JP2016145354A - 光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物、並びにその硬化方法 - Google Patents
光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物、並びにその硬化方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016145354A JP2016145354A JP2016018361A JP2016018361A JP2016145354A JP 2016145354 A JP2016145354 A JP 2016145354A JP 2016018361 A JP2016018361 A JP 2016018361A JP 2016018361 A JP2016018361 A JP 2016018361A JP 2016145354 A JP2016145354 A JP 2016145354A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- rubber composition
- component
- formula
- photocurable fluoropolyether
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/002—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds
- C08G65/005—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens
- C08G65/007—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from unsaturated compounds containing halogens containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/28—Treatment by wave energy or particle radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
- C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
- C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
- C08G65/336—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
- C08G77/46—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyether sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L71/00—Compositions of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2650/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
- C08G2650/28—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type
- C08G2650/46—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type containing halogen
- C08G2650/48—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterised by the polymer type containing halogen containing fluorine, e.g. perfluropolyethers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2371/00—Characterised by the use of polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Derivatives of such polymers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2205/00—Polymer mixtures characterised by other features
- C08L2205/05—Polymer mixtures characterised by other features containing polymer components which can react with one another
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
【解決手段】(A)1分子中に2個以上のアルケニル基を有し、且つ主鎖中に直鎖状パーフルオロポリエーテル構造を有する直鎖状ポリフルオロ化合物 100質量部、(B)1分子中にケイ素原子に直結した水素原子を2個以上有する含フッ素オルガノハイドロジェンポリシロキサン (A)成分のアルケニル基1モルに対してSi−H基として0.5〜3.0モルとなる量、及び、(C)光活性型ヒドロシリル化反応触媒 (A)成分の質量に対して金属原子換算で0.1〜500ppmを含有することを特徴とする光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
【選択図】なし
Description
なお、本発明において、「直鎖状ポリフルオロ化合物」、「直鎖状パーフルオロポリエーテル構造」又は「直鎖状パーフルオロポリエーテル基」とは、主鎖のパーフルオロポリエーテル構造を構成する2価のフルオロオキシアルキレン繰り返し単位同士が直鎖状に連結していることを意味するものであって、個々の2価のフルオロオキシアルキレン単位それ自体は、例えば、直鎖状フルオロオキシアルキレン単位であっても、あるいは−[CF2CF(CF3)O]−等の分岐構造を有するフルオロオキシアルキレン単位であってもよい。
