JP6410484B2 - 蒸着用マスク組立体 - Google Patents

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Description

本発明は、蒸着用マスク組立体に関するものである。
表示装置、特に有機発光表示装置は、基板上に薄膜を蒸着して製造される。現在、表示装置の薄膜を蒸着することに使用される蒸着用マスク組立体は、通常、フォトリソグラフィ法を適用したエッチング法、及びフォトリソグラフィ法と電気分解法を利用した電鋳法を利用して製作される。このような蒸着用マスク組立体は、蒸着対象物、即ち、表示素子が形成される基板に配置し、蒸着マスクを通じて蒸着物を基板に提供することによって、所望の形態のパターンを基板上に蒸着する。
一般に、マスク組立体は、マスクとマスクフレームを溶接して固定するが、マスク上側に溶接ビード(weld bead)が突出して形成される。これにより、蒸着工程時に基板をマスクの上側面に密着させると、突出した溶接ビードによって基板が損傷する問題が発生する。
また、マスクとマスクフレームを溶接する過程で、溶接破片が飛び散ってマスク上に存在する蒸着用パターンを損傷させる問題が発生する。
本発明の一実施形態は、マスクの上側面に突出した溶接ビードによってマスクの上側面に密着する基板の損傷を防止し、マスクとマスクフレームの溶接によってマスクに形成された蒸着用パターンが損傷するのを防止できる蒸着用マスク組立体を提供することに目的がある。
本発明の一実施形態による蒸着用マスク組立体は、蒸着パターンが形成されたマスクと、前記マスクの周縁が固定されるとともに、中央に開口部が形成されたマスクフレームと、を含み、互いに対向する前記マスクの前記周縁に形成された第1面と、前記開口部に隣接した前記マスクフレームの第1面とが互いに溶接される。
このとき、前記マスクフレームの前記第1面を貫く複数の溶接孔が形成されてもよい。
このとき、前記複数の溶接孔は、前記開口部の周りに沿って形成されてもよい。
このとき、前記開口部は、四角形状に形成してもよい。
このとき、前記マスクフレームは、前記マスクフレームの前記第1面から下方に延長された第2面をさらに含んでもよい。
このとき、前記第2面は、前記開口部の周りに沿って閉曲線を形成してもよい。
このとき、前記マスクフレームは、前記マスクフレームの前記第2面と対向する第3面をさらに含んでもよい。
このとき、前記第3面は、前記第2面の外側に形成されてもよい。
このとき、互いに対向する前記第2面及び第3面の間に溶接棒が挿入される溶接棒挿入溝が形成されてもよい。
本発明の一実施形態による蒸着用マスク組立体は、マスクの上側面に突出した溶接ビードによる基板の損傷を防止し、マスクとマスクフレームの溶接によるマスクに形成された蒸着用パターンの損傷を防止することができる。
本発明の一実施形態による蒸着用マスク組立体の平面図である。 本発明の一実施形態による蒸着用マスク組立体の側面図である。 図2に示されたマスクとマスクフレームの結合過程を示す。 図2に示されたマスクとマスクフレームの結合過程を示す。 図2に示されたマスクとマスクフレームの結合過程を示す。 本発明の一実施形態による蒸着用マスク組立体を利用して蒸着工程を行う状態図である。
以下、添付した図面を参照しながら、本発明の実施形態について本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。本発明は種々の異なる形態に実現でき、ここで説明する実施形態に限られない。図面において、本発明を明確に説明するために説明上不必要な部分は省略し、明細書の全体にわたって同一または類似する構成要素に対しては同一の参照符号を付けた。
また、図面において、各構成の大きさ及び厚さは、説明の便宜のために任意で示したので、本発明が必ずしも示されたものに限られることではない。
図面における種々の層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。また、図面において、説明の便宜のために、一部層及び領域の厚さを誇張して示した。層、膜、領域、板などの部分が他の部分「の上」に、または「上」にあるというとき、これは他の部分の「すぐ上」にある場合だけでなく、その中間に他の部分がある場合も含み、必ずしも重力方向を基準として上側に位置するのを意味することではない。
また、明細書の全体において、ある部分がある構成要素を「含む」というとき、これは特に反対になる記載がない限り、他の構成要素を除くことではなく、他の構成要素をさらに含んでもよいことを意味する。
図1及び図2を参照すれば、本発明の一実施形態による蒸着用マスク組立体は、マスク組立体の製造過程でマスクに形成された蒸着パターンの損傷を防止し、マスクとマスクフレームを互いに溶接する溶接ビード(weld bead)による蒸着対象物である基板の損傷を防止することができる。
本発明の一実施形態による蒸着用マスク組立体は、マスク100と、マスクフレーム200とを含む。
図1を参照すれば、マスク100は四角の板状であってもよい。しかし、マスク100の形状はこれに限定されず、多様な形状にしてもよい。
このとき、マスク100には蒸着パターン110が形成される。蒸着パターン110は、マスク表面を貫く複数の開口が一定の形態でマスク表面に形成されたものである。微細蒸着物が前記蒸着パターンを貫いて蒸着対象物の基板に蒸着されることによって、基板に所望の形態のパターンで薄膜が形成される。
このとき、マスク100の周縁120はマスクフレーム200に固定される。蒸着工程中マスク100に形成された蒸着パターン110が動かないように、マスク100はマスクフレーム200に固く固定される。
本発明の一実施形態によれば、マスク100の周縁120に形成された第1面121が、マスクフレーム200の第1面231に結合する。さらに詳細には、マスク100の周縁120の第1面121が、前記マスク100の周縁120の第1面121と互いに対向するマスクフレーム200の第1面231に結合する。
マスク100の周縁120は、溶接によってマスクフレーム200に結合する。本発明の一実施形態によれば、マスク100の周縁120の第1面121がマスクフレーム200の第1面231に溶接される。
このとき、マスクフレーム200にはマスクフレーム200の第1面231に沿って複数の溶接孔210が形成される。
図3及び図4を参照すれば、複数の溶接孔210は、マスクフレーム200の第1面231を貫いて形成される。マスクフレーム200の下方で溶接棒600を利用して、複数の溶接孔210を通じて露出されるマスク100の周縁120の第1面121を溶接する。
このとき、図2に示されているように、溶接によって発生する溶接ビード300がマスクフレーム200の下方に突出する。
図1及び図2を参照すれば、マスクフレーム200は四角の枠形状に形成されてもよい。即ち、マスクフレーム200は、中央に四角形状の開口部130が形成された枠形状であってもよい。
このとき、マスクフレーム200の開口部を通じてマスク100の蒸着パターン110が露出されるように、マスク100の周縁120がマスクフレーム200に固定される。即ち、マスク100の周縁120が開口部130の周縁230に固定される。
図2を参照すれば、マスクフレーム200にはマスクフレーム200の第1面231から下方に延長された第2面232が形成される。
マスクフレーム200の第2面232は、溶接時発生する火花によって蒸着パターン110が損傷するのを防止する。即ち、マスクフレーム200の第2面232は、溶接火花が蒸着パターン110に飛散するのを防止する障壁(fence)の役割を果たす。
さらに詳細には、溶接時発生する溶接火花が、マスクフレーム200の開口部130を通じてマスク100の蒸着パターン110に飛散するのを防止することができる。
このとき、マスクフレーム200の第2面232は、開口部130の周りに沿って閉曲線を形成してもよい。さらに詳細には、第2面232は開口部130の周りを取り囲むように形成され、これによって溶接火花が開口部130を通じて蒸着パターン110に飛散するのを防止することができる。
一方、本発明の一実施形態によれば、マスクフレーム200は、前記第2面232と互いに対向する第3面233をさらに含んでもよい。このとき、第3面233は第2面232の外側に形成される。
そして、第3面233は、第2面232と同様に、第2面232の周りに沿って閉曲線を形成してもよい。
図2に示されているように、第2面232と第3面233とが互いに対向することによって、溶接棒600が投入される溶接棒挿入溝220が形成される。
溶接棒挿入溝220が形成されると、溶接時発生する溶接火花などがマスクフレーム200の側面方向、即ち、外側方向に飛散するのを防止することができる。
このとき、溶接棒挿入溝220は、複数の溶接孔210と平行に形成されてもよい。そして、溶接棒挿入溝220は、図2に示されているように、一定の深さを有するように形成される。溶接棒挿入溝220は、溶接棒から発生する火花などがマスク100の蒸着パターン110に飛散しないほどの深さを有する。
図3乃至図5を参照すれば、マスク100がマスクフレーム200に固定される過程が分かる。
図3及び図4において、マスク100の周縁120がマスクフレーム200の開口部の周縁230上側に位置する。
次に、図5に示されているように、溶接孔210を通じた溶接によって、マスク100の周縁120の第1面121と、開口部130の第1面231とが互いに結合する。
このとき、マスク100の第1面121を溶接することによって、溶接ビード300がマスク100の下方に突出する。即ち、図6に示されているように、基板400と接触するマスク100の上側面と反対方向に溶接ビード300が突出する。
図6を参照すれば、基板に薄膜を形成する過程は、基板400をマスク100の上側面に接触させて、マスク100下方で蒸着装置500から出てきた微細な蒸着物質を基板400上に蒸着させて行われる。
このとき、基板400とマスク100の上側面との間に溶接ビード300が存在しないので、溶接ビード300による基板の損傷を防止することができる。
本発明の一実施形態による蒸着用マスク組立体は、マスク100とマスクフレーム200を溶接する溶接ビードがマスク100の下方に突出して、蒸着過程における基板の損傷を防止することができ、溶接時発生する火花などによるマスク100の蒸着パターン120の損傷を防止することができる。
以上、本発明は限定された実施形態と図面を通じて説明されたが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者によって、本発明の技術思想と特許請求の範囲の均等範囲内で多様な修正及び変形が可能である。
100 マスク、
110 蒸着パターン、
120 周縁、
121,231 第1面、
232 第2面、
233 第3面、
130 開口部、
200 マスクフレーム、
210 溶接孔、
220 溶接棒挿入溝、
230 周縁、
300 溶接ビード、
400 基板、
500 蒸着装置、
600 溶接棒。

Claims (6)

  1. 蒸着パターンが形成されたマスクと、
    前記マスクの周縁が固定されるとともに、第1面と、前記第1面から下方に延長された第2面と、前記第2面と対向する第3面とを含むマスクフレームと、
    前記マスクフレームの中心部に位置する開口部とを含み、
    互いに対向する前記マスクの前記周縁に位置する第1面と、前記開口部に隣接した前記マスクフレームの前記第1面とが互いに溶接され、
    前記第2面、および前記第3面の間に溶接棒が挿入される溶接棒挿入溝が位置する、蒸着用マスク組立体。
  2. 前記マスクフレームの前記第1面を貫く複数の溶接孔をさらに含む、請求項1に記載の蒸着用マスク組立体。
  3. 前記複数の溶接孔は、前記開口部の周りに位置する、請求項2に記載の蒸着用マスク組立体。
  4. 前記開口部は四角形状である、請求項1〜3のいずれか1つに記載の蒸着用マスク組立体。
  5. 前記第2面は、前記開口部の周りに沿って閉曲線を形成する、請求項に記載の蒸着用マスク組立体。
  6. 前記第3面は、前記第2面の外側に位置する、請求項に記載の蒸着用マスク組立体。

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Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014088594A (ja) * 2012-10-30 2014-05-15 V Technology Co Ltd 蒸着マスク
CN103882375B (zh) * 2014-03-12 2016-03-09 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板及其制作方法
KR102322764B1 (ko) * 2015-03-03 2021-11-08 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체, 그 제조 방법 및 표시 장치의 제조 방법
KR20180041294A (ko) * 2016-10-13 2018-04-24 삼성디스플레이 주식회사 마스크 조립체, 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법
CN108441814B (zh) * 2018-03-22 2020-03-13 京东方科技集团股份有限公司 掩膜装置及其制作方法、蒸镀系统
KR102466835B1 (ko) * 2018-06-04 2022-11-15 주식회사 케이피에스 풀 사이즈 마스크 조립체와 그 제조방법
KR101909582B1 (ko) * 2018-06-04 2018-10-18 주식회사 케이피에스 풀 사이즈 마스크 조립체와 그 제조방법
US11560616B2 (en) * 2019-11-05 2023-01-24 Boe Technology Group Co., Ltd. Mask device, mask plate, and frame
KR20220140423A (ko) * 2021-04-09 2022-10-18 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 증착 마스크, 증착 마스크 장치, 증착 장치 및 유기 디바이스의 제조 방법

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05104246A (ja) * 1991-10-08 1993-04-27 Nkk Corp 栓溶接方法
JPH0822777A (ja) * 1994-07-05 1996-01-23 Matsushita Electron Corp カラー陰極線管
JP4006173B2 (ja) * 2000-08-25 2007-11-14 三星エスディアイ株式会社 メタルマスク構造体及びその製造方法
US6650037B1 (en) * 2002-05-20 2003-11-18 Thomson Licensing S.A. Shock absorbing stud shim for a CRT
JP2004323888A (ja) * 2003-04-23 2004-11-18 Dainippon Printing Co Ltd 蒸着マスク及び蒸着方法
JP4944367B2 (ja) * 2004-05-25 2012-05-30 キヤノン株式会社 マスク構造体の製造方法
JP2005350712A (ja) * 2004-06-09 2005-12-22 Canon Components Inc 蒸着用のメタルマスク構造体
KR20060102092A (ko) 2005-03-22 2006-09-27 엘지전자 주식회사 유기전계발광표시소자용 마스크의 클램핑 장치 및 방법
KR101102037B1 (ko) 2005-04-29 2012-01-04 엘지디스플레이 주식회사 유기전계발광표시소자용 마스크 장치 및 그 제조방법
KR101213092B1 (ko) 2005-05-02 2012-12-18 엘지디스플레이 주식회사 평판 표시소자용 마스크 장치 및 이를 이용한 마스크고정방법
JP2007035336A (ja) * 2005-07-25 2007-02-08 Hitachi Metals Ltd 蒸着マスク用金属製フレームの製造方法
KR100767006B1 (ko) 2005-12-19 2007-10-15 두산메카텍 주식회사 증착용 마스크 장치
KR20070082317A (ko) * 2006-02-16 2007-08-21 삼성전자주식회사 마스크 및 그 제조 방법
KR100853544B1 (ko) 2007-04-05 2008-08-21 삼성에스디아이 주식회사 평판 표시장치 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 이를이용한 증착장비
JP2009007649A (ja) * 2007-06-29 2009-01-15 Nippon Yakin Kogyo Co Ltd マスク用フレーム
JP5269550B2 (ja) * 2008-10-31 2013-08-21 旭化成建材株式会社 鋼板の溶接方法
JP2010253498A (ja) * 2009-04-23 2010-11-11 Nec Energy Devices Ltd レーザー加工機およびその飛散物回収方法
KR101135544B1 (ko) * 2009-09-22 2012-04-17 삼성모바일디스플레이주식회사 마스크 조립체, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 평판표시장치용 증착 장치
KR101742816B1 (ko) * 2010-12-20 2017-06-02 삼성디스플레이 주식회사 마스크 프레임 조립체, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
KR20120069396A (ko) 2010-12-20 2012-06-28 삼성모바일디스플레이주식회사 증착용 마스크 프레임 조립체, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 유기 발광 표시 장치의 제조 방법
TWM412207U (en) * 2011-03-04 2011-09-21 Kaohsiung Monomer Company Ltd Mask module
KR101853265B1 (ko) * 2011-03-15 2018-05-02 삼성디스플레이 주식회사 증착 마스크
KR101272299B1 (ko) * 2011-08-25 2013-06-07 (주)한 송 Amoled 패널 제작용 분할 마스크 프레임 어셈블리 제조 장치

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Publication number Publication date
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CN104233188A (zh) 2014-12-24
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KR102097706B1 (ko) 2020-04-07
US20140373780A1 (en) 2014-12-25
KR20140147353A (ko) 2014-12-30
JP2015004129A (ja) 2015-01-08

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