JP2016009851A - ナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法、ナノ材料−ドーパント組成物複合体およびドーパント組成物 - Google Patents

ナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法、ナノ材料−ドーパント組成物複合体およびドーパント組成物 Download PDF

Info

Publication number
JP2016009851A
JP2016009851A JP2014131907A JP2014131907A JP2016009851A JP 2016009851 A JP2016009851 A JP 2016009851A JP 2014131907 A JP2014131907 A JP 2014131907A JP 2014131907 A JP2014131907 A JP 2014131907A JP 2016009851 A JP2016009851 A JP 2016009851A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
nanomaterial
dopant composition
dopant
anion
ions
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2014131907A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6197235B2 (ja
Inventor
斐之 野々口
Yoshiyuki Nonoguchi
斐之 野々口
壯 河合
Takeshi Kawai
壯 河合
史彦 上紺屋
Fumihiko Kamikonya
史彦 上紺屋
賢次 大橋
Kenji Ohashi
賢次 大橋
一宏 武田
Kazuhiro Takeda
一宏 武田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nara Institute of Science and Technology NUC
Original Assignee
Nara Institute of Science and Technology NUC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nara Institute of Science and Technology NUC filed Critical Nara Institute of Science and Technology NUC
Priority to JP2014131907A priority Critical patent/JP6197235B2/ja
Priority to US15/312,287 priority patent/US10367130B2/en
Priority to PCT/JP2015/053603 priority patent/WO2015198621A1/ja
Priority to KR1020167030294A priority patent/KR101967032B1/ko
Priority to EP15811639.2A priority patent/EP3163640B1/en
Priority to CN201580027774.6A priority patent/CN106415866B/zh
Publication of JP2016009851A publication Critical patent/JP2016009851A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6197235B2 publication Critical patent/JP6197235B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N10/00Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
    • H10N10/80Constructional details
    • H10N10/85Thermoelectric active materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B19/00Selenium; Tellurium; Compounds thereof
    • C01B19/02Elemental selenium or tellurium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/05Preparation or purification of carbon not covered by groups C01B32/15, C01B32/20, C01B32/25, C01B32/30
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/15Nano-sized carbon materials
    • C01B32/158Carbon nanotubes
    • C01B32/168After-treatment
    • C01B32/174Derivatisation; Solubilisation; Dispersion in solvents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/15Nano-sized carbon materials
    • C01B32/182Graphene
    • C01B32/194After-treatment
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K85/00Organic materials used in the body or electrodes of devices covered by this subclass
    • H10K85/20Carbon compounds, e.g. carbon nanotubes or fullerenes
    • H10K85/221Carbon nanotubes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N10/00Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
    • H10N10/01Manufacture or treatment
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N10/00Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
    • H10N10/10Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects operating with only the Peltier or Seebeck effects
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N10/00Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
    • H10N10/80Constructional details
    • H10N10/85Thermoelectric active materials
    • H10N10/851Thermoelectric active materials comprising inorganic compositions
    • H10N10/852Thermoelectric active materials comprising inorganic compositions comprising tellurium, selenium or sulfur
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N10/00Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
    • H10N10/80Constructional details
    • H10N10/85Thermoelectric active materials
    • H10N10/851Thermoelectric active materials comprising inorganic compositions
    • H10N10/855Thermoelectric active materials comprising inorganic compositions comprising compounds containing boron, carbon, oxygen or nitrogen
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N10/00Thermoelectric devices comprising a junction of dissimilar materials, i.e. devices exhibiting Seebeck or Peltier effects
    • H10N10/80Constructional details
    • H10N10/85Thermoelectric active materials
    • H10N10/856Thermoelectric active materials comprising organic compositions
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00Manufacture or treatment of nanostructures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2202/00Structure or properties of carbon nanotubes
    • C01B2202/02Single-walled nanotubes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2202/00Structure or properties of carbon nanotubes
    • C01B2202/06Multi-walled nanotubes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2202/00Structure or properties of carbon nanotubes
    • C01B2202/20Nanotubes characterized by their properties
    • C01B2202/22Electronic properties
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B2204/00Structure or properties of graphene
    • C01B2204/02Single layer graphene
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
    • H10K10/40Organic transistors
    • H10K10/46Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
    • H10K10/462Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
    • H10K10/466Lateral bottom-gate IGFETs comprising only a single gate
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K10/00Organic devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching; Organic capacitors or resistors having potential barriers
    • H10K10/40Organic transistors
    • H10K10/46Field-effect transistors, e.g. organic thin-film transistors [OTFT]
    • H10K10/462Insulated gate field-effect transistors [IGFETs]
    • H10K10/484Insulated gate field-effect transistors [IGFETs] characterised by the channel regions
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/734Fullerenes, i.e. graphene-based structures, such as nanohorns, nanococoons, nanoscrolls or fullerene-like structures, e.g. WS2 or MoS2 chalcogenide nanotubes, planar C3N4, etc.
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/734Fullerenes, i.e. graphene-based structures, such as nanohorns, nanococoons, nanoscrolls or fullerene-like structures, e.g. WS2 or MoS2 chalcogenide nanotubes, planar C3N4, etc.
    • Y10S977/742Carbon nanotubes, CNTs
    • Y10S977/75Single-walled
    • Y10S977/751Single-walled with specified chirality and/or electrical conductivity
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/734Fullerenes, i.e. graphene-based structures, such as nanohorns, nanococoons, nanoscrolls or fullerene-like structures, e.g. WS2 or MoS2 chalcogenide nanotubes, planar C3N4, etc.
    • Y10S977/742Carbon nanotubes, CNTs
    • Y10S977/752Multi-walled
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/70Nanostructure
    • Y10S977/762Nanowire or quantum wire, i.e. axially elongated structure having two dimensions of 100 nm or less
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/84Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
    • Y10S977/842Manufacture, treatment, or detection of nanostructure for carbon nanotubes or fullerenes
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/84Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
    • Y10S977/89Deposition of materials, e.g. coating, cvd, or ald
    • Y10S977/892Liquid phase deposition
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00Nanotechnology
    • Y10S977/902Specified use of nanostructure
    • Y10S977/932Specified use of nanostructure for electronic or optoelectronic application

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)

Abstract

【課題】簡便かつ効率よく、ナノ材料のゼーベック係数の値を変化させることができる、ナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の製造方法は、ナノ材料に対して、ドーパント組成物を、溶媒中にて接触させる接触工程と、上記溶媒を除去する乾燥工程と、を包含しており、上記ドーパント組成物は特定のアニオンとオニウムイオンとを含有している。【選択図】なし

