JP2016046433A - プリント配線板及びプリント配線板用基板 - Google Patents
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Abstract
【課題】伝送遅延及び伝送損失を低減できるプリント配線板及びプリント配線板用基板を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の一態様に係るプリント配線板は、誘電体層と、この誘電体層の少なくとも一方の面側に積層される導電パターンとを備えるプリント配線板であって、上記誘電体層が、一方の面側にフッ素樹脂を主成分とする多孔質層を有し、上記導電パターンの誘電体層側面の十点平均粗さRzが1μm以下である。上記多孔質層の1層あたりの平均厚みとしては、100μm以下が好ましい。上記多孔質層のバブルポイントとしては40kPa以上が好ましい。上記多孔質層の空隙率としては、0.001%以上が好ましい。上記多孔質層の誘電率εと上記多孔質層と同素材の非多孔質フッ素樹脂の誘電率ε0との比(ε/ε0)としては、0.9以下が好ましい。
【選択図】図1
【解決手段】本発明の一態様に係るプリント配線板は、誘電体層と、この誘電体層の少なくとも一方の面側に積層される導電パターンとを備えるプリント配線板であって、上記誘電体層が、一方の面側にフッ素樹脂を主成分とする多孔質層を有し、上記導電パターンの誘電体層側面の十点平均粗さRzが1μm以下である。上記多孔質層の1層あたりの平均厚みとしては、100μm以下が好ましい。上記多孔質層のバブルポイントとしては40kPa以上が好ましい。上記多孔質層の空隙率としては、0.001%以上が好ましい。上記多孔質層の誘電率εと上記多孔質層と同素材の非多孔質フッ素樹脂の誘電率ε0との比(ε/ε0)としては、0.9以下が好ましい。
【選択図】図1
Description
本発明は、プリント配線板及びプリント配線板用基板に関する。
近年、情報通信量は増大する一方であり、例えばICカード、携帯電話端末等の機器においてマイクロ波、ミリ波といった高周波領域での通信が盛んになっている。このため、高周波領域で用いた際に伝送損失が小さい高周波用プリント配線板が求められている。
なお、一般的なプリント配線板において、伝送速度V及び伝送損失αdは、誘電体層の比誘電率εr、周波数f及び誘電正接tanδとそれぞれ以下の関係(式(1)及び式(2))を満たす。
つまり、伝送速度Vを大きくすると共に伝送損失αdを小さくするためには、誘電体層の比誘電率εrを小さくすることが望まれる。このため、誘電体層の材料として、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、ポリフッ化ビリニデン(PVdF)等のフッ素樹脂を用いることが提案されている(特開2001−7466号公報参照)。
しかしながら、上記従来のプリント配線板では金属基材の表面を粗面化するため、高周波領域における表皮効果により電流が導体の表面部分を流れる際の伝搬距離が長くなる。この結果、伝送遅延が生じると共に、抵抗減衰等によって伝送損失が大きくなるという不都合がある。
本発明は、上記事情に基づいてなされたものであり、伝送遅延及び伝送損失を低減できるプリント配線板及びプリント配線板用基板を提供することを目的とする。
本発明の一態様に係るプリント配線板は、誘電体層と、この誘電体層の少なくとも一方の面側に積層される銅箔とを備えるプリント配線板用基板であって、上記誘電体層が、一方の面側にフッ素樹脂を主成分とする多孔質層を有し、上記導電パターンの誘電体層側面の十点平均粗さRzが1μm以下である。
また、本発明の一態様に係るプリント配線板用基板は、誘電体層と、この誘電体層の少なくとも一方の面側に積層される銅箔とを備えるプリント配線板用基板であって、上記誘電体層が、一方の面側にフッ素樹脂を主成分とする多孔質層を有し、上記銅箔の誘電体層側面の十点平均粗さRzが1μm以下である。
当該プリント配線板及びプリント配線板用基板によれば、伝送遅延及び伝送損失を低減できる。
本発明の実施形態に係るプリント配線板は、誘電体層と、この誘電体層の少なくとも一方の面側に積層される導電パターンとを備えるプリント配線板であって、上記誘電体層が、一方の面側にフッ素樹脂を主成分とする多孔質層を有し、上記導電パターンの誘電体層側面の十点平均粗さRzが1μm以下である。
当該プリント配線板は、誘電体層がフッ素樹脂を主成分とする多孔質層であることで、誘電体層の誘電率を低減できる。さらに、導電パターンの誘電体層側面の十点平均粗さRzが上記上限以下であることで、表皮効果により電流が導電パターンの表面部分を流れる際の伝搬距離を短くできる。これらの結果、当該プリント配線板は伝送遅延及び伝送損失を低減できる。
上記多孔質層の1層あたりの平均厚みとしては、100μm以下が好ましい。このように、上記多孔質層の平均厚みを上記上限以下とすることで、プリント配線板の厚み方向の線膨張率を低減できるため、スルーホールメッキのヒートサイクル下での耐久性を向上させることができる。また、線膨張率の低減により、フッ素樹脂に対するメッキの付着強度を高くすることができる。
上記多孔質層のバブルポイントとしては、40kPa以上が好ましい。このように、多孔質層のバブルポイントを上記下限以上とすることで、導電パターン形成時やスルーホール形成時にレジストの現像液やメッキ液や導電性ペースト等の多孔質層の水平方向(厚さ方向と垂直方向)への浸透を低減できる。
上記多孔質層の空隙率としては、0.001%以上が好ましい。このように、多孔質層の空隙率を上記下限以上とすることで、伝送遅延及び伝送損失をより確実に低減できる。
上記多孔質層の誘電率εと上記多孔質層と同素材の非多孔質フッ素樹脂の誘電率ε0との比(ε/ε0)としては、0.9以下が好ましい。このように、上記ε/ε0を上記上限以下とすることで、伝送遅延及び伝送損失をさらに確実に低減できる。