(A)1分子中に2個以上のアルケニル基を有し、且つ主鎖中に直鎖状パーフルオロポリエーテル構造を有する直鎖状ポリフルオロ化合物 100質量部、
(B)1分子中にケイ素原子に直結した水素原子を2個以上有する含フッ素オルガノハイドロジェンポリシロキサン (A)成分のアルケニル基1モルに対してSi−H基として0.5〜3.0モルとなる量、及び、
(C)光活性型ヒドロシリル化反応触媒 (A)成分の質量に対して金属原子換算で0.1〜500ppm
を含有することを特徴とする光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
(A)成分が、下記式(1)で表される直鎖状ポリフルオロ化合物である〔1〕に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
(ここで、Yは−CH2−、−Si(CH3)2CH2CH2CH2−、−Si(CH3)(CH=CH2)CH2CH2CH2−、−Si(CH=CH2)2CH2CH2CH2−又は下記構造式(Z)
で示されるo−、m−又はp−シリルフェニレン基であり、R1は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である)であり、
(ここで、Y’は−CH2−、−CH2CH2CH2Si(CH3)2−、−CH2CH2CH2Si(CH3)(CH=CH2)−、−CH2CH2CH2Si(CH=CH2)2−又は下記構造式(Z’)
で示されるo−、m−又はp−シリルフェニレン基であり、R2は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である)である。
Rf1は下記式(i)又は(ii)
の2価の直鎖状パーフルオロポリエーテル基で表され、好ましくは分岐構造を有するフルオロオキシアルキレン単位である−[CF2CF(CF3)O]−を含有する2価の直鎖状パーフルオロポリエーテル基である。]
(B)成分の含フッ素オルガノハイドロジェンポリシロキサンが、1分子中に1個以上の1価のパーフルオロアルキル基、1価のパーフルオロオキシアルキル基、2価のパーフルオロアルキレン基、又は2価のパーフルオロオキシアルキレン基を有するものである〔1〕又は〔2〕に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
(C)成分の光活性型ヒドロシリル化反応触媒が、(η5−シクロペンタジエニル)トリ(σ−アルキル)白金(IV)錯体、及び/又は、β−ジケトナト白金(II)錯体である〔1〕〜〔3〕のいずれか1つに記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
更に、(D)成分として、充填剤にBET比表面積が50m2/g以上の疎水性シリカを(A)成分100質量部に対して0.5〜30質量部含む〔1〕〜〔4〕のいずれか1つに記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
更に、(E)成分として、ヒドロシリル化反応の反応制御剤を含む〔1〕〜〔5〕のいずれか1つに記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
〔1〕〜〔6〕のいずれか1つに記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物の硬化物。
〔8〕
〔1〕〜〔6〕のいずれか1つに記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物に最大ピーク波長が300〜400nmである近紫外線を照射する工程を含むことを特徴とする光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物の硬化方法。
本発明の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物における(A)成分は、1分子中に2個以上のアルケニル基と主鎖中に直鎖状パーフルオロポリエーテル構造とを有する直鎖状ポリフルオロ化合物である。ここでアルケニル基の数は、2〜30個が好ましく、特に2〜6個が好ましい。なお、本発明の組成物には、1分子中に1個のアルケニル基を有し、且つ主鎖中に直鎖状パーフルオロポリエーテル構造を有する直鎖状ポリフルオロ化合物は含まないことが好ましい。
なお、本発明において、「直鎖状ポリフルオロ化合物」、「直鎖状パーフルオロポリエーテル構造」又は「直鎖状パーフルオロポリエーテル基」とは、主鎖のパーフルオロポリエーテル構造を構成する2価のフルオロオキシアルキレン繰り返し単位同士が直鎖状に連結していることを意味するものであって、個々の2価のフルオロオキシアルキレン単位それ自体は、例えば、直鎖状フルオロオキシアルキレン単位であっても、あるいは−[CF2CF(CF3)O]−等の分岐構造を有するフルオロオキシアルキレン単位であってもよい。
(ここで、Yは−CH2−、−Si(CH3)2CH2CH2CH2−、−Si(CH3)(CH=CH2)CH2CH2CH2−、−Si(CH=CH2)2CH2CH2CH2−又は下記構造式(Z)
で示されるo−、m−又はp−シリルフェニレン基であり、R1は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である)であり、
(ここで、Y’は−CH2−、−CH2CH2CH2Si(CH3)2−、−CH2CH2CH2Si(CH3)(CH=CH2)−、−CH2CH2CH2Si(CH=CH2)2−又は下記構造式(Z’)
で示されるo−、m−又はp−シリルフェニレン基であり、R2は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である)である。
Rf1は下記式(i)又は(ii)
で表され、好ましくは、分岐構造を有するフルオロオキシアルキレン単位である−[CF2CF(CF3)O]−を含有する2価の直鎖状パーフルオロポリエーテル基である。]
