JP2013206927A - 基板乾燥装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】除湿部54および温度調整部55を装置に設け、常温窒素ガス供給源51からの常温窒素ガスを除湿部54および温度調整部55を通過させて凍結乾燥用窒素ガスを生成する。つまり、常温窒素ガスを除湿部54によって凍結乾燥を行うための処理温度よりも低い液体窒素の温度程度に冷却して低露点化し、さらに低露点化窒素ガスを温度調整部55によって処理温度に調整し、これを乾燥用窒素ガスとして凍結膜に供給して昇華乾燥を行っている。したがって、常温窒素ガス供給源51から供給される窒素ガス中に多くの水分が含まれていたとしても、装置内で凍結乾燥に適した露点および温度を有する窒素ガスに調整された上で凍結膜に供給される。
【選択図】図2
Description
53d…配管(温度調整部)
54…除湿部
55…温度調整部
547…熱交換パイプ(除湿部)
551…恒温液(温度調整部)
552…恒温槽(温度調整部)
553…温調素子(温度調整部)
554…熱交換パイプ(温度調整部)
555…ヒーティングケーブル(温度調整部)
556…給電部(温度調整部)
W…基板
Wf…(基板の)表面
Claims (4)
- 基板表面上の液体を凍結させて凍結体を形成する凍結手段と、
前記基板表面に向けて前記液体の凝固点よりも低い処理温度でかつ前記凍結体の温度よりも低い露点を有する乾燥用気体を供給して前記凍結体を昇華乾燥させる昇華乾燥手段とを備え、
前記昇華乾燥手段は、気体を前記処理温度よりも低い温度に冷却して除湿する除湿部と、前記除湿部により除湿された気体を前記処理温度に昇温する温度調整部とを有し、前記温度調整部で温度調整された気体を前記乾燥用気体として前記凍結体に供給することを特徴とする基板乾燥装置。 - 請求項1に記載の基板乾燥装置であって、
前記乾燥用気体は窒素ガスであり、
前記除湿部は、液体窒素に浸漬される熱交換パイプに窒素ガスを流通させることで前記液体窒素と前記窒素ガスを熱交換して除湿する基板乾燥装置。 - 請求項1または2に記載の基板乾燥装置であって、
前記温度調整部は、恒温液に浸漬される熱交換パイプに前記除湿部により除湿された気体を流通させることで前記恒温液と熱交換して当該気体を前記処理温度に調整する基板乾燥装置。 - 請求項1または2に記載の基板乾燥装置であって、
前記温度調整部は、前記除湿部により除湿された気体を配管により送給するとともに前記配管を介して前記配管内の気体を加熱して前記処理温度に調整する基板乾燥装置。
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