JP2017002408A5 - - Google Patents

Claims (21)

1. 金属層が積層され、かつ蒸着作製するパターンに対応した開口部が設けられた樹脂マスクを含む蒸着マスクを製造するにあたり、蒸着作製するパターンに対応した前記樹脂マスクの開口部をレーザーによって形成する際に用いられるレーザー用マスクであって、
   当該レーザー用マスクは、
   前記開口部に対応する開口領域と、
   当該開口領域の周囲に位置し、照射されるレーザーのエネルギーを減衰させる減衰領域と、
   を含むことを特徴とするレーザー用マスク。
2. 前記減衰領域におけるレーザーの透過率が５０％以下であることを特徴とする請求項１に記載のレーザー用マスク。
3. 前記減衰領域に、２以上の貫通溝が同心状で配置されていることを特徴とする請求項１に記載のレーザー用マスク。
4. 前記減衰領域に、２以上の貫通溝が斜めのストライプ状で配置されていることを特徴とする請求項１または２に記載のレーザー用マスク。
5. 前記減衰領域に、２以上の貫通孔が配置されていることを特徴とする請求項１に記載のレーザー用マスク。
6. 前記減衰領域に、貫通溝および貫通孔の両方が配置されていることを特徴とする請求項１に記載のレーザー用マスク。
7. 前記開口領域に、貫通孔が配置されており、
   前記減衰領域に、貫通溝または／および貫通孔が配置されており、
   前記開口領域の貫通孔と前記減衰領域の前記貫通溝または／および前記貫通孔とが、連続していることを特徴とする請求項１に記載のレーザー用マスク。
8. 前記減衰領域の幅をＤ、レーザー加工装置の光学系の縮小率をａ倍としたときに、Ｄ／ａの値が、１μｍよりも大きくかつ２０μｍよりも小さいことを特徴とする請求項１に記載のレーザー用マスク。
9. 前記減衰領域の幅をＤ、前記Ｄの１／３の幅をＬとしたときに、前記開口領域および前記減衰領域の境界線と前記境界線からＬの１／２の幅だけ離れた線とに挟まれた領域におけるレーザーの透過率が、前記境界線からＬの１／２の幅だけ離れた線から前記境界線からＬの２／２の幅だけ離れた線とに囲まれた領域におけるレーザーの透過率よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載のレーザー用マスク。
10. 前記減衰領域に、貫通溝または／および貫通孔が配置されており、前記貫通溝または／および前記貫通孔の開口の幅が、レーザーの解像度とレーザー加工装置の光学系の縮小率との積の値よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載のレーザー用マスク。
11. 前記減衰領域に、貫通していない溝または／および貫通していない孔が配置されていることを特徴とする請求項１に記載のレーザー用マスク。
12. 前記開口領域に、貫通していない孔が配置されていることを特徴とする請求項１に記載のレーザー用マスク。
13. 前記減衰領域に、レーザーのエネルギーを減衰する塗料が塗布されていることを特徴とする請求項１に記載のレーザー用マスク。
14. 前記蒸着マスクを前記樹脂マスクの金属層が積層されている側の面が上を向くように配置したときに、前記樹脂マスクが、断面形状が全体として上側に凸の弧状である開口部を有することを特徴とする請求項１に記載のレーザー用マスク。
15. 前記蒸着マスクを前記樹脂マスクの金属層が積層されている側の面が上を向くように配置したときに、前記樹脂マスクが、断面形状が全体として下側に凸の弧状である開口部を有することを特徴とする請求項１に記載のレーザー用マスク。
16. 前記蒸着マスクが、複数画面分の蒸着パターンを同時に形成するために用いられることを特徴とする請求項１から請求項１５のいずれか一項に記載のレーザー用マスク。
17. 少なくとも１画面分の蒸着パターンに対応した前記樹脂マスクの開口部が、前記金属層における金属層開口部の１つと重なっていることを特徴とする請求項１から請求項１５のいずれか一項に記載のレーザー用マスク。
18. 蒸着作製するパターンに対応した前記樹脂マスクの開口部の全てが、前記金属層における金属層開口部の１つと重なっていることを特徴とする請求項１から請求項１５のいずれか一項に記載のレーザー用マスク。
19. 金属層が積層され、かつ蒸着作製するパターンに対応した開口部が設けられた樹脂マスクを含む蒸着マスクの製造方法であって、
    金属層が積層された樹脂層の金属層側から前記金属マスク層側からレーザーを照射し、前記樹脂層に蒸着作製するパターンに対応した開口部を形成する工程と、を含み、
    前記開口部を形成する工程においては、前記請求項１〜１８の何れか一項に記載のレーザー用マスクを用いることで、
    前記開口領域を通過するレーザーにより、樹脂層に対して蒸着作製するパターンに対応した開口部を形成するとともに、前記減衰領域を通過するレーザーにより、前記樹脂層の開口部の周囲に薄肉部を形成する、
    ことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。
20. 金属層が積層され、かつ蒸着作製するパターンに対応した開口部が設けられた樹脂マスクを含む蒸着マスクを製造するための蒸着マスク製造装置であって、
    当該蒸着マスク製造装置は、
    金属層が積層された樹脂層に対して、当該金属層側からレーザーを照射し、前記樹脂層に蒸着作製するパターンに対応した開口部を形成する開口部形成機を含み、
    当該開口部形成機においては、前記請求項１〜１８の何れか一項に記載のレーザー用マスクが用いられ、
    前記開口領域を通過するレーザーにより、樹脂層に対して蒸着作製するパターンに対応した開口部が形成されるとともに、前記減衰領域を通過するレーザーにより、前記樹脂層の開口部の周囲に薄肉部が形成される、
    ことを特徴とする蒸着マスク製造装置。
21. 有機半導体素子の製造方法であって、
    蒸着マスクを用いて蒸着対象物に蒸着パターンを形成する蒸着パターン形成工程を含み、
    当該蒸着パターン形成工程においては、前記請求項１９に記載の蒸着マスクの製造方法によって製造された蒸着マスクが用いられることを特徴とする有機半導体素子の製造方法。