JP2016519218A - Al−Cr−Nコーティングを生成するための金属、金属間化合物及びセラミックターゲット材料のアーク蒸着 - Google Patents

Al−Cr−Nコーティングを生成するための金属、金属間化合物及びセラミックターゲット材料のアーク蒸着 Download PDF

Info

Publication number
JP2016519218A
JP2016519218A JP2016508033A JP2016508033A JP2016519218A JP 2016519218 A JP2016519218 A JP 2016519218A JP 2016508033 A JP2016508033 A JP 2016508033A JP 2016508033 A JP2016508033 A JP 2016508033A JP 2016519218 A JP2016519218 A JP 2016519218A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
produce
target
arc deposition
compound
powder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2016508033A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2016519218A5 (enExample
Inventor
コリーナ ザビッツァー
コリーナ ザビッツァー
イェルク パウリッチュ
イェルク パウリッチュ
ペーター ポルチック
ペーター ポルチック
パウル ハインツ マイルホーファー
パウル ハインツ マイルホーファー
ミリヤム アルント
ミリヤム アルント
リヒャルト ラハバウアー
リヒャルト ラハバウアー
Original Assignee
エリコン サーフェス ソリューションズ アーゲー、 トリュープバッハ
エリコン サーフェス ソリューションズ アーゲー、 トリュープバッハ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by エリコン サーフェス ソリューションズ アーゲー、 トリュープバッハ, エリコン サーフェス ソリューションズ アーゲー、 トリュープバッハ filed Critical エリコン サーフェス ソリューションズ アーゲー、 トリュープバッハ
Publication of JP2016519218A publication Critical patent/JP2016519218A/ja
Publication of JP2016519218A5 publication Critical patent/JP2016519218A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325Electric arc evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/0641Nitrides
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/32532Electrodes
    • H01J37/32614Consumable cathodes for arc discharge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Ceramic Products (AREA)
JP2016508033A 2013-04-18 2014-04-14 Al−Cr−Nコーティングを生成するための金属、金属間化合物及びセラミックターゲット材料のアーク蒸着 Pending JP2016519218A (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102013006633.6 2013-04-18
DE102013006633.6A DE102013006633A1 (de) 2013-04-18 2013-04-18 Funkenverdampfen von metallischen, intermetallischen und keramischen Targetmaterialien um Al-Cr-N Beschichtungen herzustellen
PCT/EP2014/000989 WO2014170003A1 (de) 2013-04-18 2014-04-14 Funkenverdampfen von metallischen, intermetallischen und keramischen targetmaterialien um al-cr-n beschichtungen herzustellen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016519218A true JP2016519218A (ja) 2016-06-30
JP2016519218A5 JP2016519218A5 (enExample) 2017-05-25

Family

ID=50513881

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016508033A Pending JP2016519218A (ja) 2013-04-18 2014-04-14 Al−Cr−Nコーティングを生成するための金属、金属間化合物及びセラミックターゲット材料のアーク蒸着

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20160053364A1 (enExample)
EP (1) EP2986753B8 (enExample)
JP (1) JP2016519218A (enExample)
KR (1) KR20150143783A (enExample)
CN (1) CN105164306A (enExample)
AR (1) AR095879A1 (enExample)
DE (1) DE102013006633A1 (enExample)
WO (1) WO2014170003A1 (enExample)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102877458B1 (ko) * 2023-03-09 2025-10-29 주식회사 이엠엘 다중 타겟을 이용한 코팅 방법 및 그에 따른 코팅재

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09249966A (ja) * 1996-03-13 1997-09-22 Mitsubishi Materials Corp 金属間化合物分散型焼結Al合金製スパッタリングターゲット
JP2001226764A (ja) * 2000-02-10 2001-08-21 Shin Etsu Chem Co Ltd スパッタリングのターゲット材用焼結体、その製造方法、及びスパッタリング用ターゲット
JP2005533182A (ja) * 2002-07-23 2005-11-04 ヘラエウス インコーポレーテッド ホウ素/炭素/窒素/酸素/ケイ素でドープ処理したスパッタリングターゲットの製造方法
JP2006524748A (ja) * 2003-04-28 2006-11-02 ユナキス・バルツェルス・アクチェンゲゼルシャフト AlCr含有の硬質材料層を有する工作物および製造方法
JP2007131927A (ja) * 2005-11-11 2007-05-31 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 表面被覆部材及びその製造方法ならびに工具及び工作装置
JP2008169464A (ja) * 2007-01-08 2008-07-24 Heraeus Inc スパッタターゲット及びその製造方法
JP2008179853A (ja) * 2007-01-24 2008-08-07 Hitachi Tool Engineering Ltd ホウ化物含有ターゲット材
JP2010236060A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Hitachi Tool Engineering Ltd 窒化物分散Ti−Al系ターゲット及びその製造方法
US20100322840A1 (en) * 2007-09-17 2010-12-23 Seco Tools Ab Method of producing a layer by arc-evaporation from ceramic cathodes
JP2011518949A (ja) * 2008-04-24 2011-06-30 エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハ アーク蒸着による金属酸化物層の製造方法
WO2011103955A1 (en) * 2010-02-28 2011-09-01 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Synthesis of metal oxides by reactive cathodic arc evaporation
WO2012052437A1 (de) * 2010-10-22 2012-04-26 Walter Ag Target für lichtbogenverfahren

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2275585A (en) * 1937-10-08 1942-03-10 Clad Metals Ind Inc Method of making composite metal
US3836451A (en) * 1968-12-26 1974-09-17 A Snaper Arc deposition apparatus
US3625848A (en) * 1968-12-26 1971-12-07 Alvin A Snaper Arc deposition process and apparatus
LU78204A1 (de) * 1977-09-29 1979-05-25 Bleichert Foerderanlagen Gmbh Einschienenfoerderanlage
US5342571A (en) * 1992-02-19 1994-08-30 Tosoh Smd, Inc. Method for producing sputtering target for deposition of titanium, aluminum and nitrogen coatings, sputtering target made thereby, and method of sputtering with said targets
CH693035A5 (de) * 1994-06-24 2003-01-31 Unaxis Balzers Ag Verfahren zur Herstellung eines Targets, nach dem Verfahren hergestelltes Target und Verwendung desselben.
US7575039B2 (en) * 2003-10-15 2009-08-18 United Technologies Corporation Refractory metal core coatings
RU2501885C2 (ru) * 2008-08-17 2013-12-20 Эрликон Трейдинг Аг, Трюббах Применение мишени для искрового напыления и способ получения подходящей для этого применения мишени

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09249966A (ja) * 1996-03-13 1997-09-22 Mitsubishi Materials Corp 金属間化合物分散型焼結Al合金製スパッタリングターゲット
JP2001226764A (ja) * 2000-02-10 2001-08-21 Shin Etsu Chem Co Ltd スパッタリングのターゲット材用焼結体、その製造方法、及びスパッタリング用ターゲット
JP2005533182A (ja) * 2002-07-23 2005-11-04 ヘラエウス インコーポレーテッド ホウ素/炭素/窒素/酸素/ケイ素でドープ処理したスパッタリングターゲットの製造方法
JP2006524748A (ja) * 2003-04-28 2006-11-02 ユナキス・バルツェルス・アクチェンゲゼルシャフト AlCr含有の硬質材料層を有する工作物および製造方法
JP2007131927A (ja) * 2005-11-11 2007-05-31 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 表面被覆部材及びその製造方法ならびに工具及び工作装置
JP2008169464A (ja) * 2007-01-08 2008-07-24 Heraeus Inc スパッタターゲット及びその製造方法
JP2008179853A (ja) * 2007-01-24 2008-08-07 Hitachi Tool Engineering Ltd ホウ化物含有ターゲット材
US20100322840A1 (en) * 2007-09-17 2010-12-23 Seco Tools Ab Method of producing a layer by arc-evaporation from ceramic cathodes
JP2011518949A (ja) * 2008-04-24 2011-06-30 エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハ アーク蒸着による金属酸化物層の製造方法
JP2011522960A (ja) * 2008-04-24 2011-08-04 エリコン・トレーディング・アクチェンゲゼルシャフト,トリュープバッハ アーク蒸着による所定の構造を有する金属酸化物層の製造方法
JP2010236060A (ja) * 2009-03-31 2010-10-21 Hitachi Tool Engineering Ltd 窒化物分散Ti−Al系ターゲット及びその製造方法
WO2011103955A1 (en) * 2010-02-28 2011-09-01 Oerlikon Trading Ag, Trübbach Synthesis of metal oxides by reactive cathodic arc evaporation
WO2012052437A1 (de) * 2010-10-22 2012-04-26 Walter Ag Target für lichtbogenverfahren

Also Published As

Publication number Publication date
AR095879A1 (es) 2015-11-18
EP2986753B1 (de) 2019-03-20
WO2014170003A1 (de) 2014-10-23
DE102013006633A1 (de) 2014-10-23
KR20150143783A (ko) 2015-12-23
CN105164306A (zh) 2015-12-16
US20160053364A1 (en) 2016-02-25
EP2986753B8 (de) 2019-06-19
EP2986753A1 (de) 2016-02-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN113966408B (zh) 包含多阴离子高熵合金氮氧化物的pvd涂层
JP2019509399A5 (enExample)
JP2018517059A5 (enExample)
US20200032384A1 (en) Coating containing macroparticles and cathodic arc process of making the coating
JP5154869B2 (ja) 溶射層形成高耐食耐摩耗部材及びそれを形成する溶射層形成用粉末
JP5154950B2 (ja) 熱スプレーによって、ケイ素およびジルコニウムに基づくターゲットを製造する方法
JP5679395B2 (ja) コールドスプレー用粉末
TW200720473A (en) Metal coatings
CN105401115A (zh) 一种无分解的WC-Co涂层热喷涂制备方法
JP2016519218A (ja) Al−Cr−Nコーティングを生成するための金属、金属間化合物及びセラミックターゲット材料のアーク蒸着
JP6550226B2 (ja) 溶射用粉末、溶射皮膜の製造方法、溶射皮膜、及びロール
KR20210080444A (ko) Ti 및/또는 Si와 미세합금된 바나듐 알루미늄 니트라이드(VAlN)
KR101529235B1 (ko) 저마찰 특성을 가지는 나노구조 복합박막, 그 제조방법 및 저마찰 특성 부재 및 그 제조방법
JP2016526097A (ja) ターボチャージャー用バリア層
KR101517146B1 (ko) 저마찰 특성을 가지는 나노구조 복합박막, 그 제조방법 및 저마찰 특성 부재 및 그 제조방법
JP2014501843A (ja) アークプロセス用ターゲット
JP6550227B2 (ja) 溶射用粉末、溶射皮膜の製造方法、溶射皮膜、及びロール
TWI444481B (zh) 鋁鎳預合金粉末組成物及其製成的鋁鎳合金靶材
LIU et al. Microstructure of fusion zone deposited intermetallics CrFeNb on Nickel-base superalloy K4169
IN2013CH01962A (enExample)
KR20140144754A (ko) 비정질 형성능을 가지는 결정질 합금, 그 제조방법, 스퍼터링용 합금타겟 및 그 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170208

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170410

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20171113

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171121

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20180220

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20180420

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180517

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181106

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20190205

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20190611