なお、本発明において、粘度(23℃)は、回転粘度計(例えば、BL型、BH型、BS型、コーンプレート型、レオメータ等)により測定することができるが、特に、JIS K7117−1に規定された条件に準拠して測定することが好ましい。また、直鎖状ポリフルオロ化合物の主鎖を構成する直鎖状パーフルオロポリエーテル構造中の各パーフルオロオキシアルキレン繰り返し単位の繰り返し数(又は重合度)は、通常、フッ素系溶剤を展開溶媒としてゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)分析によるポリスチレン換算の数平均重合度(又は数平均分子量)等として算出することができる。
(B)成分は、1分子中に含フッ素有機基を1個以上、好ましくは1〜10個有し、且つケイ素原子に直結した水素原子(即ち、Si−Hで示されるヒドロシリル基)を2個以上、好ましくは3〜50個有する含フッ素オルガノハイドロジェンポリシロキサンである。(B)成分は、(A)成分の架橋剤及び/又は鎖長延長剤として機能するものである。また(B)成分は、(A)成分との相溶性、分散性、硬化後の均一性等の観点から、1分子中に1個以上の1価のパーフルオロアルキル基、1価のパーフルオロオキシアルキル基、2価のパーフルオロアルキレン基、又は2価のパーフルオロオキシアルキレン基等のフッ素含有基を有するものが好ましい。
(C)成分は、光活性型ヒドロシリル化反応触媒である。光活性型ヒドロシリル化反応触媒は、光、特に300〜400nmの紫外線の照射によって活性化され、(A)成分中のアルケニル基と、(B)成分中のヒドロシリル基との付加反応を促進する触媒である。この光活性型ヒドロシリル化反応触媒は、主に白金族系金属触媒、若しくはニッケル系金属触媒がこれに該当し、白金族系金属触媒としては白金系、パラジウム系、ロジウム系の、ニッケル系金属触媒としてはニッケル系、鉄系、コバルト系の金族錯体化合物がある。中でも白金系金属錯体化合物は、比較的入手し易く、且つ良好な触媒活性を示すため、好ましい。
本発明の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物には、更に、(D)成分として、本発明の効果を損なわない範囲で疎水性シリカ粉末を添加することができる。これによって、本発明の光硬化性組成物から得られる光硬化物に適切な物理的強度を付与することができる。この疎水性シリカ粉末としては、BET比表面積が50m2/g以上、特に50〜400m2/gの微粉末シリカを疎水化処理したものが好適である。
本発明の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物には、更に、(E)成分として、本発明の効果を損なわない範囲で従来公知のヒドロシリル化反応の反応制御剤を配合することができる。これによって、光硬化性組成物は更に良好な保存性を得ることができる。反応制御剤としては、例えば1−エチニル−1−ヒドロキシシクロヘキサン、3−メチル−1−ブチン−3−オール、3,5−ジメチル−1−ヘキシン−3−オール、3−メチル−1−ペンテン−3−オール、フェニルブチノールなどのアセチレンアルコールや、3−メチル−3−ペンテン−1−イン、3,5−ジメチル−3−ヘキセン−1−イン等のアセチレン化合物などが挙げられる。また、以下の構造式で示される含フッ素アセチレンアルコール化合物、若しくはポリメチルビニルシロキサン環式化合物、有機リン化合物なども反応制御剤として用いることができる。
本発明の光硬化性組成物においては、その実用性を高めるために上記の(A)〜(E)成分以外にも、可塑剤、粘度調節剤、可撓性付与剤、無機質充填剤、接着促進剤、接着助剤、シランカップリング剤等の各種配合剤を必要に応じて添加することができる。これら添加剤の配合量は、本発明の効果を損なわない範囲、及び光硬化性組成物の特性及び光硬化物の物性を損なわない限りにおいて任意である。
本発明の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物は、上記した(A)〜(C)成分、好ましくは(A)〜(D)成分、より好ましくは(A)〜(E)成分と、その他の任意成分とをプラネタリーミキサー、ロスミキサー、ホバートミキサー等の混合装置、必要に応じてニーダー、三本ロール等の混練装置を使用して均一に混合することによって製造することができる。
製造された光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物は、光照射により硬化され得る。硬化の際、照射する光は発光スペクトルにおける最大ピーク波長が300〜400nmの領域にあり、且つ300nmより短い波長領域にある各波長の放射照度は前記最大ピーク波長の放射照度の5%以下、好ましくは1%以下、より好ましくは0.1%以下、つまり0に近ければ近いほど好ましい。300nmより短い波長領域にあり、放射照度が前記最大ピーク波長の放射照度の5%より大きい波長を有する光を照射すると、ポリマー末端基の分解が起こったり、触媒の一部が分解したりするなどして、十分な硬化物を得ることができない可能性がある。
上記(A)〜(C)成分、好ましくは(A)〜(D)成分、より好ましくは(A)〜(E)成分を主成分とする本発明の光硬化性組成物は、前記光硬化方法により耐薬品性及び耐溶剤性に優れ、且つ透湿性の低いゴム硬化物を形成することができる。ゴム硬化物の形成は、本発明の光硬化性組成物を適当な容器内に注入するか、若しくは適当な基体上にコーティングした後に、光照射し硬化させる等の従来公知の方法により容易に行うことができる。
[製造例]
下記式(6)で表されるポリマー(粘度9,000mPa・s、ビニル基量0.013モル/100g、数平均分子量15,700)100部に疎水性シリカ系充填剤としてフュームドシリカ(品名 AEROSIL R972:日本アエロジル(株)製商品名)10部をプラネタリーミキサーにて分割添加し、1時間混練りを行った。次いで、150℃で1時間混合減圧(−0.08〜−0.10MPa)熱処理し、冷却後3本ロールにて分散処理してベースコンパウンドの製造を行った。
[実施例1]
式(6)で示されるポリマー100部をプラネタリーミキサー内に仕込み、これに(メチルシクロペンタジエニル)トリメチル白金(IV)の1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン溶液(白金濃度3.0質量%)0.07部、下記式(7)で示される含フッ素オルガノハイドロジェンポリシロキサン2.4部(Si−H基量0.00500モル/g)を順次添加し、均一になるよう混合した。その後、脱泡操作を行うことにより光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物を調製した。
上記製造例で作製したベースコンパウンド(110部)に式(6)で示されるポリマー100部をプラネタリーミキサー内に仕込み、均一になるまで混合した。これに(メチルシクロペンタジエニル)トリメチル白金(IV)の1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン溶液(白金濃度3.0質量%)0.14部、1−エチニル−1−ヒドロキシシクロヘキサンのトルエン溶液(5.0質量%)0.11部、上記式(7)で示される含フッ素オルガノハイドロジェンポリシロキサン5.0部(Si−H基量0.00500モル/g)を順次添加し、均一になるよう混合した。その後、脱泡操作を行うことにより光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物を調製した。
実施例2において、光活性型ヒドロシリル化反応触媒:(メチルシクロペンタジエニル)トリメチル白金(IV)の1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン溶液(白金濃度3.0質量%)0.14部をビス(2,4−へプタンジオナト)白金(II)の酢酸2−(2−ブトキシエトキシ)エチル溶液(白金濃度0.5質量%)0.88部に変更した以外は実施例2と同様にして光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物を調製した。
実施例2において、含フッ素オルガノハイドロジェンポリシロキサン(7)5.0部を下記式(8)で示す含フッ素オルガノハイドロジェンポリシロキサン5.0部に変更した以外は実施例2と同様にして光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物を調製した。
実施例4において、光活性型ヒドロシリル化反応触媒:(メチルシクロペンタジエニル)トリメチル白金(IV)の1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン溶液(白金濃度3.0質量%)0.14部の代わりに、非光活性型ヒドロシリル化反応触媒:白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のエタノール溶液(白金濃度3.0質量%)0.14部に変更した以外は実施例4と同様にして硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物を調製した。
上記実施例及び比較例で得られたフルオロポリエーテル系ゴム組成物を遮光中、23℃で2週間放置した時の粘度と初期粘度との比較を行った。その結果を表1に示す。なお、粘度の測定はJIS K7117−1に準拠し、東機産業株式会社製TV−10U型回転粘度計(ロッドNo.H6、23℃、100rpm)を使用して行った。
実施例1〜4で得られた光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物をそれぞれ(H)×(D)×(t)=105mm×85mm×2mmの型に流し込み、均一照射光学ユニットを装着したアイUV電子制御装置(岩崎電気(株)製)を用いて光照射を行った。その際、300nmよりも短い波長領域にある光を365nmバンドパスフィルターにより除去し、メインの365nmの光の積算光量が9,000mJ/cm2となるよう100mW/cm290秒間照射を行った。光照射後は直ちに遮光し、23℃にて静置し、光照射後、30分後、1時間後、2時間後のゴム物性をJIS K6250、6251、6253に準じて測定した。その結果を表2に示す。
また参考例1では、組成は実施例1と同一であり、紫外線照射時に365nmバンドパスフィルターを用いなかったこと以外は同様の操作を行った。その結果を表2に示す。
実施例1〜4で得られた光硬化物をJIS K6257に準じて150℃における耐熱試験を行った。結果を表3に示す。
実施例1〜4の組成物で得られた光硬化物を用いて、DSCによりガラス転移点(Tg)を測定した。その結果、いずれの硬化物もTg=−54℃であることが確認された。このことから本実施例の組成物から得られた光硬化物が低温特性に優れることを確認した。
実施例2で得られた光硬化物を用いて、JIS K6258に準じて各種有機溶剤に対する浸漬試験を実施し体積変化率(%)を測定し、耐溶剤膨潤性を評価した。結果を表4に示す。
Claims (8)
- (A)1分子中に2個以上のアルケニル基を有し、且つ主鎖中に直鎖状パーフルオロポリエーテル構造を有する直鎖状ポリフルオロ化合物 100質量部、
(B)1分子中にケイ素原子に直結した水素原子を2個以上有する含フッ素オルガノハイドロジェンポリシロキサン (A)成分のアルケニル基1モルに対してSi−H基が0.5〜3.0モルとなる量、及び、
(C)光活性型ヒドロシリル化反応触媒 (A)成分の質量に対して金属原子換算で0.1〜500ppm
を含有することを特徴とする光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。 - (A)成分が、下記式(1)で表される直鎖状ポリフルオロ化合物である請求項1に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
CH2=CH−(X)g−Rf1−(X’)g−CH=CH2 (1)
[式(1)中、Xは−CH2−、−CH2O−、−CH2OCH2−又は−Y−NR1−CO−
(ここで、Yは−CH2−、−Si(CH3)2CH2CH2CH2−、−Si(CH3)(CH=CH2)CH2CH2CH2−、−Si(CH=CH2)2CH2CH2CH2−又は下記構造式(Z)
で示されるo−、m−又はp−シリルフェニレン基であり、R1は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である)であり、
X’は−CH2−、−OCH2−、−CH2OCH2−又は−CO−NR2−Y’−
(ここで、Y’は−CH2−、−CH2CH2CH2Si(CH3)2−、−CH2CH2CH2Si(CH3)(CH=CH2)−、−CH2CH2CH2Si(CH=CH2)2−又は下記構造式(Z’)
で示されるo−、m−又はp−シリルフェニレン基であり、R2は水素原子又は非置換若しくは置換の1価炭化水素基である)である。
gは独立に0又は1である。
Rf1は下記式(i)又は(ii)
で表される2価の直鎖状パーフルオロポリエーテル基である。] - (B)成分の含フッ素オルガノハイドロジェンポリシロキサンが、1分子中に1個以上の1価のパーフルオロアルキル基、1価のパーフルオロオキシアルキル基、2価のパーフルオロアルキレン基、又は2価のパーフルオロオキシアルキレン基を有するものである請求項1又は2に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
- (C)成分の光活性型ヒドロシリル化反応触媒が、(η5−シクロペンタジエニル)トリ(σ−アルキル)白金(IV)錯体、及び/又は、β−ジケトナト白金(II)錯体である請求項1〜3のいずれか1項に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
- 更に、(D)成分として、充填剤にBET比表面積が50m2/g以上の疎水性シリカを(A)成分100質量部に対して0.5〜30質量部含む請求項1〜4のいずれか1項に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
- 更に、(E)成分として、ヒドロシリル化反応の反応制御剤を含む請求項1〜5のいずれか1項に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物の硬化物。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物に最大ピーク波長が300〜400nmである近紫外線を照射する工程を含むことを特徴とする光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物の硬化方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015020416 | 2015-02-04 | ||
JP2015020416 | 2015-02-04 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019038432A Division JP6852743B2 (ja) | 2015-02-04 | 2019-03-04 | 光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物、並びにその硬化方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016145354A true JP2016145354A (ja) | 2016-08-12 |
JP6565723B2 JP6565723B2 (ja) | 2019-08-28 |
Family
ID=55446591
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016018361A Active JP6565723B2 (ja) | 2015-02-04 | 2016-02-02 | 光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物、並びにその硬化方法 |
JP2019038432A Active JP6852743B2 (ja) | 2015-02-04 | 2019-03-04 | 光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物、並びにその硬化方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019038432A Active JP6852743B2 (ja) | 2015-02-04 | 2019-03-04 | 光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物、並びにその硬化方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US20160222170A1 (ja) |
EP (1) | EP3053945B1 (ja) |
JP (2) | JP6565723B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016150991A (ja) * | 2015-02-18 | 2016-08-22 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物の接着方法 |
JP2017218513A (ja) * | 2016-06-08 | 2017-12-14 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物 |
JP2019052228A (ja) * | 2017-09-14 | 2019-04-04 | 信越化学工業株式会社 | チキソ性光硬化型フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物、並びにその硬化方法 |
JPWO2021095621A1 (ja) * | 2019-11-11 | 2021-05-20 | ||
WO2021251151A1 (ja) * | 2020-06-11 | 2021-12-16 | 信越化学工業株式会社 | パーフルオロポリエーテルブロックを有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、及びその製造方法 |
WO2023210400A1 (ja) * | 2022-04-28 | 2023-11-02 | 信越化学工業株式会社 | 熱硬化性パーフルオロポリエーテルゴム組成物 |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106336514B (zh) * | 2016-08-29 | 2019-05-17 | 太仓中化环保化工有限公司 | 一种多乙烯基全氟聚醚氟硅油及其制备方法 |
CN106349717B (zh) * | 2016-08-29 | 2019-04-26 | 太仓中化环保化工有限公司 | 一种高强度全氟聚醚氟硅油可固化组合物及其制备方法 |
WO2019004275A1 (ja) | 2017-06-30 | 2019-01-03 | 昭和電工株式会社 | 有機フッ素化合物、潤滑剤および磁気記録媒体の処理方法 |
WO2019070040A1 (ja) * | 2017-10-06 | 2019-04-11 | Agc株式会社 | 含フッ素共重合体組成物及び金属ゴム積層体 |
JP7355559B2 (ja) * | 2019-08-28 | 2023-10-03 | 住友理工株式会社 | 燃料電池用ラジカル硬化性シール部材 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6112751A (ja) * | 1984-06-14 | 1986-01-21 | ミネソタ マイニング アンド マニユフアクチユアリング コンパニー | 低表面エネルギー材料に硬化できる組成物 |
JP2000248166A (ja) * | 1999-03-02 | 2000-09-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物 |
JP2009249568A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 室温硬化性フルオロポリエーテルゴム組成物及びその硬化物 |
JP2012506933A (ja) * | 2008-10-30 | 2012-03-22 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 光によって架橋可能なシリコーン混合物からのシリコーン成形体の製造法 |
JP2014210831A (ja) * | 2013-04-17 | 2014-11-13 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性フルオロポリエーテル系ゲル組成物、その硬化方法、そのゲル硬化物及びその硬化物を用いたゲル製品 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3183624B2 (ja) | 1995-05-29 | 2001-07-09 | 信越化学工業株式会社 | 室温硬化性フッ素ポリマー系組成物 |
JP3232221B2 (ja) | 1995-09-14 | 2001-11-26 | 信越化学工業株式会社 | 室温硬化性フッ素ポリマー系組成物 |
EP0745604A3 (en) | 1995-05-29 | 1998-07-29 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Room temperature curable fluoropolymer composition; and fluorine-containing organosilicon compounds, a method of producing the same, and room temperature curable silicone composition containing the same |
JP3350347B2 (ja) | 1996-03-27 | 2002-11-25 | 信越化学工業株式会社 | 室温硬化性組成物 |
JP3617568B2 (ja) | 1996-03-27 | 2005-02-09 | 信越化学工業株式会社 | 室温硬化性組成物 |
US6150546A (en) * | 1999-05-03 | 2000-11-21 | General Electric Company | Irradiation-curable silicone compositions, photo-active platinum (IV) compounds, and method |
JP2001192546A (ja) | 2000-01-07 | 2001-07-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物 |
JP2001220509A (ja) * | 2000-02-07 | 2001-08-14 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性組成物 |
JP4016239B2 (ja) | 2000-07-05 | 2007-12-05 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物 |
JP2003327820A (ja) * | 2002-05-14 | 2003-11-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性フルオロポリエーテルゴム組成物及びゴム製品 |
JP2004331896A (ja) * | 2003-05-12 | 2004-11-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性フルオロポリエーテルゴム組成物及びゴム製品 |
JP4582287B2 (ja) * | 2003-10-27 | 2010-11-17 | 信越化学工業株式会社 | 低汚染性接着剤組成物 |
JP2006022319A (ja) * | 2004-06-11 | 2006-01-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性パーフルオロポリエーテル組成物及びその硬化物を用いたゴム及びゲル製品 |
US20050277731A1 (en) * | 2004-06-11 | 2005-12-15 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Curable perfluoropolyether compositions and rubber or gel articles comprising the same |
JP2006022223A (ja) * | 2004-07-08 | 2006-01-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性フルオロポリエーテル組成物 |
JP2006219668A (ja) * | 2005-01-14 | 2006-08-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 熱硬化性フルオロポリエーテル系組成物 |
US20060270791A1 (en) * | 2005-05-25 | 2006-11-30 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Fluorine-containing material |
DE602007001540D1 (de) * | 2006-02-13 | 2009-08-27 | Shinetsu Chemical Co | Härtbare Fluorpolyether-Zusammensetzungen und in einem Stück geformete Harz/Gummi-Produkte |
JP2008085172A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Shinetsu Astec Kk | 発光装置 |
JP5303864B2 (ja) * | 2007-05-21 | 2013-10-02 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性フルオロポリエーテル組成物及びそれを用いたゴム硬化物と有機樹脂との一体成型品 |
DE102008000156A1 (de) * | 2008-01-25 | 2009-07-30 | Wacker Chemie Ag | Durch Bestrahlung aktivierte Hydrosilylierungsreaktionen |
JP5342830B2 (ja) | 2008-08-19 | 2013-11-13 | モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 | 光硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
DE102009027486A1 (de) * | 2009-07-06 | 2011-01-13 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Siliconbeschichtungen und Siliconformkörpern aus durch Licht vernetzbaren Siliconmischungen |
US20110186790A1 (en) * | 2009-07-23 | 2011-08-04 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Fluorinated hybrid compositions |
JP5146690B2 (ja) | 2009-09-09 | 2013-02-20 | 信越化学工業株式会社 | 室温硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物 |
JP5459232B2 (ja) * | 2010-01-19 | 2014-04-02 | 信越化学工業株式会社 | 付加硬化型フルオロポリエーテル系接着剤組成物 |
CN103732374B (zh) * | 2011-08-18 | 2018-10-30 | 迈图高新材料股份有限公司 | 照射和成型单元 |
JP5799930B2 (ja) * | 2012-10-19 | 2015-10-28 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性フルオロポリエーテル系ゲル組成物及びその硬化物を用いたゲル製品 |
-
2016
- 2016-02-02 JP JP2016018361A patent/JP6565723B2/ja active Active
- 2016-02-03 US US15/014,201 patent/US20160222170A1/en not_active Abandoned
- 2016-02-03 EP EP16154109.9A patent/EP3053945B1/en active Active
-
2017
- 2017-01-26 US US15/416,509 patent/US9840601B2/en active Active
-
2019
- 2019-03-04 JP JP2019038432A patent/JP6852743B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6112751A (ja) * | 1984-06-14 | 1986-01-21 | ミネソタ マイニング アンド マニユフアクチユアリング コンパニー | 低表面エネルギー材料に硬化できる組成物 |
JP2000248166A (ja) * | 1999-03-02 | 2000-09-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物 |
JP2009249568A (ja) * | 2008-04-09 | 2009-10-29 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 室温硬化性フルオロポリエーテルゴム組成物及びその硬化物 |
JP2012506933A (ja) * | 2008-10-30 | 2012-03-22 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 光によって架橋可能なシリコーン混合物からのシリコーン成形体の製造法 |
JP2014210831A (ja) * | 2013-04-17 | 2014-11-13 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性フルオロポリエーテル系ゲル組成物、その硬化方法、そのゲル硬化物及びその硬化物を用いたゲル製品 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016150991A (ja) * | 2015-02-18 | 2016-08-22 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物の接着方法 |
