JP2015530706A - 撮像装置 - Google Patents
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Abstract
Description
図2は、本開示の撮像装置を示す模式図である。
図3は、撮像装置を示す模式図であり、さらに装置の厚さa、画素ピッチbと画素サイズcを示す。
図4は、第2フォーカス構造体のアレイを備える撮像装置を示す模式図である。
図5は、電子放出構造体を俯瞰して示す模式図である。
図6AおよびBは、多層のフェースプレートを詳細に示す模式図である。
図7AおよびBは、光ファイバプレートとシンチレータに関する高電圧端子の可能な構成を示す模式図である。
図8AおよびBは、実施形態による撮像装置の(それぞれ)側面及び上面を示す模式図である。
図9は、本開示のX線放出装置を示す模式図である。
図10は、第2フォーカス構造体のアレイを備えるX線放出装置の電子放出構造体を示す模式図である。
図11は、コリメータをさらに備えるX線放出装置を示す模式図である。
図12は、複数の放出領域の連続的な活性化を示す模式図である。
図13は、投影モジュールを示す模式図である。
図14は、複数の投影モジュールの連続的な活性化を示す模式図である。
図15は、投影モジュールのX線放出の強度調整を示す模式図である。
図16は、本開示のX線撮像システムを示す模式図である。
図17は、キャプチャモジュールを定義する所定の領域に限定される撮像装置のスキャンの制限を示す模式図である。
図18は、X線放出装置の投射モジュールの同期シリアル活性化と撮像装置の対応するキャプチャモジュールを示す模式図である。
図19は、断層撮影システムにおいて、X線放出装置の投射モジュールの同期シリアル活性化と撮像装置の対応するキャプチャモジュールを示す模式図である。
図20AないしCは、平らなまたは湾曲したX線放出装置および/または撮像装置を組み合わせたX線撮像システムの模式図である。
図21は、電子放出構造体と電子受容構造体との間の距離(ギャップ)の幅と、放出領域の電子源からの電子ビームによって打たれる光伝導体の領域の幅(ビームランディングの幅)の影響を示すシミュレーションの結果である。
図22は、電子ビーム軌道上の単一フォーカス構造体の効果を示すシミュレーションの結果である。
図23は、電子ビーム軌道上の単一フォーカス構造体の効果を示すシミュレーションのグラフである。
図24は、電子ビーム軌道上の二重フォーカス構造体の効果を示すシミュレーションの結果である。
図25AないしCは、本開示の撮像装置またはX線発光装置の様々な実施形態において使用するためのゲート電極支持構造を含む電子放出構造体の概略図である。
図26Aは、電子放出構造体の断面の概略上面図であり、電界放出型電子源のアレイ構成と、本開示の撮像装置またはX線放出装置の様々な実施形態において使用するゲート電極支持構造を示す。
図26Aは、図26Aの実施形態の電子放出構造体の二つの断面を示す模式図である。
図27Aは、一定の抵抗を有する抵抗層を介した電位分布のグラフである。
図27Bは、本開示の撮像装置またはX線放出装置の様々な実施形態において使用する電子放出構造体の実施形態に係る層状抵抗層の断面を表す。
図2ないし図5を参照すると、基板6は、例えば結晶化したシリコンなどの半導体材料である。さらに、陰極電極7、抵抗層8、電界放出型電子源9、ゲート電極10、第1フォーカス構造体11、第1フォーカス電極12、第2フォーカス構造体13、第2フォーカス電極14及び信号線(図示せず)、またはそれらの任意の組合せのいずれかは、基板6上に作製され、一体化される。ある実施形態では、さらに抵抗層8が基板6上に作製され、一体化される。
