊維は絶縁皮膜の厚さが95nmであった。
熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が51、シートの初期厚みが1.982mm、圧縮応力が500Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、実施例11に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が1.79[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が4.2×1010[Ω・cm]であった。
[実施例12]
実施例12では、2液性の付加反応型液状シリコーン樹脂として、シリコーンA液65質量%と、シリコーンB液35質量%とを混合したものを用いた他は、実施例9と同じ条件で、熱伝導シートサンプルを作成した。
被覆炭素繊維は絶縁皮膜の厚さが95nmであった。
熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が45、シートの初期厚みが1.996mm、圧縮応力が250Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、実施例12に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が1.85[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が5.5×1010[Ω・cm]であった。
[実施例13]
実施例13では、製造例4で得られた被覆炭素繊維(平均繊維長110μm)を用いた他は、実施例3と同じ条件で、成型体シートを作成した。
得られた成型体シートを剥離処理をしたPETフィルムで挟んだ後、厚さ1.97mmのスペーサを入れてプレスすることにより、シート表面がバインダ樹脂の未硬化成分で覆われた熱伝導シートサンプルを得た。プレス条件は、100℃、1MPa設定で、30secとした。温度をより高温してプレス時間を短くしたことでシート表面は熱伝導フィラーの形状を反映しながら表面を反応に寄与しない成分で被覆されるようにした。
被覆炭素繊維は絶縁皮膜の厚さが65nmであった。
熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が52、シートの初期厚みが2.011mm、圧縮応力が500Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、実施例13に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が0.85[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が8.9×10[Ω・cm]であった。
[実施例14]
実施例14では、製造例4で得られた被覆炭素繊維(平均繊維長110μm)を用いた他は、実施例4と同じ条件で、成型体シートを作成した。
得られた成型体シートを剥離処理をしたPETフィルムで挟んだ後、厚さ1.97mmのスペーサを入れてプレスすることにより、シート表面がバインダ樹脂の未硬化成分で覆われた熱伝導シートサンプルを得た。プレス条件は、100℃、1MPa設定で、30secとした。温度をより高温してプレス時間を短くしたことでシート表面は熱伝導フィラーの形状を反映しながら表面を反応に寄与しない成分で被覆されるようにした。
被覆炭素繊維は絶縁皮膜の厚さが65nmであった。
熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が48、シートの初期厚みが1.978mm、圧縮応力が330Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、実施例14に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が0.84[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が8.3×10[Ω・cm]であった。
[実施例15]
実施例15では、製造例4で得られた被覆炭素繊維(平均繊維長110μm)を用いた他は、実施例3と同じ条件で、成型体シートを作成した。
得られた成型体シートを剥離処理をしたPETフィルムで挟んだ後、プレスを行わないで1日放置してシート表面がバインダ樹脂の未硬化成分で覆われた熱伝導シートサンプルを得た。シート表面は熱伝導フィラーの形状を反映しながら表面を反応に寄与しない成分で被覆されるようにした。
被覆炭素繊維は絶縁皮膜の厚さが65nmであった。
熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が50、シートの初期厚みが2.023mm、圧縮応力が400Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、実施例15に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が0.88[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が9.4×10[Ω・cm]であった。
[実施例16]
実施例16では、製造例4で得られた被覆炭素繊維(平均繊維長110μm)を用いた他は、実施例3と同じ条件で、成型体シートを作成した。
得られた成型体シートを剥離処理をしたPETフィルムで挟んだ後、プレスを行わないで1週間放置してシート表面がバインダ樹脂の未硬化成分で覆われた熱伝導シートサンプルを得た。シート表面は熱伝導シート表面を反応に寄与しない成分で被覆されるようにした。
被覆炭素繊維は絶縁皮膜の厚さが65nmであった。
熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が49、シートの初期厚みが2.001mm、圧縮応力が350Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、実施例16に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が0.90[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が1.2×1010[Ω・cm]であった。
[比較例1]
比較例1では、絶縁皮膜処理を行っていないピッチ系炭素繊維(熱伝導性繊維:日本グラファイトファイバー株式会社製、平均繊維長100μm、平均繊維径9μm)を用いた他は、実施例1と同じ条件で、熱伝導シートサンプルを作成した。
比較例1に係る熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が72、シートの初期厚みが2.010mm、圧縮応力が1000Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、比較例1に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が0.88[K・cm/W]、印加電圧1Vにおける体積抵抗率が3.4×10[Ω・cm]であった。
[比較例2]
