JP6483296B2 - プラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
処理室内に電界および磁界が供給された結果処理ガスが励起されてプラズマが形成される。
101…真空容器
102…真空排気装置
103…処理室
104…電波源
105…導波管
106…拡大導波管部
107…試料台
108…バイアス電源
109…ヒータ用直流電源
110…静電吸着用直流電源
111…温調器
112…コントローラ
113…磁場発生コイル
114…誘電体窓
115…シャワープレート
116…ウエハ
117…マッチング回路
118…フィルター
201…静電吸着用電極
202…内側ヒータ
203…中間ヒータ
204…外側ヒータ
205…内側ヒータケーブル
206…中間ヒータケーブル
207…外側ヒータケーブル
208…電流制御素子
209…電流制御素子ケーブル
210…基材
211…誘電体膜
301…制御装置
Claims (5)
- 真空容器内部の処理室内に配置された試料台上にウエハを載置して前記処理室内に形成したプラズマを用いて前記ウエハを処理するプラズマ処理方法であって、
前記試料台が、円筒形状を有し、その内部に中心から外周側へ向かう径方向および前記中心周りの周方向について分けられた複数の領域内に配置された複数のヒータを備え、
前記中心から同じ半径上の前記周方向の複数の領域内に配置された前記複数のヒータが直流電源に対して直列に配置されて回路を構成するものであって、
前記直列に配置された複数のヒータの各々に流れる電流の量を調節して前記複数のヒータ各々の発熱量を調節しつつ前記ウエハを処理するプラズマ処理方法。
- 請求項1に記載のプラズマ処理方法であって、
前記回路を構成する複数の調節器であってその各々が前記直列に配置された複数のヒータの各々に並列に接続された調節器の動作を調節して当該並列に接続された前記各々のヒータに流れる電流を調節しこれらのヒータ各々の発熱量を調節するプラズマ処理方法。
- 請求項1または2に記載のプラズマ処理方法であって、
前記調節器は前記試料台の内部またはその直下方に配置され、前記回路が前記ヒータの各々および前記調節器と前記直流電源との間であって前記真空容器の外部に配置されたフィルターを備えたプラズマ処理方法。
- 請求項3に記載のプラズマ処理方法であって、
前記ウエハの処理中に前記試料台内部に配置された導体製の電極に電気的に接続された高周波電源から高周波電力が供給されて前記ウエハの上方にバイアス電位が形成されるものであって、前記調節器の前記高周波電力に対するインピーダンスが前記回路の前記ヒータと前記直流電源との間のインピーダンスより著しく小さくされたプラズマ処理方法。
- 請求項1乃至4の何れかに記載のプラズマ処理方法であって、
前記径方向について分けられた複数の領域に配置された前記複数のヒータ各々に対応して電気的に接続された直流電源からの電力を調節して当該ヒータ各々の発熱量を調節して前記ウエハを処理するプラズマ処理方法。
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