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  1. 原料ガスから汚染物質ガスを除去し、前記汚染物質ガスを回収するための過程であって、
    前記原料ガスを含む供給ガスストリームを、濃厚ガス吸収器において、汚染物質ガスの吸着剤を含む濃厚ガス水性吸収媒体と接触させ、それによって、汚染物質ガスを前記供給ガスストリームから前記吸収媒体に吸収し、そして、汚染物質ガスが除去された希薄ガス、及び吸着した汚染物質を含有する濃厚吸収液を生成することと、
    前記濃厚ガス吸収器を出る前記希薄ガスを、希薄ガス吸収器において、前記汚染物質ガスの吸着剤を含む希薄ガス水性吸収媒体と接触させ、それによって、残留汚染物質ガスを前記希薄ガスから前記希薄ガス吸収媒体に吸収し、そして、追加的な汚染物質ガスが除去された排気ガス、及び吸着した汚染物質を含有する希薄吸収液を生成することと、
    前記濃厚吸収液を濃厚液ストリッパにおいて加熱して、前記濃厚液から前記汚染物質を脱着させ、それによって、前記濃厚液ストリッパから、再生した濃厚ガス吸収媒体及び濃厚液ストリッパガス排出物を生成することであって、前記濃厚液ストリッパガスは、水蒸気及び汚染物質ガスを含むことと、
    前記希薄吸収液を、希薄液ストリッパにおいて加熱して、前記希薄液から汚染物質ガスを脱着させ、それによって、前記希薄液ストリッパから、再生した希薄ガス吸収媒体及び希薄液ストリッパガス排出物を生成することであって、前記希薄ストリッパガスは、水蒸気及び前記汚染物質ガスを含むことと、
    前記供給ガスのさらなる流れから汚染物質ガスを除去するために、前記再生した濃厚ガス吸収媒体を前記濃厚ガス吸収器に再循環させ、そして、希薄ガスのさらなる流れから汚染物質ガスを除去するために、前記再生した希薄ガス吸収媒体を前記希薄ガス吸収器に再循環させることと、を含む、前記過程。
  2. 前記濃厚液ストリッパにおいて前記濃厚吸収液を加熱することは、前記濃厚吸収液をストリッピングスチームと接触させることを含む、請求項1に記載の過程。
  3. 前記希薄液ストリッパにおいて前記希薄吸収液を加熱することは、前記希薄吸収液を、前記希薄液ストリッパにおいて、ストリッピングスチームと接触させることを含む、請求項1または2に記載の過程。
  4. 前記濃厚ガス吸収器において前記供給ガスから除去される汚染物質ガスは、前記供給ガスに含有される前記汚染物質ガスの合計の少なくとも85%、90%、95%、または99%を表す、請求項1から3のいずれか一項に記載の過程。
  5. 前記濃厚ガス吸収器を出る前記希薄ガスの汚染物質ガス含有量は、約0.5容量%以下、または約0.4容量%以下、または好ましくは、約0.01〜約0.3容量%、より好ましくは、約100〜約1,500容量ppmである、請求項1〜のいずれかに記載の過程。
  6. 前記濃厚ガス吸収媒体及び前記供給ガスの相対流量は、吸着剤が前記濃厚ガス吸収器の中へ導入される割合と、汚染物質ガスが前記濃厚ガス吸収器の中へ導入される割合との化学量論比が約0.6以下である程度である、請求項1〜のいずれかに記載の過程。
  7. 前記汚染物質ガスは、SO、CO、NO、HS、HCl、及びアンモニアから成る群から選択される、請求項1〜のいずれかに記載の過程。
  8. 前記汚染物質ガスは、二酸化硫黄を含む、請求項1〜のいずれかに記載の過程。
  9. 前記濃厚液ストリッパを出る前記再生した濃厚ガス吸収媒体の二酸化硫黄含有量は、0.8〜15重量%である、請求項に記載の過程。
  10. 前記濃厚液ストリッパの中へ導入されるスチームと濃厚液との質量比は、0.01〜0.15である、請求項またはに記載の過程。
  11. 前記濃厚液ストリッパの中へ導入されるスチームと、前記濃厚ガス吸収器の中へ流れる前記二酸化硫黄との質量比は、約0.2〜約8、約0.3〜約6、または約0.3〜約4である、請求項10のいずれかの請求項に記載の過程。
  12. 前記供給ガスは、約4容量%〜約40容量%の二酸化硫黄を含有し、前記濃厚液ストリッパからの前記濃厚ストリッパガス排出物の二酸化硫黄含有量は、約40容量%〜約60容量%であり、前記再生した濃厚ガス吸収媒体の二酸化硫黄含有量は、約1.5〜約8重量%である、請求項11のいずれかに記載の過程。
  13. 前記濃厚液ストリッパに進入するスチームと、前記濃厚ガス吸収器に進入するSOとの比率は、前記濃厚ガス吸収器への前記供給ガス中に1000〜2000ppmのSOレベルで約4〜約15または約5〜約10lbs/lb.SO2、前記供給ガス中に2000ppm〜2容量%のSOレベルで約1.5〜約8lbsスチーム/lb.SO、前記供給ガス中に2容量%〜4容量%のSOレベルで約1〜約4lbsスチーム/lb.SO、及び前記供給ガス中に4容量%を超えるSOレベルで、約1〜約3lbsスチーム/lb.SOである、請求項1〜11のいずれかに記載の過程。
  14. 前記再生した希薄ガス吸収媒体の二酸化硫黄含有量は、約1重量%以下、または約0.8重量%以下、または約0.6重量%以下、または約0.5重量%以下、または約0.4重量%以下、または約0.3重量%以下、または約0.2重量%以下である、請求項13に記載の過程。
  15. 吸着剤が前記希薄ガス吸収器の中へ導入される割合と、二酸化硫黄が前記希薄ガス吸収器の中へ導入される割合との化学量論比は、約1〜約6、または約2〜約4である、請求項14のいずれかに記載の過程。
  16. 前記希薄ガス吸収器における質量比L/Gは、約0.8以下、0.02〜0.6、好ましくは、約0.04〜約0.4、より好ましくは、約0.1〜約0.2である、請求項15のいずれかに記載の過程。
  17. トリッパ過程ガス冷却器/凝縮器においてストリッパ過程ガスから冷却媒体に間接的に熱移動し、それによって、汚染物質含有凝縮液を生成することによって、前記濃厚ストリッパガス、前記希薄ストリッパガス、またはそれらの組み合わせを含む前記ストリッパ過程ガスから水を凝縮することと、
    水蒸気及び汚染物質を含有するストリップした凝縮液及び凝縮液ストリッパガス排出物を生成するために、前記ストリッパ過程ガス冷却器/凝縮器を出る前記汚染物質含有凝縮液を、凝縮液ストリッパにおいてスチームと接触させることと、
    ここで、前記ストリッパ過程ガス冷却器/凝縮器において前記1次ストリッパガス排出物から熱が移動される前記冷却媒体は、前記ストリップした凝縮液の少なくとも一部分を含み、それによって、前記ストリップした凝縮液からスチームを発生させ、及び、
    前記ストリッパ過程ガス冷却器/凝縮器において発生したスチームを、そこから汚染物質を脱着させるための汚染物質含有吸収液との接触のためのストリッピングスチームとして、前記濃厚液ストリッパの中へ、前記希薄液ストリームの中へ、または前記濃厚液ストリッパ及び前記希薄液ストリッパの双方に導入することと、をさらに含む、請求項1〜16のいずれかに記載の過程。
  18. 前記汚染物質ガスの吸着は、前記汚染物質ガスと前記吸着剤との酸/塩基反応で構成され、前記濃厚ガス吸収器内の前記吸収媒体のpHは、前記pHと異なる値に調整され、前記pHは、吸収に最も好ましい平衡をもたらすが、前記pHにおいて、前記再生した濃厚ガス吸収媒体の前記汚染物質ガス含有量を目標レベルまで低減させるための、前記濃厚液ストリッパにおけるスチーム消費量は、前記過程が実行される条件と本質的に同一の条件下で実行される比較動作において、前記再生した濃厚ガス吸収媒体の前記汚染物質ガス含有量をそのようなレベルまで低減させるためのスチーム消費量よりも少ないが、但し、前記比較動作において、前記吸収媒体のpHが、吸収に最も好ましい平衡をもたらす値に維持されることを除く、請求項1〜17のいずれかに記載の過程。
  19. 前記汚染物質ガスは、二酸化硫黄を含み、前記吸着剤は、リンゴ酸塩を含み、前記濃厚ガス吸収器を出る前記濃厚ガス吸収液又は前記濃厚液ストリッパを出る再生した濃厚ガス吸収媒体のpHは、3.4〜4.2、または3.4〜3.9、または3.6〜3.8、または3.7〜3.85、または3.8〜4.0、または4.0〜4.2の値に維持される、請求項18に記載の過程。
  20. 二酸化硫黄含有原料ガスから二酸化硫黄を除去し、そして、二酸化硫黄を回収するための過程であって、
    前記原料ガスを含む供給ガスストリームを、濃厚ガス吸収器において、二酸化硫黄の吸着剤を含む濃厚ガス吸収媒体と接触させ、それによって、二酸化硫黄を前記供給ガスストリームから前記吸収媒体に吸収し、そして、二酸化硫黄が除去された希薄ガス、及び吸着した二酸化硫黄を含有する濃厚吸収液を生成することと、
    前記濃厚ガス吸収器を出る前記の希薄ガスを、希薄ガス吸収器において、二酸化硫黄の吸着剤を含む希薄ガス吸収媒体と接触させ、それによって、残留する二酸化硫黄を前記希薄ガスから前記希薄ガス吸収媒体に吸収し、そして、追加的な二酸化硫黄が除去された排気ガス、及び吸着した二酸化硫黄を含有する希薄吸収液を生成することと、
    前記濃厚吸収液を、濃厚液ストリッパにおいて、ストリッピングスチームと接触させて、前記濃厚液から二酸化硫黄を脱着させ、それによって、前記濃厚液から、再生した濃厚ガス吸収媒体及び濃厚ストリッパガスを生成することであって、前記濃厚ストリッパガスは、水蒸気及び二酸化硫黄を含む、生成することと、
    前記希薄吸収液を、希薄液ストリッパにおいて、ストリッピングスチームと接触させて、前記希薄液から二酸化硫黄を脱着させ、それによって、前記希薄液ストリッパから、再生した希薄ガス吸収媒体及び希薄ストリッパガス排出物を生成することであって、前記希薄ストリッパガスは、水蒸気及び二酸化硫黄を含む、生成することと、
    前記再生した濃厚ガス吸収媒体を、前記供給ガスのさらなる流れから二酸化硫黄を除去するために、前記濃厚吸収器に再循環させ、そして、前記再生した希薄ガス吸収媒体を、前記希薄ガスのさらなる流れから二酸化硫黄を除去するために、前記希薄吸収器に再循環させることと、を含む、過程。
  21. 汚染物質含有原料ガスから汚染物質ガスを除去し、そして、汚染物質ガスを回収するための過程であって、
    前記原料ガスを含む供給ガスストリームを、汚染物質ガス吸収器において、前記汚染物質ガスの吸着剤を含む水性吸収媒体と接触させ、それによって、汚染物質ガスを前記供給ガスストリームから前記吸収媒体に吸収し、そして、汚染物質ガスが除去された排気ガス、及び汚染物質富化吸収液を生成することと、
    前記汚染物質富化吸収液を、吸収液ストリッパにおいて、ストリッピングスチームと接触させて、前記汚染物質富化吸収液から前記汚染物質を脱着させ、それによって、再生した汚染物質吸収媒体、ならびに水蒸気及び汚染物質ガスを含む1次ストリッパガス排出物を生成することと、
    前記吸収液ストリッパの液体出口から、再生した吸収媒体を取り出し、前記吸収液ストリッパの蒸気出口から1次ストリッパガス排出物を取り出すことと、
    前記吸収器媒体のpHを、前記吸収器において、前記pHと異なる値に調整することであって、前記pHは、吸収に最も好ましい平衡をもたらすが、前記pHにおいて、前記再生した吸収媒体の前記汚染物質ガス含有量を目標レベルまで低減させるための、前記ストリッパにおけるスチーム消費量は、前記過程が実行される条件と本質的に同一の条件下で実行される比較動作において、前記再生した吸収媒体の前記汚染物質ガス含有量をそのようなレベルまで低減させるためのスチーム消費量よりも少ないが、但し、前記比較動作において、前記吸収媒体の前記pHが、吸収に最も好ましい平衡をもたらす値に維持されることを除く、調整することと、を含む、過程。
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