比較例2では、絶縁皮膜処理を行っていないピッチ系炭素繊維(熱伝導性繊維:日本グラファイトファイバー株式会社製、平均繊維長100μm、平均繊維径9μm)を用いた他は、実施例2と同じ条件で、熱伝導シートサンプルを作成した。
比較例2に係る熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が63、シートの初期厚みが1.99mm、圧縮応力が900Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、比較例2に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が0.85[K・cm/W]、印加電圧1Vにおける体積抵抗率が3.6×10[Ω・cm]であった。
[比較例3]
比較例3では、絶縁皮膜処理を行っていないピッチ系炭素繊維(熱伝導性繊維:日本グラファイトファイバー株式会社製、平均繊維長100μm、平均繊維径9μm)を用いた他は、実施例3と同じ条件で、熱伝導シートサンプルを作成した。
比較例3に係る熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が59、シートの初期厚みが1.999mm、圧縮応力が450Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、比較例3に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が0.84[K・cm/W]、印加電圧1Vにおける体積抵抗率が3.9×10[Ω・cm]であった。
[比較例4]
比較例4では、絶縁皮膜処理を行っていないピッチ系炭素繊維(熱伝導性繊維:日本グラファイトファイバー株式会社製、平均繊維長100μm、平均繊維径9μm)を用いた他は、実施例4と同じ条件で、熱伝導シートサンプルを作成した。
比較例4に係る熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が50、シートの初期厚みが2.005mm、圧縮応力が300Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、比較例4に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が0.87[K・cm/W]、印加電圧1Vにおける体積抵抗率が4.7×10[Ω・cm]であった。
[比較例5]
比較例5では、比較例1で得られた熱伝導シートに2液性の付加反応型液状シリコーン樹脂として、シリコーンA液50質量%と、シリコーンB液50質量%とを混合したものを塗布して熱伝導シートサンプルを作成した。
比較例5に係る熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が75、シートの初期厚みが2.030mm、圧縮応力が1050Nであった。
シート表面には微粘着性が発現した。
また、比較例5に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が2.43[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が1.0×1012[Ω・cm]であった。
[比較例6]
比較例6では、塗布する2液性の付加反応型液状シリコーン樹脂として、シリコーンA液45質量%と、シリコーンB液55質量%とを混合したものを用いた他は、比較例5と同じ条件で、熱伝導シートサンプルを作成した。
比較例6に係る熱伝導シートサンプルは、ショアOO硬度が75、シートの初期厚みが2.015mm、圧縮応力が1200Nであった。
シート表面には微粘着性が発現しなかった。
また、比較例6に係る熱伝導シートサンプルは、熱抵抗が2.56[K・cm/W]、印加電圧100Vにおける体積抵抗率が8.1×1011[Ω・cm]であった。
[微粘着性の評価]
また、実施例1〜16及び比較例1〜6に係る各熱伝導シートサンプルについて、微粘着性の評価を行った。微粘着性の評価は、実施例1〜16及び比較例1〜6に係るシリコーン硬化物をスライスして得られた成型体シートを剥離処理していないPETフィルムで挟んだ後、厚さ1.97mmのスペーサを入れて80℃、2.45MPa設定で、3minプレスした後、常温まで冷却することにより、微粘着性評価用熱伝導シートサンプルを得た。
この微粘着性評価用熱伝導シートサンプルのPETフィルムの端部を手で剥離し、試験機で当該端部を挟持した後、90°上方に50mm/mmの速度で引っ張り、荷重を測定し、剥離力(荷重)に応じて微粘着性(タック性)について評価した。各サンプルの剥離力は所定の幅を持って計測される。以下の評価基準で評価した。
〔評価基準〕
◎(最適):剥離力が0.05〜0.25(N/cm)の範囲で振れた場合
○(良好):剥離力が0.02〜0.05(N/cm)、0.20〜0.30(N/cm)の範囲で振れた場合
△(普通):剥離力が0〜0.04(N/cm)の範囲で振れた場合
×(不良):シートの一部でも微粘着性が発現しない箇所が認められた場合
表1〜4に示すように、実施例1〜16に係る熱伝導シートサンプルでは、熱抵抗が最大で1.89[K・cm/W]で、体積抵抗率が最小で3.6×10[Ω・cm]であり、概ね熱伝導性と絶縁性の両立が図られている。これは、熱伝導シートサンプルに含有されている炭素繊維が50nm以上、100nm未満の厚さで絶縁皮膜により被覆されていることから、所望の膜厚によって絶縁皮膜が形成され、良好な体積抵抗率を備えるとともに、シリカ微粒子の生成を抑制でき、熱伝導率の低下を防止することができたことによる。また、実施例1〜16に係る熱伝導シートサンプルでは、シート表面に露出された炭素繊維はスライス時に絶縁皮膜が切断され炭素繊維が露出されているが、バインダ樹脂の未硬化成分によって被覆されていることから、熱伝導率を損なうことなく、周囲の部材に対する絶縁性を有することによる。
なお、実施例1〜12、16においては、図5に示すような、表面が平滑な熱伝導シートが得られた。実施例13〜15では、図6に示すような、表面がシート本体の表面に露出した炭素繊維に由来する凸部を有する熱伝導シートが得られた。
一方、比較例1〜4に係る熱伝導シートサンプルでは、絶縁皮膜が形成されていない炭素繊維を用いているため、熱抵抗は低く抑えられたものの、体積抵抗率が低く、絶縁性が不十分となった。また、比較例5及び比較例6では、熱伝導シートサンプルにさらにバインダ樹脂を塗布することで体積抵抗率は高く絶縁性に優れるものの、炭素繊維がバインダ樹脂内に埋没されたことから熱抵抗が高くなった。
なお、比較例6に係る熱伝導シートサンプルでは、塗布したシリコーン樹脂のシリコーンA液の構成比率が45%と低く、未硬化成分が十分に残っておらず、プレスすることによってもシートの全表面を被覆するに至らず、一部において微粘着性は発現しなかった。そのため、比較例6に係る熱伝導シートサンプルは、微粘着性が発現しない箇所においては、接続対象に対する仮固定は不可能で、作業性が悪い。また、比較例6に係る熱伝導シートサンプルは、柔軟性に欠けるとともに、接着対象への追従性、密着性が悪く、熱抵抗が上昇した。
1 熱伝導シート
2 ヒートスプレッダ
2a 主面
3 電子部品
3a 上面
4 放熱部材
5 ヒートシンク
6 配線基板
7 シート本体
8 未硬化成分
9 樹脂成型体
10 スペーサ
11 炭素繊維
12 絶縁皮膜
13 スライス装置

