JP2016525275A - 基材表面の処理方法および装置 - Google Patents
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Abstract
Description
・表面の洗浄
・仮着用接着剤(Temporaekleber)の温度処理、好ましくは、溶媒を蒸発させるための温度処理
・現像液プロセス
・基材表面上の化学薬品の成分の湿式化学析出
・電気化学析出
・(湿式化学)エッチングプロセス
・分子の自己組織化プロセス
・リフトオフプロセス。
・アセトン、
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)
・メシチレン、
・MicroChemicals社のシリーズ、AZ 100、TechniStrip P1316、TechniStrip NI555、TechniStrip NI105、
・DMSOおよびNMP、
・TMA
・アミン
・ケトン
・ピラニアエッチング(Piranha Etch)
・アセトニトリル
・アニリン
・シクロヘキサン
・n−ペンタン
・トリエチレングリコールジメチルエーテル(トリグライム)
・ジメチルアセトアミド
・ジメチルホルムアミド
・ジメチルスルホキシド
・1,4−ジオキサン
・酢酸
・無水酢酸
・酢酸エチルエステル
・エタノール
・二塩化エチレン
・エチレングリコール
・アニソール
・ベンゼン
・ベンゾニトリル
・エチレングリコールジメチルエーテル
・石油エーテル/石油ベンジン
・ピペリジン
・プロパノール
・炭酸プロピレン(4−メチル−1,3−ジオキソール−2−オン)
・ピリジン
・γ−ブチロラクトン
・キノリン
・クロロベンゼン
・クロロホルム
・n−ヘプタン
・2−プロパノール(イソプロピルアルコール)
・メタノール
・3-メチル−1−ブタノール(イソアミルアルコール)
・2−メチル−2−プロパノール(tert−ブタノール)
・塩化メチレン
・メチルエチルケトン(ブタノン)
・N−メチル−2−ピロリドン(NMP)
・N−メチルホルムアミド
・テトラヒドロフラン
・乳酸エチルエステル
・トルエン
・ジブチルエーテル
・ジエチレングリコール
・ジエチルエーテル
・ブロモベンゼン
・1−ブタノール
・tert−ブチルメチルエーテル(TBME)
・トリエチルアミン
・トリエチレングリコール
・ホルムアミド
・n−ヘキサン
・ニトロベンゼン
・ニトロメタン
・1,1,1−トリクロロエタン
・トリクロロエテン
・硫化炭素
・スルホラン
・テトラクロロエテン
・四塩化炭素
・水
・酸、特に
・H2SO3、H2SO4、HCL、H3PO4、HNO3、H2O2、ギ酸、酢酸、
・ラウゲン、特に
・NaOH、KOH、水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)
・前記化学薬品の混合物。
・特に(洗浄)液体を収容する槽を形成するために、洗浄する基材を基材ホルダーに載せる工程、
・特に、予熱された(洗浄)液体を、前記基材表面上で析出する工程、
・特に、予熱された加熱器の加熱面を近づけて、この加熱面の加熱温度および/または液体表面の洗浄温度を連続的に測定する工程、
・前記加熱器を、液体表面の上方で、定義された距離をおいて、好ましいz位置で保持する工程、この位置では、前記液体表面は、所望の洗浄温度を有していることが保証される、
・前記液体表面の温度を連続的に測定して、必要な場合、前記加熱器のz位置もしくは距離を相応に再調整する工程、
・前記基材の表面が洗浄されるまで前記洗浄プロセスを実施する工程、
・前記加熱器を安全位置に動かす工程、
・特に、好ましくは傾斜のゆるやかな、前記槽の縁にそって前記基材表面から前記化学薬品を振り落とす工程、
・前記基材表面をDI水で再フラッシングおよび洗浄する工程
・前記加工処理した基材を前記装置から取り外す工程。
2 下ハウジング半体
3 上ハウジング半体
4 基材ホルダー
4r 環状肩部
4f 液体収容部
4s リングセクション
5 加熱装置
6、6‘、6‘‘6‘‘‘、6VI、6V 加熱器
6u、6u‘、6u‘‘、6u‘‘‘、6uIV、6uV 加熱面
7、7’ リフトシャフト
8、8’ モーター
9 保護カバー
10 基材
10s 基材表面
10r 裏面
11 析出系
12 吸引開口部
13 吸引導管
14 流出部
15 温度センサー
16、16‘、16‘‘、16‘‘‘ 加熱セグメント
17 膜
18 内部空間
19 液体
19f 液体表面
20 クラスター系
21 中央チャンバー
22 送入FOUP
23 送出FOUP
24 ロック
25 モジュール
26 モジュールロックゲート
28 ロボット
Claims (10)
- 基材(10)の基材表面(10s)を、基材表面(10s)または基材表面(10s)上に存在している膜(17)に液体(19)を塗布して処理するための方法であって、ここで、基材表面(10s)に塗布された液体(19)を、基材表面(10s)の上方に配置された加熱面(6u、6u‘、6u‘‘、6u‘‘‘、6uIV、6uV)によって加熱する前記方法において、加熱面(6u、6u‘、6u‘‘、6u‘‘‘、6uIV、6uV)を上昇および下降させることによって、液体(19)の温度TRを一定に保つことを特徴とする前記方法。
- 少なくとも前記処理の間、特に、さらに、洗浄する基材(10)の交換の間、および/または予熱段階の間、加熱面(6u、6u‘、6u‘‘、6u‘‘‘、6uIV、6uV)の加熱面温度THを一定に保つ、請求項1に記載の方法。
- 前記処理の間、加熱面(6u、6u‘、6u‘‘、6u‘‘‘、6uIV、6uV)を基材表面(10s)と平行に配置する、請求項1または2に記載の方法。
- 基材(10)を、基材表面(10s)と反対側の前記基材の裏面(10r)で、特に回転可能な基材ホルダー(4)によって保持する、請求項1から3までのいずれか1項に記載の方法。
- 加熱面(6u、6u‘、6u‘‘、6u‘‘‘、6uIV、6uV)が、1mm、特に10mm、好ましくは25mm、さらに好ましくは50mm、さらにより好ましくは100mmの最小距離を有している、請求項1から4までのいずれか1項に記載の方法。
- 温度TRが、特に、加熱面(6u、6u‘、6u‘‘、6u‘‘‘、6uIV、6uV)の上昇および下降の制御/調整によってのみ一定に保たれ、特に、5℃未満、好ましくは1℃未満、さらに好ましくは0.1℃未満、より好ましくは0.001℃未満の温度TRの偏差を有している、請求項1から5までのいずれか1項に記載の方法。
- 少なくとも前記処理の間、特に、好ましくは加熱面(6u、6u‘、6u‘‘、6u‘‘‘、6uIV、6uV)に取り付けられた少なくとも1つの温度センサー(15)によって、温度TRおよび/または加熱面温度THを測定する、請求項1から6までのいずれか1項に記載の方法。
- 基材(10)の基材表面(10s)を、基材表面(10s)または基材表面(10s)上に存在している膜(17)に液体(19)を塗布して処理するための装置であって:
・基材表面(10s)に塗布された液体(19)を加熱するための、基材表面(10s)の上方に配置された加熱面(6u、6u‘、6u‘‘、6u‘‘‘、6uIV、6uV)、
・加熱面(6u、6u‘、6u‘‘、6u‘‘‘、6uIV、6uV)を上昇および下降させるため、ならびに液体(19)の温度TRを一定に保つための手段
を備える前記装置。 - 基材(10)を、基材表面(10s)と反対側の前記基材の裏面(10r)で収容するための、特に回転可能な基材ホルダー(4)を備える、請求項8に記載の装置。
- 好ましくは加熱面(6u、6u‘、6u‘‘、6u‘‘‘、6uIV、6uV)に取り付けられた、温度TRおよび/または加熱面温度THを測定するための少なくとも1つの温度センサーを備える、請求項8または9に記載の装置。
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