Description

本発明は、ナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法、ナノ材料−ドーパント組成物複合体およびドーパント組成物に関する。
近年、熱電変換素子、電界効果トランジスタ、センサー、集積回路、整流素子、太陽電池、触媒、エレクトロルミネッセンス等の分野で、柔軟性を備えた素子、小型軽量化された素子を構成するためにナノ材料の利用が注目されている。
ここで、上記分野では、通常、p型導電性を示す材料およびn型導電性を示す材料の両方を備えた双極型素子を用いることが好ましい。例えば、熱電変換素子は、温度差によって物質内に生じる電位差を利用することによって発電を行う熱電発電に用いられる素子である。熱電変換素子においては、p型導電性を示す熱電変換材料またはn型導電性を示す熱電変換材料のいずれか一方のみを備えた熱電変換素子では、高温側の端子から熱が逃げるため、発電効率が良くない。図1はn型導電性の熱電変換材料(n型材料)とp型導電性の熱電変換材料(p型材料)とを用いた双極型熱電変換素子を示す模式図である。双極型熱電変換素子であれば、n型導電性の熱電変換材料とp型導電性の熱電変換材料とを直列につなぐことにより、効率的に発電することができる。
ところで、特許文献1および非特許文献1には、カーボンナノチューブを含有している熱電変換材料が開示されている。しかしながら、特許文献1および非特許文献1に記載の技術において利用されているカーボンナノチューブは主にp型導電性を示すナノ材料である。このようにナノ材料にはp型導電性を示すものが多い。そのため、p型導電性を示すナノ材料を、n型導電性を示すナノ材料に変換する技術が求められている。なお、ナノ材料の極性(すなわち、ナノ材料がp型導電性を示すかn型導電性を示すか)は、ゼーベック係数の正負により判別することができる。つまり、ナノ材料の極性を変換する技術は、ゼーベック係数を変化させる技術であるともいえる。
例えば、p型導電性を示すカーボンナノチューブを、n型導電性を示すカーボンナノチューブへと転換することが研究されている。これまでに、窒素原子交換やアルカリ金属ドーピングなどによってp型導電性カーボンナノチューブをn型導電性カーボンナノチューブに転換できることが報告されている(例えば、非特許文献2および3参照)。
また、非特許文献4および5には、ポリエチレンイミンをカーボンナノチューブにドーピングすることによって、p型導電性カーボンナノチューブをn型導電性カーボンナノチューブに転換できることが開示されている。また、ベンジルビオロゲン、アンモニウムおよびニコチンアミドについても、p型導電性カーボンナノチューブをn型導電性カーボンナノチューブに転換できるドーパントとして使用できることが報告されている(非特許文献6、並びに特許文献2および3参照)。
また、本発明者らは、いくつかのドーパントがp型導電性単層カーボンナノチューブをn型導電性単層カーボンナノチューブに転換できること、及び、これらのドーパントが特定の範囲のHOMO準位を有することを見出した(非特許文献7参照)。
国際公開第2013/065631号(2013年5月10日公開) 米国特許第8,603,836号明細書(2013年12月10日登録) 特開2009−292714号公報(2009年12月17日公開)
K. Suemori et al., Appl. Phys. Lett., 2013, 103, 153902. R. Czerw et al, Nano Lett., 2001, VOL. 1, NO. 9, 457-460. R. S. Lee et al.,Nature,2001, VOL. 388, 255-257. M. Shim et al., J. Am. Chem. Soc., 2001, 123, 11512-11513. Y. Ryu et al, Carbon, 2011, 49, 4745-4751. S. M. Kim et al., J. Am. Chem. Soc., 2009, 131, 327-331. Y. Nonoguchi et al., Sci. Rep., 2013, 3, 3344.
しかしながら、ナノ材料のゼーベック係数を変化させる方法は未だ体系化されていない。つまり、いくつかのp型導電性ナノ材料をn型導電性ナノ材料へと変換するドーパント(n型ドーパント)が報告されているものの、これら公知のドーパントの性質的または構造的な類似物質が必ずしも同様にn型ドーパントになり得るわけではない。このため、新規ドーパントの開発には試行錯誤的な方法を採用せざるを得ない。このような試行錯誤的な方法は、新規ドーパントを開発するまでに多大な費用、時間および労力を必要とし、極めて非効率的である。
また、従来のn型導電性カーボンナノチューブの製造方法では、例えば、加熱(例えば、特許文献3)等を行う必要があり操作が簡便ではないため、n型導電性カーボンナノチューブを大量に生産することは容易ではない。また、非特許文献7に記載の技術は、ある程度高価なドーパントを利用するものであり、さらに有機溶媒を使用し、単層カーボンナノチューブに適用した場合に限定されている。よって、より簡便かつ効率のよいn型導電性ナノ材料の製造方法が求められている。
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、簡便かつ効率よく、ナノ材料のゼーベック係数の値を変化させる方法を提供することにある。
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討した結果、アニオンを広くドーパントとして使用可能であること、および、アニオンの対イオンであるカチオンとしてオニウムイオンを用いることによって、アニオンを効率的にドープできることを独自に見出した。そして、本発明者らは、当該アニオンをドーパントとして使用することにより、簡便かつ効率よくナノ材料のゼーベック係数を変化させることができることを明らかにした。
すなわち、本発明に係るナノ材料−ドーパント複合体の製造方法は、ナノ材料に対して、当該ナノ材料のゼーベック係数を変化させるためのドーパント組成物を、溶媒中にて接触させる接触工程と、上記溶媒を除去する乾燥工程と、を包含しており、上記ドーパント組成物は、アニオンとカチオンとを含有しており、上記アニオンは、ヒドロキシイオン、アルコキシイオン、チオイオン、アルキルチオイオン、シアヌルイオン、およびカルボキシイオンからなる群より選択される少なくとも1つであり、上記カチオンは、オニウムイオンであり、上記乾燥工程によって得られたナノ材料−ドーパント組成物複合体において、アニオンおよびカチオンは互いに解離した状態で存在することを特徴としている。
上記特定の組み合わせのアニオンおよびカチオンは、解離性が良い。そのため、アニオンおよびカチオンを互いに解離させ、アニオンをナノ材料に対して効率的にドープできる。上記アニオンは、当該ナノ材料のキャリアを正孔から電子へと変化させる。よって、上記ドーパント組成物は、ナノ材料のゼーベック係数を変化させる。
上記アニオンは、様々な化合物に含有されているため、簡便に入手することができる。さらにアニオンは、イオンの形態であるため、水系溶媒および有機溶媒の両方において使用可能である。また、加熱等の操作を行う必要もない。さらに、上記ドーパント組成物は様々なナノ材料に対してドーピングすることができる。
よって、上記構成によれば、簡便かつ効率よく、ナノ材料のゼーベック係数の値を変化させることができる。
本発明に係るナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法では、上記アニオンは、OH、CH、CHCH、i−PrO、t−BuO、SH、CH、C、CNおよびCHCOOからなる群より選択される少なくとも1つであってもよい。
本発明に係るナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法では、上記ナノ材料は、ナノ粒子、ナノチューブ、ナノワイヤ、ナノロッドおよびナノシートからなる群より選択される少なくとも1つであってもよい。
本発明に係るナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法では、上記接触工程では、上記ドーパント組成物を溶媒中に溶解させた溶液を、上記ナノ材料に含浸させることによって、または、上記ドーパント組成物を溶媒中に溶解させた溶液中に上記ナノ材料をせん断分散させることによって、上記ナノ材料と上記ドーパント組成物とを接触させてもよい。
本発明に係るナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法では、上記アニオンはn型ドーパントであってもよい。
本発明に係るナノ材料−ドーパント組成物複合体は、本発明に係るナノ材料−ドーパント複合体の製造方法によって製造されたことを特徴としている。
本発明に係るドーパント組成物は、ナノ材料のゼーベック係数を変化させるためのドーパント組成物であって、上記ドーパント組成物は、アニオンとカチオンとを含有しており、上記アニオンは、ヒドロキシイオン、アルコキシイオン、チオイオン、アルキルチオイオン、シアヌルイオン、およびカルボキシイオンからなる群より選択される少なくとも1つであり、上記カチオンは、オニウムイオンであることを特徴としている。
本発明に係るドーパント組成物では、上記アニオンは、OH、CH、CHCH、i−PrO、t−BuO、SH、CH、C、CNおよびCHCOOからなる群より選択される少なくとも1つであってもよい。
本発明に係るドーパント組成物では、上記アニオンはn型ドーパントであってもよい。
本発明に係るナノ材料−ドーパント組成物複合体は、ナノ材料と、本発明に係るドーパント組成物とを含有しており、上記ドーパント組成物が含有しているアニオンおよびカチオンは互いに解離した状態で存在していてもよい。
イオンを用いてナノ材料のゼーベック係数を変化させることができることは、これまで知られておらず、本発明者らが初めて見出したものである。なお、非特許文献6に記載のベンジルビオロゲンはイオン性の物質であるが、非特許文献6に記載の技術では、還元されたベンジルビオロゲン(すなわち、イオンの形態ではないベンジルビオロゲン)を用いることを特徴としている。
本発明は、本発明に係るナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法は、ナノ材料に対して、当該ナノ材料のゼーベック係数を変化させるためのドーパントを、溶媒中にて接触させる接触工程と、上記溶媒を除去する乾燥工程と、を包含しており、上記ドーパント組成物は、アニオンとカチオンとを含有しており、上記アニオンは、ヒドロキシイオン、アルコキシイオン、チオイオン、アルキルチオイオン、シアヌルイオン、およびカルボキシイオンからなる群より選択される少なくとも1つであり、上記カチオンは、オニウムイオンであり、上記乾燥工程によって得られたナノ材料−ドーパント組成物複合体において、アニオンおよびカチオンは互いに解離した状態で存在する。
それゆえ、簡便かつ効率よく、ナノ材料のゼーベック係数の値を変化させることができる、ナノ材料−ドーパント複合体組成物の製造方法を提供することができる。
n型材料とp型材料とを備える双極型熱電変換素子の一例を示した模式図である。 実施例1〜7および比較例1〜9において得られたCNTフィルムのゼーベック係数を示した図である。 実施例8において作製した電界効果トランジスタの模式図である。 実施例8において作製した電界効果トランジスタを観察した図である。 実施例8において作製した電界効果トランジスタのドレイン電流とゲート電圧との関係を示した図であり、(a)はドーパント添加前の結果を示しており、(b)はドーパント添加後の結果を示している。 実施例9〜11および比較例10〜12において得られたCNTフィルムのゼーベック係数を示した図である。 実施例13において得られたTeナノワイヤを観察した図である。
以下、本発明の実施の形態の一例について詳細に説明するが、本発明は、これらに限定されない。なお、本明細書において特記しない限り、数値範囲を表す「A〜B」は、「A以上、B以下」を意味する。
〔ナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法〕
本発明に係るナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法(以下では、「本発明の製造方法」ともいう)は、ナノ材料に対して、当該ナノ材料のゼーベック係数を変化させるためのドーパント組成物を、溶媒中にて接触させる接触工程を包含している。
<ナノ材料>
本明細書において、「ナノ材料」とは、少なくとも1つの方向の寸法がナノスケール(例えば100nm以下)の物質であり、例えば電子材料等として用いられる材料である。
上記ナノ材料は、低次元ナノ材料であってもよい。本明細書において、「低次元」とは、3次元より小さい次元を意図する。すなわち、本明細書において、「低次元」とは、0次元、1次元、2次元を意図する。
0次元のナノ材料としては、例えば、ナノ粒子(量子ドット)が挙げられる。1次元のナノ材料としては、例えば、ナノチューブ、ナノワイヤ、ナノロッドが挙げられる。2次元のナノ材料としては、例えばナノシートが挙げられる。
上記ナノ材料は、炭素、半導体、半金属および金属からなる群より選択される少なくとも1つ以上を含んでいるナノ材料であってもよい。例えば、炭素からなるナノ材料としては、カーボンナノチューブおよびグラフェン(すなわち、炭素からなるナノシート)等が挙げられる。本明細書においては、カーボンナノチューブを「CNT」と称する場合もある。
半導体としては、ケイ素化鉄、コバルト酸ナトリウム、テルル化アンチモン等が挙げられる。半金属としては、テルル、ホウ素、ゲルマニウム、ヒ素、アンチモン、セレン、グラファイト等が挙げられる。金属としては、金、銀、銅、白金、ニッケル等が挙げられる。
上記ナノチューブおよび上記ナノシートは、単層、または多層(二層、三層、四層、またはそれよりも多層)の構造を有していてもよい。上記ナノチューブは炭素から構成されていてもよい。本明細書においては、単層カーボンナノチューブをSWNT(single-wall carbon nanotube)、多層カーボンナノチューブをMWNT(multi-wall carbon nanotube)と称する場合もある。
<ドーパント組成物>
本明細書において、ドーパント組成物とは、ドーパントを含有する組成物を意図している。また、本明細書において、ドーパントとは、ドープされる対象となる材料のゼーベック係数を変化させる物質を意図している。そして、本発明の製造方法において、ドープされる対象となる材料とは、上述のナノ材料である。本発明の製造方法は、上記ドーパントが塩基性を有するアニオンであることを特徴としている。
ゼーベック係数とは、ゼーベック効果を示す回路の、高温接合点と低温接合点の間の温度差に対する、開放回路電圧の比をいう(「マグローヒル科学技術用語大辞典 第3版」より)。ゼーベック係数は、ナノ材料等の電子材料の極性を判別するための指標となり得る。具体的には、例えば、ゼーベック係数が正の値を示すナノ材料は、p型導電性を有しているといえる。これに対して、ゼーベック係数が負の値を示すナノ材料は、n型導電性を有しているといえる。ゼーベック係数は、例えば、後述する実施例で用いたゼーベック効果測定装置(MMR社製)等を用いて測定することができる。
本明細書において、「ゼーベック係数を変化させる」とは、ゼーベック係数の値を減少させること、または、ゼーベック係数を正の値から負の値に変化させることを意図する。よって、「ナノ材料のゼーベック係数を変化させるドーパント(またはドーパント組成物)」とは、かかるドーパント(またはドーパント組成物)を用いてドープされたナノ材料におけるゼーベック係数の値を、ドーピング前と比較して減少させ得るドーパント(またはドーパント組成物)、または、かかるドーパント(またはドーパント組成物)を用いてドープされたナノ材料におけるゼーベック係数を正の値から負の値に変化させ得るドーパント(またはドーパント組成物)が意図される。
本明細書では、ナノ材料におけるゼーベック係数を正の値から負の値に変化させ得るドーパントを特にn型ドーパントと称する場合がある。ドーパントがn型ドーパントであれば、本発明の製造方法によって得られたナノ材料−ドーパント組成物複合体をn型導電性とすることができる。ナノ材料−ドーパント組成物複合体がn型導電性を有していれば、双極型素子において、当該ナノ材料−ドーパント組成物複合体をn型材料として使用することができるため、好ましい。
本発明の製造方法は、上記ドーパント組成物が、ドーパントとして特定のアニオンを含有していることを特徴としている。上記アニオンは、ナノ材料のキャリアを正孔から電子へと変化させる。従って、上記ドーパント組成物は、ナノ材料のゼーベック係数を変化させる。
本発明の製造方法に使用されるアニオンは、ヒドロキシイオン、アルコキシイオン、チオイオン、アルキルチオイオン、シアヌルイオン、およびカルボキシイオンからなる群より選択される少なくとも1つである。ヒドロキシイオンは、OHとも表せる。アルコキシイオンとしては、例えばCH、CHCH、i−PrO、t−BuO等が挙げられる。チオイオンは、SHとも表せる。アルキルチオイオンとしては、例えばCH、C等が挙げられる。シアヌルイオンは、CNとも表せる。カルボキシイオンとしては、例えばCHCOO等が挙げられる。なかでも、アニオンは、OHおよびCHのうち少なくとも一方であることがより好ましい。上記アニオンによれば、効率よくナノ材料のゼーベック係数を変化させることができる。
アニオンがドーパントとして作用する理由の一つとしては、アニオンが非共有電子対を有していることが考えられる。アニオンは、その非共有電子対に基づいて、ドーピングの対象となるナノ材料と相互作用するか、または化学反応を誘起すると推測される。また、後述の実施例から、ドーピングの効率においては、ドーパントのルイス塩基性、分子間力および解離性の重要性が示唆されている。本明細書において、「ルイス塩基性」とは、電子対を供与する性質を意図している。ルイス塩基性の強いドーパントは、ゼーベック係数の変化に対して、より大きな影響を与えると考えられる。また、ドーパントの分子間力も、ナノ材料に対するドーパントの吸着性に関連していると考えられる。ドーパントの分子間力としては、水素結合、CH−π相互作用、π−π相互作用等が挙げられる。ドーパントの解離性については後述する。
以上のことから、上記アニオンのなかでも、弱い水素結合を与えるアニオンが好ましい。弱い水素結合を与えるアニオンとしては、例えば、OH、CH、CHCH、i−PrO、t−BuOが挙げられる。また、アニオンは、π−π相互作用を与えるアニオンであることが好ましい。π−π相互作用を与えるアニオンとしては、例えば、CHCOOが挙げられる。
本発明の製造方法は、ドーパント組成物は、アニオンとカチオンとを含有しており、当該カチオンはオニウムイオンである。当該オニウムイオンは上述の特定のアニオンとの解離性が良く、アニオンを効率的に解離することができる。そして、溶媒中にて、当該アニオンをドーパントとして、ナノ材料に効率的にドープすることができる。
本発明の製造方法において、上記オニウムイオンとしては、例えば、アンモニウム、ホスホニウム、オキソニウム、スルホニウム、フルオニウム、クロロニウム、カルボカチオン、イミニウム、ジアゼニウム、ニトロニウム、ニトリリウム、ジアゾニウム、ニトロソニウム、イミダゾリウム、ピリジニウム等を母骨格とするオニウムイオンが挙げられるが、これに限定されない。溶媒中において解離性がよいという観点からは、アンモニウム、ホスホニウム、イミダゾリウム、ピリジニウムを母骨格とするオニウムイオンが好ましい。
アンモニウムまたはホスホニウムを母骨格とするオニウムイオンとしては、例えば下記一般式(I)で表されるオニウムイオンが挙げられる。
式(I)中、Yは、窒素原子またはリン原子である。R〜Rはそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜16のアルキル基、炭素数1〜16のアリール基、または−S−Rである。ここで、Sはスペーサー基であって炭素数1〜16のアルキレン基であり、Rは(メタ)アクリロイル基またはエポキシ基である。
イミダゾリウムを母骨格とするオニウムイオンとしては、例えば下記一般式(II)で表されるオニウムイオンが挙げられる。
式(II)中、R〜Rはそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜16のアルキル基、または−S−Rである。ここで、Sはスペーサー基であって炭素数1〜16のアルキレン基であり、Rは(メタ)アクリロイル基またはエポキシ基である。
ピリジニウムを母骨格とするオニウムイオンとしては、例えば下記一般式(III)で表されるオニウムイオンが挙げられる。
式(III)中、R〜Rはそれぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜16のアルキル基、または−S−Rである。ここで、Sはスペーサー基であって炭素数1〜16のアルキレン基であり、Rは(メタ)アクリロイル基またはエポキシ基である。
また、オニウムイオンは、例えば、下記一般式(IV)で表される繰り返し単位を有するオニウムイオンであってもよい。
ここで、Yは、窒素原子またはリン原子である。nは、1以上の整数である。
ドーパント組成物は、上記アニオンおよびオニウムイオンを含有する化合物を含んでいてもよい。アニオンおよびオニウムイオンを含有する化合物としては、例えば下記式(a)〜(g)で表される化合物が挙げられる。
上記式(a)は、水酸化テトラメチルアンモニウムである。上記式(b)は、水酸化テトラエチルアンモニウムである。上記式(c)は、水酸化トリメチルフェニルアンモニウムである。上記式(d)は、水酸化1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムである。上記式(e)は、水酸化テトラブチルアンモニウムである。上記式(f)は、水酸化テトラブチルホスホニウムである。上記式(g)は、テトラブチルアンモニウムメトキシドである。
上記式(a)〜(g)で表される化合物は、アニオンの解離性が良く、ナノ材料のゼーベック係数を効率よく変化させることができ、ナノ材料のゼーベック係数を正の値から負の値へと変化させることができるため、好ましい。
上述のように、本発明の製造方法においては、ドーパントのルイス塩基性および分子間力に加えて、解離性が重要である。アニオンは、より多く解離することが好ましい。従って、アニオンおよびカチオンを含有する化合物の解離定数が重要である。例えば、当該化合物の解離定数pKaが7以上であることが好ましく、14以上であることがより好ましい。
本発明のドーパント組成物には、必要に応じて、上述したアニオン、カチオン以外の物質が含まれていてもよい。このような物質としては、ドーパントの働きを阻害しないものであれば特に限定されない。
また、本発明のドーパント組成物には、複数の種類のドーパントが含有されていてもよい。
<接触工程>
接触工程は、ナノ材料に対して、当該ナノ材料のゼーベック係数を変化させるためのドーパント組成物を、溶媒中にて接触させることによってナノ材料とドーパント組成物との複合体(ナノ材料−ドーパント組成物複合体)を形成する工程である。
接触工程では、ナノ材料とドーパント組成物とを接触させることができればよく、その方法は特に限定されないが、例えば、ドーパント組成物を溶媒中に溶解させた溶液にナノ材料を添加し、懸濁することによって両者を接触させることができる。ドーパント組成物とナノ材料とを十分に接触させる観点から、上記ドーパント組成物を溶媒中に溶解させた溶液を、上記ナノ材料に含浸させることによって、または、上記ドーパント組成物を溶媒中に溶解させた溶液中に上記ナノ材料をせん断分散させることによって、上記ナノ材料と上記ドーパント組成物とを接触させることが好ましい。
さらには、均質化装置を用いてナノ材料を液中に分散させながら、ナノ材料とドーパント組成物とを接触させることが好ましい。均質化装置を用いてナノ材料を液中に分散させることによってドーパント組成物がナノ材料に接触し易くなり、その結果、ドーパント組成物とナノ材料とを十分に接触させることができる。
上記均質化装置としては、ナノ材料を溶媒中で均質に分散させることができる装置であれば特に限定されないが、例えば、ホモジナイザー、超音波ホモジナイザー等の公知の手段を用いることができる。なお、本明細書中において、単に「ホモジナイザー」と表記した場合は、「撹拌ホモジナイザー」が意図される。
均質化装置の運転条件としては、ナノ材料を溶媒中に分散させることができる条件であれば特に限定されないが、均質化装置として、例えば、ホモジナイザーを用いる場合は、ナノ材料およびドーパント組成物を加えた溶媒を、ホモジナイザーの撹拌速度(回転数)20000rpmにて、室温(23℃)にて10分間懸濁することによって、ナノ材料を溶媒中に分散させることができる。
ドーパント組成物を溶解させる溶媒としては、例えば、水であってもよく有機溶媒であってもよい。従って、本発明の製造方法は、様々なナノ材料へ適用することができる。有機溶媒としては、アルコール(例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等)、ケトン(例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等)、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド等の高極性溶媒を用いることができるが、本発明はこれらに限定されない。
ドーパント組成物を溶解させる濃度としては、任意の濃度であってよい。例えば、メタノール中の水酸化テトラメチルアンモニウムの濃度は0.001mol/L以上であってもよい。
<乾燥工程>
乾燥工程は、溶媒を除去する工程である。溶媒を除去する方法は特に限定されず、例えば、真空オーブンを用いた方法等が挙げられる。なお、溶媒は完全に除去されなくてもよい。すなわち、本発明の効果を妨げない程度に溶媒が残存していてもよい。本発明の製造方法によれば、アニオンおよびカチオンの解離性が良いため、乾燥工程によって得られたナノ材料−ドーパント組成物複合体において、アニオンおよびカチオンは互いに解離した状態で存在する。よって、ナノ材料−ドーパント組成物複合体においては、ナノ材料に対してアニオンが効率的にドープされている。
また、本発明の製造方法におけるドーパントはアニオンであり、従来のドーパントと比べて、手に入れやすく、安価なものである。また、溶媒としては水系溶媒および有機溶媒の両方を使用することができ、様々なナノ材料に適用可能である。さらに、本発明の製造方法は、加熱等の複雑な工程が不要である。従って、簡便に且つ効率よくナノ材料−ドーパント組成物複合体を製造することができる。よって、本発明の製造方法によれば、簡便に且つ効率よくナノ材料のゼーベック係数を変化させることができる。
<成型工程>
本発明の製造方法は、ナノ材料またはナノ材料−ドーパント組成物複合体を所望の形状に成型する成型工程を包含していてもよい。例えば成型工程において、上記ナノ材料またはナノ材料−ドーパント組成物複合体を、フィルム状に成型してもよい。
ここで、上記「フィルム状」は、シート状または膜状とも言い換えられる。「フィルム状に成型する」とは、ナノ材料またはナノ材料−ドーパント組成物複合体を1μm〜1000μmの厚みの膜に成型することが意図される。
ナノ材料またはナノ材料−ドーパント組成物複合体をフィルム状に成型する方法としては、特に限定されないが、例えば、メンブレンフィルターを用いる方法が挙げられる。具体的には、ナノ材料またはナノ材料−ドーパント組成物複合体の懸濁液を、0.1〜2μm孔のメンブレンフィルターを用いて吸引ろ過を行い、得られた膜を真空下、50〜150℃にて、1〜24時間乾燥させることにより、フィルム状に成型することができる。
本発明の製造方法では、接触工程の前にナノ材料を成型してもよいし、接触工程を経たナノ材料−ドーパント組成物複合体を成型してもよい。接触工程の後で成型工程を行う場合、溶媒中に分散させた1つ1つのナノ材料にドーパント組成物を十分に吸着させることができる。その結果、フィルム内部のナノ材料がより均一にドープされたフィルム状材料を得ることができる。このため、接触工程の後で成型工程を行う場合は、例えば、フィルム内にドープされたn型導電性のナノ材料と未ドープのp型導電性のナノ材料が存在することによってゼーベック効果の相殺が起こる虞がない。
〔ナノ材料−ドーパント組成物複合体〕
本発明にかかるナノ材料−ドーパント複合体(以下、「本発明のナノ材料−ドーパント組成物複合体」ともいう。)は、上述したナノ材料とドーパントとを含んでおり、本発明の製造方法によって製造されたことを特徴としている。換言すれば、本発明のナノ材料−ドーパント複合体は、ナノ材料と、当該ナノ材料のゼーベック係数を変化させるためのドーパント組成物とを含有しており、上記ドーパント組成物はアニオンとカチオンとを含有しており、上記アニオンは、ヒドロキシイオン、アルコキシイオン、チオイオン、アルキルチオイオン、シアヌルイオン、およびカルボキシイオンからなる群より選択される少なくとも1つであり、上記カチオンは、オニウムイオンである。また、上述のように、アニオンおよびカチオンの解離性が良いため、上記ドーパント組成物が含有しているアニオンおよびカチオンは互いに解離した状態で存在する。なお、上記〔ナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法〕の項で既に説明した事項については、説明を省略する。
本発明のナノ材料−ドーパント組成物複合体はn型導電性を示すことが好ましい。ナノ材料−ドーパント組成物複合体がn型導電性を有していれば、双極型素子において、当該ナノ材料−ドーパント組成物複合体をn型材料として使用することができる。
本発明のナノ材料−ドーパント組成物複合体は、上記ナノ材料および上記ドーパント組成物以外の物質が含まれていてもよく、上記以外の物質の種類は限定されない。
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
本発明の一実施例について図2〜図7に基づいて説明すれば以下のとおりである。
〔オニウム塩を用いたドーピング〕
アニオンとオニウムイオンとを含有する化合物(オニウム塩)を用いて、ドーピングの効果を確認した。
<実施例1>
オニウム塩として水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)を用いた。カーボンナノチューブの束5mgを、0.1MのTMAHを溶解させた20mLのメタノールに加えた。得られた混合物を高速ホモジナイザ(ウルトラタラックス社製)によって、20000rpm、10分の条件でせん断分散させた。
得られたカーボンナノチューブの分散液を0.2μmのテフロン(登録商標)製メンブレンフィルターを用いて吸引濾過した。さらに当該フィルターを12時間減圧乾燥させた後、メンブレンフィルターからカーボンナノチューブのフィルムを剥離した。
得られたフィルムのゼーベック係数を、ゼーベック効果測定装置SB−200(MMR technologies社製)を用いて測定した。評価は、310K(ゼーベック効果測定装置の表示温度)にて行った。なお、カーボンナノチューブとしては独立行政法人産業技術総合研究所製の単層カーボンナノチューブ(以下、SGCNTとも称する)を用いた場合とKH Chemicals社製の単層カーボンナノチューブ(以下、KHCNTとも称する)を用いた場合とについて、それぞれフィルムを作製した。なお、以下では、得られたフィルムをCNTフィルムとも称する。
<実施例2>
TMAHの代わりに、水酸化テトラエチルアンモニウム(TEAH)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<実施例3>
TMAHの代わりに、水酸化テトラブチルアンモニウム(TBAH)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<実施例4>
TMAHの代わりに、水酸化トリメチルフェニルアンモニウム(TPAH)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<実施例5>
TMAHの代わりに、水酸化テトラブチルホスホニウム(TBPH)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<実施例6>
TMAHの代わりに、水酸化1−ブチル−3−メチルイミダゾリウム(ImH)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<実施例7>
TMAHの代わりに、テトラブチルアンモニウムメトキシド(TBAM)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<比較例1>
ドーパントを加えなかったこと(すなわち、TMAHを加えなかったこと)以外は実施例1と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<比較例2>
TMAHの代わりに、ヨウ化テトラエチルアンモニウム(TEAI)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<比較例3>
TMAHの代わりに、塩化テトラメチルアンモニウム(TMACl)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<比較例4>
TMAHの代わりに、臭化テトラメチルアンモニウム(TMABr)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<比較例5>
TMAHの代わりに、硝酸テトラメチルアンモニウム(TMANO)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<比較例6>
TMAHの代わりに、テトラフルオロホウ酸テトラメチルアンモニウム(TMABF)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<比較例7>
TMAHの代わりに、過塩素酸テトラエチルアンモニウム(TEAClO)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<比較例8>
TMAHの代わりに、トリフルオロメタンスルホン酸テトラエチルアンモニウム(TEATfO)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<比較例9>
TMAHの代わりに、p−トルエンスルホン酸テトラエチルアンモニウム(TEATos)を用いたこと以外は実施例1と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<実験結果>
実施例1〜7、比較例1〜9の結果を図2に示す。比較例1からドーピングしていないCNTフィルムはp型導電性を示すことがわかる。実施例1〜7においては、CNTフィルムはn型導電性を示した。比較例2〜9は、比較例1と同様にp型導電性を示した。
これらの結果から、本発明の製造方法においてオニウム塩を用いた場合、ドーピングしていない未処理のCNTフィルムと比較してゼーベック係数の値を変化させ得ることが確認できた。これは、溶媒中におけるオニウム塩の解離性がよいためである。また、本発明の製造方法によって、オニウム塩としてTMAH、TEAH、TBAH、TPAH、TBPH、ImHまたはTBAMを用いた場合、CNTフィルムのゼーベック係数の値をより大きく変化させることができ、ゼーベック係数の値を正から負に変化させ得ることが確認できた。
〔電界効果トランジスタにおけるドーピング〕
<実施例8>
カーボンナノチューブへのドーピングの効果を確認するために、図3に示すような電界効果トランジスタ1を作製した。電界効果トランジスタ1では、ドーピングされたSiからなるゲート2(G)上にSiOからなる絶縁層3(厚さ300nm)が形成されている。さらに絶縁層3上にカーボンナノチューブ薄膜(厚さ<50nm)からなる活性層4が形成されている。そして、活性層4上に金(厚さ45nm)とクロム(厚さ5nm)とからなるソース電極5(S)が形成されている。ドレイン電極6(D)もソース電極と同様に金(厚さ45nm)とクロム(厚さ5nm)とからなり、活性層4上に形成されている。
<実験結果>
得られた電界効果トランジスタを、日立微小デバイス特性評価装置nanoEBAC(登録商標)NE4000を用いて評価した。図4は、図3に示す電界効果トランジスタ1をソース電極5およびドレイン電極6が形成されている方向から観察した図である。VSD=1Vとしてドレイン電流Iを測定した結果を図5(a)に示す。図5(a)から、活性層として未ドープのカーボンナノチューブを用いた場合はp型導電性を示すことがわかる。
次に、カーボンナノチューブ薄膜に対して、0.01MのTMAHを溶解させた溶媒(メタノール)を添加し、再度ドレイン電流を測定した結果を図5(b)に示す。図5(b)から、TMAHを使用した場合、n型導電性を示すことがわかる。よって、CNTフィルムだけではなく、電界効果トランジスタを用いて評価した場合にも、本発明の製造方法による効果が確認できた。
〔多層カーボンナノチューブへのドーピング〕
単層カーボンナノチューブの代わりに多層カーボンナノチューブを使用した場合のドーピングの効果を確認した。
<実施例9>
多層カーボンナノチューブとしてはNT−7(保土谷化学製、平均繊維径65nm)を用い、アニオンを含有する化合物としてTMAHを用いた。多層カーボンナノチューブ5mgを、0.1MのTMAHを溶解させた20mLのメタノールに加えた。得られた混合物を高速ホモジナイザ(ウルトラタラックス社製)によって、20000rpm、10分の条件でせん断分散させた。
得られたカーボンナノチューブの分散液を0.2μmのテフロン(登録商標)製メンブレンフィルターを用いて吸引濾過した。さらに当該フィルターを12時間減圧乾燥させた後、メンブレンフィルターからカーボンナノチューブのフィルムを剥離した。
得られたフィルムのゼーベック係数を、ゼーベック効果測定装置SB−200(MMR technologies社製)を用いて測定した。評価は、310K(ゼーベック効果測定装置の表示温度)にて行った。
<実施例10>
多層カーボンナノチューブとしてCT−12(保土谷化学製、平均繊維径110nm)を用いたこと以外は実施例9と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<実施例11>
多層カーボンナノチューブとしてCT−15(保土谷化学製、平均繊維径150nm)を用いたこと以外は実施例9と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<比較例10>
TMAHを加えなかったこと以外は実施例9と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<比較例11>
TMAHを加えなかったこと以外は実施例10と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<比較例12>
TMAHを加えなかったこと以外は実施例11と同様にしてCNTフィルムを作製し、ゼーベック係数を測定した。
<実験結果>
実施例9〜11および比較例10〜12の結果を図6に示す。ドーパントを使用しない場合にはCNTフィルムがp型導電性を示したのに対し、実施例9〜11に示すようにドーパントを使用した場合はゼーベック係数を大きく変化させることができ、CNTフィルムがn型導電性を示した。
これらの結果から、本発明の製造方法によって、ナノ材料として多層カーボンナノチューブを用いた場合であっても、ドーピングしていない未処理のCNTフィルムと比較して、ゼーベック係数の値を大きく変化させることができ、ゼーベック係数の値を正から負に変化させ得ることが確認できた。また、本発明の製造方法は、平均繊維径の異なる様々な多層カーボンナノチューブに対して効果を奏することが確認できた。
〔グラフェンへのドーピング〕
カーボンナノチューブの代わりにグラフェンを使用した場合のドーピングの効果を確認した。
<実施例12>
ナノ材料として酸化グラフェン還元体(単層)を用い、アニオンを含有する化合物としてTMAHを用いた。酸化グラフェン還元体5mgを、0.1MのTMAHを溶解させた20mLのメタノールに加えた。得られた混合物を高速ホモジナイザ(ウルトラタラックス社製)によって、20000rpm、10分の条件でせん断分散させた。
得られた酸化グラフェン還元体の分散液を0.2μmのテフロン(登録商標)製メンブレンフィルターを用いて吸引濾過した。さらに当該フィルターを12時間減圧乾燥させた後、メンブレンフィルターから酸化グラフェン還元体のフィルムを剥離した。
得られたフィルムのゼーベック係数を、ゼーベック効果測定装置SB−200(MMR technologies社製)を用いて測定した。評価は、310K(ゼーベック効果測定装置の表示温度)にて行った。
また、TMAHを用いずに調製した酸化グラフェン還元体のフィルムについても同様にゼーベック係数を測定した。
<実験結果>
ドーパントを使用しない場合にはグラフェンのフィルムがp型導電性を示した(ゼーベック係数:11μV/K)のに対し、ドーパントを使用した場合はグラフェンのフィルムがn型導電性(ゼーベック係数:−6.2μV/K)を示した。
この結果から、本発明の製造方法によって、ナノ材料としてグラフェンを用いた場合であっても、ドーピングしていない未処理のフィルムと比較して、ゼーベック係数の値を大きく変化させることができ、ゼーベック係数の値を正から負に変化させ得ることが確認できた。
〔Teナノワイヤへのドーピング〕
カーボンナノチューブの代わりにテルルからなるナノワイヤ(Teナノワイヤ)を使用した場合のドーピングの効果を確認した。
<実施例13>
ナノ材料としてTeナノワイヤを用い、アニオンを含有する化合物としてTMAHを用いた。まず、500mLの三口フラスコに、4.99mg(22.5mmol)のNaTeO、7.5gのポリビニルピロリドン、4.5gのNaOH、150mLのエチレングリコールを加えた。三口フラスコが有する一口を真空/窒素ラインへと接続し、他の二口をセプタムで封かんした。この系の中を室温で15分間脱気し、N置換した。その後、三口フラスコを加熱し、当該系を160℃まで昇温した(昇温速度15℃/min)。このとき、温度上昇とともに無色透明であった溶液が徐々に紫色に変化した。160℃まで昇温した状態で、7.5mLのヒドラジン一水和物を加え、10分間加熱還元した。その後、加熱を止めて室温に戻るまで窒素雰囲気下にて撹拌した。以上の方法により、Teナノワイヤが得られた。得られたTeナノワイヤをSEMにて観察した結果を図7に示す。
得られたTeナノワイヤ5mgを、0.1MのTMAHを溶解させた20mLのメタノールに加えた。得られた混合物を高速ホモジナイザ(ウルトラタラックス社製)によって、20000rpm、10分の条件でせん断分散させた。
得られたTeナノワイヤの分散液を0.2μmのテフロン(登録商標)製メンブレンフィルターを用いて吸引濾過した。さらに当該フィルターを12時間減圧乾燥させた後、メンブレンフィルターからTeナノワイヤのフィルムを剥離した。
得られたフィルムのゼーベック係数を、ゼーベック効果測定装置SB−200(MMR technologies社製)を用いて測定した。評価は、310K(ゼーベック効果測定装置の表示温度)にて行った。
また、TMAHを用いずに調製したTeナノワイヤのフィルムについても同様にゼーベック係数を測定した。
<実験結果>
ドーパントを使用しない場合にはTeナノワイヤのフィルムがp型導電性を示した(ゼーベック係数:523μV/K)のに対し、ドーパントを使用した場合はTeナノワイヤのフィルムがn型導電性(ゼーベック係数:−445μV/K)を示した。
この結果から、本発明の製造方法によって、半導体、半金属等のナノワイヤ(炭素材料以外のナノ材料)を用いた場合であっても、ドーピングしていない未処理のフィルムと比較して、フィルムのゼーベック係数の値を大きく変化させることができ、ゼーベック係数の値を正から負に変化させ得ることが確認できた。
ドーピングされたナノ材料は、電界効果トランジスタ、熱電変換素子、太陽電池等の多様なデバイス構築のツールとなり得るので、本発明は、ナノ材料を利用する種々広範な産業において利用可能である。
1 電界効果トランジスタ
2 ゲート
3 絶縁層
4 活性層
5 ソース電極
6 ドレイン電極

