JP2016115931A - 窒化物半導体装置および窒化物半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本願発明者は、窒化物半導体HFETにおける抵抗を詳細に検討した。本願明細書において、窒化物半導体は、GaNおよびGaNにおけるガリウム(Ga)の一部または全部をアルミニウム(Al)およびインジウム(In)の少なくとも一方で置換した化合物半導体を含む。このような化合物半導体は、組成式AlxGayInzN(0≦x,y,z≦
1、x+y+z=1)で表される。以下窒化物半導体をGaN系と記す。
子濃度が低下してしまい、ソース・ゲート間およびドレイン・ゲート間のアクセス抵抗Rs、Rdが増大してしまう。このため、ソース電極とドレイン電極との間の抵抗が高くなる。
(1)高い正孔濃度を有するp型半導体材料からなるゲート層によるノーマリオフ特性の実現。
(2)ゲート長を短くすることによるチャネル抵抗の低減。
(3)ソース・ドレイン電極間を短くし、アクセス抵抗を低減。
[項目1]
基板と、前記基板に支持された第1の窒化物半導体層と、前記第1の窒化物半導体層上に配置され、かつ、前記第1の窒化物半導体層を構成する第1の窒化物半導体よりも大きいバンドギャップを有する第2の窒化物半導体で構成された第2の窒化物半導体層と、前記第2の窒化物半導体層の一部を貫通し、前記第1の窒化物半導体層が第1の所定の深さまで掘り込まれたソース側掘り込み領域に位置しており、Geを含む第3の窒化物半導体で構成されたソース側窒化物半導体再成長層と、前記ソース側窒化物半導体再成長層と電気的に接続されたソース電極と、前記ソース側掘り込み領域から離間して位置し、前記第2の窒化物半導体層の一部を貫通し、前記第1の窒化物半導体層が第2の所定の深さまで掘り込まれたドレイン側掘り込み領域に位置しており、Geを含む第4の窒化物半導体で構成されたドレイン側窒化物半導体再成長層と、前記ドレイン側窒化物半導体再成長層と電気的に接続されたドレイン電極と、前記ソース側掘り込み領域と前記ドレイン側掘り込み領域との間の前記第2の窒化物半導体層上に位置するゲート電極と、前記第1の窒化物半導体層内に配置され、前記ソース側窒化物半導体再成長層から前記第1の窒化物半導体層に拡散した前記Geを含む第1拡散層と、前記第1の窒化物半導体層内に配置され、前記ドレイン側窒化物半導体再成長層から前記第1の窒化物半導体層に拡散した前記Geを含む第2拡散層と、を備えた窒化物半導体装置。
この構成によれば、ソース側およびドレイン側において、掘り込み領域に形成された窒化物半導体再成長層は、掘り込み領域の側面に露出している、第2の窒化物半導体層の第1の窒化物半導体層との界面近傍と接触する。このため、窒化物半導体再成長層から不純物が第1の窒化物半導体層へ拡散することができ、2DEGとの低抵抗のコンタクトが実現する。したがって、低オン抵抗の窒化物半導体装置が実現し得る。また、窒化物半導体再成長層がエピタキシャル成長層であるため、窒化物半導体再成長層から格子整合した第1の窒化物半導体層へ不純物が拡散しやすい。よって、コンタクト抵抗を効果的に低減することができる。
[項目2]
前記ソース側窒化物半導体再成長層および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層の持つファセット面と前記基板の法線とのなす角度が25度以上35度以下である、項目1に記載の窒化物半導体装置。
[項目3]
前記ソース側窒化物半導体再成長層および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層の前記Geのキャリア濃度は1×1018cm-3以上5×1020cm-3以下である、項目1または2に記載の窒化物半導体装置。
[項目4]
前記ソース側窒化物半導体再成長層および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層の前記Geの不純物濃度は1×1019cm-3以上1×1022cm-3以下である、項目1から3のいずれかに記載の窒化物半導体装置。
[項目5]
記ソース側掘り込み領域と前記ドレイン側掘り込み領域との間に位置する前記第2の窒化物半導体層の一部を少なくとも覆い、前記第2の窒化物半導体層を露出する開口を有する絶縁体保護層を更に備え、前記絶縁体保護層は窒化物保護層と前記窒化物保護層上に位置する酸化物保護層とを有し、前記酸化物保護層は、50nm以上700nm以下の厚さを有する、項目1から4のいずれかに記載の窒化物半導体装置。
[項目6]
前記ソース側窒化物半導体再成長層を構成する前記第3の窒化物半導体および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層を構成する前記第4の窒化物半導体は、AlyGa1-y-zInzN(0≦y≦0.3、0≦z≦1)で示される組成を有する、項目1から5のいずれかに記載の窒化物半導体装置。
[項目7]
前記第1の窒化物半導体層を構成する前記第1の窒化物半導体は、AlxGa1-xN(0≦x≦1)で示される組成を有し、前記第2の窒化物半導体層を構成する前記第2の窒化物半導体は、AlyGa1-y-zInzN(0≦y≦1、0≦z≦1)で示される組成を有する、項目1から6のいずれかに記載の窒化物半導体装置。
[項目8]
