JP2007270098A - 高屈折率コーティング用組成物 - Google Patents
高屈折率コーティング用組成物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007270098A JP2007270098A JP2006101119A JP2006101119A JP2007270098A JP 2007270098 A JP2007270098 A JP 2007270098A JP 2006101119 A JP2006101119 A JP 2006101119A JP 2006101119 A JP2006101119 A JP 2006101119A JP 2007270098 A JP2007270098 A JP 2007270098A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultrafine particles
- refractive index
- coating
- coating composition
- titanium oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
高屈折率で分散性、耐光性、耐候性、透明性に優れた超微粒子、該超微粒子が水あるいは有機溶媒に分散してなるゾル液、及びそれを含んだ分散安定性、塗布適性に優れたコーティング用組成物、さらには樹脂あるいはガラスなどの透明基材などに塗布した際の耐光性、耐候性、透明性、耐擦傷性、表面硬度、耐磨耗性、耐熱性、帯電防止性、紫外線遮蔽性等が良好であり、且つ基材に形成した際に干渉縞の発生しないコーティング用組成物、コート膜、およびその製造法を提供する。
【解決手段】
屈折率が1.5〜2.8である、ルチル型酸化チタン超微粒子を核とし、特定の手法でケイ素酸化物からなる被覆層を設けた被覆型酸化物超微粒子を水または有機溶媒に分散してなるゾル液および当該超微粒子とマトリックス形成成分とを含むコーティング用組成物、それを用いてなるコート膜、およびコート膜が施された基材である。
【選択図】 なし
Description
[1] 少なくとも下記の(A)および(B)を主成分とするコーティング用組成物。
(A)屈折率が1.5〜2.8であるルチル型結晶構造の酸化チタンを含有する無機酸化物超微粒子を核(a)とし、ケイ素酸化物を含む被覆層(b)から構成される無機酸化物被覆層を有する被覆型無機酸化物超微粒子
(B)有機ケイ素化合物、その加水分解物及びその縮合物の中から選択される一種以上、または樹脂あるいは樹脂モノマー一種以上、または光硬化型モノマー一種以上
[2] 前記核(a)のルチル型結晶構造の酸化チタンを含有する無機酸化物超微粒子中のルチル型酸化チタン超微粒子が、
チタンに対するスズのモル比(Sn/Ti)が0.001〜2のスズ化合物共存下、Ti濃度が0.07〜5mol/lのチタン化合物水溶液をpHが−1〜3の範囲で反応させて得られ、Sn/Ti組成モル比が0.001〜0.5であるスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子であり、
前記(b)のケイ素酸化物を含む被覆層が、二層被覆型であって、内層が(1)の工程、外層が(2)の工程によって得られる被覆層を有し、核微粒子に対するケイ素酸化物被覆層の重量比がSiO2換算で0.001〜20であることを特徴とする被覆型無機酸化物超微粒子である[1]記載のコーティング用組成物。
(1)核(b)に対する重量比がSiO2換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH<7の条件下で、核(a)と反応させる工程
(2)核(b)に対する重量比がSiO2換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH≧7の条件下で、(1)で得られた被覆超微粒子と反応させる工程。
[3] 前記被覆型無機酸化物超微粒子の結晶径の短軸、長軸が2〜20nmである[1]または[2]記載のコーティング用組成物。
[4] 前記被覆型無機酸化物超微粒子からなる凝集体の平均凝集粒子径が、10〜100nmである[1]〜[3]の何れかに記載のコーティング用組成物。
[5] 前記被覆型無機酸化物超微粒子が、水あるいは有機溶媒に分散してなるゾルを用いることを特徴とする[1]〜[4]の何れかに記載のコーティング用組成物。
[6] 前記の被覆型無機酸化物超微粒子の表面が有機ケイ素化合物またはアミン類で処理されていることを特徴とする[1]〜[5]の何れかに記載のコーティング用組成物。
[7] [1]〜[6]記載のコーティング用組成物を用いて硬化して得られるハードコート膜。
[8] 屈折率が1.5〜2.8である[7]記載のハードコート膜。
[9] [7]または[8]記載のハードコート膜が施された基材。
[10] [1]〜[6]記載のコーティング用組成物を用いて硬化して得られるプライマー膜。
[11] 屈折率が1.5〜2.8である[10]記載のプライマー膜。
[12] [10]または[11]記載のプライマー膜が施された基材。
[13] [10]または[11]に記載のプライマー膜の上に[7]または[8]に記載のハードコート膜が施されてなる基材。
[14] 基材の屈折率が1.5〜2.8である[9]、[12]または[13]の何れかに記載の基材。
[15] [9]、[12]、[13]または[14]の何れかに記載の基材上にさらに反射防止膜を施してなる基材。
に関するものである。