図2ないし図5を参照すると、電界放出型電子源9は、信号線(図示せず)を介して駆動回路に電気的に接続されるとともに、ゲート電極10に電気的に接続される。電界放出型電子源9に接続された駆動回路およびゲート電極10の協調的な電気的活性化は、その活性化、つまり電子の放出をもたらす。電界放出型電子源9は、電界放出型電子源9とゲート電極10との間に形成される電界によって、電子の放出を行う。
図2ないし図5を参照すると、陽極2と陰極7は、それらの間に電界を発生させるように構成されている。この電界は、電界放出型電子源から放出された電子を加速し、光伝導体3に向かって方向付ける。陽極2はプリ・アンプに接続され、このプリ・アンプはさらにプリ・プリ・アンプに接続され得る。陽極2と陰極7との間の電界の強さは、マイクロメートルあたり0.1〜2ボルト、マイクロメートルあたり0.1〜1.8ボルト、マイクロメートルあたり0.1〜1.5ボルト、マイクロメートルあたり0.1〜1ボルト、マイクロメートルあたり0.1〜0.5ボルト、マイクロメートルあたり約0.1ボルト、マイクロメートルあたり約0.2ボルト、マイクロメートルあたり約0.3ボルト、マイクロメートルあたり約0.4ボルト、マイクロメートルあたり約0.5ボルト、マイクロメートルあたり約0.6ボルト、マイクロメートルあたり約0.7ボルト、マイクロメートルあたり約0.8ボルト、マイクロメートルあたり約0.9ボルト、マイクロメートルあたり約1ボルト、マイクロメートルあたり約1.2ボルトまたはマイクロメートルあたり約1.5ボルトとすることができる。
図2ないし図5を参照すると、電界放出型電子源9は、典型的には、発散角と呼ばれる軌道範囲をもって電子を放出し、全ての電子が電子放出構造体110に対して直交して放出されるわけではない。しかるに、望ましくない軌道で放出された電子の損失を最小限に抑えながら、電子の軌道を修正するメカニズムが望まれる。本開示のフォーカス構造体は、例えば、第1フォーカス電極12を備える第1フォーカス構造体11と、第2フォーカス電極14を備える第2フォーカス構造体13は、その機能を果たす。
上述したように、図2ないし図5を参照すると、第1フォーカス構造体11はエミッタ領域25、つまり複数の電界放出型電子源9のサブセットからなる単位セルを取り囲む。エミッタ領域25内における電界放出型電子源9のサブセットは、当該撮像装置の画素を定義する。
図2ないし図5を参照すると、電子受容構造体120は、フェースプレート1、陽極電極2および光伝導体3を備えている。
図8Aは、所定の実施形態による撮像装置1000の側面概略図である。撮像装置は、電子放出構造体1110と、光伝導体1003、陽極(図示せず)、FOP1220およびシンチレータ1210を含む電子受容構造体とを支持するシャーシ1700を備える。高電圧(HV)ピン1050は、陽極に接続される。シャーシは、シールドケース1530内に収容されたプリ・プリ・アンプ1520をさらに支持する。HVピン1050とプリ・プリ・アンプは、HVコンタクト1510を介して接続され。シャーシは、フレキシブルプリント回路1615を介して電子放出構造体1110に接続されるロウドライバ1610をさらに支持する。シャーシは、フレキシブルプリント回路1625を介して電子放出構造体1110に接続されるカラムドライバ1620をさらに支持する。撮像装置は、外装を完全にカバーするハウジング部1750をさらに備える。ハウジング部は、光伝導体1003および電子放出構造体1110を有するシャーシ1710の側面において開口を有する。
撮像装置は、信号対雑音比(S/NまたはSNR)が例えば、60〜80デシベル(dB)、70〜90dB、90〜130dB、80〜100dB、100〜130dB、50〜70dB、30〜40dB、35〜45dB、40〜50dB、55〜65dB、60〜70dB、65〜75dB、70〜80dB、約30dB、約35dB、約40dB、約45dB、約50dB、約55dB、約60dB、約65dB、約70dB、約75dB、約80dB、約85dB、約90dB、約100dB、約110dB、約120dBまたは約130dBである。