JP2003077790A

JP2003077790A - 電子ビーム描画装置における補正データチェック方法および装置

Info

Publication number: JP2003077790A
Application number: JP2001262835A
Authority: JP
Inventors: Osamu Wakimoto; 治脇本
Original assignee: Jeol Ltd
Current assignee: Jeol Ltd
Priority date: 2001-08-31
Filing date: 2001-08-31
Publication date: 2003-03-14

Abstract

(57)【要約】【課題】簡単な構成で短時間に補正マップの補正値の
誤りを検出することができる電子ビーム描画装置におけ
る補正データチェック方法および装置を実現する。【解決手段】補正マップメモリー２５から隣接した２
つのセルに格納された補正データＰ，Ｑが読み出され
る。演算器２９は２種の補正データの差の絶対値Ｒ(＝
｜Ｐ−Ｑ｜)を求める。この差の絶対値Ｒは、比較器３
０に供給される。比較器３０では、差の絶対値Ｒと閾値
レジスタ３１にセットされた閾値Ｓを比較し、Ｒ＞Ｓの
場合には、異常信号を発生し、制御コンピュータ２６に
供給する。制御コンピュータ２６は、異常信号の供給を
受けると、異常と思われる補正データの座標位置やその
補正データの値等を表示する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する分野】本発明は、被描画材料に照射され
る電子ビームを偏向して所望のパターンの描画を行うよ
うにした電子ビーム描画装置における補正データチェッ
ク方法および装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図１は従来の可変面積型電子ビーム描画
装置の一例を示している。１は電子ビームＥＢを発生す
る電子銃であり、該電子銃１から発生した電子ビームＥ
Ｂは、照射レンズ(図示せず)を介して第１成形スリット
２上に照射される。なお、電子銃１と第１成形スリット
２との間には、ブランキング電極３が配置されている。

【０００３】第１成形スリット２の開口像は、成形レン
ズ(図示せず)により、第２成形スリット４上に結像され
るが、その結像の位置は、成形偏向器５により変えるこ
とができる。第２成形スリット４により成形された像
は、図示していない縮小レンズ、対物レンズを経て描画
材料６上に照射される。描画材料６への照射位置は、位
置決め偏向器７により変えることができる。

【０００４】８は制御ＣＰＵであり、制御ＣＰＵ８は描
画データメモリー９からのパターンデータを照射制御回
路１０に転送する。照射制御回路１０によって作成され
たブランキング信号は、増幅器１１を介してブランキン
グ電極３に供給される。また、照射制御回路１０で作成
された電子ビームの形状成形信号は、ＤＡ変換増幅器１
２を介して成形偏向器５に供給される。更に、照射制御
回路１０で作成された材料６上の電子ビームの照射位置
信号は、ＤＡ変換増幅器１３を介して位置決め偏向器７
に供給される。なお、制御ＣＰＵ８は、材料６のフィー
ルド毎の移動のために、材料６が載せられたステージ
(図示せず)を制御する。このような構成の動作を次に説
明する。

【０００５】まず、基本的な描画動作について説明す
る。描画データメモリー９に格納されたパターンデータ
は、逐次読み出され、照射制御回路１０に供給される。
この照射制御回路１０からのデータに基づき、成形偏向
器６、位置決め偏向器７は制御される。

【０００６】この結果、各描画パターンデータに基づ
き、成形偏向器５により電子ビームの断面が単位パター
ン形状に成形され、その単位パターンが順々に材料６上
にショットされ、所望の形状のパターン描画が行われ
る。なお、この時、ブランキング電極３へのブランキン
グ信号により、材料６への電子ビームのショットに同期
して電子ビームのブランキングが実行される。また、材
料６上の異なったフィールドへの描画の際には、制御Ｃ
ＰＵ８の制御により、材料６が載せられたステージは所
定の距離移動させられる。なお、ステージの移動距離
は、図示していないが、レーザー測長器により監視され
ており、測長器からの測長結果に基づき、ステージの位
置は正確に制御される。

【０００７】図２は前記照射制御回路１０の具体例を示
しており、照射制御回路１０は、圧縮展開部１５、図形
分割部１６、補正演算部１７より構成されている。圧縮
展開部１５は、圧縮形式で表現された描画データメモリ
ー９からのパターンデータを、電子ビームで描画できる
基本図形のデータに変換する。

【０００８】図形分割部１６は、圧縮展開部１５からの
基本図形のデータ(大小の図形として表現されたデータ)
を電子ビームで描画可能な形状まで分割処理を行う。補
正演算部１７は、図形分割部１６において分割された各
図形について、照射位置補正、照射量補正などの補正演
算処理を行う。各種補正処理が行われた図形データは、
補正演算部１７からブランキング電極５、成形偏向器
５、位置決め偏向器７に供給される。

【０００９】ところで、図１に示した可変面積ビームを
使用した電子ビーム描画装置において、電子ビームを成
形するための成形偏向器５および位置決め偏向器７は、
静電偏向器を用いて行うのが一般的であり、描画の際に
は、各偏向器への電圧の印加とビームの照射を繰り返し
ながら図形を形成していく。

【００１０】この際、高精度の描画を行うために、描画
データに対していくつかの補正処理を行っている。その
具体例を図を用いて２つ説明する。最初は静電偏向器の
機械的な誤差による偏向歪みの補正である。成形偏向器
５および位置決め偏向器７は、それぞれ、例えば４極の
電極より構成されている場合、２組の平行平板電極を９
０°の角度隔てて配置している。この４つの平板電極
は、機械的な加工によって製作されているため、理想的
な配置となっておらず、対向する電極が正確に平行でな
かったり、隣の電極との角度が９０°からずれて配置さ
れるのが一般的である。

【００１１】このような機械的な誤差を有した静電偏向
器により電子ビームを偏向すると、電子ビームは所定の
位置に偏向されず偏向位置のずれが生じる。以下この偏
向位置ずれを補正する方式について図３，図４を用いて
説明する。まず、図３（ａ）に示す位置決め偏向器７の
偏向範囲Ｒ内の格子状の点（図の×で示した点）に順々
に電子ビームを偏向し、その時の電子ビームの偏向位置
を検出する。この検出された電子ビームの偏向位置と、
理想的な偏向位置との間のずれ量を計算する。

【００１２】図３（ｂ）は実際に電子ビームを偏向した
場合の偏向位置と、理想的な偏向位置との関係を示して
おり、○印の点が実際に偏向した場合の偏向位置で、実
線Ｍがそれらの偏向位置を結んだ線であり、点線Ｐが理
想的な偏向位置をつないだ格子状の線である。

【００１３】図３（ｂ）における点線Ｐと実線Ｍとの間
の位置ずれは、偏向範囲内の座標の連続的な関数である
から、測定したずれ量を元に、より細かい格子状の点に
おける位置ずれの補正量を曲線で補間して求める。この
求められた補正量曲線を図３（ｃ）に示す。このように
して得られたデータを補正マップとして、実際の描画の
際には、描画したい位置にこの補正量を加算して偏向電
圧を変化させ、偏向器の機械的な誤差による偏向位置ず
れの補正を行う。

【００１４】このような偏向位置ずれを補正するための
構成を図４により説明する。図中２０は補正マップが記
憶されたメモリーであり、仮想的に分割された電子ビー
ムの偏向領域の各セルには、その座標に応じた位置補正
量データΔＸ、ΔＹが格納されている。描画データの位
置座標Ｘ、Ｙが供給されると、その座標における位置補
正量データΔＸ、ΔＹが読み出され、それぞれ加算器２
１，２２に供給される。

【００１５】加算器２１ではＸ座標値に補正量ΔＸが加
算され、この加算された座標値が位置決め偏向器用のＤ
Ａ変換増幅器に供給される。加算器２２ではＹ座標値に
補正量ΔＹが加算され、この加算された座標値が位置決
め偏向器用のＤＡ変換増幅器に供給される。このように
して、偏向器の機械的な誤差による偏向位置ずれの補正
が行われる。

【００１６】補正マップを使用して描画データの補正を
行う別の例として、近接効果の補正を挙げることができ
る。この近接効果補正について図５，図６を用いて説明
する。電子ビームを被描画材料に照射すると、電子ビー
ムは材料中で散乱する。図５（ａ）はその様子を示して
おり、図形Ｄ１〜Ｄ３を描画した場合、図形が密集した
箇所では各図形の散乱電子が影響しあい、孤立した図形
と比較すると、同じ時間だけ電子ビームを照射しも、出
来上がりの図形寸法は、Ｄ１’〜Ｄ３’のように異なっ
てしまう現象が見られる。図５（ｂ）は、図５（ａ）に
おけるＡーＢの断面の電子ビームの強度分布を示してい
る。

【００１７】このような近接効果の補正方法としては、
一般に、図５（ｂ）に示すような電子ビームの強度分布
を考慮して、図５（ｃ）に示すように描画領域を細かく
区切った部分Ｑ１〜Ｑｎごとに電子ビームの照射量や散
乱量を計算し、照射量の補正マップを作成する。このよ
うにして作成された補正マップを用いて電子ビームの照
射時間を制御する例を図６を用いて説明する。

【００１８】図６で２３は補正マップメモリーであり、
メモリー２３の各セルには、補正データとして座標に応
じた電子ビームの照射補正率χが記憶されている。描画
データとして照射時間データＴと、描画データの位置座
標値Ｘ、Ｙが供給される。位置座標値Ｘ、Ｙは補正マッ
プが記憶されているメモリー２３に供給され、その座標
における照射補正率χを読み出す。読み出された照射補
正率χは、乗算器２４において照射時間データと乗算さ
れる。この乗算結果Ｔ・χは、電子ビームの照射時間
(ブランキング時間)を発生するパルス発生回路への設定
データとして使用される。

【００１９】上述した２つの例における補正マップによ
る補正は、補正マップを半導体メモリーで構成できるた
め、複雑な計算をリアルタイムで行う方式に比べて、回
路の規模を小さくでき、高速化が可能なため、比較的よ
く利用されている。

【００２０】

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、描画
装置の高精度化にともない、補正マップの一つのセルの
領域をより細かくする必要が生じている。このセルの領
域を細かくすると、必然的にメモリー量は増大する。例
えば、１ｍｍの偏向領域に対し、８μｍごとの補正位置
に対して補正量を記憶する場合は、１ｍｍ÷８μｍ＝１
２８となる。

【００２１】２次元の補正マップの場合は、１２８×１
２８＝１６３８４データが補正データとなる。これを４
分の１の２μｍごとに補正する場合は、データ量は４倍
となる。このような個数の多いデータに対して、誤りが
発生した場合、データの個数が多く、その検証は非常に
困難となる。しかしながら、１ビットでも誤りが発生す
るとその影響は致命的であり、何らかの異常検出が必要
となる。

【００２２】そのため、例えば、一度設定した補正デー
タを読み出し、設定値と比較検証したり、補正データと
一緒にパリティデータを付加して同時に格納し、読み出
し時に検証する方法などが取られていた。しかし、前者
の方法は設定の頻度が低い補正には有効であるが、設定
頻度の多い補正はチェックの時間が処理時間の低下につ
ながることや、補正値を使用するときの読み間違いは防
ぐことはできないなどの欠点を有している。また、後者
は、パリティを格納しておくために余分のメモリーが必
要になるという問題点を有する。

【００２３】本発明は、上述した点に鑑みてなされたも
ので、その目的は、簡単な構成で短時間に補正マップの
補正値の誤りを検出することができる電子ビーム描画装
置における補正データチェック方法および装置を実現す
るにある。

【００２４】

【課題を解決するための手段】本発明に基づく電子ビー
ム描画装置における補正データチェック方法および装置
は、描画領域を仮想的に細分化し、細分化された座標ご
とに描画データを補正する補正値が記憶された補正マッ
プ記憶手段を備え、描画データの位置座標に基づき補正
マップから補正値データを読み出し、補正値データに基
づき描画データを補正し、補正された描画データに基づ
いて被描画材料に描画を行うようにした電子ビーム描画
において、描画データの位置座標に基づき補正マップか
ら補正値データを読み出すと共に、該位置座標に隣接す
る位置座標の補正値を読み出し、２種の補正値の差を求
め、その差の値が所定の値以上の場合に異常信号を発生
させるようにした。

【００２５】この２種の補正データは隣り合った座標位
置(セル)における補正データであり、この隣接するセル
のデータの差分は、補正マップが曲線近似で補完したデ
ータにより作成されているため、補正マップの各セルに
格納されるデータ値よりかなり小さな値となる。したが
って、所定の値として隣接するセルのデータの正常な差
分として求められた最大の値より僅かに大きな値とす
る。

【００２６】この結果、隣接するセルの補正データの差
の絶対値の値が、所定の値より大きい場合には、２種の
補正データのいずれかが異常であることになる。このよ
うにして、補正マップのどの部分で補正値の誤りが発生
したかを容易に知ることができる。

【００２７】また、本発明では、補正データが異常な場
合には、補正データを描画データの補正のために使用せ
ず、補正マップの同じ座標位置における補正データを、
隣接するセルの補正データの差の絶対値の値が、所定の
値より小さくなるまで繰り返し読み出し、隣接するセル
の補正データの差の絶対値の値が、所定の値より小さく
なったときに補正データを描画データの補正のために使
用する。

【００２８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図７は、本発明に基づく補
正データのチェック方法を実施するための構成の要部の
一例を示している。この構成においては、図１における
位置決め偏向器７による電子ビームの照射位置の補正を
行うようにしており、補正マップメモリー２５の細分化
された各座標位置には、制御コンピュータ２６より補正
データが格納されている。この格納された補正データ
は、図３を用いて説明した方法により作成され、図４の
従来装置における補正マップメモリー２０に格納された
データと同等のものである。

【００２９】描画データに含まれる偏向位置座標Ｘ,Ｙ
が、その座標位置の補正データを読み出すために補正マ
ップメモリー２５に供給されるが、Ｙ座標値は、制御コ
ンピュータ２６によって切り換えられるセレクタ２７の
Ａ端子と、演算器２８を介してセレクタ２７のＢ端子に
供給される。

【００３０】実際の描画動作においては、セレクタ２７
はＡ端子に接続され、その結果、座標位置Ｘ,Ｙの補正
データが補正マップメモリー２５から読み出される。こ
の補正データは、位置決め偏向器７に供給される偏向電
圧に補正を加える。このような補正動作により、電子ビ
ームは材料６の所望の座標位置に正確に偏向され照射さ
れる。

【００３１】上記Ｘ,Ｙ座標位置における補正データの
読み出しが終了すると、制御コンピュータ２６はセレク
タ２７を制御し、セレクタ２７はＢ端子に接続される。
セレクタ２７のＢ端子には、演算器２８を介してＹ座標
位置が供給されるが、この演算器２８においては、供給
されたＹ座標位置に対して通常１が加算される。この結
果、補正マップメモリー２５の座標位置Ｘ,Ｙ＋１の補
正データＱが読み出されて演算器２９に供給される。

【００３２】演算器２９には座標位置Ｘ,Ｙの補正デー
タＰも供給されており、演算器２９は２種の補正データ
の差の絶対値Ｒ(＝｜Ｐ−Ｑ｜)を求める。この差の絶対
値Ｒは、比較器３０に供給される。比較器３０では、差
の絶対値Ｒと閾値レジスタ３１にセットされた閾値Ｓを
比較し、Ｒ＞Ｓの場合には、異常信号を発生し、制御コ
ンピュータ２６に供給する。制御コンピュータ２６は、
異常信号の供給を受けると、異常と思われる補正データ
の座標位置やその補正データの値等を表示する。

【００３３】このような構成で、２種の補正データＰと
Ｑとは隣り合った座標位置(セル)における補正データで
あり、この隣接するセルのデータの差分は、補正マップ
が曲線近似で補完したデータにより作成されているた
め、補正マップの各セルに格納されるデータ値よりかな
り小さな値となる。したがって、閾値レジスタ３１にセ
ットする閾値Ｓを隣接するセルのデータの正常な差分と
して求められた最大の値より僅かに大きな値とする。

【００３４】この結果、隣接するセルの補正データＰと
Ｑとの差の絶対値Ｒの値が、閾値Ｓより大きい場合に
は、補正データＰかＱのいずれかが異常であることにな
る。このようにして、補正マップのどの部分で補正値の
誤りが発生したかを容易に知ることができる。また、エ
ラーの発生した描画を行った材料には、誤った描画がな
されたことが分かるため、材料を交換し再度描画を行
う。

【００３５】なお、上記構成において、演算器２８は、
通常は供給されたＹ座標位置に１を加算するが、加算に
よって補正マップの最大アドレスを超える場合には、１
を減算する。

【００３６】図８は本発明の他の実施の形態を示してお
り、図７に示した構成と同一ないしは類似の構成要素に
は同一番号を付し、その詳細な説明は省略する。この図
８の構成において、描画データに含まれる位置座標値
Ｘ,Ｙは、位置座標レジスタ３２にセットされ、このレ
ジスタ３２からＸ,Ｙ座標値はセレクタ２７のＡ端子お
よび演算器２８を介してＢ端子に供給される。

【００３７】実際の描画動作においては、セレクタ２７
はＡ端子に接続され、その結果、座標位置Ｘ,Ｙの補正
データが補正データメモリー２５から読み出される。こ
の補正データは、位置決め偏向器７に供給される偏向電
圧に補正を加えるためのものである。

【００３８】上記Ｘ,Ｙ座標位置における補正データの
読み出しが終了すると、制御コンピュータ２６はセレク
タ２７を制御し、セレクタ２７はＢ端子に接続される。
セレクタ２７のＢ端子には、演算器２８を介してＹ座標
位置が供給されるが、この演算器２８においては、供給
されたＹ座標位置に対して通常１が加算される。この結
果、補正マップメモリー２５の座標位置Ｘ,Ｙ＋１の補
正データＱが読み出されて演算器２９に供給される。

【００３９】演算器２９には座標位置Ｘ,Ｙの補正デー
タＰも供給されており、演算器２９は２種の補正データ
の差の絶対値Ｒ(＝｜Ｐ−Ｑ｜)を求める。この差の絶対
値Ｒは、比較器３０に供給される。比較器３０では、差
の絶対値Ｒと閾値レジスタ３１にセットされた閾値Ｓを
比較し、Ｒ＜Ｓの場合は、補正データが正常であると判
定し、その判定結果を制御回路３３に送る。

【００４０】制御回路３３は、この判定結果に基づい
て、座標位置Ｘ,Ｙにおける補正データを補正データレ
ジスタ３４にセットする。このセットされた補正データ
は、描画データの補正回路に転送される。このような補
正動作により、電子ビームは材料６の所望の座標位置に
正確に偏向され照射される。

【００４１】一方、Ｒ＞Ｓの場合には、比較器３０は異
常信号を発生し、制御コンピュータ２６に供給する。制
御コンピュータ２６は、異常信号の供給を受けると、異
常と思われる補正データの座標位置やその補正データの
値等を表示する。比較器３０からの異常信号は、制御回
路３３にも供給されるが、制御回路３３は、異常信号が
供給された場合には、補正データレジスタ３４に補正デ
ータのセットを行わない。

【００４２】更に制御回路３３は、位置座標レジスタ３
２から再度位置座標Ｘ,Ｙを出力させ、補正マップメモ
リー２５から補正データを読み出し、補正データレジス
タ３４にセットする。この際にも、座標位置Ｘ,Ｙに隣
接する座標位置Ｘ,Ｙ＋１からの補正データも読み出さ
れ、演算器２９において、隣接する２つの座標位置にお
ける補正データの差の絶対値Ｒが求められる。

【００４３】この差の絶対値Ｒと閾値Ｓとが比較器にお
いて比較され、Ｒ＜Ｓであれば、補正データレジスタ３
４に補正データがセットされ、この補正データが描画デ
ータを補正するために転送される。一方、再びＲ＞Ｓで
あれば、異常信号が制御コンピュータ２６に供給され
る。そして、制御回路３３は、補正データレジスタ３４
に補正データをセットせず、再び位置座標レジスタ３２
から描画データの位置座標Ｘ,Ｙを転送させる。

【００４４】このようにして、補正マップメモリー２５
から読み出した補正データに異常が発生した場合には、
同じ位置座標における補正データの読み出しを繰り返し
行い、正常な状態でデータの読み出しがなされた場合
に、補正データレジスタに補正データがセットされ、セ
ットされたデータが描画データの補正用に転送される。
なお、同じ位置座標における補正データの読み出しを繰
り返し行っても、正常な状態でデータの読み出しがなさ
れない場合もある。そのため、制御コンピュータ２６内
に異常信号をカウントするカウンタを備えておき、異常
信号が連続して所定の回数発生した場合には、装置の動
作を停止させる。

【００４５】このように、図８に示した実施の形態で
は、補正データが正常な場合のみ補正データを描画デー
タの補正のために転送するように構成したので、誤った
補正データにより描画データが補正されることは防止さ
れる。

【００４６】この結果、隣接するセルの補正データＰと
Ｑとの差の絶対値Ｒの値が、閾値Ｓより大きい場合に
は、補正データＰかＱのいずれかが異常であることにな
る。このようにして、補正マップのどの部分で補正値の
誤りが発生したかを容易に知ることができる。また、エ
ラーの発生した描画を行った材料には、誤った描画がな
されたことが分かるため、材料を交換し再度描画を行
う。

【００４７】以上本発明の一実施形態を説明したが、本
発明はこの実施の形態に限定されない。例えば、可変面
積型電子ビーム描画装置を例に説明したが、本発明は被
描画材料に細く絞った電子ビームを照射するようにした
電子ビーム描画装置にも適用することができる。また、
位置決め偏向器の偏向位置を補正する場合について説明
したが、近接効果の補正処理など補正マップメモリーを
用いた補正処理であれば、本発明を適用することができ
る。

【００４８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に基づく電
子ビーム描画装置における補正データチェック方法およ
び装置は、描画領域を仮想的に細分化し、細分化された
座標ごとに描画データを補正する補正値が記憶された補
正マップ記憶手段を備え、描画データの位置座標に基づ
き補正マップから補正値データを読み出し、補正値デー
タに基づき描画データを補正し、補正された描画データ
に基づいて被描画材料に描画を行うようにした電子ビー
ム描画において、描画データの位置座標に基づき補正マ
ップから補正値データを読み出すと共に、該位置座標に
隣接する位置座標の補正値を読み出し、２種の補正値の
差を求め、その差の値が所定の値以上の場合に異常信号
を発生させるようにした。

【００４９】この２種の補正データは隣り合った座標位
置(セル)における補正データであり、この隣接するセル
のデータの差分は、補正マップが曲線近似で補完したデ
ータにより作成されているため、補正マップの各セルに
格納されるデータ値よりかなり小さな値となる。したが
って、所定の値として隣接するセルのデータの正常な差
分として求められた最大の値より僅かに大きな値とす
る。

【００５０】この結果、隣接するセルの補正データの差
の絶対値の値が、所定の値より大きい場合には、２種の
補正データのいずれかが異常であることになる。このよ
うにして、補正マップのどの部分で補正値の誤りが発生
したかを容易に知ることができる。

【００５１】また、本発明では、補正データが異常な場
合には、補正データを描画データの補正のために使用せ
ず、補正マップの同じ座標位置における補正データを、
隣接するセルの補正データの差の絶対値の値が、所定の
値より小さくなるまで繰り返し読み出し、隣接するセル
の補正データの差の絶対値の値が、所定の値より小さく
なったときに補正データを描画データの補正のために使
用する。この結果、誤った補正データにより描画データ
を補正することは回避され、電子ビーム描画装置の信頼
性を著しく向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の可変面積型電子ビーム描画装置の一例を
示す図である。

【図２】図１の装置に用いた照射制御回路の具体例を示
す図である。

【図３】静電偏向器による偏向位置ずれを補正する方式
を説明するための図である。

【図４】静電偏向器による偏向位置ずれを補正する方式
を説明するための図である。

【図５】近接効果を補正する方式を説明するための図で
ある。

【図６】近接効果を補正する方式を説明するための図で
ある。

【図７】本発明に基づく補正データのチェック方法を実
施するための構成の要部を示す図である。

【図８】本発明の他の実施の形態を示す図である。

【符号の説明】

２５補正マップメモリー２６制御コンピュータ２７セレクタ２８，２９演算器３０比較器３１閾値レジスタ３２位置座標レジスタ３３制御回路３４補正データレジスタ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】描画領域を仮想的に細分化し、細分化さ
れた座標ごとに描画データを補正する補正値が記憶され
た補正マップ記憶手段を備え、描画データの位置座標に
基づき補正マップから補正値データを読み出し、補正値
データに基づき描画データを補正し、補正された描画デ
ータに基づいて被描画材料に描画を行うようにした電子
ビーム描画方法において、描画データの位置座標に基づ
き補正マップから補正値データを読み出すと共に、該位
置座標に隣接する位置座標の補正値を読み出し、２種の
補正値の差を求め、その差の絶対値が所定の値以上の場
合に異常信号を発生させるようにした電子ビーム描画装
置における補正データチェック方法。
【請求項２】描画領域を仮想的に細分化し、細分化さ
れた座標ごとに描画データを補正する補正値が記憶され
た補正マップ記憶手段を備え、描画データの位置座標に
基づき補正マップから補正値データを読み出し、補正値
データに基づき描画データを補正し、補正された描画デ
ータに基づいて被描画材料に描画を行うようにした電子
ビーム描画方法において、描画データの位置座標に基づ
き補正マップから補正値データを読み出すと共に、該位
置座標に隣接する位置座標の補正値を読み出し、２種の
補正値の差を求め、その差の絶対値が所定の値以上の場
合には、補正値データによる描画データの補正を行わ
ず、異常信号を発生させるようにした電子ビーム描画装
置における補正データチェック方法。
【請求項３】補正マップ記憶手段に記憶された補正値
は、電子ビームを偏向する偏向器の機械的な誤差に基づ
く電子ビームの偏向位置ずれを補正するためのものであ
る請求項１および２記載の電子ビーム描画装置における
補正データチェック方法。
【請求項４】補正マップ記憶手段に記憶された補正値
は、近接効果を補正するためのものである請求項１およ
び２記載の電子ビーム描画装置における補正データチェ
ック方法。
【請求項５】２種の補正値の差を求め、その差の値が
所定の値以上の場合には、補正値データによる描画デー
タの補正を行わず、再び補正マップから同じ位置座標と
該位置座標に隣接する位置座標の補正値を読み出し、２
種の補正値の差を求め、その差の値と所定の値との比較
を繰り返し行い、差の値が所定の値以下となったときに
補正値を描画データの補正のために転送するようにした
請求項２記載の電子ビーム描画装置における補正データ
チェック方法。
【請求項６】描画領域を仮想的に細分化し、細分化さ
れた座標ごとに描画データを補正する補正値が記憶され
た補正マップ記憶手段を備え、描画データの位置座標に
基づき補正マップから補正値データを読み出し、補正値
データに基づき描画データを補正し、補正された描画デ
ータに基づいて被描画材料に描画を行うようにした電子
ビーム描画装置において、描画データの位置座標に基づ
き補正マップから補正値データを読み出すと共に、該位
置座標に隣接する位置座標の補正値を読み出し、２種の
補正値の差の絶対値を求める演算器と、演算器で求めた
差の値と所定の値とを比較し、該差の値が所定の値以上
の場合に異常信号を発生する比較器とより成る電子ビー
ム描画装置における補正データチェック装置。
【請求項７】描画領域を仮想的に細分化し、細分化さ
れた座標ごとに描画データを補正する補正値が記憶され
た補正マップ記憶手段を備え、描画データの位置座標に
基づき補正マップから補正値データを読み出し、補正値
データに基づき描画データを補正し、補正された描画デ
ータに基づいて被描画材料に描画を行うようにした電子
ビーム描画装置において、描画データの位置座標がセッ
トされる位置座標レジスタと、該レジスタにセットされ
た位置座標に基づき補正マップから補正値データを読み
出すと共に、該位置座標に隣接する位置座標の補正値を
読み出し、２種の補正値の差の絶対値を求める演算器
と、補正マップから読み出された補正値データがセット
される補正値データレジスタと、演算器で求めた差の値
と所定の値とを比較し、該差の値が所定の値以上の場合
に異常信号を発生する比較器とより成り、該差の値が所
定の値以上の場合には、補正値データレジスタへの補正
値データのセットを停止するように構成した電子ビーム
描画装置における補正データチェック装置。
【請求項８】該位置座標に隣接する位置座標の指定の
ために、該位置座標に１または−１を加算する加算器を
設けた請求項６および７記載の電子ビーム描画装置にお
ける補正データチェック装置。