JP2016111343A5 - - Google Patents

Description

前述の図６で示したように全ての吸着孔３２及び３７が一直線上には並ばないように吸着孔３２及び３７を配置している。空間３５内の負圧分布が一軸方向に偏ってしまうことを防いでいる。

さらに、リップシール３１による空間の封止能力が足りない場合には、リップシール３１よりも内側の基板保持面上に、チャック１６と一体の環状の凸構造（図８）が形成されていても良い。補助的に空間を規定することで、基板３の中央部分の平面矯正を容易にする。ただし、リップシール３１より内側かつ環状の凸構造より外側の空間を吸着して基板３の反りを矯正するための吸着孔３２が、リップシール３１より内側かつ環状の凸構造より外側に形成されている必要がある。

Claims (15)

1. 基板を保持する基板保持装置であって、
   基板との間の空間を排気するための複数の吸気孔が設けられた保持部材と、
   前記保持部材の段差部の低い方に設けられ、前記空間を規定する環状のシール部材と、を有し、
   前記保持部材の保持面における平面図形の中心と同じ中心を有し、前記平面図形を２／３以上４／５以下に縮小した図形の内側である第１領域と、前記第１領域と前記シール部材との間の第２領域と、を設定した場合に、
   （前記第２領域に設けられた吸気孔の総面積／前記第２領域の面積）＞（前記第１領域と前記第２領域を足し合わせた領域に設けられた吸気孔の総面積／前記第１領域と前記第２領域を足し合わせた領域の面積）
   を満たすように前記複数の吸気孔が設けられ、
   前記複数の吸気孔は共通の管と連通していることを特徴とする基板保持装置。
2. 基板を保持する基板保持装置であって、
   基板との間の空間を排気するための複数の吸気孔が設けられた保持部材と、
   前記保持部材の段差部の低い方に設けられ、前記空間を規定する環状のシール部材と、前記吸気孔を介して行う排気流量を制御する制御部と、を有し、
   前記複数の吸気孔は共通の管と連通しており、
   前記保持部材の保持面における平面図形の中心と同じ中心を有し、前記平面図形を２／３以上４／５以下に縮小した図形の内側である第１領域と、前記第１領域と前記シール部材との間の第２領域と、を設定した場合に、
   前記制御部は、
   （前記第２領域に設けられた吸気孔を介して行う排気の排気流量／第２領域の面積）＞（前記第１領域と前記第２領域を足し合わせた領域に設けられた吸気孔を介して行う排気の排気流量／前記第１領域と前記第２領域を足し合わせた領域の面積）
   を満たすように前記排気流量を制御することを特徴とする基板保持装置。
3. 前記第１の領域には少なくとも１つの前記吸気孔が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の基板保持装置。
4. 前記第２の領域における１つの吸気孔の孔面積が、前記第１の領域における１つの吸気孔の孔面積の２倍以上であることを特徴とする請求項３に記載の基板保持装置。
5. 前記第１領域が前記平面図形を４／５に縮小した図形の内側であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の基板保持装置。
6. 前記保持部材に設けられている吸気孔は３つ以上あり、少なくとも３つの吸気孔が一直線上に無いことを特徴とすることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の基板保持装置。
7. 少なくとも１つの前記吸気孔は前記シール部材と対面するように前記段差部の側面に設けられていることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の基板保持装置。
8. 前記シール部材は、弾性の高分子材料であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の基板保持装置。
9. 基板を保持する基板保持装置であって、
   基板との間の空間を排気するための吸気孔が設けられた保持部材と、
   前記保持部材の段差部の低い方に設けられ、前記空間を規定する円形のシール部材と、を有し、
   前記保持部材の保持面の中心と同心の円であって、かつ前記円の内側である第１領域の面積と前記円の外側である第２領域の面積とが互いに同じになる円を設定した場合に、
   前記第２領域に設けられている吸気孔の総面積が、前記第１領域と前記第２領域を足し合わせた領域に設けられている吸気孔の総面積の５割より大きくなるように、前記吸気孔が設けられていることを特徴とする基板保持装置。
10. 前記第２領域に設けられている吸気孔の総面積が、前記第１領域と前記第２領域を足し合わせた領域に設けられている吸気孔の総面積の１０割以下となるように、前記吸気孔が設けられていることを特徴とする請求項９に記載の基板保持装置。
11. 前記保持部材に環状の凸部が前記シール部材の内側に設けられ、少なくとも１つの前記吸気孔は前記凸部で囲まれた領域に設けられ、少なくとも１つの前記吸気孔は前記凸部より外側の領域に設けられていることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の基板保持装置。
12. 少なくとも１つの前記吸気孔は、前記シール部材に対面するように前記段差部の側面に設けられていることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の基板保持装置。
13. 少なくとも１つの前記吸気孔は、前記基板、前記保持部材、前記段差部の底面、及び前記段差部の側面に囲まれている空間を排気することを特徴とする請求項１乃至１２のいずれか１項に記載の基板保持装置。
14. 請求項１乃至１３のいずれか１項に記載の保持装置を有し、
    前記保持装置で保持された基板に対してビームを照射し、前記基板上にパターンを形成することを特徴とするリソグラフィ装置。
15. 請求項１４に記載のリソグラフィ装置を用いて基板上にビームを照射する工程と、
    前記基板に対してエッチング処理及びイオン注入処理の少なくともいずれか一方を施す工程と、を有し、
    前記基板から物品を製造することを特徴とする物品の製造方法。