JP5239988B2 - 載置台構造及び処理装置 - Google Patents
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Description
請求項3の発明は、請求項2の発明において、前記ヒータ制御部は、前記最外周抵抗加熱ヒータの全ての区分ヒータに電流を流す電力供給態様を有していることを特徴とする。
請求項5の発明は、請求項2の発明において、前記ヒータ制御部は、選択された一対の隣り合う区分ヒータに電流を流す電力供給態様を有していることを特徴とする。
請求項6の発明は、請求項1の発明において、前記最外周抵抗加熱ヒータは、奇数個の区分ヒータに区分されていることを特徴とする。
請求項8の発明は、請求項1乃至7のいずれか一項に記載の発明において、前記ヒータ制御部は、前記最外周給電ラインの内の選択された給電ラインをフローティング状態にする電力供給態様を有していることを特徴とする。
請求項9の発明は、請求項1乃至8のいずれか一項に記載の発明において、前記最外周抵抗加熱ヒータの区分の数は、3以上であることを特徴とする。
請求項11に係る発明は、被処理体に対して熱処理を施すための処理装置において、排気可能になされた処理容器と、被処理体を載置するために前記処理容器内に設けられた請求項1乃至10のいずれか一項に記載の載置台構造と、前記処理容器内へガスを導入するガス導入手段と、を備えたことを特徴とする処理装置である。
処理容器内で被処理体に対して熱処理を施すために被処理体を載置する載置台構造において、載置台本体内に設けられ、同心状に複数のゾーンに分割されると共にゾーン毎に異なる給電ラインに接続された抵抗加熱ヒータ群を有する加熱手段と、加熱手段に供給する電力をゾーン毎に制御するヒータ制御部とを備え、複数のゾーンの内の最外周に位置する最外周ゾーンの抵抗加熱ヒータである最外周抵抗加熱ヒータの周方向に沿った複数の位置に給電ラインを接続することによって最外周抵抗加熱ヒータを複数の領域に区分して区分ヒータとし、ヒータ制御部は、最外周抵抗加熱ヒータに対応する給電ラインである最外周給電ラインの状態を制御することにより区分ヒータ毎に供給電力を制御すると共にヒータ制御部は、最外周給電ラインの状態を時分割で制御する複数の電力供給態様を有しているようにしたので、被処理体の周辺部における温度分布を個別的に、且つ簡単な構成で制御することができ、被処理体の周辺部が処理容器の側壁から熱的な影響を受けても、この周辺部の温度を均一に維持することができ、結果的に被処理体の面内温度の均一性を向上させることができる。
図1は本発明に係る載置台構造を有する処理装置を示す構成図、図2は処理容器内を示す概略断面図、図3は加熱手段の抵抗加熱ヒータの配置を示す平面図である。
先の図4及び図5で説明した最外周給電ラインの状態は、所定の電圧を印加した場合と電圧がゼロボルト(接地)の場合のいずれかの状態であったが、これに加えて最外周給電ラインをフローティング状態(何ら電位を印加しないで電気的に浮かせた状態)にする場合も含めるようにして制御するようにしてもよい。図6は最外周給電ラインをフローティング状態に設定することも含めた時の電力供給態様の一例を示す図であり、図中の”F”はフローティング状態になっている場合を示し、他の部分の説明は図4において説明した通りである。
上記各実施例においては、最外周ゾーンの抵抗加熱ヒータを偶数である4つに区分した場合を例にとって説明したが、これに限定されず、奇数、例えば3つに区分するようにしてもよい。図7及び図8は、このような場合の図面を示し、図7は最外周ゾーンの抵抗加熱ヒータを3つに区分した時の模式図を示し、図8は最外周ゾーンを3区分した時の最外周給電ラインの状態と電力供給態様との関係を示す図である。尚、図4〜図6において説明した内容は、ここでもそのまま適用される。
また、ここでは被処理体として半導体ウエハを例にとって説明したが、この半導体ウエハにはシリコン基板やGaAs、SiC、GaNなどの化合物半導体基板も含まれ、更にはこれらの基板に限定されず、液晶表示装置に用いるガラス基板やセラミック材基板等にも本発明を適用することができる。
32 処理容器
48 シャワーヘッド(ガス導入手段)
60 載置台構造
62 載置台本体
64 支柱
86 加熱手段
88 抵抗加熱ヒータ群
92 ヒータ制御部
94 内周ゾーン
96 外周ゾーン(最外周ゾーン)
98 抵抗加熱ヒータ
100 抵抗加熱ヒータ(最外周抵抗加熱ヒータ)
100A〜100D 区分ヒータ
L(L1〜L6) 給電ライン
L1〜L4 最外周給電ライン
W 半導体ウエハ(被処理体)
Claims (11)
- 処理容器内で被処理体に対して熱処理を施すために前記被処理体を載置する載置台構造において、
上面に前記被処理体を載置するための載置台本体と、
前記載置台本体内に設けられ、同心状に複数のゾーンに分割されると共に前記ゾーン毎に異なる給電ラインに接続された抵抗加熱ヒータ群を有する加熱手段と、
前記加熱手段に供給する電力を前記ゾーン毎に制御するヒータ制御部とを備え、
前記複数のゾーンの内の最外周に位置する最外周ゾーンの抵抗加熱ヒータである最外周抵抗加熱ヒータの周方向に沿った複数の位置に前記給電ラインを接続することによって前記最外周抵抗加熱ヒータを複数の領域に区分して区分ヒータとし、前記ヒータ制御部は、前記最外周抵抗加熱ヒータに対応する前記給電ラインである最外周給電ラインの状態を制御することにより前記区分ヒータ毎に供給電力を制御すると共に前記ヒータ制御部は、前記最外周給電ラインの状態を時分割で制御する複数の電力供給態様を有していることを特徴とする載置台構造。 - 前記最外周抵抗加熱ヒータは、偶数個の区分ヒータに区分されていることを特徴とする請求項1記載の載置台構造。
- 前記ヒータ制御部は、前記最外周抵抗加熱ヒータの全ての区分ヒータに電流を流す電力供給態様を有していることを特徴とする請求項2記載の載置台構造。
- 前記ヒータ制御部は、選択された一対の対向する区分ヒータに電流を流す電力供給態様を有していることを特徴とする請求項2記載の載置台構造。
- 前記ヒータ制御部は、選択された一対の隣り合う区分ヒータに電流を流す電力供給態様を有していることを特徴とする請求項2記載の載置台構造。
- 前記最外周抵抗加熱ヒータは、奇数個の区分ヒータに区分されていることを特徴とする請求項1記載の載置台構造。
- 前記ヒータ制御部は、選択された一対の隣り合う区分ヒータに電流を流す電力供給態様を有していることを特徴とする請求項6記載の載置台構造。
- 前記ヒータ制御部は、前記最外周給電ラインの内の選択された給電ラインをフローティング状態にする電力供給態様を有していることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の載置台構造。
- 前記最外周抵抗加熱ヒータの区分の数は、3以上であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか一項に記載の載置台構造。
- 前記載置台本体は、セラミック材、或いは石英よりなることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか一項に記載の載置台構造。
- 被処理体に対して熱処理を施すための処理装置において、
排気可能になされた処理容器と、
被処理体を載置するために前記処理容器内に設けられた請求項1乃至10のいずれか一項に記載の載置台構造と、
前記処理容器内へガスを導入するガス導入手段と、
を備えたことを特徴とする処理装置。
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