上記誘電体層が、多孔質層の他方の面側に補強層を備えており、この補強層が、例えばガラスクロス、液晶ポリマー(LCP)クロス、アラミドクロス等の低線膨張率の材料を主成分とするクロスを有するとよい。このように、誘電体層が多孔質層の他方の面側に低線膨張率の補強層を備えることで、フッ素樹脂の熱膨張係数(例えば9×10−5/K程度)と導電パターンを構成する銅等の金属の熱膨張係数(例えば1.7×10−5/K程度)との違いに起因する加熱時の当該プリント配線板の反り、変形、線膨張変化等を低減できる。
上記多孔質層と上記導電パターンとの層間距離としては、1nm以上100nm以下が好ましい。上記層間距離を上記範囲内とすることで、導電層の導電性及び多孔質層と導電パターンとの接着強度を両立することができる。
本発明の実施形態に係るプリント配線板用基板は、誘電体層と、この誘電体層の少なくとも一方の面側に積層される銅箔とを備えるプリント配線板用基板であって、上記誘電体層が、一方の面側にフッ素樹脂を主成分とする多孔質層を有し、上記銅箔の誘電体層側面の十点平均粗さRzが1μm以下である。
当該プリント配線板用基板は、誘電体層がフッ素樹脂を主成分とする多孔質層であり、かつ銅箔の誘電体層側面の十点平均粗さRzが上記上限以下であることで、伝送遅延及び伝送損失が低いプリント配線板を得ることができる。
ここで「主成分」とは、最も含有量が多い成分であり、例えば含有量が50質量%以上の成分をいう。「十点平均粗さ(Rz)」とは、JIS−B0601(2013)に準拠し、評価長さ(l)を3.2mm、カットオフ値(λc)を0.8mmとして測定される値である。「バブルポイント」とは、イソプロピルアルコールを用い、ASTM−F316に準拠して測定される値である。「空隙率」とは、多孔質層の任意方向の断面において空隙の占める面積の割合である。「誘電率」とは、JIS−K6935−2(1999)に準拠し測定される値であり、「多孔質層の誘電率εと上記多孔質層と同素材の非多孔質フッ素樹脂の誘電率ε0との比(ε/ε0)」とは、同じ平均厚みの試験片を用いて測定した誘電率の比を意味する。
[本発明の実施形態の詳細]
以下、本発明の実施形態に係るプリント配線板及びプリント配線板用基板について図面を参照しつつ詳説する。なお、本実施形態において「表面側」とは、誘電体層の厚さ方向のうち導電パターン又は銅箔が積層される側を指すものであり、本実施形態の表裏がプリント配線板及びプリント配線板用基板の使用状態における表裏を決定するものではない。
以下、本発明の実施形態に係るプリント配線板及びプリント配線板用基板について図面を参照しつつ詳説する。なお、本実施形態において「表面側」とは、誘電体層の厚さ方向のうち導電パターン又は銅箔が積層される側を指すものであり、本実施形態の表裏がプリント配線板及びプリント配線板用基板の使用状態における表裏を決定するものではない。
[プリント配線板用]
当該プリント配線板1は、図1に示すように誘電体層2と、この誘電体層2の表面側に積層される導電パターン3と、導電パターン3及び誘電体層2の間に積層されるシラン含有層4とを主に備える。
当該プリント配線板1は、図1に示すように誘電体層2と、この誘電体層2の表面側に積層される導電パターン3と、導電パターン3及び誘電体層2の間に積層されるシラン含有層4とを主に備える。
また、当該プリント配線板1にはスルーホールやペーストビアが設けられてもよく、発光ダイオード等の電子素子が配設されていてもよい。
<誘電体層>
上記誘電体層2は、表面側に多孔質層2aと、この多孔質層2aの導電パターン3と反対側に積層される補強層2bとを主に有する。
上記誘電体層2は、表面側に多孔質層2aと、この多孔質層2aの導電パターン3と反対側に積層される補強層2bとを主に有する。
(多孔質層)
上記多孔質層2aは、フッ素樹脂を主成分とする多孔質の層である。このフッ素樹脂としては、例えばポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、ポリフッ化ビリニデン(PVdF)等が挙げられる。これらの中で、ポリテトラフルオロエチレンが好ましい。また、これらの樹脂を単独で用いてもよく、2種以上混合して用いてもよい。特に伝送特性の観点からは、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体又はこれらの組合せのみを主成分として含むことが好ましい。
上記多孔質層2aは、フッ素樹脂を主成分とする多孔質の層である。このフッ素樹脂としては、例えばポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体(ETFE)、ポリフッ化ビリニデン(PVdF)等が挙げられる。これらの中で、ポリテトラフルオロエチレンが好ましい。また、これらの樹脂を単独で用いてもよく、2種以上混合して用いてもよい。特に伝送特性の観点からは、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体又はこれらの組合せのみを主成分として含むことが好ましい。
多孔質層2aにフィラー、クロス、フィルム等を挿入又は混合してもよい。これにより、多孔質層2aの反りを低減できると共に寸法安定性が向上する。また、多孔質層2aにフィラー、添加剤等を混合してもよい。これにより、フッ素樹脂に放熱性、反射性、発泡性等の性質を付与したり、多孔質層2aの誘電率を向上できる。さらに多孔質層2aに顔料等の着色剤を添加してもよい。
多孔質層2aの主成分であるフッ素樹脂は架橋していることが好ましい。このようにフッ素樹脂が架橋することで、350℃程度での多孔質層2aの変形が抑制されるため、当該プリント配線板1の寸法精度が向上する。
また、上記フッ素樹脂は補強層2bやシラン含有層4と化学結合していることが好ましい。このようにフッ素樹脂が補強層2bやシラン含有層4と化学結合することで、多孔質層2aと補強層2b及びシラン含有層4との接着力が向上し、当該プリント配線板1の強度が向上する。
上記フッ素樹脂を架橋又は化学結合させる方法としては、例えば後述する接合工程における電離放射線の照射、熱プレス等が挙げられる。
多孔質層2aの1層あたりの平均厚みの上限としては、100μmが好ましく、20μmがより好ましい。一方、上記平均厚みの下限としては、1μmが好ましく、5μmがより好ましい。上記平均厚みが上記上限を超えると、誘電体層2が不必要に厚くなるおそれや、当該プリント配線板1に可撓性が求められる場合に誘電体層2が可撓性に欠けるおそれがある。逆に、上記合計平均厚みが上記下限未満の場合、多孔質層2aの誘電正接が大きくなり伝送損失を十分に小さくできないおそれがあると共に十分な伝送速度が得られないおそれがある。また多孔質層2aの形成が煩雑となるおそれがある。
多孔質層2aのバブルポイントの下限としては、40kPaが好ましく、80kPaがより好ましく、150kPaがさらに好ましい。上記バブルポイントが上記下限未満の場合、スルーホール形成時や導電パターン3をエッチングする際に、メッキ液や洗浄液等が多孔質層2aに浸透するおそれがある。
多孔質層2aの空隙率の下限としては、0.001%が好ましく、0.005%がより好ましく、0.01%がさらに好ましい。一方、上記空隙率の上限としては、5%が好ましく、3%がより好ましい。上記空隙率が上記下限未満の場合、多孔質層2aの比誘電率や誘電正接が増加するおそれがある。逆に、上記空隙率が上記上限を超えると、多孔質層2aの強度が低下するおそれがある。
多孔質層2aにおける空隙の平均孔径の上限としては、10μmが好ましく、0.5μmがより好ましい。一方、上記平均孔径の下限としては、0.001μmが好ましく、0.01μmがより好ましい。上記平均孔径が上記上限を超えると、スルーホール形成時や導電パターン3をエッチングする際に、メッキ液や洗浄液等が多孔質層2aに浸透するおそれがある。逆に、上記平均孔径が上記下限未満の場合、当該プリント配線板1の伝送遅延及び伝送損失が十分に低減されないおそれがある。また、導電パターン3が形成する回路内における合成誘電率のバラツキが大きくなり(インピーダンスで10%以上)、当該プリント配線板1の電気特性に影響するおそれがある。ここで「空隙の孔径」とは、多孔質層の任意方向の断面における各空隙の最大径と最小径との平均値を意味する。
多孔質層2aの比誘電率の上限としては、10.0が好ましく、2.3がより好ましく、1.8がさらに好ましい。一方、上記比誘電率の下限としては、1.01が好ましく、1.2がより好ましく、1.4がさらに好ましい。上記比誘電率が上記上限値を超えると、誘電正接が大きくなり伝送損失を十分に小さくできないおそれや、十分な伝送速度が得られないおそれがある。逆に、上記比誘電率が上記下限値未満の場合、当該プリント配線板1と共に用いる他の電子部品とインピーダンスを整合させるために導電パターン3の幅を広くする必要が生じ、導電パターン3が過度に大きくなるおそれや、誘電体層の強度が低下する可能性がある。
多孔質層2aの誘電率εと上記多孔質層2aと同種(FEP、PFA、PTFE等)の非多孔質フッ素樹脂の誘電率ε0との比(ε/ε0)の上限としては、0.98が好ましく、0.9がより好ましい。一方、上記比の下限としては、0.2が好ましく、0.4がより好ましい。上記比が上記上限を超えると、当該プリント配線板1の伝送遅延及び伝送損失が十分に低減されないおそれがある。逆に、上記比が上記下限未満の場合、多孔質層2aの強度が低下するおそれがある。
多孔質層2aの線膨張率の上限としては、1.2×10−4/Kが好ましく、1×10−4/Kがより好ましい。一方、上記線膨張率の下限としては、−2×10−5/Kが好ましく、1×10−5/Kがより好ましい。上記線膨張率が上記上限を超えると、加熱時に多孔質層2aが過度に膨張し、当該プリント配線板用板1の反りを十分に低減できないおそれがある。逆に、上記線膨張率が上記下限未満の場合、多孔質層2aのコストが増加するおそれがある。
(補強層)
上記補強層2bは、上記多孔質層2aの裏面側に積層され、当該プリント配線板1の強度を向上させる層である。また、当該プリント配線板1の加熱時の反りを低減する観点から、補強層2bは多孔質層2aよりも線膨張率が小さいことが好ましい。さらに、補強層2bは、絶縁性、耐熱性、耐腐食性及びフッ素樹脂と同等以上の引っ張り強さを有することが望ましい。
上記補強層2bは、上記多孔質層2aの裏面側に積層され、当該プリント配線板1の強度を向上させる層である。また、当該プリント配線板1の加熱時の反りを低減する観点から、補強層2bは多孔質層2aよりも線膨張率が小さいことが好ましい。さらに、補強層2bは、絶縁性、耐熱性、耐腐食性及びフッ素樹脂と同等以上の引っ張り強さを有することが望ましい。
補強層2bの材質としては、例えば金属、セラミックス、アルミナ、ガラスをクロス状に形成したガラスクロス、フッ素樹脂含有ガラスクロス、樹脂フィルム、樹脂繊維をクロス状又は不織布とした樹脂クロス等が挙げられる。また、上記樹脂としては、例えばPTFE、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリイミド(PI)、アラミド、液晶ポリマー(特にI型LCP)、ポリアミドイミド(PAI)、ポリベンゾイミダゾール(PBI)、PFA等が挙げられる。これらの中で、ガラスクロスが好ましい。また、当該プリント配線板1にスルーホールを形成する場合、フッ素樹脂含有ガラスクロスがより好ましい。
上記ガラスクロス及び樹脂クロスの織り方としては公知のものを採用でき、補強層2bを薄くする観点から平織りが好ましい。また、当該プリント配線板1を屈曲させる場合、綾織り又はサテン織りが好ましい。
上記ガラスクロスにおけるガラス繊維の密度の上限としては、200g/m3が好ましく、100g/m3がより好ましい。一方、上記密度の下限としては、0.1g/m3が好ましく、5g/m3がより好ましい。上記密度が上記上限を超えると、補強層2bと多孔質層2aとの接着力が不十分となるおそれや、当該プリント配線板1に可撓性が要求される場合に可撓性が低下するおそれがある。逆に、上記密度が上記下限未満の場合、補強層2bの強度が低下するおそれがある。ここで「ガラスクロスの密度」とは、JIS−R3420(2013)に準拠して測定される値である。
上記ガラス繊維の引張強度の上限としては、10GPaが好ましく、5GPaがより好ましい。一方、上記引張強度の下限としては、1GPaが好ましく、2GPaがより好ましい。上記引張強度が上記上限を超えると、補強層2bの加工が困難となるおそれがある。逆に、上記引張強度が上記下限未満の場合、補強層2bの強度が低下するおそれがある。ここで「ガラス繊維の引張強度」とは、JIS−R3420(2013)に準拠して測定される値である。
上記ガラス繊維の引張弾性率の上限としては、200GPaが好ましく、100GPaがより好ましい。一方、上記引張弾性率の下限としては、10GPaが好ましく、50GPaがより好ましい。上記引張弾性率が上記上限を超えると、当該プリント配線板1に可撓性が要求される場合に可撓性が不十分となるおそれがある。逆に、上記引張弾性率が上記下限未満の場合、補強層2bの強度が不十分となるおそれがある。ここで「引張弾性率」とは、引張応力とひずみとの関係を表わす複素弾性率であり、引張試験機により測定される値である。
上記ガラス繊維の最大伸び率の上限としては、20%が好ましく、10%がより好ましい。一方、上記最大伸び率の下限としては、0.1%が好ましく、1%がより好ましい。上記最大伸び率が上記上限を超えると、補強層2bの加工が困難となるおそれがある。逆に、上記最大伸び率が上記下限未満の場合、当該プリント配線板1に可撓性が要求される場合に可撓性が不十分となるおそれがある。ここで「最大伸び率」とは、ガラス繊維の引張破断時の伸びに基づき算出される値である。
上記ガラス繊維の軟化点の上限としては、1200℃が好ましく、1000℃がより好ましい。一方、上記軟化点の下限としては、700℃が好ましく、800℃がより好ましい。上記軟化点が上記上限を超えると、補強層2bの製造及び加工が困難となるおそれがある。逆に上記軟化点が上記下限未満の場合、補強層2bの耐熱性が低下するおそれがある。ここで、「ガラス繊維の軟化点」とは、JIS−R3420(2013)に準拠して測定される値である。
補強層2bの平均厚みの上限としては、200μmが好ましく、100μmがより好ましい。一方、上記平均厚みの下限としては、1μmが好ましく、5μmがより好ましい。上記平均厚みが上記上限を超えると、誘電体層2が不必要に厚くなるおそれや、当該プリント配線板1に可撓性が要求される場合に可撓性が不十分となるおそれがある。逆に、上記平均厚みが上記下限未満の場合、当該プリント配線板1の強度が向上しにくくなると共に、当該プリント配線板1に反りが生じ易くなるおそれがある。
多孔質層2aの平均厚みに対する補強層2bの平均厚みの比の上限としては、30が好ましく、2がより好ましく、0.5がさらに好ましい。一方、上記比の下限としては、0.001が好ましく、0.1がより好ましく、0.2がさらに好ましい。上記比が上記上限を超えると、誘電体層2が不必要に厚くなるおそれや、当該プリント配線板1に可撓性が要求される場合に可撓性が不十分となるおそれがある。逆に、上記比が上記下限未満の場合、補強層2bが過度に薄くなり、当該プリント配線板1に反りが生じやすくなるおそれがある。ここで「多孔質層2a又は補強層2bの平均厚み」とは、多孔質層2a又は補強層2bが複数層存在する場合、それぞれの層の平均厚みを合計した値である。
補強層2bの空隙率の上限としては、80%が好ましく、50%がより好ましい。一方、上記空隙率の下限としては、0%が好ましく、1%がより好ましい。上記空隙率が上記上限を超えると、補強層2bの強度が低下するおそれがある。逆に、上記空隙率が上記下限未満の場合、補強層2bの可撓性が低下するおそれがある。
また、補強層2bと多孔質層2aとの界面にエアやボイドを設けることで当該プリント配線板用1の誘電率をより低下させることができる。上記エアやボイドは、独立気泡でも連続気泡であってもよいが、誘電体層2内で均一に存在することが好ましい。また、エアやボイドのサイズとしては、当該プリント配線板1の回路に影響しない程度の小さいものであることが好ましい。
補強層2bの比誘電率の上限としては、10が好ましく、6がより好ましく、5がさらに好ましい。一方、上記比誘電率の下限としては、1.2が好ましく、1.5がより好ましく、1.8がさらに好ましい。上記比誘電率が上記上限値を超えると、誘電正接が大きくなり伝送損失を十分に小さくできないおそれや、十分な伝送速度が得られないおそれがある。一方、上記比誘電率が上記下限未満の場合、補強層2bのコストが増加するおそれがある。
補強層2bの線膨張率の上限としては、5×10−5/Kが好ましく、1×10−5/Kがより好ましい。一方、上記線膨張率の下限としては、−1×10−4/Kが好ましく、0/Kがより好ましい。上記線膨張率が上記上限を超えると、補強層2bの熱膨張により当該プリント配線板1に反りが生じやすくなるおそれがある。逆に、上記線膨張率が上記下限未満の場合、補強層2bのコストが増加するおそれがある。
多孔質層2aの線膨張率に対する補強層2bの線膨張率の比の上限としては、0.95が好ましく、0.1がより好ましい。一方、上記比の下限としては、0.001が好ましく、0.005がより好ましい。上記比が上記上限を超えると、当該プリント配線板1に反りが生じ易くなるおそれがある。逆に、上記比が上記下限未満の場合、補強層2bのコストが増加するおそれがある。
誘電体層2の見かけ比誘電率の上限としては、2.6が好ましく、2.4がより好ましく、2.3がさらに好ましい。一方、上記見かけ比誘電率の下限としては、1.2が好ましく、1.4がより好ましく、1.6がさらに好ましい。上記見かけ比誘電率が上記上限を超えると、誘電正接が大きくなり伝送損失を十分に小さくできないおそれが生ずると共に、十分な伝送速度が得られないおそれが生ずる。逆に、上記見かけ比誘電率が上記下限未満の場合、補強層2bの比誘電率が過度に小さくなるおそれがある。ここで「誘電体層2の見かけ比誘電率」とは、多孔質層2aとその間の補強層2bとを一つの媒質とみた際の誘電率と真空の誘電率との比を意味する。
<導電パターン>
導電パターン3は、誘電体層2の表面に積層され、当該プリント配線板の回路を構成する。
導電パターン3は、誘電体層2の表面に積層され、当該プリント配線板の回路を構成する。
上記導電パターンの主成分としては、例えば無酸素銅等の銅、アルミニウム、銀、金、ニッケル、これらの合金、ステンレス鋼などが挙げられる。これらの中で、銅又は銅合金が好ましく、銅がより好ましい。
導電パターン3の平均厚みの上限としては、500μmが好ましく、100μmがより好ましく、50μがさらに好ましい。一方、上記平均厚みの下限としては、1μmが好ましく、5μmがより好ましく、10μmがさらに好ましい。上記平均厚みが上記上限を超えると、当該プリント配線板用1の厚みが過度に増加するおそれがある。一方、上記平均厚みが上記下限未満の場合、導電パターン3の強度が低下するおそれがある。
導電パターン3の誘電体層2側面の十点平均粗さRzの上限としては、1μmであり、0.9μmが好ましく、0.8μmがより好ましい。一方、上記Rzの下限としては、0.1μmが好ましく、0.3μmがさらに好ましい。上記Rzが上記上限を超えると、表皮効果により伝送速度の低下や伝送損失の増大を招くおそれがある。逆に、上記Rzが上記下限未満の場合、当該プリント配線板1の製造コストが増加するおそれがある。
導電パターン3と多孔質層2aとが直接接着する場合の剥離強度の下限としては、0.5N/cmが好ましく、2N/cmがより好ましく、5N/cmがさらに好ましい。上記剥離強度が上記下限未満の場合、当該フレキシブルプリント配線板1が破損し易くなるおそれがある。ここで「剥離強度」とはJIS−K6854−2(1999)に準拠し測定される値である。
<シラン含有層>
シラン含有層4は、多孔質層2aと導電パターン3との間に積層される層である。このシラン含有層4により導電パターン3と多孔質層2aとの接着性を向上できる。多孔質層2aとシラン含有層4との間、及びシラン含有層4と導電パターン3との間には他の層は存在せず、これらの層は直接積層される。
シラン含有層4は、多孔質層2aと導電パターン3との間に積層される層である。このシラン含有層4により導電パターン3と多孔質層2aとの接着性を向上できる。多孔質層2aとシラン含有層4との間、及びシラン含有層4と導電パターン3との間には他の層は存在せず、これらの層は直接積層される。
シラン含有層4の材質としては、例えば公知のシランカップリング剤等が挙げられる。このシランカップリング剤としては、硫黄原子や窒素原子を含むものが好ましい。シランカップリング剤がこれらの原子を含むことで、導電パターン3と多孔質層2aとの接着強度が向上する。
シラン含有層4の平均厚みの上限としては、100nmが好ましく、60nmがより好ましい。一方、上記平均厚みの下限としては、0.1nmが好ましく、5nmがより好ましい。上記平均厚みが上記上限を超えると、当該プリント配線板の伝送遅延及び伝送損失が十分に低減されないおそれがある。逆に、上記平均厚みが上記下限未満の場合、導電パターン3と多孔質層2aとの接着性が向上し難くなるおそれがある。
導電パターン3と多孔質層2aとの間には、上記シラン含有層4、図示しない無機防錆層等が積層されてもよい。これらの層が積層される場合における導電パターン3と多孔質層2aとの面間距離は、X線光電子分光分析(XPS)により測定することができる。上記面間距離としては、1nm以上100nm以下が好ましい。上記面間距離が上記下限未満の場合、導電パターン3と多孔質層2aとの接着強度が低下するおそれがある。逆に、上記面間距離が上記上限を超えると、導電層2の導電性が低下するおそれがある。
上記シラン含有層4及び無機防錆層は、通常銅箔の表面に積層される。無機防錆層及びシラン含有層4をこの順で積層した銅箔をXPSにより測定すると、表面に炭素、ケイ素等を含む層が形成され、この層の下にクロム、コバルト、モリブデン等を含む層が形成されていることが示される。
当該プリント配線板1の15GHzでの伝送損失の上限としては、1dB/cmが好ましく、0.35dB/cmがより好ましい。上記伝送損失が上記上限を超えると、当該プリント配線板1が高周波を用いた機器の使用に適さないおそれがある。
[プリント配線板の製造方法]
当該プリント配線板1の製造方法としては、例えば誘電体層2の表面側に銅箔5を積層する工程、上記積層体を接合する工程、及び銅箔5をエッチング等することにより導電パターン3を形成する工程を主に備えるものが挙げられる。
当該プリント配線板1の製造方法としては、例えば誘電体層2の表面側に銅箔5を積層する工程、上記積層体を接合する工程、及び銅箔5をエッチング等することにより導電パターン3を形成する工程を主に備えるものが挙げられる。
<積層工程>
本工程では、誘電体層2の表面に銅箔5を積層する。具体的には、裏面側から補強層2b、多孔質層2a、シラン含有層4、銅箔5の順で各層を積層する。
本工程では、誘電体層2の表面に銅箔5を積層する。具体的には、裏面側から補強層2b、多孔質層2a、シラン含有層4、銅箔5の順で各層を積層する。
多孔質層2aは公知の方法で形成でき、多孔質フッ素樹脂フィルムから形成されることが好ましい。このように多孔質層2aを多孔質フッ素樹脂フィルムから形成することで、多孔質層2aの空隙率、比誘電率等を容易に調整できる。
上記多孔質フッ素樹脂フィルムの形成方法としては、例えばフッ素樹脂フィルムを延伸する方法、キャビティ内に複数の棒状体、エア噴出孔等を配設した金型からフッ素樹脂を押出成形する方法などが挙げられる。この押出成形によれば、平面方向に連通した複数の空隙を有する多孔質フッ素樹脂フィルムを形成できる。
上記多孔質フッ素樹脂フィルムの平均厚みの上限としては、100μmが好ましく、20μmがより好ましい。一方、上記平均厚みの下限としては、0.1μmが好ましく、3μmがより好ましい。上記平均厚みが上記上限を超えると、誘電体層2の厚みが不必要に増加するおそれがある。一方、上記平均厚みが上記下限未満の場合、当該プリント配線板1の伝送遅延及び伝送損失が十分に低減されないおそれがある。
上記多孔質フッ素樹脂フィルムのバブルポイントの下限としては、30kPaが好ましく、60kPaがより好ましく、150kPaがさらに好ましい。上記バブルポイントが上記下限未満の場合、スルーホール形成時や導電パターン3をエッチングする際に、メッキ液や洗浄液等が多孔質層2aに浸透するおそれがある。
なお、銅箔等と多孔質フッ素樹脂フィルムとを積層することにより、多孔質フッ素樹脂フィルムの孔径は一般には小さくなるため、積層後のバブルポイントは積層前のバブルポイント以下になると推定される。よって、多孔質フッ素樹脂フィルムの積層後のバブルポイントの測定が困難な場合は、積層前のバブルポイントを測定することでバブルポイントの値を規定する。
上記多孔質フッ素樹脂フィルムの空隙率の下限としては、0.001%が好ましく、1%がより好ましい。一方、上記空隙率の上限としては、99%が好ましく、90%がより好ましい。上記空隙率が上記下限未満の場合、当該プリント配線板1の伝送遅延及び伝送損失が十分に低減されないおそれがある。逆に、上記空隙率が上記上限を超えると、多孔質層2aの強度が低下するおそれがある。
上記多孔質フッ素樹脂フィルムにおける空隙の平均孔径の上限としては、10μmが好ましく、1μmがより好ましい。一方、上記平均孔径の下限としては、0.001μmが好ましく、0.005μmがより好ましい。上記平均孔径が上記上限を超えると、スルーホール形成時や導電パターン3をエッチングする際に、メッキ液や洗浄液等が多孔質層2aに浸透するおそれがある。逆に、上記平均孔径が上記下限未満の場合、当該プリント配線板1の伝送遅延及び伝送損失が十分に低減されないおそれや、製造コストが上昇する可能性がある。
多孔質層2aと補強層2bとは本工程の段階で接合されていてもよく、また本工程では接合されず接合工程において接合されてもよい。本工程で多孔質層2aと補強層2bとを接合する方法としては、例えば多孔質層2aと補強層2bとを積層し熱プレスすることで接合する方法、多孔質層2aと補強層2bとを接着剤を用いて接着する方法、多孔質層2aを押出成形しつつ補強層2bに積層する方法等が挙げられる。
上記熱プレスにより多孔質層2aと補強層2bとを接合する場合、熱プレス時の温度及び圧力としては、後述する接合工程における熱プレスと同様のものとすることができる。また、熱プレスにより多孔質層2aと補強層2bとを接合する場合、補強層2bの厚み方向の一部のみに多孔質層2aが含浸するか、補強層2bに多孔質層2aが含浸しないことが好ましい。
銅箔5は、銅又は銅合金を主成分とするものであり、公知の方法で製造することができる。また、銅箔5を誘電体層2に積層する前に銅箔5の裏面にシラン含有層4を形成する。このシラン含有層4の形成方法としては、上述のシランカップリング剤を銅箔5の表面に塗布後乾燥する方法等が挙げられる。
銅箔5の平均厚みの上限としては、500μmが好ましく、100μmがより好ましく、50μmがさらに好ましい。一方、上記平均厚みの下限としては、1μmが好ましく、5μmがより好ましく、10μmがさらに好ましい。上記平均厚みが上記上限を超えると、当該プリント配線板用1の厚みが過度に増加するおそれがある。一方、上記平均厚みが上記下限未満の場合、導電パターン3の強度が低下するおそれがある。
銅箔5のフッ素樹脂層2a側面の十点平均粗さRzの上限としては、1μmであり、0.9μmが好ましく、0.8μmがより好ましい。一方、上記Rzの下限としては、0.1μmが好ましく、0.3μmがより好ましく、0.5μmがさらに好ましい。上記Rzが上記上限を超えると、表皮効果により伝送速度が低下するおそれや、伝送損失が増大するおそれがある。逆に、上記Rzが上記下限未満の場合、当該プリント配線板1の製造コストが増加するおそれがある。
<接合工程>
本工程では、誘電体層2、シラン含有層4及び銅箔5の積層体を接合する。具体的には、加熱等により多孔質層2aからラジカルが放出され、このラジカルにより多孔質層2aと補強層2b又はシラン含有層4との間で反応が起こり、これらの層が化学的に接合される。この接合方法としては、例えば電離放射線の照射、熱プレス等が挙げられる。このように上記積層体を接合することで、図2の当該プリント配線板用基板6が得られる。
本工程では、誘電体層2、シラン含有層4及び銅箔5の積層体を接合する。具体的には、加熱等により多孔質層2aからラジカルが放出され、このラジカルにより多孔質層2aと補強層2b又はシラン含有層4との間で反応が起こり、これらの層が化学的に接合される。この接合方法としては、例えば電離放射線の照射、熱プレス等が挙げられる。このように上記積層体を接合することで、図2の当該プリント配線板用基板6が得られる。
上記接合を熱プレスにより行う場合、上記積層体を熱プレス機に装填し、加熱と加圧とを同時に行う。この熱プレス機としては、公知の装置を用いることができる。
上記熱プレスにおける加熱温度の上限としては、600℃が好ましく、500℃がより好ましい。一方、上記加熱温度の下限としては、250℃が好ましく、280℃がより好ましく、300℃がさらに好ましい。上記加熱温度が上記上限を超えると、誘電体層2等が劣化するおそれがある。逆に、上記加熱温度が上記下限未満の場合、上述のラジカルの生成が不十分となり、誘電体層2と銅箔5又はシラン含有層4との接着力が低下するおそれがある。
上記熱プレスにおける圧力の上限としては50000kPaが好ましく、20000kPaがより好ましい。一方、上記圧力の下限としては、0.1kPaが好ましく、1kPaがより好ましい。上記圧力が上記上限を超えると、導電パターン3等が破損するおそれがある。逆に、上記圧力が上記下限未満の場合、誘電体層2とシラン含有層4との接着力が低下したり、接着のバラツキが大きくなるおそれがある。
接合工程は無酸素雰囲気下で行うことが好ましい。この無酸素雰囲気中の酸素濃度の上限としては、1000ppmが好ましく、100ppmがより好ましい。上記酸素濃度が上記上限を超えると、銅箔が酸化し密着力が低下するおそれや、電離放射線の照射によりフッ素樹脂の主鎖が切断されるおそれがある。接合工程における酸素濃度を低減させる方法としては、例えば窒素等の不活性ガスを上記積層体の周囲に充填する方法、排気ポンプ等を用いて上記積層体の周囲を真空にする方法等が挙げられる。
上記接合を電離放射線の照射により行う場合、上記積層体の表面に電離放射線を照射する。この電離放射線の照射により、多孔質層2aのフッ素樹脂を架橋させ、さらに多孔質層2aを補強層2b又はシラン含有層4と化学結合させる。この電離放射線の照射には公知の装置を用いることができる。
上記電離放射線としては、例えばγ線、電子線、X線、中性子線、高エネルギーイオン線等が挙げられ、γ線が好ましい。また、電離放射線の照射線量の上限としては、1000kGyが好ましく、900kGyがより好ましく、500kGyがさらに好ましい。一方、上記照射線量の下限としては、0.01kGyが好ましく、0.1kGyがより好ましく、1kGyがさらに好ましい。上記照射線量が上記上限を超える場合、架橋との競争反応であるフッ素樹脂の分解反応により誘電体層2の強度が低下するおそれや、銅箔と樹脂との界面に発泡が発生するおそれがある。逆に、上記照射線量が上記下限未満の場合、フッ素樹脂の架橋反応が十分進行せず、誘電体層2とシラン含有層4との結合力が不十分となるおそれがある。
<導電パターン形成工程>
本工程では、銅箔5をエッチング等することにより導電パターン3を形成する。この導電パターンの形成方法としては公知の方法を採用でき、このような方法としては例えばサブトラクティブ法等が挙げられる。このサブトラクティブ法では、銅箔5の表面に所定形状のレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとして銅箔5をエッチングした後、レジストパターンを剥離することで導電パターン3を形成する。
本工程では、銅箔5をエッチング等することにより導電パターン3を形成する。この導電パターンの形成方法としては公知の方法を採用でき、このような方法としては例えばサブトラクティブ法等が挙げられる。このサブトラクティブ法では、銅箔5の表面に所定形状のレジストパターンを形成し、このレジストパターンをマスクとして銅箔5をエッチングした後、レジストパターンを剥離することで導電パターン3を形成する。
導電パターン3形成後、発光ダイオード等の電子素子を当該プリント配線板1に配設してもよい。このような電子素子としては、発光ダイオードの他、例えばコンデンサ、インダクタ、抵抗、光センサ、ICチップ、光電変換素子、アンテナ等が挙げられる。
また、当該プリント配線板1にスルーホールを形成する場合、このスルーホールは、導電パターン3を形成した後の当該プリント配線板1に貫通孔を形成し、この貫通孔に金属メッキをすることで形成できる。この金属メッキとしては、例えば銅、金、ニッケル等が挙げられ、銅が好ましい。また、導電性のペーストを上記貫通孔に注入して加熱硬化させることによってもスルーホールを形成できる。この導電性のペーストとしては、例えば銀ペースト、銅ペースト等が挙げられ、銅ペーストが好ましい。
<利点>
当該プリント配線板1は、誘電体層2がフッ素樹脂を主成分とする多孔質層2aであることで、誘電体層2の誘電率を低減できる。さらに、導電パターン3の誘電体層2側面の十点平均粗さRzが上記上限以下であることで、表面効果により電流が導電パターン3の表面部分を流れる際の伝搬距離を短くできる。これらの結果、当該プリント配線板1は伝送遅延及び伝送損失を低減できる。
当該プリント配線板1は、誘電体層2がフッ素樹脂を主成分とする多孔質層2aであることで、誘電体層2の誘電率を低減できる。さらに、導電パターン3の誘電体層2側面の十点平均粗さRzが上記上限以下であることで、表面効果により電流が導電パターン3の表面部分を流れる際の伝搬距離を短くできる。これらの結果、当該プリント配線板1は伝送遅延及び伝送損失を低減できる。
[プリント配線板用基板]
当該プリント配線板用基板6は、図2に示すように、誘電体層2と、この誘電体層2の表面側に積層される銅箔5を主に備える。また、銅箔5と誘電体層2との間にシラン含有層4を備える。この誘電体層2、銅箔5及びシラン含有層4は、上記プリント配線板の実施形態と同様であるので同一番号を付して説明を省略する。
当該プリント配線板用基板6は、図2に示すように、誘電体層2と、この誘電体層2の表面側に積層される銅箔5を主に備える。また、銅箔5と誘電体層2との間にシラン含有層4を備える。この誘電体層2、銅箔5及びシラン含有層4は、上記プリント配線板の実施形態と同様であるので同一番号を付して説明を省略する。
<利点>
当該プリント配線板用基板6によれば、誘電体層2がフッ素樹脂を主成分とする多孔質層2aであり、かつ銅箔5の誘電体層2側面の十点平均粗さRzが上記上限以下であることで、伝送遅延及び伝送損失が低いプリント配線板を得ることができる。
当該プリント配線板用基板6によれば、誘電体層2がフッ素樹脂を主成分とする多孔質層2aであり、かつ銅箔5の誘電体層2側面の十点平均粗さRzが上記上限以下であることで、伝送遅延及び伝送損失が低いプリント配線板を得ることができる。
[その他の実施形態]
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
上記誘電体層は表面及び裏面に上記多孔質層を有してもよい。この場合、それぞれの多孔質層の補強層と反対側に銅箔が積層されることが好ましい。具体的には、裏面側から銅箔、多孔質層、補強層、多孔質層、銅箔の順で積層されるとよい。
また、シラン含有層は多孔質層と銅箔との間のそれぞれに積層されることが好ましい。
また、シラン含有層は多孔質層と銅箔との間のそれぞれに積層されることが好ましい。
上記誘電体層が多孔質層を2層備える場合、この2層の多孔質層の平均厚みは略同等であることが好ましい。具体的には一方の多孔質層の平均厚みに対する他方の多孔質層の平均厚みの比が、0.9以上1.1以下であることが好ましい。多孔質層同士の厚みが大きく異なる場合、多孔質層の熱膨張によって当該プリント配線板に反りが生ずるおそれがあるが、上述のように多孔質層同士の厚みが略同等であることで上述のような問題を抑制することができる。
また、上記実施形態における補強層を省略してもよく、当該プリント配線板が補強層を2層以上備えてもよい。補強層が2層以上存在する場合、この複数の補強層の平均厚みや種類を異なるものとしてもよい。
さらに、誘電体層と導電パターンとの接着力を向上させる目的で、非多孔質層又は空隙率の低い多孔質層(例えば、空隙率10%以下)を誘電体層と導電パターンとの間に積層してもよい。
シラン含有層は導電パターンの誘電体層が積層される面(裏面)以外の外面に形成されてもよい。このように導電パターンの裏面以外の外面にシラン含有層を形成することで、導電パターンの錆の発生を低減できる。
さらに、当該プリント配線板及びプリント配線板用基板は、上記シラン含有層に代えて接着剤を主成分とする接着剤層を導電パターン又は銅箔と多孔質層との間に設けてもよく、シラン含有層と接着剤層とを共に備えてもよい。
また、上記接合工程において、複数の接合方法を併用してもよい。このように、複数の接合方法を併用することで、上述のフッ素樹脂のラジカルをより効果的に生成させることができ、多孔質層と補強層及び銅箔との間の接着の確実性をさらに高めることができる。
以下、実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
[プリント配線板用基板の製造]
銅箔、多孔質フッ素樹脂フィルム、非多孔質フッ素樹脂フィルム、フッ素樹脂含浸ガラスクロス、非多孔質フッ素樹脂フィルム、多孔質フッ素フィルム及び銅箔をこの順に積層し、真空条件下で熱プレスにより圧着することで積層し、両面銅張基板を製造した。
銅箔、多孔質フッ素樹脂フィルム、非多孔質フッ素樹脂フィルム、フッ素樹脂含浸ガラスクロス、非多孔質フッ素樹脂フィルム、多孔質フッ素フィルム及び銅箔をこの順に積層し、真空条件下で熱プレスにより圧着することで積層し、両面銅張基板を製造した。
上記銅箔の平均厚みは18μm、Rzは0.6μmであり、上記多孔質フッ素樹脂フィルムの平均厚みは10μmであり、上記非多孔質フッ素樹脂フィルムの平均厚みは15μm、上記フッ素樹脂含浸ガラスクロスの平均厚みは20μmであった。また、銅箔には無機防錆層及びシラン含有層を予め配設し、このシラン含有層と多孔質フッ素樹脂フィルムとが接するように多孔質フッ素樹脂フィルムを積層した。さらに、熱プレス条件は、真空圧力が50torr、プレス温度が320℃、プレス圧力が6000kPaであった。
さらに、多孔質フッ素樹脂フィルムの積層前の平均孔径は0.1μmであり、IPAを用いて測定されるバブルポイントは150KPaであった。
得られた両面銅張基板について、マイクロストリップ線路で伝送ロスを測定したところ、0.15dB/cmであった。
また、得られた両面銅張基板の銅箔をエッチングにより除去し、10GHzの条件下、円筒空洞共振器法により誘電層のεを測定したところ、1.7であった。
さらに、銅箔をエッチング除去して露出した多孔質フッ素樹脂フィルムの表面を光学顕微鏡観察で観察したところ、多孔質フッ素樹脂フィルム表面にガラスクロスは露出していなかった。また、多孔質フッ素樹脂フィルムの絶縁性評価を行ったところ、体積抵抗率で1010Ωcm以上であった。また、多孔質フッ素樹脂フィルムの表面をTOFSIMSで測定した結果、ケイ素元素が確認された。さらに、多孔質フッ素樹脂フィルム表面の対水接触角は90度以下に低下していた。加えて、多孔質フッ素樹脂フィルム表面にカバーレイをエポキシ接着剤で接着し、カバーレイと基板との剥離強度を測定したところ、11N/cmであった。
また、得られた両面銅張基板にΦ200μmのスルーホールを形成しメッキを行った。その後、スルーホールの中心を通る面で両面銅張基板を厚み方向に切断し、断面を観察した。その結果、メッキの基板平面方向への染みだしは30μm以下であった。また、銅箔と多孔質フッ素樹脂フィルムとの面間距離は約30nmであった。
当該プリント配線板及びプリント配線板用基板によれば、伝送遅延及び伝送損失を低減できる。従って、当該プリント配線板及びプリント配線板用基板は、例えば高周波を用いた通信機器等に好適に用いることができる。
1 プリント配線板
2 誘電体層
2a 多孔質層
2b 補強層
3 導電パターン
4 シラン含有層
5 銅箔
6 プリント配線板用基板
2 誘電体層
2a 多孔質層
2b 補強層
3 導電パターン
4 シラン含有層
5 銅箔
6 プリント配線板用基板
Claims (8)
- 誘電体層と、この誘電体層の少なくとも一方の面側に積層される導電パターンとを備えるプリント配線板であって、
上記誘電体層が、一方の面側にフッ素樹脂を主成分とする多孔質層を有し、
上記導電パターンの誘電体層側面の十点平均粗さRzが1μm以下であるプリント配線板。 - 上記多孔質層の1層あたりの平均厚みが、100μm以下である請求項1に記載のプリント配線板。
- 上記多孔質層のバブルポイントが40kPa以上である請求項1又は請求項2に記載のプリント配線板。
- 上記多孔質層の空隙率が0.001%以上である請求項1、請求項2又は請求項3に記載のプリント配線板。
- 上記多孔質層の誘電率εと上記多孔質層と同素材の非多孔質フッ素樹脂の誘電率ε0との比(ε/ε0)が0.9以下である請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のプリント配線板。
- 上記誘電体層が、多孔質層の他方の面側に補強層を備えており、
この補強層が、ガラスクロスを有する請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のプリント配線板。 - 上記多孔質層と上記導電パターンとの層間距離が、1nm以上100nm以下である請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のプリント配線板。
- 誘電体層と、この誘電体層の少なくとも一方の面側に積層される銅箔とを備えるプリント配線板用基板であって、
上記誘電体層が、一方の面側にフッ素樹脂を主成分とする多孔質層を有し、
上記銅箔の誘電体層側面の十点平均粗さRzが、1μm以下であるプリント配線板用基板。
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