Claims (13)

  1. バインダ樹脂と、絶縁皮膜により被覆された炭素繊維とを含有する熱伝導性樹脂組成物が硬化されたシート本体を有し、
    前記シート本体の表面に露出した前記炭素繊維は、前記絶縁皮膜により被覆されておらず、且つ前記バインダ樹脂の成分によって被覆されており、
    前記バインダ樹脂は主剤と硬化剤の成分比率が55:45〜65:35である2液性の付加反応型液状シリコーン樹脂であり、
    ASTM−D2240の測定方法によるショアOO硬度が70以下である
    熱伝導シート。
  2. 表面が、前記シート本体の表面に露出した前記炭素繊維に由来する凸部を有する請求項1に記載の熱伝導シート。
  3. 前記炭素繊維を被覆する前記絶縁皮膜は、酸化ケイ素であり、
    断面TEM観察により観察される前記絶縁皮膜の平均厚さが50nm以上、100nm未満である請求項1又は2記載の熱伝導シート。
  4. 熱抵抗が0.84K・cm/W〜1.85K・cm/Wである請求項1〜3のいずれか1項に記載の熱伝導シート。
  5. 前記シート本体が、熱伝導性フィラーを含有する請求項1〜4のいずれか1項に記載の熱伝導シート。
  6. 前記シート本体の表面が前記バインダ樹脂の未硬化成分で被覆されている請求項1〜5のいずれか1項に記載の熱伝導シート。
  7. バインダ樹脂と、絶縁皮膜により被覆された炭素繊維とを含有する熱伝導性樹脂組成物を所定の形状に成型して硬化することにより、前記熱伝導性樹脂組成物の成型体を得る工程と、
    前記成型体をシート状に切断し、シート本体を得る工程と、
    前記シート本体の表面に露出した前記炭素繊維を、前記バインダ樹脂の成分で被覆する工程とを有し、
    前記シート本体を得る工程において、前記シート本体の表面に露出する前記炭素繊維を被覆する前記絶縁皮膜が除去され、
    前記バインダ樹脂は主剤と硬化剤の成分比率が55:45〜65:35である2液性の付加反応型液状シリコーン樹脂であり、
    ASTM−D2240の測定方法によるショアOO硬度が70以下である熱伝導シートの製造方法。
  8. 前記被覆する工程が、前記シート本体をプレスすることにより、前記シート本体より滲み出た前記バインダ樹脂の未硬化成分によって、前記シート本体の表面及び前記シート本体の表面より露出する前記炭素繊維を被覆する工程である請求項7記載の熱伝導シートの製造方法。
  9. 前記被覆する工程が、前記シート本体を放置することにより、前記シート本体より滲み出た前記バインダ樹脂の未硬化成分によって、前記シート本体の表面及び前記シート本体の表面より露出する前記炭素繊維を被覆する工程である請求項7記載の熱伝導シートの製造方法。
  10. 中空状の型内に、前記熱伝導性樹脂組成物を押し出して充填し、前記熱伝導性樹脂組成物を熱硬化することにより、前記炭素繊維が、押し出し方向に対してランダムに配向されている前記成型体を得る請求項7〜9のいずれか1項に記載の熱伝導シートの製造方法。
  11. 電子部品の発する熱を放熱するヒートスプレッダと、
    前記ヒートスプレッダに配設され、前記ヒートスプレッダと前記電子部品との間に挟持される請求項1〜6のいずれか1項に記載の熱伝導シートとを有する放熱部材。
  12. 半導体素子と、
    前記半導体素子の発する熱を放熱するヒートスプレッダと、
    前記ヒートスプレッダに配設され、前記ヒートスプレッダと前記半導体素子との間に挟持される請求項1〜6のいずれか1項に記載の熱伝導シートとを有する半導体装置。
  13. ヒートシンクを備え、
    前記ヒートスプレッダと前記ヒートシンクとの間に請求項1〜6のいずれか1項に記載の熱伝導シートが挟持されている請求項12記載の半導体装置。
JP2016218516A 2014-10-31 2016-11-09 熱伝導シート、熱伝導シートの製造方法、放熱部材及び半導体装置 Active JP6302034B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014222723 2014-10-31
JP2014222723 2014-10-31

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015201410A Division JP6295238B2 (ja) 2014-10-31 2015-10-09 熱伝導シート、熱伝導シートの製造方法、放熱部材及び半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017038086A true JP2017038086A (ja) 2017-02-16
JP6302034B2 JP6302034B2 (ja) 2018-03-28

Family

ID=56019898

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015201410A Active JP6295238B2 (ja) 2014-10-31 2015-10-09 熱伝導シート、熱伝導シートの製造方法、放熱部材及び半導体装置
JP2016218516A Active JP6302034B2 (ja) 2014-10-31 2016-11-09 熱伝導シート、熱伝導シートの製造方法、放熱部材及び半導体装置

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015201410A Active JP6295238B2 (ja) 2014-10-31 2015-10-09 熱伝導シート、熱伝導シートの製造方法、放熱部材及び半導体装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9922901B2 (ja)
JP (2) JP6295238B2 (ja)
KR (1) KR102011652B1 (ja)
CN (3) CN106796926B (ja)
TW (1) TWI670464B (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019169692A (ja) * 2017-04-24 2019-10-03 富士高分子工業株式会社 シリコーンシート及びこれを用いた実装方法
WO2020039560A1 (ja) * 2018-08-23 2020-02-27 日立化成株式会社 半導体デバイスの製造方法、熱伝導シート、及び熱伝導シートの製造方法
WO2020039561A1 (ja) * 2018-08-23 2020-02-27 日立化成株式会社 半導体デバイスの製造方法及び熱伝導シート
KR20210010554A (ko) * 2018-06-21 2021-01-27 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
KR20210010553A (ko) * 2018-06-21 2021-01-27 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
WO2021059567A1 (ja) * 2019-09-25 2021-04-01 富士高分子工業株式会社 シーリング材用熱伝導シート及びこれを組み込んだ発熱性電気・電子部品
US11178799B2 (en) 2017-03-28 2021-11-16 Samsung Electronics Co., Ltd Electronic device
JP7057845B1 (ja) 2021-02-09 2022-04-20 デクセリアルズ株式会社 熱伝導シートの供給形態及び熱伝導シート本体
US11742258B2 (en) 2020-05-15 2023-08-29 Dexerials Corporation Thermally conductive sheet and method for manufacturing thermally conductive sheet

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102449343B1 (ko) * 2016-01-26 2022-10-04 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 열전도 시트, 열전도 시트의 제조 방법, 방열 부재 및 반도체 장치
JP6294951B2 (ja) 2016-01-26 2018-03-14 デクセリアルズ株式会社 熱伝導シート、熱伝導シートの製造方法、放熱部材及び半導体装置
JP7039908B2 (ja) * 2017-09-26 2022-03-23 株式会社デンソー 半導体装置
JP7315132B2 (ja) * 2018-01-30 2023-07-26 積水ポリマテック株式会社 熱拡散シートおよびバッテリーシステム
US11993679B2 (en) 2018-06-22 2024-05-28 Sekisui Polymatech Co., Ltd. Thermally conductive sheet
JP6807355B2 (ja) * 2018-07-18 2021-01-06 デクセリアルズ株式会社 熱伝導性シート及びその製造方法、熱伝導性シートの実装方法
EP3944263B1 (en) * 2019-03-22 2024-01-03 Teijin Limited Insulating sheet
JP6755421B1 (ja) * 2019-03-22 2020-09-16 帝人株式会社 絶縁シート
CN110230187A (zh) * 2019-05-22 2019-09-13 深圳市鸿富诚屏蔽材料有限公司 表面绝缘包覆的碳纤维及其制备方法、导热垫片及其制备方法
JP6862601B1 (ja) * 2019-12-27 2021-04-21 デクセリアルズ株式会社 熱伝導性シート及びその製造方法、熱伝導性シートの実装方法
JP6817408B1 (ja) * 2019-12-27 2021-01-20 デクセリアルズ株式会社 熱伝導性シート及びその製造方法、熱伝導性シートの実装方法
JP2022042309A (ja) * 2020-09-02 2022-03-14 デクセリアルズ株式会社 熱伝導部材及びその製造方法、並びに放熱構造体
CN116096792A (zh) * 2020-09-30 2023-05-09 积水保力马科技株式会社 导热性片
JP6999054B1 (ja) 2021-02-10 2022-01-18 デクセリアルズ株式会社 熱伝導シートの供給形態及び熱伝導シート
CN113783472A (zh) * 2021-08-24 2021-12-10 苏州西热节能环保技术有限公司 一种基于温差发电的钢烟囱壁面废热回收利用装置
EP4354594A1 (en) * 2021-12-24 2024-04-17 LG Energy Solution, Ltd. Battery module and battery pack and vehicle including same
CN115580979B (zh) * 2022-12-08 2023-03-24 扬州创客自动化设备有限公司 一种电子元器件测试用散热设备

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05235217A (ja) * 1992-02-20 1993-09-10 Kitagawa Ind Co Ltd 伝熱用材料
JPH08183875A (ja) * 1994-12-28 1996-07-16 Otsuka Chem Co Ltd 高熱伝導性複合充填材及び高熱伝導性樹脂組成物
JPH1187580A (ja) * 1997-09-11 1999-03-30 Denki Kagaku Kogyo Kk 放熱スペーサー
JP2002059257A (ja) * 2000-08-11 2002-02-26 Yazaki Corp 複合材料
JP2004080040A (ja) * 2002-08-15 2004-03-11 Bergquist Co:The 高度に充填されているか又は低度に架橋されている熱伝導性インタフェースパッドを与えるための可とう性表面層フィルム
JP2007107151A (ja) * 2005-10-17 2007-04-26 Showa Denko Kk シリカ被覆炭素繊維
JP2007128986A (ja) * 2005-11-01 2007-05-24 Polymatech Co Ltd 熱伝導性部材およびその製造方法
JP2007326976A (ja) * 2006-06-08 2007-12-20 Polymatech Co Ltd 熱伝導性成形体及びその製造方法
JP2011074303A (ja) * 2009-10-01 2011-04-14 Hitachi Chem Co Ltd 樹脂シート、その製造方法およびこれを用いたサーマルモジュール
JP2014031502A (ja) * 2012-07-07 2014-02-20 Dexerials Corp 熱伝導性シートの製造方法

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3182257B2 (ja) * 1993-02-02 2001-07-03 電気化学工業株式会社 放熱シート
JPH0917915A (ja) * 1995-06-30 1997-01-17 Tokai Rubber Ind Ltd 電気電子部品被覆保護マットおよびそれを用いた半導体装置
JPH1146049A (ja) * 1997-07-25 1999-02-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd 放熱性樹脂基板およびその製造方法
JP2000117898A (ja) * 1998-10-12 2000-04-25 Polymatech Co Ltd 熱伝導性シート
JP2000281802A (ja) * 1999-03-30 2000-10-10 Polymatech Co Ltd 熱伝導性成形体およびその製造方法ならびに半導体装置
JP2001160607A (ja) * 1999-12-02 2001-06-12 Polymatech Co Ltd 異方性熱伝導性シート
EP1321980A4 (en) * 2000-09-25 2007-04-04 Ibiden Co Ltd SEMICONDUCTOR ELEMENT, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT, MULTILAYER PRINTED CIRCUIT BOARD, AND METHOD FOR MANUFACTURING MULTILAYER PRINTED CIRCUIT BOARD
US6469381B1 (en) * 2000-09-29 2002-10-22 Intel Corporation Carbon-carbon and/or metal-carbon fiber composite heat spreader
JP2003008087A (ja) * 2001-04-18 2003-01-10 Suzuki Sogyo Co Ltd 熱電素子モジュール及びその製法
US6597575B1 (en) * 2002-01-04 2003-07-22 Intel Corporation Electronic packages having good reliability comprising low modulus thermal interface materials
US7846778B2 (en) * 2002-02-08 2010-12-07 Intel Corporation Integrated heat spreader, heat sink or heat pipe with pre-attached phase change thermal interface material and method of making an electronic assembly
US7252877B2 (en) * 2003-02-04 2007-08-07 Intel Corporation Polymer matrices for polymer solder hybrid materials
US7253523B2 (en) * 2003-07-29 2007-08-07 Intel Corporation Reworkable thermal interface material
CN101124353B (zh) * 2004-09-27 2011-12-14 盖利姆企业私人有限公司 生长第(ⅲ)族金属氮化物薄膜的方法和装置、以及第(ⅲ)族金属氮化物薄膜
JP5080295B2 (ja) * 2007-01-26 2012-11-21 帝人株式会社 放熱性実装基板およびその製造方法
JP2009215404A (ja) * 2008-03-10 2009-09-24 Teijin Ltd シート状熱伝導性成形体
JP5146256B2 (ja) 2008-03-18 2013-02-20 富士通株式会社 シート状構造体及びその製造方法、並びに電子機器及びその製造方法
JP5423783B2 (ja) * 2009-02-25 2014-02-19 パナソニック株式会社 熱伝導性組成物とこれを用いた放熱板、放熱基板、回路モジュール、熱伝導性組成物の製造方法
TW201110802A (en) * 2009-06-24 2011-03-16 Seiko Epson Corp Electro-optical device, electronic device, and illumination apparatus
US8709538B1 (en) * 2009-09-29 2014-04-29 The Boeing Company Substantially aligned boron nitride nano-element arrays and methods for their use and preparation
TWI610407B (zh) * 2010-06-17 2018-01-01 Dexerials Corp 導熱片及其製造方法
JP2012023335A (ja) 2010-06-17 2012-02-02 Sony Chemical & Information Device Corp 熱伝導性シート及びその製造方法
KR20120028418A (ko) * 2010-09-14 2012-03-23 삼성모바일디스플레이주식회사 유기 발광 표시 장치용 밀봉기판의 제조 방법 및 유기 발광 표시 장치용 밀봉기판
US8633600B2 (en) * 2010-09-21 2014-01-21 Infineon Technologies Ag Device and method for manufacturing a device
JP5842349B2 (ja) * 2011-03-18 2016-01-13 富士通株式会社 シート状構造体、シート状構造体の製造方法、電子機器及び電子機器の製造方法
JP6161864B2 (ja) * 2011-03-30 2017-07-12 日立化成株式会社 樹脂組成物、樹脂シート、プリプレグ、積層板、金属基板、及びプリント配線板
WO2013100123A1 (ja) * 2011-12-28 2013-07-04 東洋紡株式会社 絶縁熱伝導シート
JP2014098127A (ja) * 2012-11-16 2014-05-29 Mitsubishi Rayon Co Ltd 炭素繊維強化複合成形品およびその製造方法
KR102068493B1 (ko) * 2012-12-11 2020-02-11 도레이첨단소재 주식회사 열확산 시트 및 그 제조방법
JP2014192520A (ja) * 2013-03-28 2014-10-06 Dexerials Corp ヒートスプレッダ、放熱部品及び実装体
JP5766335B2 (ja) 2013-07-01 2015-08-19 デクセリアルズ株式会社 熱伝導シートの製造方法、熱伝導シート、及び放熱部材
JP5752299B2 (ja) 2013-07-01 2015-07-22 デクセリアルズ株式会社 熱伝導シートの製造方法、熱伝導シート、及び放熱部材

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05235217A (ja) * 1992-02-20 1993-09-10 Kitagawa Ind Co Ltd 伝熱用材料
JPH08183875A (ja) * 1994-12-28 1996-07-16 Otsuka Chem Co Ltd 高熱伝導性複合充填材及び高熱伝導性樹脂組成物
JPH1187580A (ja) * 1997-09-11 1999-03-30 Denki Kagaku Kogyo Kk 放熱スペーサー
JP2002059257A (ja) * 2000-08-11 2002-02-26 Yazaki Corp 複合材料
JP2004080040A (ja) * 2002-08-15 2004-03-11 Bergquist Co:The 高度に充填されているか又は低度に架橋されている熱伝導性インタフェースパッドを与えるための可とう性表面層フィルム
JP2007107151A (ja) * 2005-10-17 2007-04-26 Showa Denko Kk シリカ被覆炭素繊維
JP2007128986A (ja) * 2005-11-01 2007-05-24 Polymatech Co Ltd 熱伝導性部材およびその製造方法
JP2007326976A (ja) * 2006-06-08 2007-12-20 Polymatech Co Ltd 熱伝導性成形体及びその製造方法
JP2011074303A (ja) * 2009-10-01 2011-04-14 Hitachi Chem Co Ltd 樹脂シート、その製造方法およびこれを用いたサーマルモジュール
JP2014031502A (ja) * 2012-07-07 2014-02-20 Dexerials Corp 熱伝導性シートの製造方法

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3569044B1 (en) * 2017-03-28 2024-10-16 Samsung Electronics Co., Ltd. Electronic device
US11178799B2 (en) 2017-03-28 2021-11-16 Samsung Electronics Co., Ltd Electronic device
JP7046694B2 (ja) 2017-04-24 2022-04-04 富士高分子工業株式会社 シリコーンシート及びこれを用いた実装方法
JP7046694B6 (ja) 2017-04-24 2023-12-18 富士高分子工業株式会社 シリコーンシート及びこれを用いた実装方法
JP2019169692A (ja) * 2017-04-24 2019-10-03 富士高分子工業株式会社 シリコーンシート及びこれを用いた実装方法
US11929303B2 (en) 2018-06-21 2024-03-12 Dexerials Corporation Semiconductor device and method of producing the same
KR20210010554A (ko) * 2018-06-21 2021-01-27 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
KR20210010553A (ko) * 2018-06-21 2021-01-27 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
KR102445111B1 (ko) * 2018-06-21 2022-09-21 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
KR102432180B1 (ko) * 2018-06-21 2022-08-16 데쿠세리아루즈 가부시키가이샤 반도체 장치 및 반도체 장치의 제조 방법
US11329005B2 (en) 2018-06-21 2022-05-10 Dexerials Corporation Semiconductor device and method of producing the same
JP7160101B2 (ja) 2018-08-23 2022-10-25 昭和電工マテリアルズ株式会社 半導体デバイスの製造方法、熱伝導シート、及び熱伝導シートの製造方法
KR102550135B1 (ko) 2018-08-23 2023-06-30 가부시끼가이샤 레조낙 반도체 디바이스의 제조 방법, 열전도 시트, 및 열전도 시트의 제조 방법
JPWO2020039561A1 (ja) * 2018-08-23 2021-08-10 昭和電工マテリアルズ株式会社 半導体デバイスの製造方法及び熱伝導シート
JPWO2020039560A1 (ja) * 2018-08-23 2021-08-10 昭和電工マテリアルズ株式会社 半導体デバイスの製造方法、熱伝導シート、及び熱伝導シートの製造方法
WO2020039560A1 (ja) * 2018-08-23 2020-02-27 日立化成株式会社 半導体デバイスの製造方法、熱伝導シート、及び熱伝導シートの製造方法
WO2020039561A1 (ja) * 2018-08-23 2020-02-27 日立化成株式会社 半導体デバイスの製造方法及び熱伝導シート
KR20210046671A (ko) * 2018-08-23 2021-04-28 쇼와덴코머티리얼즈가부시끼가이샤 반도체 디바이스의 제조 방법, 열전도 시트, 및 열전도 시트의 제조 방법
KR20210046672A (ko) * 2018-08-23 2021-04-28 쇼와덴코머티리얼즈가부시끼가이샤 반도체 디바이스의 제조 방법 및 열전도 시트
JP7160102B2 (ja) 2018-08-23 2022-10-25 昭和電工マテリアルズ株式会社 半導体デバイスの製造方法及び熱伝導シート
KR102530044B1 (ko) 2018-08-23 2023-05-08 가부시끼가이샤 레조낙 반도체 디바이스의 제조 방법 및 열전도 시트
WO2021059567A1 (ja) * 2019-09-25 2021-04-01 富士高分子工業株式会社 シーリング材用熱伝導シート及びこれを組み込んだ発熱性電気・電子部品
US11742258B2 (en) 2020-05-15 2023-08-29 Dexerials Corporation Thermally conductive sheet and method for manufacturing thermally conductive sheet
JP7057845B1 (ja) 2021-02-09 2022-04-20 デクセリアルズ株式会社 熱伝導シートの供給形態及び熱伝導シート本体
JP2022121838A (ja) * 2021-02-09 2022-08-22 デクセリアルズ株式会社 熱伝導シートの供給形態及び熱伝導シート本体
WO2022172795A1 (ja) * 2021-02-09 2022-08-18 デクセリアルズ株式会社 熱伝導シートの供給形態及び熱伝導シート本体

Also Published As

Publication number Publication date
JP6302034B2 (ja) 2018-03-28
JP2016092407A (ja) 2016-05-23
CN111739856A (zh) 2020-10-02
CN106796926A (zh) 2017-05-31
JP6295238B2 (ja) 2018-03-14
US9922901B2 (en) 2018-03-20
TWI670464B (zh) 2019-09-01
KR20170044123A (ko) 2017-04-24
US20170309542A1 (en) 2017-10-26
KR102011652B1 (ko) 2019-08-19
TW201621256A (zh) 2016-06-16
CN106796926B (zh) 2020-07-28
CN111725162A (zh) 2020-09-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6302034B2 (ja) 熱伝導シート、熱伝導シートの製造方法、放熱部材及び半導体装置
JP5752299B2 (ja) 熱伝導シートの製造方法、熱伝導シート、及び放熱部材
JP5766335B2 (ja) 熱伝導シートの製造方法、熱伝導シート、及び放熱部材
JP6301978B2 (ja) 熱伝導シート、熱伝導シートの製造方法、放熱部材及び半導体装置
JP6178389B2 (ja) 熱伝導シートの製造方法、熱伝導シート、及び半導体装置
US11597196B2 (en) Method for producing thermally conductive sheet
JP2017092345A (ja) 熱伝導シート、及びその製造方法、並びに半導体装置
JP6393816B2 (ja) 熱伝導シート、熱伝導シートの製造方法、放熱部材及び半導体装置
WO2016104169A1 (ja) 熱伝導シートの製造方法、熱伝導シート、及び半導体装置
JP6986648B2 (ja) 熱伝導シート及びその製造方法、並びに放熱構造体及び電子機器
WO2016068157A1 (ja) 熱伝導シート、熱伝導シートの製造方法、放熱部材及び半導体装置
JP2014216399A (ja) 熱伝導シート及び熱伝導シートの製造方法
JP2014192520A (ja) ヒートスプレッダ、放熱部品及び実装体
JP6307288B2 (ja) 熱伝導性部材、及び半導体装置
JP2014216398A (ja) 熱伝導シートの製造方法、熱伝導シート
US20220089919A1 (en) Thermally conductive sheet and method for producing thermally conductive sheet
WO2022181172A1 (ja) 熱伝導シート及び熱伝導シートの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20161109

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170822

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170905

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170927

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180220

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180301

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6302034

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250