JP2016509343A5 - - Google Patents
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Claims (14)
- 極端紫外線(EUV)光源内の第1の光学素子に対する増幅光ビームの位置を調整する方法であって、
前記第1の光学素子に隣接し前記第1の光学素子とは別個の監視対象の素子の温度を表す第1の温度分布にアクセスすることであって、前記第1の温度分布は、複数の温度分布を含み、前記複数の温度分布の各々は、前記監視対象の素子上の複数の異なる空間位置の一つの温度を表す少なくとも一つの数値を含み、前記第1の光学素子は、前記増幅光ビームを受光する位置にあり、前記監視対象の素子上の複数の異なる空間位置の各々の温度は、前記第1の光学素子の複数部分の一つの温度の間接的な測定値であることと、
前記複数の温度分布の各々から温度メトリックを判定することであって、各温度メトリックは、前記監視対象の素子上の前記異なる空間位置の一つに関連することと、
前記複数の判定された温度メトリックを相互に比較することと、
前記増幅光ビームが前記第1の光学素子の中央にあるか否かを判定することであって、前記複数の判定された温度メトリックが実質的に同一であるときに前記増幅光ビームが前記第1の光学素子の中央にあり、前記複数の判定された温度メトリックが実質的に同一でないときに前記増幅光ビームが前記第1の光学素子の中央から外れていることと、
前記増幅光ビームが前記第1の光学素子の中央から外れている場合に、前記増幅光ビームが前記第1の光学素子の中央に近付くまで前記第1の光学素子に対する前記増幅光ビームの位置を調整することと、
を含む、方法。 - 前記増幅光ビームの位置を調整することは、前記増幅光ビームの前記位置への調整を表す表示を生成することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記表示が、第2の光学素子に機械的に結合されたアクチュエータ用の入力を含み、
前記第2の光学素子が、前記増幅光ビームを受光する位置にある能動領域を含み、
前記アクチュエータへの前記入力が、前記アクチュエータが前記能動領域を少なくとも一方向に移動させるのに十分である、請求項2に記載の方法。 - 前記アクチュエータに前記入力を提供することをさらに含む、請求項3に記載の方法。
- 前記アクチュエータに前記入力を提供した後、複数の第2の温度分布にアクセスすることであって、前記複数の第2の温度分布の各々は、前記監視対象の素子上の前記複数の異なる空間位置の一つの温度を表することと、
前記複数の第2の温度分布から前記複数の温度メトリックを判定することと、
前記第2の温度分布から判定された前記温度メトリックを、前記第1の温度分布の1つ以上と、又は相互に比較することと、
をさらに含む、請求項4に記載の方法。 - 前記第2の光学素子の前記能動領域が、前記増幅光ビームを受光する反射部を有するミラーを備え、移動すると、前記第1の光学素子に対する前記増幅光ビームの前記位置を変更させる、請求項3に記載の方法。
- 前記インジケータが、前記EUV光源内の第3の光学素子に結合された第2のアクチュエータ用の入力をさらに含み、
前記第2のアクチュエータへの前記入力は、前記第2のアクチュエータが前記第3の光学素子を少なくとも一方向に移動させるのに十分である、請求項3に記載の方法。 - 前記監視対象の素子上の前記異なる空間位置の各々の温度は、少なくとも2つの異なる時間に測定される、請求項1に記載の方法。
- 前記複数の温度分布の各々が、前記監視対象の素子に機械的に結合された熱センサから受信した温度測定値を表すデータを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の光学素子が、前記増幅光ビームが通過するレンズを備え、
前記監視対象の素子が、前記レンズの外縁を囲うレンズシールドを備える、請求項1に記載の方法。 - 前記温度分布が、異なる時間に測定される前記監視対象の素子上の前記異なる空間位置の複数の温度を含み、
前記温度メトリックが、前記複数の温度の変動、前記複数の温度の平均、又は、前記複数の温度のうちの少なくとも2つの間の変化率、のうち1つ以上を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記温度メトリックが、前記複数の温度の空間変動を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記複数の温度メトリックが、前記監視対象の素子上の前記異なる空間位置で測定される前記複数の温度の空間変動をさらに含む、請求項12に記載の方法。
- 前記温度メトリックが、前記監視対象の素子の測定温度の時間的変化を表す値を含む、請求項1に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US13/747,263 | 2013-01-22 | ||
US13/747,263 US9148941B2 (en) | 2013-01-22 | 2013-01-22 | Thermal monitor for an extreme ultraviolet light source |
PCT/US2013/075871 WO2014116371A1 (en) | 2013-01-22 | 2013-12-17 | Thermal monitor for an extreme ultraviolet light source |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016509343A JP2016509343A (ja) | 2016-03-24 |
JP2016509343A5 true JP2016509343A5 (ja) | 2016-12-22 |
JP6250067B2 JP6250067B2 (ja) | 2017-12-20 |
Family
ID=51207012
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015553734A Active JP6250067B2 (ja) | 2013-01-22 | 2013-12-17 | 極端紫外線光源内の光学素子に対する増幅光ビームの位置調整方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9148941B2 (ja) |
JP (1) | JP6250067B2 (ja) |
KR (2) | KR102062296B1 (ja) |
TW (1) | TWI611427B (ja) |
WO (1) | WO2014116371A1 (ja) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3142823B1 (de) * | 2014-05-13 | 2020-07-29 | Trumpf Laser- und Systemtechnik GmbH | Einrichtung zur überwachung der ausrichtung eines laserstrahls und euv-strahlungserzeugungsvorrichtung damit |
US9927292B2 (en) | 2015-04-23 | 2018-03-27 | Asml Netherlands B.V. | Beam position sensor |
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US10128017B1 (en) * | 2017-05-12 | 2018-11-13 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus for and method of controlling debris in an EUV light source |
US10824083B2 (en) | 2017-09-28 | 2020-11-03 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Light source, EUV lithography system, and method for generating EUV radiation |
JP7334165B2 (ja) * | 2018-02-20 | 2023-08-28 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | センサシステム |
WO2019186754A1 (ja) | 2018-03-28 | 2019-10-03 | ギガフォトン株式会社 | 極端紫外光生成システム及び電子デバイスの製造方法 |
US20200057376A1 (en) * | 2018-08-14 | 2020-02-20 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Lithography system and lithography method |
NL2024323A (en) | 2018-12-18 | 2020-07-07 | Asml Netherlands Bv | Sacrifical device for protecting an optical element in a path of a high-power laser beam |
Family Cites Families (39)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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US4749122A (en) * | 1986-05-19 | 1988-06-07 | The Foxboro Company | Combustion control system |
JPS6348509A (ja) * | 1986-08-18 | 1988-03-01 | Komatsu Ltd | レ−ザスキヤナ装置 |
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-
2013
- 2013-01-22 US US13/747,263 patent/US9148941B2/en active Active
- 2013-12-17 KR KR1020157017347A patent/KR102062296B1/ko active IP Right Grant
- 2013-12-17 WO PCT/US2013/075871 patent/WO2014116371A1/en active Application Filing
- 2013-12-17 KR KR1020197038651A patent/KR102100789B1/ko active IP Right Grant
- 2013-12-17 JP JP2015553734A patent/JP6250067B2/ja active Active
-
2014
- 2014-01-10 TW TW103100977A patent/TWI611427B/zh active
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