JP2008040171A - セルフクリーニング効果を有する反射防止膜を設けた光学素子及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基体表面に反射防止膜を有する光学素子であって、前記反射防止膜が少なくとも1層のナノポーラスシリカ膜を有し、前記ナノポーラスシリカ膜が有機修飾シリカと光触媒作用を有する金属酸化物とからなる光学素子及びその製造方法。
【選択図】 図1
Description
(1) 光学素子の構成
図1(a)に本発明の光学素子の一例を示す。図1(a)に示す光学素子は、凸状の第一の面11及び凹状の第二の面12を有するレンズ1と、第一の面11に成膜された反射防止膜2とからなる。図中の反射防止膜2は実際より厚く描かれている。図1(a)に示す例では第一の面11にのみ反射防止膜2が成膜されているが、本発明はこれに限定されず、さらにレンズ1の第二の面12に反射防止膜(図には記載されていない)が成膜されていてもよい。また例えば、レンズ1の球面収差を補正するため、第一の面11及び/又は第二の面12に輪帯を設けた、回折構造を有する光学素子に反射防止膜を形成しても良い。
本発明の光学素子に用いる基体は、60°〜75°の最大基板傾斜角度θmaxを有するレンズ1であるのが好ましい。レンズ1上の任意の点tにおける基板傾斜角度θは、図2に示すように、第一の面11の中心110に接する面Foと、第一の面11上の任意の点tに接する面Fとのなす角度であり、最大基板傾斜角度θmaxは有効径E内部の基板傾斜角度θの最大値である。また本発明の光学素子に用いる基体は、図1(b)に示すように、有効径E内であって基板傾斜角度θが50°以上の部分の投影面積Sが、有効径E内部の投影面積の10%以上であるレンズであるのが好ましい。このようなレンズ1は、光ピックアップ装置等の対物レンズに好適である。
反射防止膜2は、光触媒作用を有する金属酸化物及び有機修飾シリカからなる、少なくとも1層のナノポーラスシリカ膜を有する。図1に示す例では、反射防止膜2は単層であるのでナノポーラスシリカ膜のみからなっているが、本発明はこれに限定されず、複数のナノポーラスシリカ膜を有しても良いし、ナノポーラスシリカ膜以外の膜を有してもよい。反射防止膜2が多層構成である場合、最表面はナノポーラスシリカ膜であるのが好ましい。ナノポーラスシリカ膜を表面に設けることにより、入射媒質と反射防止膜2との屈折率差が小さくなって優れた反射防止効果を示す上に、防曇効果及び光触媒によるセルフクリーニング効果を効率よく得ることができる。
光触媒作用とは、触媒に光(紫外線)が当たることにより生じた正孔(h+)と電子(e-)の酸化及び還元により水酸ラジカル(・OH)と活性酸素(O2 -)が発生し、この水酸ラジカルと活性酸素が有機物等を分解する作用である。反射防止膜2が光触媒作用を有する金属酸化物を含有することにより、光学素子表面の汚れを減少させ、汚れを拭き取らずに除去する効果(セルフクリーニング効果)が得られる。光触媒作用を有する金属酸化物として、TiO2、ZnO、WO3、ZrO2、Nb2O5、SrTiO3等が用いられ、特にTiO2が好ましく用いられる。これらの金属酸化物は、単独又は組み合わせて用いることができる。これらの金属酸化物は、その金属原子がナノポーラスシリカ膜のケイ素原子と酸素を介して結合していることが好ましい。
反射防止膜2は有機修飾シリカを含有する。有機修飾シリカは、ナノポーラスシリカ表面を疎水化剤により修飾したもので、その高い疎水性により高い経時保存性を示す。疎水化剤は疎水化基をシリカ表面に結合させるための化合物であり、疎水化基としてはメチル基、エチル基、フェニル基、シリル基等の有機基が好ましい。
反射防止膜2の好ましい物理膜厚は、レンズ1の屈折率や使用する光の波長によって最適化されるが、光ピックアップ装置の対物レンズの場合、15〜500 nmであり、より好ましくは100〜350 nmである。
