JP2009074849A5 - - Google Patents

Claims (2)

1. 基板上に形成されたパターンの線幅を測定する線幅測定装置の検査方法において、
   高さ方向の位置を決定するための、第１のフォーカスエリアと該第１のフォーカスエリアより小さい範囲の第２のフォーカスエリアを設け、
   測定位置毎に、第１のフォーカスエリアで合焦点するか第２のフォーカスエリアで合焦点するかを予め決めておき、
   第１のフォーカスエリアで合焦点する測定位置について、測定位置毎に水平方向の位置と高さ方向の位置を測定し、
   第１のフォーカスエリアで合焦点する測定位置の測定位置毎の水平方向の位置と高さ方向の位置から補間によって、第２のフォーカスエリアで合焦点する測定位置の、水平方向の位置と高さ方向の位置を補正し、
   補正した位置において、第２のフォーカスエリアで合焦点する測定位置で線幅を測定することを特徴とする線幅測定装置の検査方法。
2. 被測定対象物を載置し固定するステージと、前記ステージ上の前記被測定対象物の所定の位置の拡大画像を撮像する光学ヘッドと、前記光学ヘッドを前記被測定対象物の所定の水平位置及び高さ位置に相対的に移動するための移動機構と、前記光学ヘッドの水平位置をレーザ干渉計によって測定する位置測定部と、前記光学ヘッドの高さ位置を合焦点位置に移動させるための合焦点機構と、前記光学ヘッドが撮像した画像を画像処理し、かつ線幅測定装置を制御する画像処理部とを備え、前記被測定対象物上に形成されたパターンの寸法を測定する線幅測定装置において、
   前記被測定対象物上の一部の測定位置について合焦点して高さを決定し、残りの測定位置の高さ調整を決定した前記高さのデータから内挿若しくは外挿によって算出した高さデータで実行することを特徴とする線幅測定装置。