前記第2の窒化物半導体層は、0.5nm以上4nm以下の厚さを有するAlN層と、AlyGa1-y-zInzN(0≦y<1、0≦z≦1)で示される組成の第5の窒化物半導体で構成された半導体層とを有し、前記AlN層は前記基板と前記半導体層との間に位置する、項目1から7のいずれかに記載の窒化物半導体装置。
[項目9]
少なくとも前記第2の窒化物半導体層と前記ゲート電極との間に位置し、p型金属酸化物半導体で構成されたゲート層を更に備える、項目1から8のいずれかに記載の窒化物半導体装置。
この構成によれば、ノーマリオフ特性を有する窒化物半導体装置が実現し得る。
[項目10]
前記ゲート層は、前記ゲート電極の側面の少なくとも一部を覆う、項目9に記載の窒化物半導体装置。
[項目11]
前記ソース側掘り込み領域と前記ドレイン側掘り込み領域との間に位置する前記第2の窒化物半導体層の一部を少なくとも覆い、前記第2の窒化物半導体層を露出する開口を有する絶縁体保護層を更に備え、前記ゲート電極の少なくとも一部は前記開口内に位置している、項目9に記載の窒化物半導体装置。
[項目12]
前記絶縁体保護層は前記ソース電極、前記ドレイン電極、前記ソース側窒化物半導体再成長層および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層と接していない、項目11に記載の窒化物半導体装置。
この構成によれば、ゲート電極とセルフアラインでソース側掘り込み領域およびドレイン側掘り込み領域を形成できるため、ソース・ドレイン間隔を精度よく短くすることができる。
[項目13]
前記第2の窒化物半導体層を構成する前記第2の窒化物半導体は、前記第1の窒化物半導体層を構成する前記第1の窒化物半導体よりも高いAl組成を有する、項目1から12のいずれかに記載の窒化物半導体装置。
この構成によれば、2DEGを用いたHFETを実現することができる。
[項目14]
前記ソース電極と前記ドレイン電極との距離が5μm以下である、項目1から13のいずれかに記載の窒化物半導体装置。
[項目15]
前記p型金属酸化物半導体が、酸化ニッケルである、項目9から14のいずれかに記載の窒化物半導体装置。
[項目16]
前記p型金属酸化物半導体の正孔濃度が、5×1015cm-3以上1×1019cm-3以下である、項目9から15のいずれかに記載の窒化物半導体装置。
[項目17]
前記p型金属酸化物半導体は、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムからなる群から選ばれる少なくとも1つを1×1017cm-3以上1×1021cm-3以下の濃度で含む、項目15に記載の窒化物半導体装置。
[項目18]
前記p型金属酸化物半導体は、(111)方向に配向している結晶性を有する、項目9から17のいずれかに記載の窒化物半導体装置。
[項目19]
前記ゲート層は前記絶縁体保護層の前記開口の底面および側面に位置している、項目11または12に記載の窒化物半導体装置。
[項目20]
前記ゲート層の一部は、前記絶縁体保護層の上部に位置している、項目11または12に記載の窒化物半導体装置。
[項目21]
前記第1の所定の深さおよび前記第2の所定の深さは、前記第2の窒化物半導体層表面から20nm以上200nm以下である、項目1から20のいずれかに記載の窒化物半導体装置。
[項目22]
前記ソース側窒化物半導体再成長層および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層は、30nm以上500nm以下の厚さを有する、項目1から21のいずれかに記載の窒化物半導体装置。
[項目23]
基板上に、支持された第1の窒化物半導体層および第1の窒化物半導体層上に位置する第2の窒化物半導体層を備えた半導体構造を用意し、前記第2の窒化物半導体層の一部を貫通し、前記第1の窒化物半導体層が所定の深さまで掘り込まれたソース側掘り込み領域およびドレイン側掘り込み領域を形成し、ソース側掘り込み領域およびドレイン側掘り込み領域にn型不純物を含む窒化物半導体材料で構成されたソース側窒化物半導体再成長層およびドレイン側窒化物半導体再成長層をそれぞれ形成し、前記ソース側窒化物半導体再成長層および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層上にソース電極およびドレイン電極を形成し、前記ソース電極、前記ドレイン電極、前記ソース側窒化物半導体再成長層および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層および前記第2の第2の窒化物半導体層の上に絶縁体保護層を形成し、絶縁体保護層に前記第2の窒化物半導体層の一部を露出する開口を形成し、少なくとも前記開口内にゲート層を形成し、前記ゲート層上にゲート電極を形成する、窒化物半導体装置の製造方法。
[項目24]
基板上に、支持された第1の窒化物半導体層および第1の窒化物半導体層上に位置する第2の窒化物半導体層を備えた半導体構造を用意し、前記第2の窒化物半導体層上に絶縁体保護層を形成し、前記絶縁体保護層に、ゲート形成領域となる前記第2の窒化物半導体層の一部を露出する開口を有する第1マスク層を形成し、前記開口内にゲート層を形成し、前記ゲート層上にゲート電極を形成し、前記ゲート電極上に第2マスク層を形成し、前記第2マスク層をマスクとして、前記絶縁体保護層をエッチングし、かつ、前記第2の窒化物半導体層の一部を貫通し、前記第1の窒化物半導体層が所定の深さまで掘り込まれたソース側掘り込み領域およびドレイン側掘り込み領域を形成し、ソース側掘り込み領域およびドレイン側掘り込み領域にn型不純物を含む窒化物半導体材料で構成されたソース側窒化物半導体再成長層およびドレイン側窒化物半導体再成長層をそれぞれ形成し、前記ソース側窒化物半導体再成長層および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層上にソース電極およびドレイン電極を形成する、窒化物半導体装置の製造方法。
[項目25]
前記ゲート層を原子層堆積法によって形成する、項目23または24に記載の窒化物半導体装置の製造方法。
以下、第1の実施形態の窒化物半導体装置およびその製造方法を説明する。図3は、本実施形態の窒化物半導体装置200の断面図である。窒化物半導体装置200は、基板201と、窒化物バッファ層202と、第1の窒化物半導体層203と、第2の窒化物半導体層204と、ソース側窒化物半導体再成長層205a、ドレイン側窒化物半導体再成長層206aと、ソース電極205bと、ドレイン電極206bと、絶縁体保護層207と、ゲート層211と、ゲート電極209とを備える。ソース側窒化物半導体再成長層205aおよびソース電極205bは複合ソース電極205を構成している。ドレイン側窒化物半導体再成長層206aおよびドレイン電極206bは複合ドレイン電極206を構成している。窒化物半導体装置200の一例は、ヘテロ接合電界効果トランジスタ(HFET)である。以下、窒化物半導体装置200の各構成要素を説明する。
基板201の材料の例は、シリコン、サファイア、SiCである。基板201の材料がシリコン、サファイアまたはSiCである場合、後述する窒化物バッファ層202、第1の窒化物半導体層203、第2の窒化物半導体層204、ソース側窒化物半導体再成長層205a、ドレイン側窒化物半導体再成長層206aは有機金属気相成長法(MOCVD:MetalOrganic Chemical Vapor Deposition)を用いて形成することができる。基板201は、第1の面と、その第1の面と対向する第2の面とを有する。基板201の第1の面は、後述する窒化物バッファ層202と接する面である。
窒化物バッファ層202は、基板201の上に形成されている。基板201の第1の面の上に、窒化物バッファ層202をエピタキシャル成長させることにより、基板201の第1の面と接する窒化物バッファ層202の面の結晶方位と、基板201の第1の面の結晶方位とが揃う。例えば、基板201の材料がシリコンであり、かつ、第1の面が(111)面の場合、窒化物バッファ層202における基板201と接する面は、(0001)面となる。また、基板201の材料がサファイアであり、かつ、第1の面が(0001)面の場合、窒化物バッファ層202における基板201と接する面は、(0001)面となる。
第1の窒化物半導体層203は、窒化物バッファ層202の上に形成され、基板201に支持される。基板201の第1の面の上にエピタキシャル成長した窒化物バッファ層202の上に、第1の窒化物半導体層203をエピタキシャル成長させることにより、窒化物バッファ層202と接する第1の窒化物半導体層203の面の結晶方位は、基板201の第1の面の結晶方位と揃う。
第2の窒化物半導体層204は、第1の窒化物半導体層203の上に形成されている。基板201の第1の面の上に、窒化物バッファ層202および第1の窒化物半導体層203をこの順にエピタキシャル成長させる。エピタキシャル成長させた第1の窒化物半導体層203の上に、第2の窒化物半導体層204をエピタキシャル成長させることにより、第1の窒化物半導体層203と接する第2の窒化物半導体層204の面の結晶方位は、基板201の第1の面の結晶方位と揃う。
x<1、0≦y<1)である。第2の窒化物半導体層204は、10nm以上50nm以下の厚さを有していてもよい。
上述したように、複合ソース電極205は、ソース側窒化物半導体再成長層205aおよびソース電極205bを含む。複合ソース電極205は、第2の窒化物半導体層204の一部を貫通し、第1の窒化物半導体層203が所定の深さまで掘り込まれたソース側掘り込み領域210aに位置している。ソース側窒化物半導体再成長層205aはエピタキシャル成長層である。
、ソース側掘り込み領域210aの側面210asから第1の窒化物半導体層203へソース側窒化物半導体再成長層205aのn型不純物が拡散し、第1拡散層210adが形成されている。同様にドレイン側掘り込み領域210bの側面210bsから第1の窒化物半導体層203へドレイン側窒化物半導体再成長層206aのn型不純物が拡散し、第2拡散層210bdが形成されている。したがって、第1の窒化物半導体層203内であって、第2の窒化物半導体層204の直下に形成される2DEG203eと第1拡散層210ad、第2拡散層210bdとが接触し、ソース側窒化物半導体再成長層205aおよびドレイン側窒化物半導体再成長層206aは2DEG203eと良好なコンタクトをとることができる。特に、ソース側窒化物半導体再成長層205aおよびドレイン側窒化物半導体再成長層206aが結晶性の高いエピタキシャル層であるため、ソース側窒化物半導体再成長層205aおよびドレイン側窒化物半導体再成長層206aのn型不純物が第1の窒化物半導体層203へ拡散しやすい。
絶縁体保護層207は、ソース電極205bの一部、ドレイン電極206bの一部、ソース側窒化物半導体再成長層205aの一部、ドレイン側窒化物半導体再成長層206aの一部およびソース側掘り込み領域210aとドレイン側掘り込み領域210bとの間に位置する第2の窒化物半導体層204の一部を少なくとも覆う。絶縁体保護層207は、ソース側掘り込み領域210aの側面210asの一部およびドレイン側掘り込み領域210bの側面210bsの一部を更に覆っていてもよい。また、底面208aおよび側面208bを有し、底面208aにおいて、第2の窒化物半導体層204を露出する開口(貫通孔)208を含む。つまり、絶縁体保護層207は、第2の窒化物半導体層204の上面の一部を被覆していない。絶縁体保護層207は、第2の窒化物半導体層204の表面において部分的に形成されていないため、一様な膜の形状を有していない。
ゲート層211は、少なくとも第2の窒化物半導体層204と後述するゲート電極209との間に位置する。具体的には、ゲート層211は、絶縁体保護層207の開口208内に位置し、開口208の底面208aにおいて第2の窒化物半導体層204と接している。より具体的には、ゲート層211は、ソース電極側絶縁体保護層207sとドレイン電極側絶縁体保護層207dとの間に、それぞれを分けるように、第2の窒化物半導体層204に接して形成されている。ゲート層211は、p型金属酸化物半導体で構成されている。
ゲート電極209は、絶縁体保護層207の上面の一部およびゲート層211の上面全体を覆うように形成されている。ゲート電極209の材料の例としては、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)、パラジウム(Pd)、金(Au)、白金(Pt)である。ゲート電極209は、ゲート層211と良好なオーミック接触を形成している。ゲート電極209は単層構造または積層構造を有していてよい。ゲート電極209は、20nm以上1000nm以下の厚さを有していてもよく、40nm以上500nm以下の厚さを有していてもよい。
以下、本実施形態に係る窒化物半導体装置200の製造方法の一例を説明する。
vapor phase epitaxy)法等を用いることができる。ここでは、MOCVD法を例に説明する。
205ならびに複合ドレイン電極206の形成領域以外の領域を覆うレジスト層をパターニングによって形成する。SiO2膜の形成装置としては、高品質な絶縁体膜が成長でき
る装置が望ましく、MBE法、MOVPEまたはMOCVD法、またはプラズマCVD(PCVD)法、スパッタリング法等を用いることができる。
物半導体層204および第1の窒化物半導体層203の一部をエッチングによって除去することによって、堀り込み領域210を形成する。堀り込み領域210の深さは、第2の窒化物半導体層204の表面から20nm以上200nm以下の深さであってもよい。また、掘り込み領域210において、第1の窒化物半導体層203および第2の窒化物半導体層204が露出する側面210as、210bsは半導体装置の法線との0度以上20度以下の角度をなしていてもよい。
物半導体層203に堀り込み領域210が形成される。
働き、窒化物半導体再成長層は掘り込み領域210上にだけ形成される。
3、0≦z≦1)で示される組成で構成されていてもよい。また、ソース側窒化物半導体再成長層205aおよびドレイン側窒化物半導体再成長層206aのn型不純物濃度は、たとえば、1×1019cm-3以上1×1022cm-3以下となるように、MOCVDにおける不純物ガスの濃度を調節する。不純物ガスには、たとえば、トリエチルゲルマニウム(TEGe)を用いる。ソース側窒化物半導体再成長層205aおよびドレイン側窒化物半導体再成長層206aの厚さは、これらの層の成長時間によって制御し得る。上述した理由から、ソース側窒化物半導体再成長層205aおよびドレイン側窒化物半導体再成長層206aがエピタキシャル成長する限り、ソース側窒化物半導体再成長層205aおよびドレイン側窒化物半導体再成長層206aのファセット面と半導体装置の法線とのなす角度は、30度程度となる。この範囲を外れる場合には、ソース側窒化物半導体再成長層205aおよびドレイン側窒化物半導体再成長層206aが優れた結晶性を有さない場合もあるため、原料ガスの流速、成長温度等の形成条件を調節することによって、成長するソース側窒化物半導体再成長層205aおよびドレイン側窒化物半導体再成長層206aのファセット面と半導体装置の法線とのなす角度を上述した範囲内に制御する。
たは水酸化カリウム溶液を用いた紫外線照射を伴うウェットエッチングにより除去する。
(CHF3)ガスおよび酸素ガスをエッチングガスとする誘導結合プラズマ(ICP:I
nductive Coupled Plasma)等を用いたドライエッチング法により開口208を形成することができる。ゲート長を短くすると、オン抵抗を低減させることができる。ゲート長は、2μm以下であってもよく、1μm以下であってもよい。
との関係を示す。Lsdが異なる複数の窒化物半導体装置200を作製し、Lsdに対す
るRonをプロットして、Y軸との切片を求めることによって、コンタクト抵抗2Rcを求めた。Y軸と切片2Rcは0.23Ωmmであった。この値は、従来の電極構造で得られた1.5Ωmm(従来例から同様に2Rcを求めた値)に比べて非常に小さな値である。このことから、良好なコンタクト抵抗が実現できていることが分かった。
[1] A. L. Corrion et al., IEEE EDL, Vol. 31 p. 1116, 2010.
[2] H. Hilt et al., ISPSD Tech. Dig., p. 239, 2011.
[3] M. Kanamura et al., IEEE EDL, Vol. 31 p. 189, 2010.
以下、第2の実施形態の窒化物半導体装置およびその製造方法を説明する。図14は、本実施形態の窒化物半導体装置300を示す断面図である。窒化物半導体装置300において、第1の実施形態の窒化物半導体装置200と実質的に同様の構造・機能を有する構成要素には同じ名称を用い、窒化物半導体装置200の構成要素の下2桁の符号を付した300番台の符号を用いる。
不純物を含む窒化物半導体材料で構成されたソース側窒化物半導体再成長層305aが位置している。また、ソース側窒化物半導体再成長層305aと電気的に接続されたソース電極305bが設けられ、ソース側窒化物半導体再成長層305aおよびソース電極305bによって、複合ソース電極305を構成している。
体材料で構成されたドレイン側窒化物半導体再成長層306aが位置している。また、ドレイン側窒化物半導体再成長層306aと電気的に接続されたドレイン電極306bが設けられ、ドレイン側窒化物半導体再成長層306aおよびドレイン電極306bによって、複合ドレイン電極306を構成している。
9を覆うように全面的に形成する。
(図示せず)を形成する。続いて、ドライエッチング装置を用いて、第2の窒化物半導体層304が露出するまでSiO2膜320および絶縁体保護層307をエッチングする。
この時、図15Eに示すように、ゲート電極309の下方は、逆テーパー形状を有するように絶縁体保護層307をエッチングする。エッチング方法および使用するエッチングガスは第1の実施形態と同じであってもよい。
および第1の窒化物半導体層303をエッチングし、掘り込み領域310を形成する。SiO2膜320上のレジスト層をマスクとすることによって、ゲート電極309に対して
、掘り込み領域310はセルフアラインで形成される。堀り込み領域310の形成後レジスト層を剥離する。これにより、図15Fに示すようにSiO2膜320およびゲート電
極309に対して自己整合的に配置された堀り込み領域310が形成される。
み領域310上にだけ形成される。これにより、図15Gに示すような、ソース側窒化物半導体再成長層305aとドレイン側窒化物半導体再成長層306aが形成される。
より除去する。
201、301 基板
202、302 窒化物バッファ層
203、303 第1の窒化物半導体層
204、304 第2の窒化物半導体層
205b、305b ソース電極
206b、306b ドレイン電極
205a、305a ソース側窒化物半導体再成長層
206a、306a ドレイン側窒化物半導体再成長層
205 複合ソース電極
206 複合ドレイン電極
207、307 絶縁体保護層
211、311 ゲート層
209、309、 ゲート電極
207a、307a 窒化物保護層
207b、307b 酸化物保護層
208a、308a 第2の窒化物半導体層の表面
208b、308b 絶縁体保護層の側面
220、320 再成長用酸化物絶縁体マスク層
330、320 絶縁体保護層に開口形成するときのレジスト
Claims (25)
- 基板と、
前記基板に支持された第1の窒化物半導体層と、
前記第1の窒化物半導体層上に配置され、かつ、前記第1の窒化物半導体層を構成する第1の窒化物半導体よりも大きいバンドギャップを有する第2の窒化物半導体で構成された第2の窒化物半導体層と、
前記第2の窒化物半導体層の一部を貫通し、前記第1の窒化物半導体層が第1の所定の深さまで掘り込まれたソース側掘り込み領域に位置しており、Geを含む第3の窒化物半導体で構成されたソース側窒化物半導体再成長層と、
前記ソース側窒化物半導体再成長層と電気的に接続されたソース電極と、
前記ソース側掘り込み領域から離間して位置し、前記第2の窒化物半導体層の一部を貫通し、前記第1の窒化物半導体層が第2の所定の深さまで掘り込まれたドレイン側掘り込み領域に位置しており、Geを含む第4の窒化物半導体で構成されたドレイン側窒化物半導体再成長層と、
前記ドレイン側窒化物半導体再成長層と電気的に接続されたドレイン電極と、
前記ソース側掘り込み領域と前記ドレイン側掘り込み領域との間の前記第2の窒化物半導体層上に位置するゲート電極と、
前記第1の窒化物半導体層内に配置され、前記ソース側窒化物半導体再成長層から前記第1の窒化物半導体層に拡散した前記Geを含む第1拡散層と、
前記第1の窒化物半導体層内に配置され、前記ドレイン側窒化物半導体再成長層から前記第1の窒化物半導体層に拡散した前記Geを含む第2拡散層と、
を備えた窒化物半導体装置。 - 前記ソース側窒化物半導体再成長層および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層の持つファセット面と前記基板の法線とのなす角度が25度以上35度以下である、
請求項1に記載の窒化物半導体装置。 - 前記ソース側窒化物半導体再成長層および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層の前記Geのキャリア濃度は1×1018cm-3以上5×1020cm-3以下である、
請求項1または2に記載の窒化物半導体装置。 - 前記ソース側窒化物半導体再成長層および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層の前記Geの不純物濃度は1×1019cm-3以上1×1022cm-3以下である、
請求項1から3のいずれかに記載の窒化物半導体装置。 - 記ソース側掘り込み領域と前記ドレイン側掘り込み領域との間に位置する前記第2の窒化物半導体層の一部を少なくとも覆い、前記第2の窒化物半導体層を露出する開口を有する絶縁体保護層を更に備え、
前記絶縁体保護層は窒化物保護層と前記窒化物保護層上に位置する酸化物保護層とを有し、
前記酸化物保護層は、50nm以上700nm以下の厚さを有する、
請求項1から4のいずれかに記載の窒化物半導体装置。 - 前記ソース側窒化物半導体再成長層を構成する前記第3の窒化物半導体および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層を構成する前記第4の窒化物半導体は、AlyGa1-y-zInzN(0≦y≦0.3、0≦z≦1)で示される組成を有する、
請求項1から5のいずれかに記載の窒化物半導体装置。 - 前記第1の窒化物半導体層を構成する前記第1の窒化物半導体は、AlxGa1-xN(0≦x≦1)で示される組成を有し、
前記第2の窒化物半導体層を構成する前記第2の窒化物半導体は、AlyGa1-y-zInzN(0≦y≦1、0≦z≦1)で示される組成を有する、
請求項1から6のいずれかに記載の窒化物半導体装置。 - 前記第2の窒化物半導体層は、0.5nm以上4nm以下の厚さを有するAlN層と、AlyGa1-y-zInzN(0≦y<1、0≦z≦1)で示される組成の第5の窒化物半導体で構成された半導体層とを有し、
前記AlN層は前記基板と前記半導体層との間に位置する、
請求項1から7のいずれかに記載の窒化物半導体装置。 - 少なくとも前記第2の窒化物半導体層と前記ゲート電極との間に位置し、p型金属酸化物半導体で構成されたゲート層を更に備える、
請求項1から8のいずれかに記載の窒化物半導体装置。 - 前記ゲート層は、前記ゲート電極の側面の少なくとも一部を覆う請求項9に記載の窒化物半導体装置。
- 前記ソース側掘り込み領域と前記ドレイン側掘り込み領域との間に位置する前記第2の窒化物半導体層の一部を少なくとも覆い、前記第2の窒化物半導体層を露出する開口を有する絶縁体保護層を更に備え、
前記ゲート電極の少なくとも一部は前記開口内に位置している、請求項9に記載の窒化物半導体装置。 - 前記絶縁体保護層は前記ソース電極、前記ドレイン電極、前記ソース側窒化物半導体再成長層および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層と接していない、
請求項11に記載の窒化物半導体装置。 - 前記第2の窒化物半導体層を構成する前記第2の窒化物半導体は、前記第1の窒化物半導体層を構成する前記第1の窒化物半導体よりも高いAl組成を有する、
請求項1から12のいずれかに記載の窒化物半導体装置。 - 前記ソース電極と前記ドレイン電極との距離が5μm以下である、
請求項1から13のいずれかに記載の窒化物半導体装置。 - 前記p型金属酸化物半導体が、酸化ニッケルである、
請求項9から14のいずれかに記載の窒化物半導体装置。 - 前記p型金属酸化物半導体の正孔濃度が、5×1015cm-3以上1×1019cm-3以下である、
請求項9から15のいずれかに記載の窒化物半導体装置。 - 前記p型金属酸化物半導体は、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムからなる群から選ばれる少なくとも1つを1×1017cm-3以上1×1021cm-3以下の濃度で含む、
請求項15に記載の窒化物半導体装置。 - 前記p型金属酸化物半導体は、(111)方向に配向している結晶性を有する、
請求項9から17のいずれかに記載の窒化物半導体装置。 - 前記ゲート層は前記絶縁体保護層の前記開口の底面および側面に位置している、
請求項11に記載の窒化物半導体装置。 - 前記ゲート層の一部は、前記絶縁体保護層の上部に位置している、
請求項11または12に記載の窒化物半導体装置。 - 前記第1の所定の深さおよび前記第2の所定の深さは、前記第2の窒化物半導体層表面から20nm以上200nm以下である、
請求項1から20のいずれかに記載の窒化物半導体装置。 - 前記ソース側窒化物半導体再成長層および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層は、30nm以上500nm以下の厚さを有する、
請求項1から21のいずれかに記載の窒化物半導体装置。 - 基板上に、支持された第1の窒化物半導体層および第1の窒化物半導体層上に位置する第2の窒化物半導体層を備えた半導体構造を用意し、
前記第2の窒化物半導体層の一部を貫通し、前記第1の窒化物半導体層が所定の深さまで掘り込まれたソース側掘り込み領域およびドレイン側掘り込み領域を形成し、
ソース側掘り込み領域およびドレイン側掘り込み領域にn型不純物を含む窒化物半導体材料で構成されたソース側窒化物半導体再成長層およびドレイン側窒化物半導体再成長層をそれぞれ形成し、
前記ソース側窒化物半導体再成長層および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層上にソース電極およびドレイン電極を形成し、
前記ソース電極、前記ドレイン電極、前記ソース側窒化物半導体再成長層および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層および前記第2の窒化物半導体層の上に絶縁体保護層を形成し、
絶縁体保護層に前記第2の窒化物半導体層の一部を露出する開口を形成し、
少なくとも前記開口内にゲート層を形成し、
前記ゲート層上にゲート電極を形成する、窒化物半導体装置の製造方法。 - 基板上に、支持された第1の窒化物半導体層および第1の窒化物半導体層上に位置する第2の窒化物半導体層を備えた半導体構造を用意し、
前記第2の窒化物半導体層上に絶縁体保護層を形成し、
前記絶縁体保護層に、ゲート形成領域となる前記第2の窒化物半導体層の一部を露出する開口を有する第1マスク層を形成し、
前記開口内にゲート層を形成し、
前記ゲート層上にゲート電極を形成し、
前記ゲート電極上に第2マスク層を形成し、
前記第2マスク層をマスクとして、前記絶縁体保護層をエッチングし、かつ、前記第2の窒化物半導体層の一部を貫通し、前記第1の窒化物半導体層が所定の深さまで掘り込まれたソース側掘り込み領域およびドレイン側掘り込み領域を形成し、
ソース側掘り込み領域およびドレイン側掘り込み領域にn型不純物を含む窒化物半導体材料で構成されたソース側窒化物半導体再成長層およびドレイン側窒化物半導体再成長層をそれぞれ形成し、
前記ソース側窒化物半導体再成長層および前記ドレイン側窒化物半導体再成長層上にソース電極およびドレイン電極を形成する、窒化物半導体装置の製造方法。 - 前記ゲート層を原子層堆積法によって形成する、請求項23または24に記載の窒化物半導体装置の製造方法。
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Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017085062A (ja) * | 2015-10-30 | 2017-05-18 | 富士通株式会社 | 半導体装置、電源装置、増幅器及び半導体装置の製造方法 |
JP2018101667A (ja) * | 2016-12-19 | 2018-06-28 | 株式会社東芝 | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2018206867A (ja) * | 2017-05-31 | 2018-12-27 | 国立大学法人京都工芸繊維大学 | Iii族窒化物半導体装置とその製造方法 |
CN109390212A (zh) * | 2017-08-07 | 2019-02-26 | 住友电气工业株式会社 | 氮化物半导体器件的形成工艺 |
KR20190046912A (ko) | 2016-08-31 | 2019-05-07 | 재팬 사이언스 앤드 테크놀로지 에이전시 | 화합물 반도체, 그 제조 방법 및 질화물 반도체 |
KR20200015583A (ko) | 2017-06-01 | 2020-02-12 | 재팬 사이언스 앤드 테크놀로지 에이전시 | 화합물 반도체 및 그 제조 방법 |
US10804358B2 (en) | 2017-12-20 | 2020-10-13 | Fujitsu Limited | Compound semiconductor device and method with high concentration dopant layer in regrown compound semiconductor |
JP2021027165A (ja) * | 2019-08-05 | 2021-02-22 | 富士通株式会社 | 半導体装置、半導体装置の製造方法及び電子装置 |
JP2021125577A (ja) * | 2020-02-06 | 2021-08-30 | 富士通株式会社 | 半導体装置、半導体装置の製造方法及び電子装置 |
WO2023276575A1 (ja) * | 2021-06-29 | 2023-01-05 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 半導体装置 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108649071B (zh) * | 2018-05-17 | 2019-03-19 | 苏州汉骅半导体有限公司 | 半导体器件及其制造方法 |
US10989946B2 (en) * | 2019-02-21 | 2021-04-27 | Innolux Corporation | Electronic modulating device |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006517726A (ja) * | 2002-07-16 | 2006-07-27 | クリー インコーポレイテッド | 窒化物ベースのトランジスタ及びその製造方法 |
JP2007538402A (ja) * | 2004-05-20 | 2007-12-27 | クリー インコーポレイテッド | 再成長オーミックコンタクト領域を有する窒化物ベースのトランジスタの製作方法及び再成長オーミックコンタクト領域を有する窒化物ベースのトランジスタ |
JP2011159795A (ja) * | 2010-02-01 | 2011-08-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 半導体装置およびその作製法 |
JP2013514662A (ja) * | 2009-12-16 | 2013-04-25 | ナショナル セミコンダクター コーポレーション | ガリウム窒化物又は他の窒化物ベースのパワーデバイスのためのゲルマニウムを含む低オーミックコンタクト |
WO2014020809A1 (ja) * | 2012-08-03 | 2014-02-06 | パナソニック株式会社 | 窒化物半導体装置および窒化物半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0888363A (ja) | 1994-09-16 | 1996-04-02 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JPH08124940A (ja) | 1994-10-21 | 1996-05-17 | Hitachi Ltd | 電界効果トランジスタ |
JP2004273486A (ja) | 2003-03-05 | 2004-09-30 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置およびその製造方法 |
US7332439B2 (en) * | 2004-09-29 | 2008-02-19 | Intel Corporation | Metal gate transistors with epitaxial source and drain regions |
JP4712459B2 (ja) | 2005-07-08 | 2011-06-29 | パナソニック株式会社 | トランジスタ及びその動作方法 |
JP2007073873A (ja) | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Showa Denko Kk | 半導体素子 |
JP2008288474A (ja) | 2007-05-21 | 2008-11-27 | Sharp Corp | ヘテロ接合電界効果トランジスタ |
JP5466505B2 (ja) | 2007-06-27 | 2014-04-09 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 電界効果トランジスタ、ならびに、該電界効果トランジスタの作製に供される多層エピタキシャル膜 |
US7859021B2 (en) | 2007-08-29 | 2010-12-28 | Sanken Electric Co., Ltd. | Field-effect semiconductor device |
JP5487550B2 (ja) | 2007-08-29 | 2014-05-07 | サンケン電気株式会社 | 電界効果半導体装置及びその製造方法 |
JP2009246205A (ja) | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Furukawa Electric Co Ltd:The | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
US8674409B2 (en) | 2008-12-26 | 2014-03-18 | Renesas Electronics Corporation | Heterojunction field effect transistor, method for producing heterojunction field effect transistor, and electronic device |
KR101890749B1 (ko) | 2011-10-27 | 2018-08-23 | 삼성전자주식회사 | 전극구조체, 이를 포함하는 질화갈륨계 반도체소자 및 이들의 제조방법 |
US8673699B2 (en) * | 2012-07-17 | 2014-03-18 | International Business Machines Corporation | Semiconductor structure having NFET extension last implants |
JP2014197644A (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-16 | トランスフォーム・ジャパン株式会社 | 化合物半導体装置及びその製造方法 |
-
2015
- 2015-12-01 JP JP2015234984A patent/JP6631950B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2015-12-03 US US14/958,483 patent/US9536949B2/en active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006517726A (ja) * | 2002-07-16 | 2006-07-27 | クリー インコーポレイテッド | 窒化物ベースのトランジスタ及びその製造方法 |
JP2007538402A (ja) * | 2004-05-20 | 2007-12-27 | クリー インコーポレイテッド | 再成長オーミックコンタクト領域を有する窒化物ベースのトランジスタの製作方法及び再成長オーミックコンタクト領域を有する窒化物ベースのトランジスタ |
JP2013514662A (ja) * | 2009-12-16 | 2013-04-25 | ナショナル セミコンダクター コーポレーション | ガリウム窒化物又は他の窒化物ベースのパワーデバイスのためのゲルマニウムを含む低オーミックコンタクト |
JP2011159795A (ja) * | 2010-02-01 | 2011-08-18 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 半導体装置およびその作製法 |
WO2014020809A1 (ja) * | 2012-08-03 | 2014-02-06 | パナソニック株式会社 | 窒化物半導体装置および窒化物半導体装置の製造方法 |
Cited By (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017085062A (ja) * | 2015-10-30 | 2017-05-18 | 富士通株式会社 | 半導体装置、電源装置、増幅器及び半導体装置の製造方法 |
US10865469B2 (en) | 2016-08-31 | 2020-12-15 | Japan Science And Technology Policy | Compound semiconductor, method for manufacturing same, and nitride semiconductor |
KR20190046912A (ko) | 2016-08-31 | 2019-05-07 | 재팬 사이언스 앤드 테크놀로지 에이전시 | 화합물 반도체, 그 제조 방법 및 질화물 반도체 |
US11549172B2 (en) | 2016-08-31 | 2023-01-10 | Japan Science And Technology Agency | Compound semiconductor, method for manufacturing same, and nitride semiconductor |
JP2018101667A (ja) * | 2016-12-19 | 2018-06-28 | 株式会社東芝 | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2018206867A (ja) * | 2017-05-31 | 2018-12-27 | 国立大学法人京都工芸繊維大学 | Iii族窒化物半導体装置とその製造方法 |
US11888033B2 (en) | 2017-06-01 | 2024-01-30 | Japan Science And Technology Agency | Compound semiconductor and method for manufacturing same |
KR20200015583A (ko) | 2017-06-01 | 2020-02-12 | 재팬 사이언스 앤드 테크놀로지 에이전시 | 화합물 반도체 및 그 제조 방법 |
JP2019033155A (ja) * | 2017-08-07 | 2019-02-28 | 住友電気工業株式会社 | 窒化物半導体トランジスタの製造方法 |
JP7013710B2 (ja) | 2017-08-07 | 2022-02-01 | 住友電気工業株式会社 | 窒化物半導体トランジスタの製造方法 |
CN109390212A (zh) * | 2017-08-07 | 2019-02-26 | 住友电气工业株式会社 | 氮化物半导体器件的形成工艺 |
CN109390212B (zh) * | 2017-08-07 | 2024-04-02 | 住友电气工业株式会社 | 氮化物半导体器件的形成工艺 |
US10804358B2 (en) | 2017-12-20 | 2020-10-13 | Fujitsu Limited | Compound semiconductor device and method with high concentration dopant layer in regrown compound semiconductor |
JP2021027165A (ja) * | 2019-08-05 | 2021-02-22 | 富士通株式会社 | 半導体装置、半導体装置の製造方法及び電子装置 |
JP2021125577A (ja) * | 2020-02-06 | 2021-08-30 | 富士通株式会社 | 半導体装置、半導体装置の製造方法及び電子装置 |
JP7417070B2 (ja) | 2020-02-06 | 2024-01-18 | 富士通株式会社 | 半導体装置、半導体装置の製造方法及び電子装置 |
WO2023276575A1 (ja) * | 2021-06-29 | 2023-01-05 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 半導体装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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