JP2016534199A - 色安定性マンガンドープ蛍光体を調製する方法 - Google Patents

色安定性マンガンドープ蛍光体を調製する方法 Download PDF

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Abstract

式(I):Ax[MFy]:Mn4+(式中、AはLi、Na、K、Rb、Cs、R4又はそれらの組合せであり、MはSi、Ge、Sn、Ti、Zr、Al、Ga、In、Sc、Y、La、Nb、Ta、Bi、Gd又はそれらの組合せであり、RはH、低級アルキル又はそれらの組合せであり、xは[MFy]イオンの電荷の絶対値であり、yは5、6又は7である。)のMn4+ドープ蛍光体の色安定性を改善するための、低HF又は無HFの方法は、式(I)の蛍光体をヘキサフルオロケイ酸を含む溶液と接触させ、未処理の式(I)の蛍光体に比べて色安定性が改善された処理後の式(I)の蛍光体を単離することを含む。【選択図】 図1

Description

本発明は、色安定性マンガンドープ蛍光体を調製する方法に関する。
Mn4+賦活複合フッ化物材料系の赤色発光蛍光体は、YAG:Ce又は他のガーネット組成物などの黄色/緑色発光蛍光体と組合せて使用され、現行の蛍光ランプ、白熱ランプ及びハロゲンランプによって生成されるものと同等の暖白色光(黒体軌跡についてCCT<5000K、演色評価数(CRI)>80)を青色LEDから得ることができる。これらの材料は、青色光を強く吸収して約610〜635nmの間で効率的に発光し、濃赤色/NIRの発光が少ない。したがって、目の感度が低いより濃い赤色での発光が大きい赤色蛍光体と比べると、発光効率が最大限まで増大される。量子効率は、青色(440〜460nm)励起で85%を超えることが可能である。
Mn4+がドープされたフッ化物ホストを用いた照明システムの効率及びCRIは、きわめて高くすることができるが、こうした材料の多くは、高温高湿の環境において多少の不安定性を示し、このため、動作環境下での長期間の安定性を必要とする商用システムでの使用が制限される場合がある。米国特許第8252613号には、合成後にヘキサフルオロケイ酸塩のフッ化水素酸(HF)水溶液で処理することによってこの低下を軽減することができる方法が記載されている。しかしながら、HFの毒性が重大な問題点であり、処理溶液中のHFの量又は濃度を低減すると同時に、材料の安定性の改善を支援することができる代替法が望まれている。
米国特許第8252613号
そこで、一態様において、本発明は、次の式IのMn4+ドープ蛍光体の色安定性を改善するための、低HF又は無HFの方法に関する。
x[MFy]:Mn4+ (I)
式中、
AはLi、Na、K、Rb、Cs、R4又はそれらの組合せであり、
MはSi、Ge、Sn、Ti、Zr、Al、Ga、In、Sc、Y、La、Nb、Ta、Bi、Gd又はそれらの組合せであり、
RはH、低級アルキル又はそれらの組合せであり、
xは[MFy]イオンの電荷の絶対値であり、
yは5、6又は7である。
本方法は、式Iの蛍光体をヘキサフルオロケイ酸を含む溶液と接触させる工程と、未処理の式Iの蛍光体に比べて色安定性が改善された処理後の式Iの蛍光体を単離する工程とを含む。
別の態様において、本発明は、本発明による方法で調製された色安定性Mn4+ドープ蛍光体、及び色安定性Mn4+ドープ蛍光体を含む蛍光体ブレンドに関する。
さらに別の態様において、本発明は、白色光を放射することができる照明装置に関する。照明装置は、半導体光源と、光源に放射結合され、式Iの色安定性Mn4+ドープ蛍光体を含む蛍光体組成物であって、色安定性Mn4+ドープ蛍光体が、式Iの蛍光体をヘキサフルオロケイ酸を含む溶液と接触させる工程と、未処理の式Iの蛍光体に比べて色安定性が改善された処理後の式Iの蛍光体を単離する工程とを含む方法で調製される蛍光体組成物とを含む。
本発明のこれら並びに他の特徴、態様及び利点は、添付図面を参照しながら以下の詳細な説明を読むと、より一層理解されるようになるであろう。図面全体を通して、同様の符号は同様の部分を表す。
本発明の一実施形態に係る照明装置の概略断面図である。 本発明の別の実施形態に係る照明装置の概略断面図である。 本発明のさらに別の実施形態に係る照明装置の概略断面図である。 本発明の一実施形態に係る照明装置の破断側面斜視図である。 表面実装デバイス(SMD)のバックライトLEDの概略斜視図である。
一態様において、本発明は、式IのMn4+ドープ蛍光体の色安定性を改善するための、低HF又は無HFの方法に関する。方法は、式Iの蛍光体をヘキサフルオロケイ酸を含む溶液と接触させ、未処理の式Iの蛍光体に比べて色安定性が改善された処理後の式Iの蛍光体を単離することを含む。溶液は水をさらに含み、且つ式Ax[MFy]、例えばK2SiF6の塩を含むことができる。いくつかの実施形態では、溶液はHFを含まない、すなわち1%未満のHFを含む。他の実施形態では、米国特許第8252613号の方法のHFの一部がヘキサフルオロケイ酸に置換されるため、溶液は米国特許第8252613号の方法に比べて低HFである。置換されるHFの量は、重量パーセントで約25%〜約100%の範囲である。溶液は、HFを含む場合、式Ax[MFy]の塩を含むこともできる。
式IのMn4+ドープ蛍光体は、米国特許第3576756号、米国特許第7497973号及び米国特許第7648649号、並びにGB1360690に開示されている。式Iの蛍光体は、Mn4+賦活複合フッ化物の化合物又は材料、より具体的には、Mn4+賦活複合金属フッ化物若しくは複合メタロイドフッ化物の化合物又は材料として記載される。化合物には、配位子として作用するフッ化物イオンによって囲まれ、必要に応じて対イオンによって電荷補償される1つ以上の配位中心を含む配位化合物が含まれる。一例であるK2SiF6:Mn4+では、配位中心がSiであり、対イオンがKである。Mn4+活性化イオンは、K2SiF6:Mn4+の例ではSiであるホスト格子の中心の原子の一部と置換し、配位中心としても働く。(対イオンを含む)ホスト格子は、活性化イオンの励起特性及び放射特性をさらに変える可能性がある。
式Iの蛍光体の配位中心、すなわち式IのMはSi、Ge、Sn、Ti、Zr、Al、Ga、In、Sc、Y、La、Nb、Ta、Bi、Gd又はそれらの組合せとすることができる。特定の実施形態では、配位中心は、Si、Ge、Sn、Ti、Zr又はそれらの組合せとすることができる。より詳細には、配位中心は、Si、Ge、Ti又はそれらの組合せとすることができ、対イオン又は式IのAはNa、K、Rb、Cs又はそれらの組合せであり、yは6である。式Iの蛍光体の例は、K2[SiF6]:Mn4+、K2[TiF6]:Mn4+、K2[SnF6]:Mn4+、Cs2[TiF6]、Rb2[TiF6]、Cs2[SiF6]、Rb2[SiF6]、Na2[TiF6]:Mn4+、Na2[ZrF6]:Mn4+、K3[ZrF7]:Mn4+、K3[BiF6]:Mn4+、K3[YF6]:Mn4+、K3[LaF6]:Mn4+、K3[GdF6]:Mn4+、K3[NbF7]:Mn4+、K3[TaF7]:Mn4+を含む。特定の実施形態では、式Iの蛍光体はK2SiF6:Mn4+である。
Mn4+ドープ蛍光体中のマンガンの量は、通常は色安定性蛍光体の総重量に対して約0.4重量%〜約0.9重量%の範囲である。蛍光体がK2SiF6:Mn4+である場合の特定の実施形態では、Mnの量は、約0.53重量%〜約0.76重量%、より詳細には約0.65重量%〜約0.7重量%の範囲である。
本発明の方法では、粒形の蛍光体を溶液と接触させる温度は重要ではなく、約20℃〜約70℃の範囲とすることができるが、所望される場合には、より高い温度及びより低い温度を用いることができる。同様に、色安定性蛍光体を生成するのに必要な時間は、通常は約1分〜約5時間、特に約5分〜約1時間の範囲であるが、他の時間を用いることもできる。
水性酸による処理に加えて、式Iの蛍光体は、フッ素を含む酸化剤を含む雰囲気と接触する間に、アニールすること又は高温に曝すこともできる。蛍光体は、処理の前又は後にアニールすることができ、所望される場合には、複数回処理することができる。蛍光体を処理前にアニールする場合、アニール工程の間に取り込まれた不純物を処理によって除去することができる。フッ素を含む酸化剤は、F2、HF、BrF5、NH4HF2、NH4F、KF、AlF3、SbF5、ClF3、BrF3、SbF5、KrF、XeF2、XeF4、NF3又はそれらの組合せ、特にF2とすることができる。色安定性蛍光体を得るために、雰囲気中の酸化剤の量を、特に時間及び温度の変動に関連付けて変えることができる。フッ素を含む酸化剤がF2である場合、雰囲気は0.5%以上のF2を含むことができるが、いくつかの実施形態では、より低い濃度も有効である。特に雰囲気は、5%以上のF2、より詳細には20%以上のF2、さらに詳細には35%以上のF2を含むことができる。雰囲気は、フッ素ガスとの任意の組合せで、窒素、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンをさらに含むことができる。特定の実施形態では、雰囲気は、約20%のF2及び約80%の窒素で構成される。
蛍光体をフッ素を含む酸化剤と接触させる温度は、接触の間、約200℃〜約530℃、特に約350℃〜約500℃の範囲とすることができる。本発明の様々な実施形態では、温度は、100℃以上、詳細には約400℃、より詳細には約475℃である。蛍光体は、それを色安定性蛍光体に変えるのに十分な時間にわたって酸化剤と接触させる。時間と温度は相互に関係づけることができ、例えば時間を増やし温度を下げる、又は温度を上げ時間を減らすなど、互いに調節することができる。
本発明の一実施形態に係る照明装置、又は発光組立体、又はランプ10を図1に示す。照明装置10は、発光ダイオード(LED)チップ12として示される半導体放射源、及びLEDチップに電気的に取り付けられたリード14を含む。リード14を(1つ以上の)より太いリードフレーム16で支持された細いワイヤとすること、又はリードを自立式の電極としてリードフレームを省くことができる。リード14は、LEDチップ12に電流を供給し、したがって、それによりLEDチップ12が放射を発する。
ランプは、発した放射が蛍光体に向けられると白色光を生じさせることが可能な任意の半導体青色光源又はUV光源を含むことができる。一実施形態では、半導体光源は、様々な不純物でドープされた青色発光LEDである。したがって、LEDは、任意の適切なIII−V、II−VI又はIV−IV半導体層をベースとし、約250〜550nmの発光波長を有する半導体ダイオードを含むことができる。特にLEDは、GaN、ZnSe又はSiCを含む1つ以上の半導体層を含むことができる。例えばLEDは、約250nmより大きく、約550nmより小さい発光波長を有する、式IniGajAlkN(式中、0≦i、0≦j、0≦k及びi+j+k=1)によって表される窒化物化合物半導体を含むことができる。特定の実施形態では、チップは、約400〜約500nmにピーク発光波長を有する近UV又は青色発光LEDである。そのようなLED半導体は、当技術分野では公知である。本明細書では便宜上、放射源はLEDとして記載される。しかしながら、本明細書で用いるとき、この用語は、例えば半導体レーザダイオードを含むすべての半導体放射源を包含するものである。さらに、本明細書で論じる本発明の例示的な構造に関する一般的な議論は、無機LEDベースの光源を対象にしているが、特に言及しない限り、LEDチップを別の放射源に置き換えることが可能であること、及び半導体、半導体LED又はLEDチップへの言及はいずれも、それだけに限らないが有機発光ダイオードを含む任意の適切な放射源を表しているにすぎないことを理解すべきである。
LEDチップ12は、LEDチップ及び封入材料20を囲むシェル18の中に封入することができる。シェル18は、例えばガラス又はプラスチックとすることができる。好ましくは、LED12は、封入材20の中で実質的に中央に置かれる。封入材20は、エポキシ、プラスチック、低温ガラス、ポリマー、熱可塑性、熱硬化性の材料、樹脂、又は当技術分野で知られている他のタイプのLED封入材料であることが好ましい。適宜、封入材20は、塗布ガラス又はいくつかの他の高屈折率材料とする。好ましくは、封入材料20は、エポキシ又はシリコーンなどのポリマー材料である。シェル18及び封入材20はどちらも、透明であるか、又はLEDチップ12、及び本発明によるMn4+ドープ蛍光体を含む蛍光体ブレンド22によって生成される光の波長に対して実質的に光学的に透過性であることが好ましい。或いは、ランプ10は、外側のシェル18がなく、封入材料のみを含むこともできる。LEDチップ12は、例えばリードフレーム16、自立式電極、シェル18の底部、又はシェル若しくはリードフレームに取り付けられた台座(図示せず)によって支持することができる。いくつかの実施形態では、LEDチップ12は、反射カップ(図示せず)内に取り付けられる。カップは、アルミナ、チタニア、若しくは当技術分野で知られている他の誘電体粉末などの反射性材料、特にアルミナから作製すること、又はそれによってコーティングすることができる。
照明装置10は、LEDチップ12に放射結合された蛍光体ブレンド22を含む。放射結合されるとは、要素を互いに関連付け、一方からの放射が他方へ伝えられるようにすることを意味する。蛍光体ブレンド22は、LED12上に適切な方法で堆積させる。例えば、(1つ以上の)蛍光体の水性懸濁液を形成し、LEDの表面に蛍光体層として塗布することができる。そのような方法の1つでは、蛍光体粒子をランダムに懸濁させたシリコーンスラリーが、LEDのまわりに配置される。この方法は、蛍光体ブレンド22とLED12の可能な位置を例示するものにすぎない。したがって、LEDチップ12の上に蛍光体懸濁液をコーティングし乾燥させることによって、蛍光体ブレンド22を、LEDチップ12の発光面を覆うようにコーティングすること、又は発光面の上に直接コーティングすることができる。シェル18及び封入材20はどちらも、白色光24がそれらの要素を通って伝わるように透明にすべきである。限定するものではないが、いくつかの実施形態では、蛍光体組成物のメジアン粒径は、約1〜約25ミクロン、特に約15〜約20ミクロンの範囲である。
他の実施形態では、蛍光体ブレンド22は、LEDチップ12の上に直接形成されるのではなく、封入材料20の中に散在させる。(粉末の形の)蛍光体は、封入材料20のただ1つの領域の中に、より好ましくは封入材料の体積全体にわたって散在させることができる。LEDチップ12が発する青色光は、蛍光体ブレンド22が発する光と混合し、混合した光は白色光に見える。蛍光体を封入材料20の中に散在させる場合には、蛍光体の粉末をLEDチップ12のまわりに装填されたポリマー前駆体に加え、次いでポリマー前駆体を硬化させ、ポリマー材料を固めることができる。トランスファ装填など、他の公知の蛍光体の散在方法を用いることもできる。
さらに別の実施形態では、蛍光体ブレンド22は、LEDチップ12を覆うように形成されるのではなく、シェル18の表面上にコーティングされる。蛍光体組成物をシェル18の内面にコーティングすることが好ましいが、所望される場合には、蛍光体をシェルの外面にコーティングすることができる。蛍光体ブレンド22は、シェルの表面全体に、又はシェルの表面の頂部のみにコーティングすることができる。LEDチップ12が発したUV/青色光は、蛍光体ブレンド22が発した光と混合し、混合した光は白色光に見える。もちろん、蛍光体は、任意の2つ若しくは3つすべての位置に配置すること、又はシェルから離す若しくはLEDに組み込むなど任意の他の適切な位置に配置することが可能である。
図2は、本発明によるシステムの第2の構造を示している。図1〜4の対応する番号(例えば、図1の12及び図2の112)は、特に言及しない限り、各図面において対応する構造に関連している。図2の実施形態の構造は、蛍光体材料122をLEDチップ112の上に直接形成するのではなく封入材料120の中に散在させることを除き、図1の実施形態の構造と同様である。(粉末の形の)蛍光体は、封入材料のただ1つの領域の中に、より好ましくは封入材料の体積全体にわたって散在させることができる。(矢印126によって示す)LEDチップ112が発した放射は、蛍光体122が発した光と混合し、混合した光は白色光124に見える。蛍光体を封入材料120の中に散在させる場合には、蛍光体の粉末をポリマー前駆体に加え、LEDチップ112のまわりに装填することができる。次いでポリマー前駆体を硬化させ、ポリマーを固めることができる。トランスファ成形など、他の公知の蛍光体の散在方法を用いることもできる。
図3は、本発明によるシステムの第3の可能な構造を示している。図3に示す実施形態の構造は、蛍光体材料222をLEDチップ212を覆うように形成するのではなく、外囲器218の表面上にコーティングすることを除き、図1の実施形態の構造と同様である。蛍光体材料222を外囲器218の内面にコーティングすることが好ましいが、所望される場合には、蛍光体を外囲器の外面にコーティングすることができる。蛍光体222は、外囲器の表面全体に、又は外囲器の表面の頂部のみにコーティングすることができる。LEDチップ212が発した放射226は、蛍光体222が発した光と混合し、混合した光は白色光224に見える。もちろん、図1〜3の構造を組合せることが可能であり、蛍光体は、任意の2つ若しくは3つすべての位置に配置すること、又は外囲器から離す若しくはLEDに組み込むなど任意の他の適切な位置に配置することができる。
上記の構造のいずれにおいても、(図1に例示する)ランプ10は、封入材料に埋め込まれた複数の散乱粒子(図示せず)を含むこともできる。散乱粒子は、例えばアルミナ又はチタニアを含むことができる。散乱粒子は、LEDチップから発せられた指向性の光を効果的に散乱し、好ましくは吸収量はごくわずかである。
図4に第4の構造として示すように、LEDチップ412は、反射カップ430に取り付けることができる。カップ430は、アルミナ、チタニア、若しくは当技術分野で知られている他の誘電体粉末などの反射性材料、特にアルミナから作製すること、又はそれによってコーティングすることができる。図4の実施形態の構造の残りの部分は、これまでの図の任意のものの構造と同じであり、2つのリード416、導電性ワイヤ432及び封入材料420を含むことができる。反射カップ430は、第1のリード416によって支持され、導電性ワイヤ432は、LEDチップ412を第2のリード416と電気的に接続するため用いられる。
別の構造(特にバックライト用)は、例えば図5に示すような表面実装デバイス(「SMD」)型発光ダイオード550である。このSMDは「側面発光型」であり、導光部材554の突出部に発光窓552を有する。SMD型発光ダイオード550は、導電性パターンがその上に形成されたガラスエポキシ基板上に、フローソルダリングなどによって前もって形成されたLEDを配設し、LEDを窓552で覆うことによって作製することができる。SMDパッケージは、これまでに定義したLEDチップ、及びLEDチップから発せられた光によって励起される蛍光体材料を含むことができる。
350〜550nmで発光するLED、及び1つ以上の他の適切な蛍光体と用いるとき、得られる照明システムは、白色を有する光を生成するが、その特性について以下にさらに詳しく論じる。ランプ10は、封入材料に埋め込まれた散乱粒子(図示せず)を含むこともできる。散乱粒子は、例えばアルミナ又はチタニアを含むことができる。散乱粒子は、LEDチップから発せられた指向性の光を効果的に散乱し、好ましくは吸収量はごくわずかである。
色安定性Mn4+ドープ蛍光体に加えて、蛍光体ブレンド22は、1つ以上の他の蛍光体を含むことができる。約250〜550nmの範囲内で放射を発する青色又は近UVのLEDと組合せた照明装置に用いるとき、得られる組立体が発する光は白色光である。緑色、青色、橙色又は他の色の蛍光体など他の蛍光体をブレンド中に用い、生じる光の白色をカスタマイズし、より高いCRIの光源を製造することができる。例えば250〜550nmで発光するLEDチップと共に用いるとき、照明装置は、LEDの放射の一部、好ましくはすべてを青色光に変換するための青色蛍光体を含むことが好ましく、その場合、この青色光は、本発明の色安定性Mn4+蛍光体及び蛍光体ブレンドによって効率的に変換することができる。本発明による蛍光体ブレンドに使用するのに適した蛍光体は、それだけに限らないが、
(Ba,Sr,Ca)5(PO43(Cl,F,Br,OH):Eu2+,Mn2+、(Ba,Sr,Ca)BPO5:Eu2+,Mn2+、(Sr,Ca)10(PO46*νB23:Eu2+(式中、0<ν≦1)、Sr2Si38*2SrCl2:Eu2+、(Ca,Sr,Ba)3MgSi28:Eu2+,Mn2+、BaAl813:Eu2+、2SrO*0.84P25*0.16B23:Eu2+、(Ba,Sr,Ca)MgAl1017:Eu2+,Mn2+、(Ba,Sr,Ca)Al24:Eu2+、(Y,Gd,Lu,Sc,La)BO3:Ce3+,Tb3+、ZnS:Cu+,Cl-、ZnS:Cu+,Al3+、ZnS:Ag+,Cl-、ZnS:Ag+,Al3+、(Ba,Sr,Ca)2Si1-ξO4-2ξ:Eu2+(式中、0≦ξ≦0.2)、(Ba,Sr,Ca)2(Mg,Zn)Si27:Eu2+、(Sr,Ca,Ba)(Al,Ga,In)24:Eu2+、(Y,Gd,Tb,La,Sm,Pr,Lu)3(Al,Ga)5-αO12-3/2α:Ce3+(式中、0≦α≦0.5)、(Ca,Sr)8(Mg,Zn)(SiO44Cl2:Eu2+,Mn2+、Na2Gd227:Ce3+,Tb3+、(Sr,Ca,Ba,Mg,Zn)227:Eu2+,Mn2+、(Gd,Y,Lu,La)23:Eu3+,Bi3+、(Gd,Y,Lu,La)22S:Eu3+,Bi3+、(Gd,Y,Lu,La)VO4:Eu3+,Bi3+、(Ca,Sr)S:Eu2+,Ce3+、SrY24:Eu2+、CaLa24:Ce3+、(Ba,Sr,Ca)MgP27:Eu2+,Mn2+、(Y,Lu)2WO6:Eu3+,Mo6+、(Ba,Sr,Ca)βSiγNμ:Eu2+(式中、2β+4γ=3μ)、Ca3(SiO4)Cl2:Eu2+、(Lu,Sc,Y,Tb)2-u-vCevCa1+uLiwMg2-ww(Si,Ge)3-w12-u/2(式中、−0.5≦u≦1、0<v≦0.1、及び0≦w≦0.2)、(Y,Lu,Gd)2-φCaφSi46+φC1-φ:Ce3+(式中、0≦φ≦0.5)、Eu2+及び/又はCe3+がドープされた(Lu,Ca,Li,Mg,Y)α−SiAlON、(Ca,Sr,Ba)SiO22:Eu2+,Ce3+、3.5MgO*0.5MgF2*GeO2:Mn4+、Ca1-c-fCecEufAl1+cSi1-c3(式中、0<c≦0.2、0≦f≦0.2)、Ca1-h-rCehEurAl1-h(Mg,Zn)hSiN3(式中、0<h≦0.2、0≦r≦0.2)、Ca1-2s-tCes(Li,Na)sEutAlSiN3(式中、0≦s≦0.2、0≦f≦0.2、s+t>0)及びCa1-σ-χ-φCeσ(Li,Na)χEuφAl1+σ-χSi1-σ+χN3(式中、0≦σ≦0.2、0<χ≦0.4、0≦φ≦0.2)
を含む。
蛍光体ブレンド中の各蛍光体の割合は、所望の光出力の特性に応じて異なることがある。様々な実施形態の蛍光体ブレンド中の個々の蛍光体の相対的な割合は、それらの発光を混合し、LED照明デバイスで使用するとき、CIE色度図上で所定のx値及びy値の可視光が生成されるように調節することができる。言及したように、白色光が生成されることが好ましい。この白色光は、例えば約0.30〜約0.55の範囲のx値、及び約0.30〜約0.55の範囲のy値を有することができる。しかしながら、言及したように、蛍光体組成物中の各蛍光体の正確な同一性及び量は、最終使用者の必要に応じて変えることができる。
350〜550nmで発光するLED、及び適宜1つ以上の追加の蛍光体と組合せるとき、本発明による蛍光体の使用により、セリウムがドープされたテルビウムアルミニウムガーネット(TAG)ベースの照明デバイスに比べて、より高いCRI値及びより低いCCTを有する白色LEDデバイスが可能になる。約2500〜約10000、好ましくは2500〜4500のCCT値、及び約70〜95の高いCRI値を有するLEDデバイスを作製することができる。これにより、LEDデバイスについて、CIE色度図上でccx座標を大きくし、ccy座標を小さくすることが可能になり、その結果、「より暖かい」色のLEDが得られる。
本発明の色安定性Mn4+ドープ蛍光体は、上記以外の用途に用いることもできる。例えばこの材料を、蛍光ランプ、陰極線管、プラズマディスプレイデバイス又は液晶ディスプレイ(LCD)における蛍光体として用いることができる。また材料は、電磁熱量計、ガンマ線カメラ、コンピュータ断層撮影スキャナ又はレーザにおけるシンチレータとして使用することもできる。こうした使用は例示的なものにすぎず、限定するものではない。
一般的手順
アニーリングの手順
PFS蛍光体を炉チャンバに入れた。機械式ポンプを用いて炉チャンバを排気し、窒素、及び窒素とフッ素の混合物を用いて複数回パージした。複数のポンプ及びパージサイクルの後、炉チャンバを、20%のフッ素ガス及び80%の窒素ガスを含む雰囲気で満たし、約1気圧の圧力にした。次いで、チャンバを所望のアニール温度まで加熱した。約8時間保持した後、チャンバを室温まで冷却した。フッ素と窒素の混合物を排出し、チャンバを窒素で充填し、窒素で複数回パージして、チャンバを開放する前に確実にフッ素ガスを完全除去した。
処理溶液の調製
48%HF(w/w)を用いてHFを含む水溶液を調製し、35%H2SiF6(w/w)を用いてH2SiF6を含む溶液を調製した。K2SiF6を用いる場合には、K2SiF6を溶液に加え、加えた後、溶液を30分間攪拌し、次いで、2.7ミクロンの孔径の濾紙によって重力濾過し、溶解していないK2SiF6を除去した。
水溶液の処理
蛍光体(3g.)を溶液(26ml)にゆっくりと加え、混合物を20分間攪拌した。蛍光体を1分間にわたって沈殿させ、次いで浮遊物を傾瀉し、処理後の蛍光体を濾過し、アセトンで3回洗浄し、真空下で3時間乾燥させ、ふるい分けた。
高温高湿(HTHH)安定性試験
蛍光体の粉末を、二成分系メチルシリコーン結合剤(RTV−615、Momentive Performance Materials)中に蛍光体0.9g対シリコーン(成分A+B)0.825gの割合で混合することによって、高温高湿(HTHH)処理用の試料を作製した。次いで、蛍光体/シリコーン混合物をアルミニウムの試料ホルダ中に注ぎ、90℃で20分間硬化させた。対照試料は窒素下で保管し、HTHH条件に曝す試料は、85℃/85%RHに制御された雰囲気チャンバに入れた。これらのHTHHの試料を300時間後に取り出し、450nm励起におけるルミネセンス強度を対照試料のものと比較した。
高光束条件(レーザ損傷)安定性試験
446nmで発光するレーザダイオードを、その他端にコリメータを有する光学ファイバに結合した。出力は310mWであり、試料でのビーム直径は700ミクロンであった。これは、試料表面における80W/cm2のフラックスに相当する。散乱されたレーザからの放射と励起された蛍光体からの発光の組合せである分光分布(SPD)スペクトルを、1メートル(直径)の積分球で収集し、データを分光計のソフトウェア(Specwin)で処理する。レーザ及び蛍光体の発光からの積分出力を(それぞれ400nm〜500nm及び550nm〜700nmのSPDを積分することによって)2分間隔で記録した。レーザの熱的安定化による影響を避けるために、最初の90分の測定は破棄する。レーザ損傷による強度損失の割合は、以下のように計算する。
蛍光体からのエミッタ出力のみをプロットすると同時に、実験中にレーザを安定な状態に保つこと(1%未満の変動)を保証するために、レーザ発光からの積分出力及びそのピーク位置をモニタした。
比較例1〜4
水性の処理に曝していない対照材料は、合成したままのPFS蛍光体、すなわち熱処理していない材料(比較例1)、及びF2アニーリング後のPFS蛍光体(比較例3)を含んでいた。また同じ材料を、米国特許第8252613号に記載されるように、K2SiF6を含むHF溶液で処理した(比較例2及び4)。
実施例1〜7
実施例1〜5では、合成したままのPFS蛍光体(熱処理せず)を、表1に示す水溶液で処理した。実施例6及び7では、PFS蛍光体をフッ素雰囲気下でアニールした後、表1に示すヘキサフルオロケイ酸溶液で処理した。
実施例1〜7及び比較例1〜4の蛍光体をHTHH条件に曝し、レーザ損傷について評価した。結果を表2に示す。これらの実験では、粉末のプラーク測定の標準偏差は、吸光度の測定(Abs.)については0.6%、量子効率の測定(QE)については1.7%、高温高湿(HTHH)の測定については2%であった。シリコーン中に混合し、積分球で測定したときのPFSの量子効率及びレーザ損傷の測定(tape QE)に対する標準偏差は0.5%未満であった。
水性の処理はすべて、未処理の対照に比べて、HTHH又は高光束条件への暴露後の強度低下を防ぐのに有効であった。比較例1は、未処理の蛍光体の安定性試験について特性が失われたことを示している。実施例1〜5の試料の安定性試験後のQE及び強度は、HF及びK2SiF6を含み、ヘキサフルオロケイ酸を含まない溶液で処理した比較例2のものと同等又はそれより良好であった。同様に、実施例6及び7の試料の性能も、比較例4の性能と同等又はより良好であった。しかしながら、HFを含まない溶液で処理され、蛍光体を生成した試料が、エージング後の特性のバランスに最も優れていた。実施例4、6及び7は、レーザ損傷の著しい低減と同時に、HTHH性能の維持、及びQEの維持又は改善を示した。
処理工程のいずれを用いて生成した試料でも、粒径に有意な変化は測定されなかった。粒径は変化しなかったが、実施例3の試料のタップかさ密度は比較例2の1.6倍であり、H2SiF6で処理した材料がHFで処理した材料より凝集しないことを示している。処理後の試料で測定された吸光度のわずかな低下は、処理後にこれらの試料のマンガン含有量が低下したことを示している。
実施例8:X線光電子分光法