信号対雑音比は、典型的には信号(意味のある情報)とバックグラウンドノイズ(不要信号)との間のパワー比として定義され、例えば、信号のパワーをPSとし、ノイズのパワーをPNとした場合、S/N=PS/PNと表すことができる。信号とノイズが同じインピーダンスで測定された場合、S/Nは振幅比の2乗を計算することによって得ることができる。すなわち、信号の振幅をASとし、ノイズの振幅をANとした場合、S/N=PS/PN=(AS/AN)2と表すことができる。しかるに、信号対雑音比は、S/N(dB単位)=10log10(PS/PN)またはS/N(dB単位)=20log10(AS/AN)で表すことができる。信号が電圧として測定されるとき、例えば、信号の電圧をVSとし、ノイズの電圧をVNとした場合、S/N(dB単位)=20log10(VS/VN)の式に基づいて計算することができる。S/Nは、例えば、1〜15フレーム、2フレーム、3フレーム、4フレーム、5フレーム、6フレーム、7フレーム、フレーム、8フレーム、9フレーム、10フレーム、11フレーム、12フレーム、13フレーム、14フレーム、15フレーム、16フレーム、17フレーム、18フレーム、19フレーム、20フレームまたは20以上のフレームの累積および/または平均された画像から計算することができる。
図9は、本開示のX線放出装置2000を示している。X線放出装置2000は、スペーサー54によって分離された電子放出構造体210とX線エミッタ220を含む。スペーサー54は、X線エミッタ220と電子放出構造体210との間に内部ギャップ80が存在するように配置される。内部ギャップ80は、真空下で密封且つ維持され、電子放出構造体210とX線エミッタ220との間において、遮るもののない空間を提供する。
図2ないし図5で説明した電子放出構造体110及びそのコンポーネントための各種オプションは、電子放出構造体210についてのオプションでもある。
図9を参照すると、基板56は結晶化したシリコンなどの半導体材料である。さらに、陰極電極57、抵抗層(図示せず)、電界放出型電子源59、ゲート電極60、第1フォーカス構造体61、第1フォーカス電極62、第2フォーカス構造体58、第2フォーカス電極(図示せず)及び信号線(図示せず)、またはそれらの任意の組合せのいずれかは、基板56上に作製され、一体化される。ある実施形態では、さらに抵抗層が基板56上に作製され、一体化される。
図9を参照すると、電界放出型電子源59は、信号線(図示せず)を介して駆動回路に電気的に接続されるとともに、ゲート電極60に電気的に接続される。電界放出型電子源59に接続された駆動回路およびゲート電極60の協調的な電気的活性化は、その活性化、つまり電子の放出をもたらす。電界放出型電子源59は、電界放出型電子源59とゲート電極60との間に形成される電界によって、電子の放出を行う。
図9を参照すると、陽極52と陰極57は、それらの間に電界を発生させるように構成されている。この電界は、電界放出型電子源から放出された電子を加速し、陽極52に向かって方向付ける。陽極52はプリ・アンプに接続され、このプリ・アンプはさらにプリ・プリ・アンプに接続され得る。陽極52と陰極57との間の電界の強さは、マイクロメートルあたり0.1〜2ボルト、マイクロメートルあたり0.1〜1.8ボルト、マイクロメートルあたり0.1〜1.5ボルト、マイクロメートルあたり0.1〜1ボルト、マイクロメートルあたり0.1〜0.5ボルト、マイクロメートルあたり約0.1ボルト、マイクロメートルあたり約0.2ボルト、マイクロメートルあたり約0.3ボルト、マイクロメートルあたり約0.4ボルト、マイクロメートルあたり約0.5ボルト、マイクロメートルあたり約0.6ボルト、マイクロメートルあたり約0.7ボルト、マイクロメートルあたり約0.8ボルト、マイクロメートルあたり約0.9ボルト、マイクロメートルあたり約1ボルト、マイクロメートルあたり約1.2ボルトまたはマイクロメートルあたり約1.5ボルトとすることができる。