レンズ1の表面にナノポーラスシリカ膜のみからなる反射防止膜2を形成する場合を例にとって、光学素子の製造方法を説明する。反射防止膜を形成するナノポーラスシリカ膜は、アルコキシシラン等のシリカ骨格形成化合物とアルコキシチタン等の光触媒を有する金属酸化物の前駆体とを、加水分解及び重縮合させることにより生成する、シリカゾル及び/又は湿潤ゲル分散物をレンズ等の基体表面に塗工し乾燥後、加熱処理することにより得られる。
(a) シリカ骨格形成化合物
シリカ骨格形成化合物としては、アルコキシシラン及び/又はシルセスキオキサンを用いるのが好ましい。これらのシラン化合物の加水分解及び重縮合により、シリカゾル及び/又はシリカ湿潤ゲル分散物が生成する。
光触媒作用を有する金属酸化物は、金属アルコキシド等の金属酸化物の前駆体をシリカ骨格形成化合物と混合し、加水分解及び重縮合することによりナノポーラスシリカ膜中に含有させるのが好ましい。金属アルコキシド等の化合物とシリカ骨格形成化合物とを重縮合することにより、ケイ素原子−酸素原子−金属原子の結合を形成する。金属アルコキシドとしては、2〜4官能性の化合物が使用できるが、4官能性の化合物が高反応性であるため好ましい。
シリカ骨格形成化合物と金属アルコキシドの加水分解及び重縮合に用いる溶媒は、水及びアルコールの混合溶媒が好ましい。アルコールとしては炭素数1〜6のアルコールが好ましく、メタノール、エタノール、n-プロパノール、及びイソプロパノールが特に好ましく、メタノールが最も好ましい。水/アルコールのモル比は0.01〜2であるのが好ましく、0.1〜2であるのがより好ましい。水/アルコールのモル比が2超であると、加水分解反応が速く進行し過ぎてしまうため好ましくない。0.01未満であると、アルコキシシラン、シルセスキオキサン、金属アルコキシド等の加水分解が十分に起こらない。溶媒/金属アルコキシド等のモル比を変化させることにより、金属アルコキシド等の重縮合物の重合度を調節することができる。溶媒/金属アルコキシド等のモル比は3〜500が好ましく、3〜100がより好ましい。モル比が3未満では重合度が高くなり過ぎて、500超では重合度が低くなり過ぎるため好ましくない。
アルコキシシランと光触媒作用を有する金属酸化物の前駆体である金属アルコキシドの混合物に、加水分解反応及び重縮合反応を促進するため触媒を添加する。触媒として酸系触媒及び/又は塩基系触媒を用いることができる。酸系触媒は、加水分解反応及び金属アルコキシド等が重縮合しオリゴマーが形成される反応を主に促進する。塩基系触媒は、オリゴマー同士がさらに重縮合し架橋度を増加させる反応を主に促進する。酸系触媒としては、塩酸、硝酸及び酢酸が好ましい。塩基系触媒としては、アンモニア、アミン化合物、NaOH及びKOHが好ましい。アミン化合物としては、アルコールアミン、アルキルアミン(メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、n-ブチルアミン、n-プロピルアミン等)が好ましい。触媒/金属アルコキシド等のモル比は1×10-4〜3×10-2が好ましく、3×10-4〜1×10-2がより好ましい。モル比が1×10-4未満では金属アルコキシド等の加水分解反応が十分に起こらず、3×10-2超では触媒効果が飽和してしまう。
アルコキシシランと光触媒作用を有する金属酸化物の前駆体である金属アルコキシドの混合物をエージングすることにより、加水分解及び重縮合が進行し、酸化ケイ素等(酸化ケイ素及び金属酸化物)を含有するゾル及び/又は湿潤ゲル分散物の生成が進む。ゾルは酸化ケイ素等からなるコロイド粒子が分散状態になっているもので、湿潤ゲル分散物はゾル状のコロイド粒子が凝集したクラスターが分散しているものである。エージングはアルコキシシランと光触媒作用を有する金属酸化物の前駆体である金属アルコキシドの混合物を25〜60℃で24〜168時間、静置して又はゆっくり撹拌しながら行うのが好ましい。
酸化ケイ素等を含有するゾル及び/又は湿潤ゲル分散物、又は有機修飾した酸化ケイ素等を含有するゾル及び/又は湿潤ゲル分散物の分散安定性を向上させるため分散媒を置換するのが好ましい。適当な分散媒に置換することにより、分散安定性を向上させたり、前述のエージングの進行や後述の疎水化剤による有機修飾反応の速度を促進又は遅延させたりできる。また、表面張力及び/又は固相−液相の接触角の調節、膜形成時の分散媒蒸発速度の調節が可能である。湿潤ゲル分散物の分散媒は、置換すべき分散媒によって湿潤ゲルを繰り返し洗浄することによって置換できる。
酸化ケイ素等を含有するゾル及び/又は湿潤ゲル分散物に疎水化剤の溶液を混合し、酸化ケイ素及び/又は金属酸化物の末端にある水酸基等の親水性基を疎水性の有機基に置換することにより、有機修飾したゾル及び/又は湿潤ゲル分散物が得られる。
MpSiClq ・・・(1)
M3SiNHSiM3 ・・・(2)
MpSi(OH)q ・・・(3)
M3SiOSiM3 ・・・(4)
MpSi(OM)q ・・・(5)
MpSi(OCOCH3)q ・・・(6)
(各式において、pは1〜3の整数であり、qはq=4−p を満たす整数であり、Mは水素、置換又は無置換の炭素数1〜18のアルキル基、もしくは置換又は無置換の炭素数6〜18のアリール基である。)のいずれかにより表されるシリル化剤、又はそれらの混合物である。
有機修飾したゾル及び/又は湿潤ゲル分散物中におけるゾル成分の含有比率を増加させて塗工に好適な状態にするため、ゾル状及び/又はゲル状の有機修飾シリカを超音波処理することが好ましい。ゲル状の有機修飾シリカの場合、超音波処理により電気的な力又はファンデルワールス力によって凝集していた湿潤ゲル分散物が再分散されると考えられる。
有機修飾シリカ粒子を含有するゾル及び/又は湿潤ゲル分散物を塗工することにより、基体表面に有機修飾ナノポーラスシリカ膜を設ける。塗工は、スプレーコート法、スピンコート法、ディップコート法、フローコート法、バーコート法等の方法で行うことができる。塗工した有機修飾シリカ粒子を含有するゾル及び/又は湿潤ゲル分散物は、分散媒が揮発することにより有機修飾ナノポーラスシリカ膜となる。有機修飾ナノポーラスシリカ膜の空隙率は、分散媒が揮発している間は毛管圧によって生じるゲルの収縮のために小さくなるが、揮発し終わるとスプリングバック現象によって回復する。このため有機修飾ナノポーラスシリカ膜の空隙率は、乾燥前のゲルネットワークの空隙率とほぼ同じで大きな値を示す。シリカゲルネットワークの収縮及びスプリングバック現象については、米国特許5,948,482号に詳細に記載されている。
有機修飾ナノポーラスシリカ膜は、加熱処理を行うことで膜中の溶媒や表面の水酸基等が除去され、シリカ粒子間の結合が強くなり耐擦傷性が向上する。加熱処理温度は150〜300℃が好ましい。加熱処理温度が300℃超であると、修飾した有機基が分解し充分な撥水効果が得られない。加熱処理温度が150℃以下であると、充分な膜強度の向上効果が得られない。また、加熱処理温度を基体のガラス転移温度より高くすると、基体が変形してしまうので、基体のガラス転移温度より100℃以上低くするのが好ましい。加熱処理時間は、加熱処理温度やナノポーラスシリカ膜の厚さ等にもよるが、10分〜4時間が好ましい。
実施例1
(1)有機修飾シリカ−チタニア含有湿潤ゲル分散物の調製
テトラメトキシシラン三量体11.0gと、テトライソプロポキシチタン2.8gとを均一に混合した後、0.1N塩酸0.4gを添加し3時間撹拌した。次にメタノール68gと0.05Nアンモニア水6.4gとを添加し1時間撹拌した後、120時間静置して湿潤ゲル分散物を得た。この湿潤ゲル分散物にエタノールを加え振とうし、デカンテーションすることにより分散媒をエタノールに置換した。その後、メチルイソブチルケトンを加えて振とうし、デカンテーションすることによりエタノール分散媒をメチルイソブチルケトンに置換した。得られたシリカ−チタニア湿潤ゲル分散物に、トリメチルクロロシランのメチルイソブチルケトン溶液(濃度5体積%)を加え、30時間撹拌して酸化ケイ素及び酸化チタン末端を有機修飾した。得られた有機修飾シリカ−チタニア湿潤ゲル分散物をメチルイソブチルケトンで洗浄後、1質量%に濃度調製し、超音波処理(20 kHz、500 W、120分間)を行い、有機修飾シリカ−チタニア含有湿潤ゲル分散物を得た。
実施例1の(1)で得られた有機修飾シリカ−チタニア含有湿潤ゲル分散物を、BK7ガラスからなる対物レンズ1(両面非球面レンズ、屈折率n=1.53、ガラス転移温度Tg=553℃)の第一の面11に、回転速度 2500 rpmでスピンコートし、室温で乾燥させ、チタニア含有有機修飾ナノポーラスシリカ膜を得た。乾燥中にゲルの収縮及びスプリングバックが起こったと考えられる。得られたチタニア含有有機修飾ナノポーラスシリカ膜を300℃で2時間加熱処理し、物理膜厚 d=129 nm、屈折率n=1.22のチタニア含有有機修飾ナノポーラスシリカ膜からなる反射防止膜を有する光学素子を得た。
BK7ガラスからなる対物レンズ1の代わりに、LAK14ガラスからなる対物レンズ1(両面非球面レンズ、屈折率n=1.70、ガラス転移温度Tg=668℃)を用いた以外は実施例1と同様にして、物理膜厚 d=130 nm、屈折率n=1.22のチタニア含有有機修飾ナノポーラスシリカ膜からなる反射防止膜を有する光学素子を得た。
テトラメトキシシラン三量体の代わりに、テトラエトキシシランを同重量で使用した以外は実施例1と同様にして、物理膜厚 d=128 nm、屈折率 n=1.23のチタニア含有有機修飾ナノポーラスシリカ膜からなる反射防止膜を有する光学素子を得た。
テトライソプロポキシチタンの代わりに、テトライソブトキシチタンを同重量で使用した以外は実施例1と同様にして、物理膜厚 d=132 nm、屈折率 n=1.23のチタニア含有有機修飾ナノポーラスシリカ膜からなる反射防止膜を有する光学素子を得た。
メチルイソブチルケトンの代わりにヘキサンを使用し、さらにトリメチルクロロシランのメチルイソブチルケトン溶液(濃度5体積%)の代わりに、ジエチルジクロロシランのヘキサン溶液(濃度5体積%)を使用して、超音波処理(20 kHz、500 W)の時間を240分間にした以外は実施例1と同様にして、物理膜厚 d=130 nm、屈折率 n=1.22のチタニア含有有機修飾ナノポーラスシリカ膜からなる反射防止膜を有する光学素子を得た。
LAK14ガラスからなる対物レンズ1(両面非球面レンズ、屈折率n=1.70、ガラス転移温度Tg = 668℃)の第一の面11に、電子ビーム式の真空蒸着装置を用いて、厚さ163 nmとなるようにMgF2(屈折率n=1.38)を蒸着した。MgF2層の上に実施例1と同様にして、物理膜厚 d=248 nm、屈折率 n=1.22のチタニア含有有機修飾ナノポーラスシリカ膜を形成した。得られた反射防止膜の層構成を表1に示す。
表2に示す物理膜厚になるように、電子ビーム式の真空蒸着装置を用いて、LAK14ガラスからなる対物レンズ1(両面非球面レンズ、屈折率n=1.70、ガラス転移温度Tg = 668℃)の第一の面11に、Al2O3層、SiO2層及びMgF2層を順に形成した。MgF2層の上に実施例1と同様にして、物理膜厚 d=285nm、屈折率 n=1.22のチタニア含有有機修飾ナノポーラスシリカ膜を形成した。
(1)有機修飾シリカ含有湿潤ゲル分散物の調製
テトラエトキシシラン5.21 gとエタノール4.38 gとを均一に混合した後、0.01N塩酸0.4 gを添加し90分間撹拌した。次にエタノール44.35 gと0.02Nアンモニア水0.5 gとを添加し、46時間撹拌した後60℃に昇温し、さらに46時間熟成して湿潤状態のシリカゲルを得た。この湿潤ゲル分散物の溶媒をデカンテーションによって除去した後、素早くエタノールを加えて振とうし、デカンテーションすることによりシリカ湿潤ゲル分散物の分散媒をエタノールに置換した。その後、ヘキサンを加えて振とうし、デカンテーションすることによりエタノール分散媒をヘキサンに置換した。
比較例1の(1)で得られた有機修飾シリカ含有湿潤ゲル分散物を、LAK14ガラスからなる対物レンズ1(両面非球面レンズ、屈折率n=1.70、ガラス転移温度Tg = 668℃)の第一の面11に、スピンコートし、室温で乾燥させ有機修飾ナノポーラスシリカ膜を得た。乾燥中に、ゲルの収縮及びスプリングバックが起こり、空隙率は41%の多孔質となった。得られた有機修飾ナノポーラスシリカ膜を150℃で2時間加熱処理し、有機修飾ナノポーラスシリカ膜を有する光学素子を得た。有機修飾ナノポーラスシリカ膜の物理膜厚は104 nmであり、屈折率は1.25であった。
電子ビーム式の真空蒸着装置を用いて、BK7ガラスからなる対物レンズ1(両面非球面レンズ、屈折率n=1.53、ガラス転移温度Tg=553)の第一の面11に、物理膜厚114 nmとなるようにMgF2(屈折率n=1.38)を蒸着した以外比較例1と同様にして、MgF2緻密膜を有する光学素子を作製した。
LAK14ガラスからなる対物レンズ1(両面非球面レンズ、屈折率n=1.70、ガラス転移温度Tg = 668℃)の第一の面11に、MgF2(屈折率n=1.38)を物理膜厚132 nmとなるように蒸着し、MgF2からなる緻密膜を有する光学素子を得た。
各光学素子の第一の面11側から、空気中で波長405 nmのレーザー光を照射し、光透過率(%)を測定した。
各光学素子をオレイン酸のメタノール溶液(10質量%)に1分間浸漬し、40℃で乾燥させオレイン酸を光学素子表面に付着させた。次に各光学素子の第一の面11側から波長405 nmのレーザー光を出力10mWで6時間照射し、光学素子の第一の面11側に付着したオレイン酸の光照射による分解量をIRで定量し、防汚性を評価した。
○・・・75%以上が分解
△・・・10%以上75%未満が分解
×・・・10%未満が分解
各光学素子の第一の面11側に呼気を吹きかけ、曇りの発生状況を観察し、以下の基準で評価した。
◎・・・全く曇らない。
○・・・曇りは発生するが、瞬時に消える。
△・・・曇りが発生し、しばらく消えない。
×・・・防曇性が全く認められない。
各光学素子の第一面11側の水に対する接触角を測定した。測定には、接触角計S-150(協和界面科学株式会社製)を用いた。さらに波長405 nmのレーザー光を各光学素子に出力10 mWで6時間照射した後の接触角も測定した。
11・・・第一の面
12・・・第二の面
110・・・第一の面の中心
2・・・反射防止膜
Fo・・・第一の面の中心に接する面
t・・・第一の面の任意の点
F・・・第一の面の任意の点に接する面
D0・・・レンズの中心における反射防止膜の物理膜厚
X・・・レンズ周辺部の点
DX・・・レンズ周辺部の点Xにおける反射防止膜の物理膜厚
E・・・レンズの有効径
θ・・・基板傾斜角度
θmax・・・最大基板傾斜角度
S・・・基板傾斜角度が50°以上の部分の投影面積
Claims (17)
- 基体表面に反射防止膜を有する光学素子であって、前記反射防止膜が少なくとも1層のナノポーラスシリカ膜を有し、前記ナノポーラスシリカ膜が有機修飾シリカと光触媒作用を有する金属酸化物とからなることを特徴とする光学素子。
- 請求項1に記載の光学素子において、前記有機修飾シリカと前記光触媒作用を有する金属酸化物は、ケイ素原子−酸素原子−金属原子の結合を形成していることを特徴とする光学素子。
- 請求項1又は2に記載の光学素子において、前記光触媒作用を有する金属酸化物は、TiO2、ZnO、WO3、ZrO2、Nb2O5及びSrTiO3からなる群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の光学素子において、前記有機修飾シリカはアルコキシシランの加水分解物の重縮合物を疎水化剤により修飾して得られたものであることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の光学素子において、前記ナノポーラスシリカ膜の屈折率は1.3以下であることを特徴とする光学素子。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の光学素子において、前記ナノポーラスシリカ膜は撥水効果と、光触媒作用によるセルフクリーニング効果を有することを特徴とする光学素子。
- ナノポーラスシリカ膜を有する反射防止膜を基体表面に有する光学素子を製造する方法であって、(a)アルコキシシラン及び金属アルコキシドの加水分解物を重縮合する工程、(b)得られた重縮合物からなるゾル及び/又は湿潤ゲル分散物を疎水化剤により有機修飾する工程、(c)有機修飾したゾル及び/又は湿潤ゲル分散物を超音波処理により分散する工程、(d)超音波処理したゾル及び/又は湿潤ゲル分散物を基体上に塗工する工程、及び(e)塗工膜を加熱処理する工程を有することを特徴とする光学素子の製造方法。
- 請求項7に記載の光学素子の製造方法において、前記加水分解物の重縮合により、ケイ素原子−酸素原子−金属原子の結合を形成することを特徴とする光学素子の製造方法。
- 請求項8に記載の光学素子の製造方法において、前記金属アルコキシドは光触媒作用を有する金属酸化物の前駆体であり、前記金属酸化物は、TiO2、ZnO、WO3、ZrO2、Nb2O5及びSrTiO3からなる群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする光学素子の製造方法。
- 請求項7〜9のいずれかに記載の光学素子の製造方法において、前記疎水化剤はシラノール基を修飾する化合物であることを特徴とする光学素子の製造方法。
- 請求項7〜10のいずれかに記載の光学素子の製造方法において、前記疎水化剤はシリル化剤であることを特徴とする光学素子の製造方法。
- 請求項7〜11のいずれかに記載の光学素子の製造方法において、前記アルコキシシラン及び前記金属アルコキシドの加水分解物を、酸系触媒を用いて重縮合した後、塩基系触媒を用いて重縮合し、前記重縮合物を得ることを特徴とする光学素子の製造方法。
- 請求項7〜12のいずれかに記載の光学素子の製造方法において、前記重縮合に用いる溶媒は、炭素数1〜6のアルコールを含有することを特徴とする光学素子の製造方法。
- 請求項13に記載の光学素子の製造方法において、前記溶媒は、メタノール、エタノール、n-プロパノール及びイソプロパノールからなる群から選ばれた少なくとも1種であることを特徴とする光学素子の製造方法。
- 請求項7〜14のいずれかに記載の光学素子の製造方法において、前記有機修飾したゾル及び/又は湿潤ゲル分散物を前記超音波処理により粒径が10〜200 nmの微粒子に分散する工程を有することを特徴とする光学素子の製造方法。
- 請求項15に記載の光学素子の製造方法において、前記超音波処理による分散工程の前に、前記有機修飾したゾル及び/又は湿潤ゲル分散物の分散媒を、酢酸エチル、メチルイソブチルケトン、エチルイソブチルケトン及びメチルエチルケトンからなる群から選ばれた少なくとも1種に置換することを特徴とする光学素子の製造方法。
- 請求項7〜16のいずれかに記載の光学素子の製造方法において、前記加熱処理を150〜300℃の温度で行うことを特徴とする光学素子の製造方法。
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