JP2017218513A (ja) * | 2016-06-08 | 2017-12-14 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物 |
JP2019052228A (ja) * | 2017-09-14 | 2019-04-04 | 信越化学工業株式会社 | チキソ性光硬化型フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物、並びにその硬化方法 |
JPWO2021095621A1 (ja) * | 2019-11-11 | 2021-05-20 | ||
WO2021095621A1 (ja) | 2019-11-11 | 2021-05-20 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物とその接着方法 |
JP7306472B2 (ja) | 2019-11-11 | 2023-07-11 | 信越化学工業株式会社 | 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物とその接着方法 |
WO2021251151A1 (ja) * | 2020-06-11 | 2021-12-16 | 信越化学工業株式会社 | パーフルオロポリエーテルブロックを有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、及びその製造方法 |
JP2021195426A (ja) * | 2020-06-11 | 2021-12-27 | 信越化学工業株式会社 | パーフルオロポリエーテルブロックを有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、及びその製造方法 |
JP7306334B2 (ja) | 2020-06-11 | 2023-07-11 | 信越化学工業株式会社 | パーフルオロポリエーテルブロックを有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、及びその製造方法 |
WO2023210400A1 (ja) * | 2022-04-28 | 2023-11-02 | 信越化学工業株式会社 | 熱硬化性パーフルオロポリエーテルゴム組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019081911A (ja) | 2019-05-30 |
EP3053945B1 (en) | 2017-12-27 |
JP6852743B2 (ja) | 2021-03-31 |
EP3053945A1 (en) | 2016-08-10 |
US20160222170A1 (en) | 2016-08-04 |
US20170137583A1 (en) | 2017-05-18 |
US9840601B2 (en) | 2017-12-12 |
JP6565723B2 (ja) | 2019-08-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6565723B2 (ja) | 光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物、並びにその硬化方法 | |
JP6614039B2 (ja) | フルオロポリエーテル系ゴム、フルオロポリエーテル系ゴム硬化物の密閉硬化時の発泡を抑制する方法、並びにゴム系接着剤 | |
JP6020327B2 (ja) | 光硬化性フルオロポリエーテル系ゲル組成物、その硬化方法、そのゲル硬化物及びその硬化物を用いたゲル製品 | |
JP6512120B2 (ja) | 含フッ素エラストマーの基材への接着方法 | |
JP6344256B2 (ja) | 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物の接着方法 | |
JP6866810B2 (ja) | チキソ性光硬化型フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物、並びにその硬化方法 | |
JP2017039810A (ja) | 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物の接着方法 | |
JP7087686B2 (ja) | 光硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及びその硬化物 | |
JP7306472B2 (ja) | 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物とその接着方法 | |
JP7255610B2 (ja) | 光硬化性フルオロポリエーテル系エラストマー組成物の塗膜形成方法 | |
JP7081682B2 (ja) | 硬化性フルオロポリエーテル系ゴム組成物及び光学部品 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180125 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180831 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180925 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181106 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190205 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190304 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190702 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190715 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6565723 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |