|
US2870109A
(en)
|
1954-05-06 |
1959-01-20 |
Monsanto Chemicals |
Coated silica aerogel, silicone rubber reinforced therewith and method of making
|
|
US4408009A
(en)
|
1982-02-17 |
1983-10-04 |
Union Carbide Corporation |
Co-condensates of alkyl silicates and alkoxy silanes
|
|
JPS61250032A
(ja)
|
1985-04-30 |
1986-11-07 |
Hitachi Chem Co Ltd |
シラノ−ルオリゴマ−液の製造法
|
|
CN1014123B
(zh)
|
1987-10-12 |
1991-10-02 |
国家机械工业委员会沈阳铸造研究所 |
硅溶胶涂料复合制壳工艺
|
|
US5124188A
(en)
|
1990-04-02 |
1992-06-23 |
The Procter & Gamble Company |
Porous, absorbent, polymeric macrostructures and methods of making the same
|
|
CN1221629A
(zh)
|
1990-04-02 |
1999-07-07 |
普罗格特-甘布尔公司 |
包含多孔、有吸收性、聚合的粗视结构物的吸收性制品
|
|
US5676938A
(en)
|
1992-09-29 |
1997-10-14 |
Toshiba Silicone Co., Ltd. |
Cosmetic composition
|
|
JPH0748527A
(ja)
|
1993-08-06 |
1995-02-21 |
Sumitomo Osaka Cement Co Ltd |
反射防止層を有する光学材料及びその製造方法
|
|
JP3761189B2
(ja)
|
1993-11-04 |
2006-03-29 |
触媒化成工業株式会社 |
複合酸化物ゾル、その製造方法および基材
|
|
DE4437424A1
(de)
|
1994-10-20 |
1996-04-25 |
Hoechst Ag |
Aerogelhaltige Zusammensetzung, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung
|
|
US5844060A
(en)
|
1995-07-05 |
1998-12-01 |
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. |
Organopolysiloxane resin, production method thereof, and curable organopolysiloxane resin composition using the same
|
|
JPH0924575A
(ja)
|
1995-07-12 |
1997-01-28 |
Dainippon Printing Co Ltd |
光学機能性膜の製造方法
|
|
US5948482A
(en)
|
1995-09-19 |
1999-09-07 |
University Of New Mexico |
Ambient pressure process for preparing aerogel thin films reliquified sols useful in preparing aerogel thin films
|
|
JPH11292568A
(ja)
|
1997-12-09 |
1999-10-26 |
Nippon Sheet Glass Co Ltd |
反射防止ガラス板、その製造方法および反射防止膜用被覆組成物
|
|
EP0974560B2
(en)
|
1997-12-09 |
2015-12-30 |
Nippon Sheet Glass Co., Ltd. |
Antireflection glass plate, process for producing the same, and antireflection coating composition
|
|
JP4107732B2
(ja)
|
1998-10-20 |
2008-06-25 |
松下電器産業株式会社 |
有機多孔体の製造方法
|
|
JP2000248261A
(ja)
|
1999-02-26 |
2000-09-12 |
Dow Corning Toray Silicone Co Ltd |
防汚添加剤および室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物
|
|
JP2000256040A
(ja)
|
1999-03-08 |
2000-09-19 |
Nippon Sheet Glass Co Ltd |
自動車窓用ガラス板
|
|
JP2000264620A
(ja)
|
1999-03-16 |
2000-09-26 |
Matsushita Electric Works Ltd |
疎水性エアロゲルの製造方法
|
|
JP4067224B2
(ja)
|
1999-03-30 |
2008-03-26 |
富士フイルム株式会社 |
反射防止膜、反射防止膜の製造方法および画像表示装置
|
|
US6534176B2
(en)
|
1999-12-10 |
2003-03-18 |
Asahi Glass Company, Limited |
Scaly silica particles and hardenable composition containing them
|
|
JP4063464B2
(ja)
|
1999-12-10 |
2008-03-19 |
Ａｇｃエスアイテック株式会社 |
鱗片状シリカ粒子、硬化性組成物、それからなる硬化体及びその製造方法
|
|
US6794448B2
(en)
|
2000-03-21 |
2004-09-21 |
Sekisui Plastics Co., Ltd. |
Resin particles and process for producing the same
|
|
JP4284006B2
(ja)
|
2001-04-10 |
2009-06-24 |
富士フイルム株式会社 |
反射防止フィルム、偏光板および画像表示装置
|
|
US6950236B2
(en)
|
2001-04-10 |
2005-09-27 |
Fuji Photo Film Co., Ltd. |
Antireflection film, polarizing plate, and apparatus for displaying an image
|
|
KR100953927B1
(ko)
|
2001-09-04 |
2010-04-22 |
다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 |
코팅 조성물, 그것으로 형성된 코팅, 반사 방지막, 반사방지 필름 및 화상 표시장치
|
|
TW574110B
(en)
|
2001-10-25 |
2004-02-01 |
Matsushita Electric Works Ltd |
Composite thin film holding substrate, transparent conductive film holding substrate, and panel light emitting body
|
|
JP3899011B2
(ja)
|
2001-10-25 |
2007-03-28 |
松下電工株式会社 |
面発光体
|
|
US6743510B2
(en)
|
2001-11-13 |
2004-06-01 |
Sumitomo Chemical Company, Limited |
Composition comprising a cationic polymerization compound and coating obtained from the same
|
|
KR20040099422A
(ko)
|
2002-04-08 |
2004-11-26 |
닛토덴코 가부시키가이샤 |
광확산성 시트, 광학소자 및 화상표시장치
|
|
JP2004010424A
(ja)
|
2002-06-06 |
2004-01-15 |
Matsushita Electric Ind Co Ltd |
多孔質ゲルの製造方法およびそれを用いた断熱材
|
|
US7771609B2
(en)
|
2002-08-16 |
2010-08-10 |
Aerogel Technologies, Llc |
Methods and compositions for preparing silica aerogels
|
|
JP2004161877A
(ja)
|
2002-11-13 |
2004-06-10 |
Shin Etsu Chem Co Ltd |
多孔質膜形成用組成物、多孔質膜とその製造方法、層間絶縁膜及び半導体装置
|
|
JP4437783B2
(ja)
|
2003-02-21 |
2010-03-24 |
旭化成株式会社 |
シリカ含有積層体
|
|
JP2004300172A
(ja)
|
2003-03-28 |
2004-10-28 |
Dainippon Printing Co Ltd |
コーティング組成物、その塗膜、反射防止膜、反射防止フィルム、及び、画像表示装置
|
|
JP4231329B2
(ja)
|
2003-04-25 |
2009-02-25 |
パナソニック株式会社 |
乾燥ゲルを含む成形体およびその製造方法
|
|
JP2004354699A
(ja)
|
2003-05-29 |
2004-12-16 |
Konica Minolta Opto Inc |
反射防止フィルム及び偏光板
|
|
WO2004113966A1
(ja)
|
2003-06-18 |
2004-12-29 |
Asahi Kasei Kabushiki Kaisha |
反射防止膜
|
|
TWI339741B
(en)
|
2003-06-26 |
2011-04-01 |
Zeon Corp |
Optical laminated film, polarizer and optical article
|
|
CN100420961C
(zh)
|
2003-06-26 |
2008-09-24 |
日本瑞翁株式会社 |
光学层压膜、偏振片及光学制品
|
|
JP4251927B2
(ja)
*
|
2003-06-27 |
2009-04-08 |
三菱化学株式会社 |
多孔性シリカ膜の製造方法
|
|
KR101237822B1
(ko)
|
2003-08-28 |
2013-02-28 |
니끼 쇼꾸바이 카세이 가부시키가이샤 |
반사 방지 적층체
|
|
JP2005148623A
(ja)
|
2003-11-19 |
2005-06-09 |
Fuji Photo Film Co Ltd |
反射防止フィルム
|
|
CN1212268C
(zh)
|
2003-11-20 |
2005-07-27 |
中国科学院上海技术物理研究所 |
二氧化硅气凝胶薄膜材料的制备方法
|
|
JP2005154195A
(ja)
|
2003-11-25 |
2005-06-16 |
Matsushita Electric Works Ltd |
エアロゲル材、及びこのエアロゲル材にて形成される物品
|
|
JP4157048B2
(ja)
|
2004-01-27 |
2008-09-24 |
信越化学工業株式会社 |
多孔質膜形成用組成物、その製造方法、多孔質膜及び半導体装置
|
|
US8088475B2
(en)
|
2004-03-03 |
2012-01-03 |
Hitachi, Ltd. |
Anti-reflecting membrane, and display apparatus, optical storage medium and solar energy converting device having the same, and production method of the membrane
|
|
EP1724613A4
(en)
*
|
2004-03-09 |
2009-06-24 |
Teijin Dupont Films Japan Ltd |
ANTIREFLECTION LAYER AND PROCESS FOR MANUFACTURING THE SAME
|
|
WO2005093464A1
(ja)
|
2004-03-26 |
2005-10-06 |
Fuji Photo Film Co., Ltd. |
反射防止フィルムの製造方法、反射防止フィルム、偏光板、および画像表示装置
|
|
US7524553B2
(en)
|
2004-05-31 |
2009-04-28 |
Fujifilm Corporation |
Optical film, polarizing plate and image display using the same
|
|
JP2005350519A
(ja)
|
2004-06-08 |
2005-12-22 |
Matsushita Electric Ind Co Ltd |
多孔体およびその製造方法
|
|
JP4448392B2
(ja)
*
|
2004-06-28 |
2010-04-07 |
Ｈｏｙａ株式会社 |
反射防止膜を有する光学素子の製造方法
|
|
JP2006096019A
(ja)
|
2004-08-31 |
2006-04-13 |
Nippon Zeon Co Ltd |
積層フィルムの製造方法
|
|
JP2006096967A
(ja)
|
2004-08-31 |
2006-04-13 |
Nippon Zeon Co Ltd |
積層フィルムの製造方法
|
|
KR20070095359A
(ko)
|
2004-12-24 |
2007-09-28 |
마츠시다 덴코 가부시키가이샤 |
액정 표시 장치용 광학 적층 필름
|
|
JP4951237B2
(ja)
|
2004-12-27 |
2012-06-13 |
ペンタックスリコーイメージング株式会社 |
防曇性反射防止膜の製造方法
|
|
JP2006255496A
(ja)
*
|
2005-03-15 |
2006-09-28 |
Nippon Zeon Co Ltd |
積層フィルムの製造方法
|
|
JP4938994B2
(ja)
*
|
2005-04-22 |
2012-05-23 |
ペンタックスリコーイメージング株式会社 |
シリカエアロゲル膜及びその製造方法
|
|
US8029871B2
(en)
|
2005-06-09 |
2011-10-04 |
Hoya Corporation |
Method for producing silica aerogel coating
|
|
JP4953426B2
(ja)
*
|
2005-06-09 |
2012-06-13 |
ペンタックスリコーイメージング株式会社 |
シリカエアロゲル膜の製造方法
|
|
ATE427156T1
(de)
|
2005-08-05 |
2009-04-15 |
Fujifilm Mfg Europe Bv |
Poríse membran und aufzeichnungsmedium sowie herstellungsverfahren dafur
|
|
CN101007911A
(zh)
|
2006-01-27 |
2007-08-01 |
章浩龙 |
一种水性涂料及其制造方法
|
|
JP2008040171A
(ja)
|
2006-08-07 |
2008-02-21 |
Pentax Corp |
セルフクリーニング効果を有する反射防止膜を設けた光学素子及びその製造方法
|
|
WO2008047977A1
(en)
|
2006-10-16 |
2008-04-24 |
Cheil Industries Inc. |
Coating composition for low refractive layer, anti-reflection film using the same and image displaying device comprising said anti-reflection film
|
|
JP2008139839A
(ja)
|
2006-11-02 |
2008-06-19 |
Bridgestone Corp |
ディスプレイ用光学フィルタ、これを備えたディスプレイ及びプラズマディスプレイパネル
|
|
JP2008205008A
(ja)
|
2007-02-16 |
2008-09-04 |
Shin Etsu Chem Co Ltd |
半導体層間絶縁膜形成用組成物とその製造方法、膜形成方法と半導体装置
|
|
TWI530713B
(zh)
|
2007-02-21 |
2016-04-21 |
王子控股股份有限公司 |
凹凸圖案形成片及其製造方法
|
|
JP2008214569A
(ja)
|
2007-03-07 |
2008-09-18 |
Matsushita Electric Ind Co Ltd |
樹脂成形体
|
|
JP4997147B2
(ja)
|
2007-03-08 |
2012-08-08 |
富士フイルム株式会社 |
反射防止積層体、偏光板及び画像表示装置
|
|
CN101679657B
(zh)
|
2007-03-16 |
2012-11-14 |
卡伯特公司 |
气凝胶颗粒及其制造方法
|
|
JP2008291074A
(ja)
|
2007-05-23 |
2008-12-04 |
Panasonic Corp |
光拡散性樹脂成形体
|
|
KR101077274B1
(ko)
|
2007-05-28 |
2011-10-27 |
코오롱인더스트리 주식회사 |
폴리알킬실세스퀴옥산 미립자 및 그 제조방법
|
|
JP2009003331A
(ja)
*
|
2007-06-25 |
2009-01-08 |
Toppan Printing Co Ltd |
防眩フィルム
|
|
JP5100226B2
(ja)
*
|
2007-07-12 |
2012-12-19 |
富士フイルム株式会社 |
反射防止フィルムの製造方法および反射防止フィルム
|
|
JP2009175673A
(ja)
*
|
2007-12-27 |
2009-08-06 |
Hitachi Chem Co Ltd |
低屈折率膜用コーティング液セット
|
|
US8586144B2
(en)
|
2008-03-25 |
2013-11-19 |
Pentax Ricoh Imaging Company, Ltd. |
Method for forming anti-reflection coating and optical element
|
|
WO2009129179A1
(en)
|
2008-04-14 |
2009-10-22 |
Dow Corning Corporation |
Emulsions of boron crosslinked organopolysiloxanes and their use in personal care compositions
|
|
JP5140525B2
(ja)
|
2008-09-12 |
2013-02-06 |
日東電工株式会社 |
偏光膜およびその製造方法
|
|
EP2164302A1
(de)
*
|
2008-09-12 |
2010-03-17 |
Ilford Imaging Switzerland Gmbh |
Optisches Element und Verfahren zu seiner Herstellung
|
|
CN102186668B
(zh)
|
2008-10-17 |
2014-07-30 |
日立化成株式会社 |
低折射率膜及其制造方法、防反射膜及其制造方法、低折射率膜用涂敷液套剂、带有微粒层叠薄膜的基材及其制造方法、以及光学部件
|
|
US8222352B2
(en)
|
2008-12-24 |
2012-07-17 |
Nitto Denko Corporation |
Silicone resin composition
|
|
JP5656431B2
(ja)
|
2009-03-31 |
2015-01-21 |
富士フイルム株式会社 |
反射防止フィルム、偏光板、画像表示装置、及び低屈折率層形成用塗布組成物
|
|
TWI605276B
(zh)
|
2009-04-15 |
2017-11-11 |
３Ｍ新設資產公司 |
光學結構及包含該光學結構之顯示系統
|
|
US8891038B2
(en)
|
2009-04-15 |
2014-11-18 |
3M Innovative Properties Company |
Lightguide with optical film containing voids and blacklight for display system
|
|
TWI491930B
(zh)
|
2009-04-15 |
2015-07-11 |
３Ｍ新設資產公司 |
光學膜
|
|
US20130011608A1
(en)
|
2010-01-13 |
2013-01-10 |
Wolk Martin B |
Optical films with microstructured low refractive index nanovoided layers and methods therefor
|
|
KR101604411B1
(ko)
|
2010-03-10 |
2016-03-17 |
다케모토 유시 가부시키 가이샤 |
유기 실리콘 미립자, 유기 실리콘 미립자의 제조방법, 유기 실리콘 미립자를 함유하는 화장료, 수지 조성물 및 도료 조성물
|
|
TWI534458B
(zh)
|
2010-10-20 |
2016-05-21 |
３Ｍ新設資產公司 |
經保護之低折射率光學元件
|
|
JP5528296B2
(ja)
|
2010-10-25 |
2014-06-25 |
株式会社トクヤマ |
エアロゲル
|
|
WO2012115057A1
(ja)
|
2011-02-21 |
2012-08-30 |
旭化成ケミカルズ株式会社 |
有機無機複合体を含むコーティング材、有機無機複合膜及び反射防止部材
|
|
JP2012189802A
(ja)
|
2011-03-10 |
2012-10-04 |
Asahi Kasei Chemicals Corp |
反射防止フィルム、偏光板及び表示装置
|
|
KR101569599B1
(ko)
|
2011-03-14 |
2015-11-16 |
아사히 가세이 케미칼즈 가부시키가이샤 |
유기 무기 복합체와 그 제조 방법, 유기 무기 복합막과 그 제조 방법, 포토닉 결정, 코팅재, 열가소성 조성물, 미세 구조체, 광학 재료, 반사 방지 부재 및 광학 렌즈
|
|
JP5889067B2
(ja)
|
2011-03-29 |
2016-03-22 |
住友化学株式会社 |
光学フィルムの製造方法
|
|
JP5880238B2
(ja)
|
2011-04-15 |
2016-03-08 |
日本化成株式会社 |
ラミネート部材及びその製造方法並びに積層体
|
|
JP2013007831A
(ja)
*
|
2011-06-23 |
2013-01-10 |
Hitachi Chem Co Ltd |
低屈折率膜及びその製造方法、反射防止膜及びその製造方法、並びに低屈折率膜用コーティング液セット
|
|
JP2013060309A
(ja)
|
2011-09-12 |
2013-04-04 |
Achilles Corp |
疎水性に優れるナノ構造多孔質体
|
|
JP2013083722A
(ja)
|
2011-10-06 |
2013-05-09 |
Konica Minolta Advanced Layers Inc |
光反射フィルム、光反射フィルムの製造方法、およびそれを用いた光反射体
|
|
JP2013152425A
(ja)
|
2011-12-28 |
2013-08-08 |
Tamron Co Ltd |
反射防止膜及び光学素子
|
|
JP2015506978A
(ja)
|
2012-02-08 |
2015-03-05 |
ダウ コーニング コーポレーションＤｏｗ Ｃｏｒｎｉｎｇ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ |
ヘルスケア有効成分の送達用シリコーンエマルション
|
|
US20130216859A1
(en)
|
2012-02-20 |
2013-08-22 |
Bayer Materialscience Ag |
Multilayer assembly as reflector
|
|
JP2013218172A
(ja)
|
2012-04-10 |
2013-10-24 |
Seiko Epson Corp |
光学素子、撮像装置、電子機器及び光学素子の製造方法
|
|
EP2829873B1
(en)
|
2012-08-27 |
2017-11-22 |
Shinwa Chemical Industries, Ltd. |
Porous silica powder
|
|
JP5907839B2
(ja)
*
|
2012-08-30 |
2016-04-26 |
旭化成ケミカルズ株式会社 |
積層体、偏光板、光学材料、表示装置及びタッチパネル
|
|
JP5859942B2
(ja)
|
2012-09-26 |
2016-02-16 |
藤森工業株式会社 |
積層体の製造方法
|
|
JP6000839B2
(ja)
|
2012-12-21 |
2016-10-05 |
メルクパフォーマンスマテリアルズマニュファクチャリング合同会社 |
ケイ素酸化物ナノ粒子とシルセスキオキサンポリマーとの複合体およびその製造方法、ならびにその複合体を用いて製造した複合材料
|
|
JP6396291B2
(ja)
|
2013-04-11 |
2018-09-26 |
日本カーバイド工業株式会社 |
積層シート
|
|
CN103213996B
(zh)
|
2013-04-12 |
2015-12-23 |
北京科技大学 |
一种多级孔二氧化硅基复合气凝胶的制备方法
|
|
JP2014206702A
(ja)
|
2013-04-16 |
2014-10-30 |
富士フイルム株式会社 |
偏光板及び画像表示装置
|
|
WO2014175124A1
(ja)
|
2013-04-24 |
2014-10-30 |
旭硝子株式会社 |
反射防止層付き基材
|
|
JP6371502B2
(ja)
|
2013-07-30 |
2018-08-08 |
大日本印刷株式会社 |
光学フィルムの製造方法
|
|
WO2015041257A1
(ja)
|
2013-09-18 |
2015-03-26 |
旭硝子株式会社 |
低反射膜付き強化ガラス板およびその製造方法
|
|
JP2015108733A
(ja)
|
2013-12-05 |
2015-06-11 |
チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド |
樹脂膜及び樹脂膜の製造方法
|
|
CN103738971B
(zh)
|
2013-12-25 |
2015-07-08 |
上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 |
力学增强型二氧化硅气凝胶材料及其制备方法
|
|
JP6291323B2
(ja)
|
2014-04-02 |
2018-03-14 |
リンテック株式会社 |
粘着シート及び粘着シートの製造方法
|
|
JP6540158B2
(ja)
|
2014-11-21 |
2019-07-10 |
三菱ケミカル株式会社 |
多孔質積層体
|
|
JP6532228B2
(ja)
|
2014-12-10 |
2019-06-19 |
キヤノン株式会社 |
光学部材及び光学部材の製造方法
|
|
JP6599699B2
(ja)
|
2014-12-26 |
2019-10-30 |
日東電工株式会社 |
触媒作用を介して結合した空隙構造フィルムおよびその製造方法
|
|
TWI692496B
(zh)
|
2014-12-26 |
2020-05-01 |
日商日東電工股份有限公司 |
聚矽氧多孔體及其製造方法
|
|
JP6604781B2
(ja)
|
2014-12-26 |
2019-11-13 |
日東電工株式会社 |
積層フィルムロールおよびその製造方法
|
|
JP6612563B2
(ja)
|
2014-12-26 |
2019-11-27 |
日東電工株式会社 |
シリコーン多孔体およびその製造方法
|
|
JP6563750B2
(ja)
*
|
2014-12-26 |
2019-08-21 |
日東電工株式会社 |
塗料およびその製造方法
|
|
JP6713872B2
(ja)
*
|
2015-07-31 |
2020-06-24 |
日東電工株式会社 |
積層フィルム、積層フィルムの製造方法、光学部材、画像表示装置、光学部材の製造方法および画像表示装置の製造方法
|
|
JP6713871B2
(ja)
*
|
2015-07-31 |
2020-06-24 |
日東電工株式会社 |
光学積層体、光学積層体の製造方法、光学部材、画像表示装置、光学部材の製造方法および画像表示装置の製造方法
|
|
JP7152130B2
(ja)
*
|
2015-09-07 |
2022-10-12 |
日東電工株式会社 |
低屈折率層、積層フィルム、低屈折率層の製造方法、積層フィルムの製造方法、光学部材および画像表示装置
|