Claims (10)

  1. ナノ材料に対して、当該ナノ材料のゼーベック係数を変化させるためのドーパント組成物を、溶媒中にて接触させる接触工程と、
    上記溶媒を除去する乾燥工程と、を包含しており、
    上記ドーパント組成物は、アニオンとカチオンとを含有しており、
    上記アニオンは、ヒドロキシイオン、アルコキシイオン、チオイオン、アルキルチオイオン、シアヌルイオン、およびカルボキシイオンからなる群より選択される少なくとも1つであり、
    上記カチオンは、オニウムイオンであり、
    上記乾燥工程によって得られたナノ材料−ドーパント組成物複合体において、アニオンおよびカチオンは互いに解離した状態で存在することを特徴とするナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法。
  2. 上記アニオンは、OH、CH、CHCH、i−PrO、t−BuO、SH、CH、C、CNおよびCHCOOからなる群より選択される少なくとも1つであることを特徴とする請求項1に記載のナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法。
  3. 上記ナノ材料は、ナノ粒子、ナノチューブ、ナノワイヤ、ナノロッドおよびナノシートからなる群より選択される少なくとも1つであることを特徴とする請求項1または2に記載のナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法。
  4. 上記接触工程では、上記ドーパント組成物を溶媒中に溶解させた溶液を、上記ナノ材料に含浸させることによって、または、上記ドーパント組成物を溶媒中に溶解させた溶液中に上記ナノ材料をせん断分散させることによって、上記ナノ材料と上記ドーパント組成物とを接触させることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法。
  5. 上記アニオンは、n型ドーパントであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法。
  6. 請求項1〜5のいずれか1項に記載のナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法によって製造されたことを特徴とするナノ材料−ドーパント組成物複合体。
  7. ナノ材料のゼーベック係数を変化させるためのドーパント組成物であって、
    上記ドーパント組成物は、アニオンとカチオンとを含有しており、
    上記アニオンは、ヒドロキシイオン、アルコキシイオン、チオイオン、アルキルチオイオン、シアヌルイオン、およびカルボキシイオンからなる群より選択される少なくとも1つであり、
    上記カチオンは、オニウムイオンであることを特徴とするドーパント組成物。
  8. 上記アニオンは、OH、CH、CHCH、i−PrO、t−BuO、SH、CH、C、CNおよびCHCOOからなる群より選択される少なくとも1つであることを特徴とする請求項7に記載のドーパント組成物。
  9. 上記アニオンは、n型ドーパントであることを特徴とする請求項7または8に記載のドーパント組成物。
  10. ナノ材料と、請求項7〜9のいずれか1項に記載のドーパント組成物とを含有しており、
    上記ドーパント組成物が含有しているアニオンおよびカチオンは互いに解離した状態で存在することを特徴とするナノ材料−ドーパント組成物複合体。
JP2014131907A 2014-06-26 2014-06-26 ナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法、ナノ材料−ドーパント組成物複合体およびドーパント組成物 Expired - Fee Related JP6197235B2 (ja)

Priority Applications (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014131907A JP6197235B2 (ja) 2014-06-26 2014-06-26 ナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法、ナノ材料−ドーパント組成物複合体およびドーパント組成物
US15/312,287 US10367130B2 (en) 2014-06-26 2015-02-10 Method for producing nanomaterial-dopant composition composite, nanomaterial-dopant composition composite, and dopant composition
PCT/JP2015/053603 WO2015198621A1 (ja) 2014-06-26 2015-02-10 ナノ材料-ドーパント組成物複合体の製造方法、ナノ材料-ドーパント組成物複合体およびドーパント組成物
KR1020167030294A KR101967032B1 (ko) 2014-06-26 2015-02-10 나노 재료-도펀트 조성물 복합체의 제조 방법, 나노 재료-도펀트 조성물 복합체 및 도펀트 조성물
EP15811639.2A EP3163640B1 (en) 2014-06-26 2015-02-10 Method for producing nanomaterial-dopant composition composite and nanomaterial-dopant composition composite
CN201580027774.6A CN106415866B (zh) 2014-06-26 2015-02-10 纳米材料-掺杂剂组合物复合体制造方法、纳米材料-掺杂剂组合物复合体和掺杂剂组合物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014131907A JP6197235B2 (ja) 2014-06-26 2014-06-26 ナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法、ナノ材料−ドーパント組成物複合体およびドーパント組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016009851A true JP2016009851A (ja) 2016-01-18
JP6197235B2 JP6197235B2 (ja) 2017-09-20

Family

ID=54937725

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014131907A Expired - Fee Related JP6197235B2 (ja) 2014-06-26 2014-06-26 ナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法、ナノ材料−ドーパント組成物複合体およびドーパント組成物

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10367130B2 (ja)
EP (1) EP3163640B1 (ja)
JP (1) JP6197235B2 (ja)
KR (1) KR101967032B1 (ja)
CN (1) CN106415866B (ja)
WO (1) WO2015198621A1 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017204507A (ja) * 2016-05-09 2017-11-16 国立大学法人九州大学 熱電変換素子、n型有機半導体材料とその製造方法、およびn型有機半導体材料の安定化剤
WO2018012370A1 (ja) * 2016-07-11 2018-01-18 富士フイルム株式会社 n型半導体層、熱電変換層、熱電変換素子、熱電変換モジュール、及びn型半導体層形成用組成物
WO2018012377A1 (ja) * 2016-07-11 2018-01-18 富士フイルム株式会社 熱電変換素子
WO2018012372A1 (ja) * 2016-07-11 2018-01-18 富士フイルム株式会社 p型半導体層、熱電変換層、熱電変換素子、熱電変換モジュール、及びp型半導体層形成用組成物
WO2018074588A1 (ja) * 2016-10-20 2018-04-26 国立大学法人 奈良先端科学技術大学院大学 熱電変換材料、熱電変換モジュールおよび熱電変換材料の製造方法
WO2019017170A1 (ja) * 2017-07-18 2019-01-24 国立研究開発法人物質・材料研究機構 熱電材料、それを用いた熱電変換モジュール、その製造方法、およびペルチェ素子
JP2019077608A (ja) * 2017-10-20 2019-05-23 学校法人法政大学 カーボン材料の電荷特性制御方法
WO2023162480A1 (ja) * 2022-02-25 2023-08-31 デンカ株式会社 熱電変換用n型材料及びその製造方法、ドーパント並びに熱電変換素子

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6674259B2 (ja) * 2016-01-05 2020-04-01 積水化学工業株式会社 熱電変換材料分散液及び熱電変換材料の製造方法
JP7406109B2 (ja) * 2019-02-01 2023-12-27 日亜化学工業株式会社 非水系二次電池用電極活物質及びその製造方法
CN111223982B (zh) * 2020-03-03 2022-10-25 西安交通大学 空气稳定和高性能n型多壁碳纳米管热电材料的制备方法
CN113818030B (zh) * 2021-09-30 2022-09-02 北华航天工业学院 基于Au@rGO-PEI/PVB光热-热电驱动的电催化产氢集成体系、制备及应用

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005514447A (ja) * 2002-01-03 2005-05-19 サッチェム,インコーポレイテッド 電気透析による水酸化オニウムの精製
JP2009023906A (ja) * 2007-07-20 2009-02-05 Samsung Electronics Co Ltd 還元剤を用いて電子が注入されたcnt、その製造方法およびそれを利用した電気素子
WO2012133314A1 (ja) * 2011-03-28 2012-10-04 富士フイルム株式会社 導電性組成物、当該組成物を用いた導電性膜及びその製造方法
JP2012251132A (ja) * 2011-03-28 2012-12-20 Fujifilm Corp 導電性組成物、当該組成物を用いた導電性膜及びその製造方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3654261A (en) * 1968-06-27 1972-04-04 Cpc International Inc Quaternary ammonium alkoxide alkoxy polyol compounds
WO2008054473A2 (en) 2006-03-09 2008-05-08 Battelle Memorial Institute Doped carbon nanotube composition and methods of forming the same
WO2008054472A2 (en) 2006-03-09 2008-05-08 Battelle Memorial Institute Methods of dispersing carbon nanotubes
KR100790216B1 (ko) 2006-10-17 2008-01-02 삼성전자주식회사 전도성 분산제를 이용한 cnt 투명전극 및 그의 제조방법
KR101450591B1 (ko) 2008-06-05 2014-10-17 삼성전자주식회사 탄소나노튜브 엔 도핑 물질 및 방법, 이를 이용한 소자
US8518491B2 (en) * 2011-07-14 2013-08-27 The United States Of America, As Represented By The Secretary Of The Navy Preparation of epitaxial graphene surfaces for atomic layer deposition of dielectrics
US20140251407A1 (en) 2011-09-28 2014-09-11 Fujifilm Corporation Thermoelectric conversion material and a thermoelectric conversion element
JP5789580B2 (ja) 2011-10-31 2015-10-07 富士フイルム株式会社 熱電変換材料及び熱電変換素子

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005514447A (ja) * 2002-01-03 2005-05-19 サッチェム,インコーポレイテッド 電気透析による水酸化オニウムの精製
JP2009023906A (ja) * 2007-07-20 2009-02-05 Samsung Electronics Co Ltd 還元剤を用いて電子が注入されたcnt、その製造方法およびそれを利用した電気素子
WO2012133314A1 (ja) * 2011-03-28 2012-10-04 富士フイルム株式会社 導電性組成物、当該組成物を用いた導電性膜及びその製造方法
JP2012251132A (ja) * 2011-03-28 2012-12-20 Fujifilm Corp 導電性組成物、当該組成物を用いた導電性膜及びその製造方法

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017204507A (ja) * 2016-05-09 2017-11-16 国立大学法人九州大学 熱電変換素子、n型有機半導体材料とその製造方法、およびn型有機半導体材料の安定化剤
JPWO2018012372A1 (ja) * 2016-07-11 2019-05-16 富士フイルム株式会社 p型半導体層、熱電変換層、熱電変換素子、熱電変換モジュール、及びp型半導体層形成用組成物
US10847704B2 (en) 2016-07-11 2020-11-24 Fujifilm Corporation n-Type semiconductor layer, thermoelectric conversion layer, thermoelectric conversion element, thermoelectric conversion module, and composition for forming n-type semiconductor layer
WO2018012372A1 (ja) * 2016-07-11 2018-01-18 富士フイルム株式会社 p型半導体層、熱電変換層、熱電変換素子、熱電変換モジュール、及びp型半導体層形成用組成物
US10991868B2 (en) 2016-07-11 2021-04-27 Fujifilm Corporation Thermoelectric conversion element
WO2018012377A1 (ja) * 2016-07-11 2018-01-18 富士フイルム株式会社 熱電変換素子
WO2018012370A1 (ja) * 2016-07-11 2018-01-18 富士フイルム株式会社 n型半導体層、熱電変換層、熱電変換素子、熱電変換モジュール、及びn型半導体層形成用組成物
JPWO2018012377A1 (ja) * 2016-07-11 2019-05-16 富士フイルム株式会社 熱電変換素子
JPWO2018012370A1 (ja) * 2016-07-11 2019-05-23 富士フイルム株式会社 n型半導体層、熱電変換層、熱電変換素子、熱電変換モジュール、及びn型半導体層形成用組成物
WO2018074588A1 (ja) * 2016-10-20 2018-04-26 国立大学法人 奈良先端科学技術大学院大学 熱電変換材料、熱電変換モジュールおよび熱電変換材料の製造方法
JPWO2019017170A1 (ja) * 2017-07-18 2020-05-28 国立研究開発法人物質・材料研究機構 熱電材料、それを用いた熱電変換モジュール、その製造方法、およびペルチェ素子
WO2019017170A1 (ja) * 2017-07-18 2019-01-24 国立研究開発法人物質・材料研究機構 熱電材料、それを用いた熱電変換モジュール、その製造方法、およびペルチェ素子
JP2019077608A (ja) * 2017-10-20 2019-05-23 学校法人法政大学 カーボン材料の電荷特性制御方法
JP7243999B2 (ja) 2017-10-20 2023-03-22 学校法人法政大学 カーボン材料の電荷特性制御方法
WO2023162480A1 (ja) * 2022-02-25 2023-08-31 デンカ株式会社 熱電変換用n型材料及びその製造方法、ドーパント並びに熱電変換素子

Also Published As

Publication number Publication date
US20170110646A1 (en) 2017-04-20
EP3163640B1 (en) 2019-11-13
CN106415866B (zh) 2019-10-08
CN106415866A (zh) 2017-02-15
WO2015198621A1 (ja) 2015-12-30
JP6197235B2 (ja) 2017-09-20
KR101967032B1 (ko) 2019-04-08
EP3163640A4 (en) 2017-11-01
EP3163640A1 (en) 2017-05-03
KR20160138554A (ko) 2016-12-05
US10367130B2 (en) 2019-07-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6197235B2 (ja) ナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法、ナノ材料−ドーパント組成物複合体およびドーパント組成物
JP6340077B2 (ja) ナノ材料−ドーパント組成物複合体の製造方法、ナノ材料−ドーパント組成物複合体およびドーパント組成物
Khan et al. Two-dimensional (2D) nanomaterials towards electrochemical nanoarchitectonics in energy-related applications
Bhattacharya et al. The effect of boron and nitrogen doping in electronic, magnetic, and optical properties of graphyne
Hu et al. Defects in phosphorene
Lu et al. Preparation and characterization of Te/Poly (3, 4-ethylenedioxythiophene): poly (styrenesulfonate)/Cu7Te4 ternary composite films for flexible thermoelectric power generator
Li et al. Graphene emerges as a versatile template for materials preparation
Tang et al. The stability and electronic properties of novel three-dimensional graphene-MoS2 hybrid structure
Feng et al. Copper-phenylacetylide nanobelt/single-walled carbon nanotube composites: mechanochromic luminescence phenomenon and thermoelectric performance
Debnath et al. Reduced hopping barrier potential in NiO nanoparticle-incorporated, polypyrrole-coated graphene with enhanced thermoelectric properties
Yao et al. Enhanced thermoelectric properties of bilayer-like structural graphene quantum dots/single-walled carbon nanotubes hybrids
Adekoya et al. Structure-property relationship and nascent applications of thermoelectric PEDOT: PSS/carbon composites: A review
JP7054103B2 (ja) ナノ材料複合体およびその製造方法
TWI796351B (zh) 奈米材料複合體及其製造方法
Song et al. First principles study of periodic size dependent band gap variation of Cu doped ZnO single-wall nanotube
WO2018142748A1 (ja) ナノ材料複合体、熱電変換モジュールおよびナノ材料複合体の製造方法
JP6994731B2 (ja) ナノ材料複合体およびその製造方法
WO2018074588A1 (ja) 熱電変換材料、熱電変換モジュールおよび熱電変換材料の製造方法
Chendake et al. Graphene: A Promising Material for Flexible Electronic Devices
Wu et al. Blown bubble assembly of graphene oxide patches for transparent electrodes in carbon–silicon solar cells
JP2019197895A (ja) ナノ材料複合体およびその製造方法
Fatma et al. Introduction to Two‐Dimensional Nanomaterials: Discovery, Types and Classifications, Structure, Unique Properties, and Applications

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170131

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170704

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20170803

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170803

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20170803

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6197235

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees