JP5270183B2 - ポリマー除去方法およびポリマー除去装置 - Google Patents
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Description
銅膜のエッチングによる微細なパターニングが困難であることから、銅配線は、いわゆるダマシン法によって形成される。すなわち、低誘電率絶縁膜には、銅配線を埋設するための配線溝と、この配線溝の底面に接続され、低誘電率絶縁膜を厚さ方向に貫通するバイアホールとが形成される。配線溝およびバイアホールには、銅が一括して埋め込まれる。これにより、配線溝に埋設された銅配線が得られ、バイアホールに埋設された銅を介して、下層の銅配線とその上層の銅配線との電気的な接続が達成される。
しかしながら、エッチング能力の高い薬液が用いられると、低誘電率絶縁膜が薬液による浸食を受け、低誘電率絶縁膜の膜減りを生じる。また、酸素を含む雰囲気下において、高いエッチング能力を有する薬液を用いたポリマー除去処理が行われると、銅配線における低誘電率絶縁膜から露出した部分が酸化され、その酸化された部分が薬液による浸食を受けるという問題も生じる。
基板が回転されることにより、薬液を含む蒸気が基板の表面の全域にむらなく供給される。また、薬液を含む蒸気によるエッチングでは、エッチングレートの温度依存性が極めて大きいので、基板の加熱により、ポリマーのエッチングレートを大きくし、基板の表面に形成された絶縁膜のエッチングレートを小さくすることができる。さらに、不活性ガス雰囲気下で薬液を含む蒸気の供給が行われることにより、基板の表面に形成されている絶縁膜や金属膜などの酸化が防止される。その結果、絶縁膜や金属膜などの膜減りを生じることなく、基板の表面からポリマーを良好に除去することができる。そのうえ、薬液を含む蒸気を用いた処理では、薬液の消費量が少ないので、プロセスのコストを著しく抑制することができる。
また、薬液を含む蒸気の供給時に加熱された基板が高温のまま処理室から搬出されると、基板の温度が処理室外で室温(約23℃)まで急激に低下し、基板の表面に形成されている金属膜などが酸化する。基板の表面に対する薬液を含む蒸気の供給終了後、処理チャンバ内で基板が冷却されるので、その冷却後に基板を処理室から搬出すれば、処理室外で基板の温度が急激に低下するのを防止することができ、温度の急激な低下による金属膜などの酸化が生じるのを防止することができる。
請求項2に記載のように、前記基板冷却工程では、前記基板に冷却用ガスが供給されてもよい。すなわち、基板に冷却用ガスが供給されることにより、基板の冷却が達成されてもよい。また、冷却用ガスが不活性ガスであれば、冷却用ガスの供給により、基板の冷却とともに、基板の周囲の雰囲気の不活性ガス雰囲気への置換を達成することができる。
図1は、本発明の一実施形態に係るポリマー除去装置の図解的な断面図である。
ポリマー除去装置1は、基板の一例としての半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」という。)Wからポリマーを除去するために用いられる。
ポリマー除去装置1は、略直方体形状の処理チャンバ11を備えている。
ウエハ保持台12の内部には、ウエハ保持台12に保持されたウエハWを加熱するためのヒータ15が埋設されている。また、ウエハ保持台12上には、ヒータ15による加熱時に基板の温度をその面内で均一化するための(ウエハWの面内における温度分布差を小さくするための)均熱リング16が設けられている。均熱リング16は、ウエハ保持台12上におけるウエハWの保持位置(載置位置)を取り囲むリング状に形成されている。
ポリマー除去装置1は、たとえば、マイクロコンピュータで構成される制御部41を備えている。マイクロコンピュータには、CPU、RAMおよびROMなどが含まれる。
制御部41は、予め定められたプログラムに従って、ウエハ回転機構14、ヒータ15、リフトピン昇降機構20およびゲート開閉機構24の駆動を制御し、側方窒素ガスバルブ27、ふっ酸ベーパバルブ31、ヘリウムガスバルブ32、上方窒素ガスバルブ33、周囲排気バルブ37およびゲート側排気バルブ40の開閉を制御する。
たとえば、微細パターンの形成のためのドライエッチングおよびアッシングを受けたウエハWは、その表面からポリマーを除去するために、図示しない搬送ハンドにより、ポリマー除去装置1(処理チャンバ11)内に搬入される(ステップS1:ウエハ搬入)。
その後、搬送ハンドが処理チャンバ11内から退避されると、ゲート開閉機構24が駆動されて、ゲートシャッタ23が閉鎖位置に変位され、ゲート22がゲートシャッタ23により密閉される。ゲート22が密閉されると、側方窒素ガスバルブ27およびゲート側排気バルブ40が閉じられて、上方窒素ガスバルブ33および周囲排気バルブ37が開かれる。これにより、上方導入管30から処理チャンバ11内に窒素ガスが導入されるとともに、処理チャンバ11内の雰囲気が周囲排気口35から急速に排気される。その結果、処理チャンバ11内の雰囲気は、上方導入管30から導入される窒素ガスの雰囲気に短時間で置換される(ステップS2:処理前雰囲気置換)。
その後、上方窒素ガスバルブ33が閉じられて、ふっ酸ベーパバルブ31が開かれる。これにより、上方導入管30から処理チャンバ11内にふっ酸ベーパが導入され、このふっ酸ベーパがウエハWの表面に供給される(ステップS3:HFベーパ処理)。その結果、ふっ酸ベーパが有するエッチング作用により、ウエハWの表面からポリマーが除去される。
また、ふっ酸ペーパの供給と並行して、ヒータ15が駆動されて、ウエハWが加熱される(ステップS32:ウエハ加熱)。この加熱により、ウエハWの温度は、たとえば、40℃まで上昇する。なお、ウエハWの温度の面内均一性を向上させるために、ウエハ保持台12におけるウエハWと対向する部分が複数の領域に分割され、各領域にヒータ15が埋設されて、各ヒータ15の温度が個別に制御されてもよい。
ウエハWが回転されることにより、ふっ酸ベーパがウエハWの表面の全域にむらなく供給される。また、ふっ酸ベーパによるエッチングでは、エッチングレートの温度依存性が極めて大きいので、ウエハWの加熱により、ポリマーのエッチングレートを大きくし、ウエハWの表面に形成された絶縁膜(たとえば、低誘電率絶縁膜)のエッチングレートを小さくすることができる。さらに、窒素ガス雰囲気下でふっ酸ベーパの供給が行われることにより、ウエハWの表面に形成されている絶縁膜や金属膜などの酸化が防止される。その結果、絶縁膜や金属膜などの膜減りを生じることなく、ウエハWの表面からポリマーを良好に除去することができる。そのうえ、ふっ酸ベーパを用いた処理では、ふっ酸の消費量が少ないので、プロセスのコストを著しく抑制することができる。
また、ふっ酸ベーパの供給時に加熱されたウエハWが高温のまま処理チャンバ11から搬出されると、ウエハWの温度が処理チャンバ11外で室温(約23℃)まで急激に低下し、ウエハWの表面に形成されている金属膜などが酸化する。ウエハWの表面に対するふっ酸ベーパの供給終了後、ウエハWが冷却されるので、その冷却後にウエハWを処理チャンバ11から搬出すれば、処理チャンバ11外でウエハWの温度が急激に低下するのを防止することができ、温度の急激な低下による金属膜などの酸化が生じるのを防止することができる。
さらに、冷却用ガスによるウエハWの冷却に加えて、図1に二点鎖線で示すように、処理チャンバ11の上壁29に冷却装置42が設けられて、この冷却装置42により、処理チャンバ11の全体が冷却されてもよい。また、冷却用ガスによるウエハWの冷却に代えて、ウエハ保持台12に対して上方に離間する位置までリフトピン17によって持ち上げられたウエハWに、低温に維持された石英板からなる石英プレート(図示せず)を対向させることによって、ウエハWを冷却してもよい。冷却装置42や石英プレートは、冷却水が流通される冷却配管を含む構成であってもよいし、ペルチエ素子などを含む構成であってもよい。
12 ウエハ保持台(基板回転機構)
13 回転軸(基板回転機構)
14 ウエハ回転機構(基板回転機構)
15 ヒータ(基板加熱機構)
30 上方導入管(雰囲気置換機構、蒸気供給機構)
31 ふっ酸ベーパバルブ(蒸気供給機構)
33 上方窒素ガスバルブ(雰囲気置換機構)
35 周囲排気口(雰囲気置換機構)
36 排気管(雰囲気置換機構)
37 周囲排気バルブ(雰囲気置換機構)
W ウエハ
Claims (3)
- 絶縁膜および金属膜が形成された基板の表面からポリマーを除去するためのポリマー除去方法であって、
基板が保持される処理チャンバ内の雰囲気を不活性ガス雰囲気に置換する雰囲気置換工程と、
前記処理チャンバ内で前記基板を回転させる基板回転工程と、
前記処理チャンバ内で前記基板を加熱する基板加熱工程と、
前記処理チャンバ内で前記不活性ガス雰囲気下において開始され、前記基板回転工程および前記基板加熱工程と並行して、前記基板の前記表面に前記ポリマーを除去するための薬液を含む蒸気を供給する蒸気供給工程と、
前記蒸気供給工程後、前記処理チャンバ内で前記基板を室温程度まで冷却する基板冷却工程と、
前記基板冷却工程後、または前記基板冷却工程と並行して、前記処理チャンバ内の雰囲気を不活性ガス雰囲気に置換する処理後雰囲気置換工程と、
前記処理後雰囲気置換工程後、前記基板を前記処理チャンバから搬出する基板搬出工程と
を含む、ポリマー除去方法。 - 前記基板冷却工程では、前記基板に冷却用ガスが供給される、請求項1に記載のポリマー除去方法。
- 絶縁膜および金属膜が形成された基板の表面からポリマーを除去するためのポリマー除去装置であって、
基板を保持する処理チャンバと、
前記処理チャンバ内において前記基板の周囲の雰囲気を不活性ガス雰囲気に置換する雰囲気置換機構と、
前記処理チャンバ内で前記不活性ガス雰囲気下に置かれた前記基板を回転させる基板回転機構と、
前記処理チャンバ内で前記不活性ガス雰囲気下に置かれた前記基板を加熱する基板加熱機構と、
前記処理チャンバ内で前記不活性ガス雰囲気下に置かれ、前記基板回転機構により回転され、かつ、前記基板加熱機構により加熱されている前記基板の前記表面に、前記ポリマーを除去するための薬液を含む蒸気を供給する蒸気供給機構と、
前記薬液を含む蒸気の供給の後、前記処理チャンバ内で前記基板を室温程度まで冷却する冷却機構と、
前記冷却機構による前記基板の冷却後、または前記冷却機構による前記基板の冷却と並行して、前記処理チャンバ内の雰囲気を不活性ガス雰囲気に置換する処理後雰囲気置換機構と、
前記処理後雰囲気置換機構によって前記処理チャンバ内の雰囲気が不活性ガス雰囲気に置換された後、前記基板を前記処理チャンバから搬出する搬出機構と
を含む、ポリマー除去装置。
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