JP2015023105A5 - - Google Patents
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Description
上記目的は、ウエハを真空容器内部の処理室内に配置して、前記ウエハ上に予め配置された処理対象の膜層及びこの膜層上方に配置されたマスク層とを含む複数の膜層を有した膜構造を前記処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置またはプラズマ処理方法において、処理対象のウエハの処理の前に予め別のウエハ上の前記膜構造を処理して得られた前記処理対象の膜から検出される干渉光についての波長をパラメータとする強度のパターンとマスク層からの干渉光についての波長をパラメータとする強度のパターンとを用いて合成されて得られた複数の合成パターンと、前記ウエハの処理対象の膜の処理中に検出された当該処理対象の膜からの干渉光の波長をパラメータとする強度のパターンとを比較し、前記複数の合成パターンのうちでこれらの間の差が最小となる１つに対応する膜厚さを検出して、当該膜厚さと目標の膜厚さとを比較して、前記処理対象の膜の厚さの前記目標の膜厚さへの到達を判定することにより達成される。
Claims (6)
- ウエハを真空容器内部の処理室内に配置して、前記ウエハ上に予め配置された処理対象の膜層及びこの膜層上方に配置されたマスク層とを含む複数の膜層を有した膜構造を前記処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理装置であって、
処理対象のウエハの処理の前に予め別のウエハ上の前記膜構造を処理して得られた前記処理対象の膜から検出される干渉光についての波長をパラメータとする強度のパターンとマスク層からの干渉光についての波長をパラメータとする強度のパターンとを用いて合成されて得られた複数の合成パターンと、前記ウエハの処理対象の膜の処理中に検出された当該処理対象の膜からの干渉光の波長をパラメータとする強度のパターンとを比較し、前記複数の合成パターンのうちでこれらの間の差が最小となる１つに対応する膜厚さを検出して、当該膜厚さと目標の膜厚さとを比較して、前記処理対象の膜の厚さの前記目標の膜厚さへの到達を判定するプラズマ処理装置。
- 請求項１に記載のプラズマ処理装置であって、
前記処理対象の膜及びマスク層のうち前記処理中の膜厚さの小さい一方の膜層について、当該膜当該膜からの干渉光についての前記波長をパラメータとする強度のパターンを予め算出して、この予め算出されたパターンと前記処理対象の膜及びマスク層のうちの他方の膜からの干渉光から得られる前記波長をパラメータとする強度のパターンとを用いて前記複数のパターンを作成するプラズマ処理装置。
- 請求項１または２に記載のプラズマ処理装置であって、
前記複数の膜のうち上方に配置されたマスク層が光を透過する材料から構成されたプラズマ処理装置。
- ウエハを真空容器内部の処理室内に配置して、前記ウエハ上に予め配置された処理対象の膜層及びこの膜層上方に配置されたマスク層とを含む複数の膜層を有した膜構造を前記処理室内に形成したプラズマを用いて処理するプラズマ処理方法であって、
処理対象のウエハの処理の前に予め別のウエハ上の前記膜構造を処理して得られた前記処理対象の膜から検出される干渉光についての波長をパラメータとする強度のパターンとマスク層からの干渉光についての波長をパラメータとする強度のパターンとを用いて合成されて得られた複数の合成パターンと、前記ウエハの処理対象の膜の処理中に検出された当該処理対象の膜からの干渉光の波長をパラメータとする強度のパターンとを比較し、前記複数の合成パターンのうちでこれらの間の差が最小となる１つに対応する膜厚さを検出して、当該膜厚さと目標の膜厚さとを比較して、前記処理対象の膜の厚さの前記目標の膜厚さへの到達を判定するプラズマ処理方法。
- 請求項４に記載のプラズマ処理方法であって、
前記処理対象の膜及びマスク層のうち前記処理中の膜厚さの小さい一方の膜層について、当該膜当該膜からの干渉光についての前記波長をパラメータとする強度のパターンを予め算出して、この予め算出されたパターンと前記処理対象の膜及びマスク層のうちの他方の膜からの干渉光から得られる前記波長をパラメータとする強度のパターンとを用いて前記複数のパターンを作成するプラズマ処理方法。
- 請求項４または５に記載のプラズマ処理方法であって、
前記複数の膜のうち上方に配置されたマスク層が光を透過する材料から構成されたプラズマ処理方法。
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