JP2017027988A - 描画データ作成方法及び荷電粒子ビーム描画装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、描画データが持つ、影響半径の小さい現象に起因するパターン寸法変動を抑制するためのドーズ量情報を、そのデータサイズを圧縮して出力するデータ圧縮方法を説明するフローチャートである。図1に示すように、この方法は、設計データD1及び補正条件パラメータの入力工程(ステップS102)と、マップ形式のドーズ量情報(補正マップ)を持つ描画データの作成工程(ステップS104)と、補正マップを圧縮する工程(ステップS106)と、圧縮した補正マップを持つ描画データを出力する工程(ステップS108)と、を備える。
上記第1の実施形態では、メッシュ値の差分表現のビット数が固定であったが、可変であってもよい。差分表現のビット数を可変とする場合のヘッダ部及び値部の例を以下の表2及び図7に示す。この例では、圧縮前のメッシュ値が10ビットであるとしている。
上記第1の実施形態では、メッシュ値を、1つ前のメッシュ値からの差分により表現していたが、1つ以上前のメッシュ値と、1つ以上後ろのメッシュ値との線形補間により求めるようにしてもよい。
上記第3の実施形態の線形補間にあたり、補間区間となる連続する複数のメッシュ領域のメッシュ値を最小二乗法で関数近似し、補間端点のメッシュ値をこの近似関数から求めてもよい。2つの補間端点の間に位置する補間区間内のメッシュ値は、2つの補間端点を結ぶ1次式による補間値となる。
上記第1〜第4の実施形態による圧縮方法でデータ圧縮された補正マップは、データ長(データサイズ)の異なるメッシュが混在する。例えば、表1に示すようなデータ構造となるように圧縮した場合、1つのメッシュに対応するデータは、12ビット、8ビット、又は2ビットとなる。
上記第1〜第4の実施形態による圧縮方法のうち1つだけを用いて補正マップを圧縮してもよいし、複数の圧縮方法を使用し、領域に応じて圧縮方法を切り替えてもよい。複数の圧縮方法を用いる場合は、圧縮方法が切り替わる箇所に、以降のメッシュ値の圧縮方法を示す圧縮タイプ識別フラグと、その圧縮方法で圧縮されたメッシュ数とを示すインデックスを設ける。
202 補正部
204 圧縮部
220 制御部
230 描画部
Claims (5)
- 荷電粒子ビーム描画装置により描画される対象物上の描画領域をメッシュ状に分割したメッシュ領域毎のドーズ量情報を含む補正マップを持つ補正マップ付き描画データを入力する工程と、
第1メッシュ領域に隣接する第2メッシュ領域のドーズ量情報を、前記第1メッシュ領域のドーズ量情報に基づく表現に変換して、前記第2メッシュ領域のドーズ量情報のデータを圧縮する工程と、
前記複数のメッシュ領域毎のデータが圧縮されたドーズ量情報を含む圧縮補正マップを持つ圧縮補正マップ付き描画データを出力する工程と、
を備える描画データ作成方法。 - 前記第2メッシュ領域のドーズ量情報を、前記第1メッシュ領域のドーズ量情報からの差分表現に変換することを特徴とする請求項1に記載の描画データ作成方法。
- 前記第2メッシュ領域は、前記第1メッシュ領域と第3メッシュ領域との間に位置し、
前記第2メッシュ領域のドーズ量情報を、前記第1メッシュ領域のドーズ量情報と前記第3メッシュ領域のドーズ量情報を線形補間して定まるものであることを示す表現に変換することを特徴とする請求項1に記載の描画データ作成方法。 - 前記描画領域を前記メッシュ領域より大きい複数の区画に分割した際の各区画の原点に対応するメッシュ領域のデータが、前記圧縮補正マップ内のどこに位置するかを示すポインタを、前記圧縮補正マップ付き描画データに付加して出力することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の描画データ作成方法。
- 荷電粒子ビームによって基板上の描画領域にパターンを描画する描画部と、
前記描画領域をメッシュ状に分割したメッシュ領域毎のドーズ量情報を含み、第1メッシュ領域に隣接する第2メッシュ領域のドーズ量情報を、前記第1メッシュ領域のドーズ量情報に基づく表現に変換してデータ圧縮した圧縮補正マップを持つ圧縮補正マップ付き描画データが入力され、描画データに対してデータ変換処理を行ってショットデータを生成し、前記圧縮補正マップを展開してドーズ量を算出し、前記ショットデータ及び算出したドーズ量に基づいて前記描画部を制御する制御部と、
を備える荷電粒子ビーム描画装置。
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