(A)屈折率が1.5〜2.8であるルチル型結晶構造の酸化チタンを含有する無機酸化物超微粒子を核(a)とし、ケイ素酸化物を含む被覆層(b)から構成される無機酸化物被覆層を有する被覆型無機酸化物超微粒子
(B)有機ケイ素化合物、その加水分解物及びその縮合物の中から選択される一種以上、または樹脂あるいは樹脂モノマー一種以上、または光硬化型モノマー一種以上
前記核(a)のルチル型結晶構造の酸化チタンを含有する無機酸化物超微粒子中のルチル型酸化チタン超微粒子が、
チタンに対するスズのモル比(Sn/Ti)が0.001〜2のスズ化合物共存下、Ti濃度が0.07〜5mol/lのチタン化合物水溶液をpHが−1〜3の範囲で反応させて得られ、Sn/Ti組成モル比が0.001〜0.5であるスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子であり、
前記(b)のケイ素酸化物を含む被覆層が、二層被覆型であって、内層が(1)の工程、外層が(2)の工程によって得られる被覆層を有し、核微粒子に対するケイ素酸化物被覆層の重量比がSiO2換算で0.001〜20であることを特徴とする被覆型無機酸化物超微粒子である、コーティング用組成物、である。
(1)核(b)に対する重量比がSiO2換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH<7の条件下で、核(a)と反応させる工程
(2)核(b)に対する重量比がSiO2換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH≧7の条件下で、(1)で得られた被覆超微粒子と反応させる工程。
(1)核(a)に対する重量比がSiO2換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH<7の条件下で、核(a)と反応させる工程
(2)核(a)に対する重量比がSiO2換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH≧7の条件下で、(1)で得られた被覆超微粒子と反応させる工程
まず、核微粒子即ち核(a)と、核(a)に対する重量比がSiO2換算で0.001〜10となるケイ素酸化物を、pH<7の条件下で反応させる。
工程(1)で得られた被覆超微粒子あるいはゾル液を必要に応じて解こうした後、続いて、(1)で得られた被覆超微粒子と、核(a)に対する重量比がSiO2換算で0.001〜10となるケイ素酸化物を、pH≧7の条件下で反応させる。
Si(OR3)4 (2)
(式中、R1、R2はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、ビニル基、アリル基、アシル基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、メルカプト基、アミノ基またはエポキシ基等を有する有機基であり、Si−C結合によりケイ素と結合するものである。R3は炭素数1〜8のアルキル基、アルコキシアルキル基またはアシル基等の有機基である。)
(式中、R1、R2はアルキル基、ハロゲン化アルキル基、ビニル基、アリル基、アシル基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、メルカプト基、アミノ基またはエポキシ基等を有する有機基であり、Si−C結合によりケイ素と結合するものである。R3は炭素数1〜8のアルキル基、アルコキシアルキル基またはアシル基等の有機基である。)
(式中、R3は炭素数1〜8のアルキル基、アルコキシアルキル基またはアシル基等の有機基である。)
[製造例1]
四塩化スズ五水和物0.27gを100mlナス型フラスコに仕込み、イオン交換水50mlに溶解し、酸化塩化チタンの塩酸水溶液(Ti 15重量%含有)5mlを加えた。溶液のpHは−0.1であった。(仕込みTi濃度=0.45、Sn/Ti=0.03)マグネチックスターラーで攪拌し、50℃で1時間加熱したところ、白色の沈殿を得た。遠心分離を行い、白色沈殿を回収、イオン交換水に再分散させた。限外ろ過を行い、固形分2重量%のゾル液を得た。この固形分の粉末X線回折測定、電子顕微鏡観察を行った。120℃で2時間熱風乾燥を行った後に粉末X線回折測定を行ったところ、酸化チタンルチル型であった。結晶径は回折ピークの半値幅からDebye−Sherrerの式を用いて計算した。その結果、結晶径が平均それぞれ短軸5nm、長軸8nmであった。電子顕微鏡観察は透過型電子顕微鏡を用い、メッシュに希薄ゾル液を滴下したものを倍率20万倍、200万倍で観察した。その結果、平均凝集粒子径が23nmのルチル型酸化チタンであった。誘導結合プラズマ法分析によるSn/Tiの元素モル比は0.02であった。
上記固形分の2.0重量%ゾル液10gをとり、ポリビニルピロリドン200mgを加え、さらにイオン交換水10gを加えたものを石英基板にスピンコートし、120℃で乾燥後、すみやかにエリプソメーターで屈折率を測定した。含有される固形分の体積分率から固形分の屈折率を評価し、n=2.72を得た。
製造例1で四塩化スズ五水和物を0.9g用いた以外は製造例1と同様に実施し、た。(仕込みTi濃度=0.45、Sn/Ti=0.1)得られたゾル液の固形分を製造例1と同様に分析したところSn/Tiの元素モル比は0.06であった。結晶径が平均それぞれ短軸5nm、長軸8nmで、平均凝集粒子径が20nmのルチル型酸化チタンであった。同様に固形分の屈折率を評価し、n=2.65を得た。被覆層/微粒子の重量比は0.13/1であった。
[比較製造例1]
四塩化スズ五水和物を添加しない以外は製造例1と同様に実施した。得られた白色沈殿は再分散しなかった。同様に分析したところ、凝集粒子径200nm以上のルチル型酸化チタンであった。ロータリーエバポレーターによりメタノールへ溶媒を置換、濃縮し、20重量%濃度にしたが、ゲル化、沈殿が生じた。
[比較製造例2]
イオン交換水2Lに酸化塩化チタンの塩酸水溶液(Ti含有率15重量%)20mlを加え、60℃で6時間加熱した。室温まで冷却した後、限外ろ過により濃縮、脱イオン処理を行い、固形分2重量%ゾル液とした。得られたゾル液の固形分を製造例1と同様に分析したところ、結晶径が短軸、長軸共に平均5nmのアナターゼ型酸化チタンであった。ロータリーエバポレーターによりメタノールへ溶媒を置換、濃縮し、20重量%メタノール分散ゾル液とした。
[比較製造例3]
イオン交換水2Lに酸化塩化チタンの塩酸水溶液(Ti含有率15重量%)20mlを加え、60℃で6時間加熱した。酸化塩化ジルコニウム八水和物32gを溶解した水溶液50gを滴下し、90℃に昇温し、1時間加熱した。室温まで冷却した後、限外ろ過を行った。室温まで冷却した後、限外ろ過により濃縮、脱イオン処理を行い、2重量%ゾル液とした。得られたゾル液の固形分を実施例1と同様に分析したところ、結晶径が短軸、長軸共に平均5nmのアナターゼ型酸化チタンであった。ジルコニウム酸化物被覆アナターゼ型酸化チタン超微粒子の組成は酸化物換算で酸化ジルコニウム/酸化チタン重量比=0.85/1であった。ロータリーエバポレーターによりメタノールへ溶媒を置換、濃縮し、20重量%メタノール分散ゾル液とした。
市販の五酸化アンチモン超微粒子ゾル液を20重量%メタノール分散ゾル液とした。
比較製造例1で調製したゾル液を用いた以外は、実施例1と同様にしてハードコート膜を作成した。
比較製造例2で調製したゾル液を用いた以外は、実施例1と同様にしてハードコート膜を作成した。
比較製造例3で調製したゾル液を用いた以外は、実施例1と同様にしてハードコート膜を作成した。
比較製造例4で調製したゾル液を用いた以外は、実施例1と同様にしてハードコート膜を作成した。
○… 干渉縞がほとんど見えない。
△… 少し見える
×… かなり見える
○… ほとんど傷がつかない
△… 少し傷がつく
×… ひどく傷がつく
○… 剥がれなし(25/25)
×… 剥がれあり(24/25以下)
○… ほとんど傷がつかない
△… 少し傷がつく
×… ひどく傷がつく
○… 変化しない
△… 増粘した
×… ゲル化した
Claims (15)
- 少なくとも下記の(A)および(B)を主成分とするコーティング用組成物。
(A)屈折率が1.5〜2.8であるルチル型結晶構造の酸化チタンを含有する無機酸化物超微粒子を核(a)とし、ケイ素酸化物を含む被覆層(b)から構成される無機酸化物被覆層を有する被覆型無機酸化物超微粒子
(B)有機ケイ素化合物、その加水分解物及びその縮合物の中から選択される一種以上、または樹脂あるいは樹脂モノマー一種以上、または光硬化型モノマー一種以上 - 前記核(a)のルチル型結晶構造の酸化チタンを含有する無機酸化物超微粒子中のルチル型酸化チタン超微粒子が、
チタンに対するスズのモル比(Sn/Ti)が0.001〜2のスズ化合物共存下、Ti濃度が0.07〜5mol/lのチタン化合物水溶液をpHが−1〜3の範囲で反応させて得られ、Sn/Ti組成モル比が0.001〜0.5であるスズ修飾ルチル型酸化チタン超微粒子であり、
前記(b)のケイ素酸化物を含む被覆層が、二層被覆型であって、内層が(1)の工程、外層が(2)の工程によって得られる被覆層を有し、核微粒子に対するケイ素酸化物被覆層の重量比がSiO2換算で0.001〜20であることを特徴とする被覆型無機酸化物超微粒子である請求項1記載のコーティング用組成物。
(1)核(b)に対する重量比がSiO2換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH<7の条件下で、核(a)と反応させる工程
(2)核(b)に対する重量比がSiO2換算で0.001〜10となるケイ素酸化物をpH≧7の条件下で、(1)で得られた被覆超微粒子と反応させる工程。 - 前記被覆型無機酸化物超微粒子の結晶径の短軸、長軸が2〜20nmである請求項1または2記載のコーティング用組成物。
- 前記被覆型無機酸化物超微粒子からなる凝集体の平均凝集粒子径が、10〜100nmである請求項1〜3の何れかに記載のコーティング用組成物。
- 前記被覆型無機酸化物超微粒子が、水あるいは有機溶媒に分散してなるゾルを用いることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載のコーティング用組成物。
- 前記の被覆型無機酸化物超微粒子の表面が有機ケイ素化合物またはアミン類で処理されていることを特徴とする請求項1〜5の何れかに記載のコーティング用組成物。
- 請求項1〜6記載のコーティング用組成物を用いて硬化して得られるハードコート膜。
- 屈折率が1.5〜2.8である請求項7記載のハードコート膜。
- 請求項7または8記載のハードコート膜が施された基材。
- 請求項1〜6記載のコーティング用組成物を用いて硬化して得られるプライマー膜。
- 屈折率が1.5〜2.8である請求項10記載のプライマー膜。
- 請求項10または11記載のプライマー膜が施された基材。
- 請求項10または11に記載のプライマー膜の上に請求項7または8に記載のハードコート膜が施されてなる基材。
- 基材の屈折率が1.5〜2.8である請求項9、12または13の何れかに記載の基材。
- 請求項9、12、13または14の何れかに記載の基材上にさらに反射防止膜を施してなる基材。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006101119A JP2007270098A (ja) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | 高屈折率コーティング用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006101119A JP2007270098A (ja) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | 高屈折率コーティング用組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007270098A true JP2007270098A (ja) | 2007-10-18 |
Family
ID=38673213
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006101119A Pending JP2007270098A (ja) | 2006-03-31 | 2006-03-31 | 高屈折率コーティング用組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007270098A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009244865A (ja) * | 2008-03-13 | 2009-10-22 | Seiko Epson Corp | プラスチックレンズ |
JP2010042947A (ja) * | 2008-08-11 | 2010-02-25 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 酸化チタン系複合粒子の分散液および該分散液の製造方法 |
JP2010091995A (ja) * | 2008-01-28 | 2010-04-22 | Seiko Epson Corp | 光学物品および光学物品の製造方法 |
JP2010095392A (ja) * | 2008-10-14 | 2010-04-30 | Mitsui Chemicals Inc | 有機シロキサンオリゴマー修飾無機酸化物超微粒子 |
JP2011132484A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-07-07 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 高屈折率金属酸化物微粒子を含む水分散ゾルの調製方法、該方法から得られる水分散ゾルおよび前記微粒子を含む有機溶媒分散ゾル並びに塗料組成物 |
JP2012077267A (ja) * | 2010-10-06 | 2012-04-19 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 紫外線遮蔽性シリコーンコーティング組成物及び被覆物品 |
CN103305121A (zh) * | 2013-06-26 | 2013-09-18 | 关锦池 | 一种外墙涂料 |
JP2014151266A (ja) * | 2013-02-08 | 2014-08-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | コロイド溶液の濃縮方法及び濃厚コロイド溶液 |
WO2015005333A1 (ja) * | 2013-07-11 | 2015-01-15 | 日産化学工業株式会社 | 高屈折率膜形成組成物 |
WO2021200135A1 (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-07 | 日揮触媒化成株式会社 | ジルコニア被覆酸化チタン微粒子の製造方法、ジルコニア被覆酸化チタン微粒子およびその用途 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006001487A1 (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-05 | Mitsui Chemicals, Inc. | スズ修飾ルチル型酸化チタン微粒子 |
JP2007272156A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Mitsui Chemicals Inc | 高屈折率硬化膜 |
-
2006
- 2006-03-31 JP JP2006101119A patent/JP2007270098A/ja active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006001487A1 (ja) * | 2004-06-29 | 2006-01-05 | Mitsui Chemicals, Inc. | スズ修飾ルチル型酸化チタン微粒子 |
JP2007272156A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Mitsui Chemicals Inc | 高屈折率硬化膜 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010091995A (ja) * | 2008-01-28 | 2010-04-22 | Seiko Epson Corp | 光学物品および光学物品の製造方法 |
JP2009244865A (ja) * | 2008-03-13 | 2009-10-22 | Seiko Epson Corp | プラスチックレンズ |
JP2010042947A (ja) * | 2008-08-11 | 2010-02-25 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 酸化チタン系複合粒子の分散液および該分散液の製造方法 |
JP2010095392A (ja) * | 2008-10-14 | 2010-04-30 | Mitsui Chemicals Inc | 有機シロキサンオリゴマー修飾無機酸化物超微粒子 |
JP2011132484A (ja) * | 2009-11-30 | 2011-07-07 | Jgc Catalysts & Chemicals Ltd | 高屈折率金属酸化物微粒子を含む水分散ゾルの調製方法、該方法から得られる水分散ゾルおよび前記微粒子を含む有機溶媒分散ゾル並びに塗料組成物 |
JP2012077267A (ja) * | 2010-10-06 | 2012-04-19 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 紫外線遮蔽性シリコーンコーティング組成物及び被覆物品 |
JP2014151266A (ja) * | 2013-02-08 | 2014-08-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | コロイド溶液の濃縮方法及び濃厚コロイド溶液 |
CN103305121A (zh) * | 2013-06-26 | 2013-09-18 | 关锦池 | 一种外墙涂料 |
WO2015005333A1 (ja) * | 2013-07-11 | 2015-01-15 | 日産化学工業株式会社 | 高屈折率膜形成組成物 |
WO2021200135A1 (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-07 | 日揮触媒化成株式会社 | ジルコニア被覆酸化チタン微粒子の製造方法、ジルコニア被覆酸化チタン微粒子およびその用途 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPWO2006001487A1 (ja) | スズ修飾ルチル型酸化チタン微粒子 | |
JP4749200B2 (ja) | 高屈折率樹脂組成物 | |
JP2007270098A (ja) | 高屈折率コーティング用組成物 | |
JP4749201B2 (ja) | 半導体発光素子封止用組成物 | |
KR101907882B1 (ko) | 이산화규소-산화제2주석 복합산화물 피복 산화티탄 함유 금속 산화물 입자 | |
TWI428282B (zh) | 金屬氧化物複合溶膠,塗佈組成物及光學構件 | |
KR101437200B1 (ko) | 표면 피복된 이산화티탄졸, 그 제조법 및 그것을 포함한 코팅 조성물 | |
JP4792320B2 (ja) | 高屈折率硬化膜 | |
JP4673664B2 (ja) | コーティング用高屈折率樹脂組成物 | |
TWI411580B (zh) | 氧化鋯一氧化錫之複合物溶膠、塗佈組成物及光學構件 | |
TWI433816B (zh) | 改性金屬氧化物複合溶膠,塗覆組成物及光學構件 | |
WO2014061606A1 (ja) | 防汚性反射防止膜、物品およびその製造方法 | |
JP2006342311A (ja) | 高屈折率薄膜 | |
JP5070180B2 (ja) | 有機シロキサンオリゴマー修飾無機酸化物超微粒子 | |
JP4906361B2 (ja) | 無機酸化物超微粒子およびその製造法 | |
JP2004018311A (ja) | アモルファス酸化ジルコニウムで被覆された酸化チタン超微粒子およびその製造方法 | |
JP3031571B2 (ja) | ハードコート膜およびハードコート膜付基材 | |
JP6080583B2 (ja) | 表面改質無機複合酸化物微粒子、その製造方法、該微粒子を含む分散液、光学基材用塗布液、光学基材用塗膜および塗膜付基材 | |
JP6253484B2 (ja) | 塗料組成物、ハードコート層およびハードコート層付き光学基材ならびにこれらの製造方法 | |
JP2007093893A (ja) | 光学部品 | |
JPWO2020105405A1 (ja) | 反応性シリコーン組成物およびその硬化物 | |
JP5432430B2 (ja) | 透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材 | |
JP4641212B2 (ja) | 複合酸化物超微粒子およびその製造法 | |
JPH11286622A (ja) | コーティング組成物及びコーティング組成物が塗布された成形体及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080708 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20080911 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110912 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110920 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120619 |