表3は、粉末表面の元素解析を行い、約0.1原子%の検出限界を有するXPS測定の結果を示している。プラークの吸光度測定と整合して、XPSは、処理後に表面[Mn]が測定システムの検出限界まで低下するさらなる証拠を示している。さらに、処理後には表面の炭素及び酸素も減少する。
本明細書では、本発明のある特定の特徴のみを図示及び記載してきたが、当業者には多くの修正及び変更が想起されるであろう。したがって、添付の特許請求の範囲は、本発明の真の趣旨に含まれるすべてのそうした修正及び変更を包含するものであることを理解されたい。

Claims (22)

  1. 次の式I
    x[MFy]:Mn4+ (I)
    (式中、AはLi、Na、K、Rb、Cs、R4又はそれらの組合せであり、MはSi、Ge、Sn、Ti、Zr、Al、Ga、In、Sc、Y、La、Nb、Ta、Bi、Gd又はそれらの組合せであり、RはH、低級アルキル又はそれらの組合せであり、xは[MFy]イオンの電荷の絶対値であり、yは5、6又は7である。)のMn4+ドープ蛍光体の色安定性を改善する方法であって、
    式Iの蛍光体をヘキサフルオロケイ酸を含む溶液と接触させる工程と、
    未処理の蛍光体に比べて色安定性が改善された処理後の蛍光体を単離する工程と
    を含む方法。
  2. 溶液が式Ax[MFy]の塩をさらに含む、請求項1記載の方法。
  3. 溶液がフッ化水素酸を含まない、請求項1記載の方法。
  4. 溶液がフッ化水素酸をさらに含む、請求項1記載の方法。
  5. 蛍光体を高温でフッ素ガスに曝すことをさらに含む、請求項1記載の方法。
  6. MがSi、Ge、Sn、Ti、Zr又はそれらの組合せである、請求項1記載の方法。
  7. Mn4+ドープ蛍光体がK2SiF6:Mn4+である、請求項1記載の方法。
  8. 請求項1記載の方法で調製された色安定性Mn4+ドープ蛍光体。
  9. 請求項1記載の方法で調製された色安定性Mn4+ドープ蛍光体を含む蛍光体ブレンド。
  10. 半導体光源と、
    光源に放射結合した蛍光体材料であって、請求項1記載の方法で調製された色安定性Mn4+ドープ蛍光体を含む蛍光体材料と
    を含む照明装置。
  11. 式K2SiF6:Mn4+の複合フッ化物化合物の色安定性を改善する方法であって、蛍光体をヘキサフルオロケイ酸を含む溶液と接触させる工程と、未処理の式K2SiF6:Mn4+の蛍光体に比べて色安定性が改善された処理後の式K2SiF6:Mn4+の蛍光体を単離する工程とを含む方法。
  12. 溶液がK2SiF6をさらに含む、請求項11記載の方法。
  13. 溶液がフッ化水素酸を含まない、請求項11記載の方法。
  14. 溶液がフッ化水素酸をさらに含む、請求項11記載の方法。
  15. 蛍光体を高温でフッ素ガスに曝すことをさらに含む、請求項11記載の方法。
  16. 照明装置であって、
    半導体光源と、
    光源に放射結合した蛍光体材料であって、次の式I
    x[MFy]:Mn4+ (I)
    (式中、AはLi、Na、K、Rb、Cs、R4又はそれらの組合せであり、MはSi、Ge、Sn、Ti、Zr、Al、Ga、In、Sc、Y、La、Nb、Ta、Bi、Gd又はそれらの組合せであり、RはH、低級アルキル又はそれらの組合せであり、xは[MFy]イオンの電荷の絶対値であり、yは5、6又は7である。)の色安定性Mn4+ドープ蛍光体を含む蛍光体材料であって、色安定性Mn4+ドープ蛍光体が、式Iの蛍光体をヘキサフルオロケイ酸を含む溶液と接触させ、未処理の式Iの蛍光体に比べて色安定性が改善された処理後の式Iの蛍光体を単離することを含む方法で調製される蛍光体材料と
    を含む照明装置。
  17. 溶液がK2SiF6をさらに含む、請求項16記載の照明装置。
  18. 溶液がフッ化水素酸を含まない、請求項16記載の照明装置。
  19. 溶液がフッ化水素酸をさらに含む、請求項16記載の照明装置。
  20. 蛍光体を高温でフッ素ガスに曝すことをさらに含む、請求項16記載の照明装置。
  21. MがSi、Ge、Sn、Ti、Zr又はそれらの組合せである、請求項16記載の照明装置。
  22. Mn4+ドープ蛍光体が、K2SiF6:Mn4+である、請求項16記載の照明装置。
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