再び図9を参照すると、X線エミッタ220は電子放出構造体210に対向して位置し、電子ビームが照射されたときX線を放出可能な陽極52を備えている。このような陽極52は当該技術分野で知られており、「ターゲット」または「X線ターゲット」と呼ばれることがある。陽極52は、モリブデン、ロジウム、タングステンまたはそれらの組み合わせで構成される。
図2ないし図5を参照して説明したように、撮像装置1000において、電子源9は、同時に活性化されるユニットのグループとして、エミッタ領域25内に位置する。各々のエミッタ領域25は、電子源9のゲート電極10と駆動回路の活性化を協調制御するロウドライバとカラムドライバ(図示せず)に接続可能である。しかるに、それぞれのエミッタ領域25は、個別にオンおよびオフにすることができる。したがって、撮像装置1000において、電子源9はさまざまな空間的および時間的なパターンで活性化され得る。
図9を参照して説明したように、X線放射装置2000において、電子源59は、同時に活性化されるユニットのグループとして、エミッタ領域75内に位置する。各々のエミッタ領域75は、電子源59のゲート電極60と駆動回路の活性化を協調制御するロウドライバとカラムドライバ(図示せず)に接続可能である。しかるに、それぞれのエミッタ領域75は、個別にオンおよびオフにすることができる。したがって、X線放出装置2000を用いれば、さまざまな空間的および時間的なパターンでX線を放射しうる。
図14を参照すると、一連の投影モジュール76A−Fの順次活性化は、機械的に移動するX線源と等価な仮想スキャンをもたらす。
図16は、撮像装置1000及びX線放出装置2000が互いに対向して位置され、それらの間に撮影すべき対象物が配置されるX線撮影システム3000を示している。X線40は、投影モジュール76によって定義されるX線放出装置2000の部分から放出され、X線の少なくとも一部が対象物3500を横断した後、撮像装置1000の光伝導体に照射される。X線40は、図16に示すように平行である。あるいは、X線40は軌跡の範囲を有し、これにより円錐状または扇状となる。放出されたX線の形状は、上記のように、例えばコリメータをX線放出装置2000に組み込むことによって制御することができる。
本開示のX線放出装置では、個々のエミッタ領域は、規定されたエネルギー(keV)でX線を放出するように構成される。すべてのエミッタ領域は、同じエネルギーでX線を放出するように構成される。或いは、エミッタ領域は、異なるエネルギーでX線を放出するように構成される。例えば、X線放出装置は、X線を低、中、高keVで放出するよう構成されたエミッタ領域の規則的な配列を有し、特定のエネルギーでX線を放出するように構成されたエミッタ領域の各グループは、エネルギーチャネルである。各エネルギーチャンネルは、低keVのソースがそのX線を時間=0で放出するように、順次異なる時間に活性化される。これに続き、中keVのX線は(例えば時間=16ミリ秒などで)放出され、続いて16ミリ秒後に(時間=32ミリ秒で)高keVのX線が放出される。したがって、50ミリ秒以内に三つの異なるKeV画像が作られ、これらは組織の異なるタイプを区別するためにアルゴリズム的に組み合わせることができる。
図21は、電子ビームが光伝導体に照射される位置(つまり、ビームの照射幅)において、電子放出構造体と電子受容構造体との間のギャップが増加するにつれて、電子ビームの幅がどのように増加するのかを示すシミュレーション結果を示す。図21(図22および24と同様)を参照するように、ビーム照射幅は、対向する光伝導体に当たる位置における電子ビームの幅を指し、ギャップは、(電子受容構造体上の)陽極と(電子放出構造体上の)陰極との間の距離を指す。
Claims (65)
- 電子受容構造体と電子放出構造体との間に内部ギャップが存在するよう、少なくとも1つのスペーサーによって分離された前記電子受容構造体と前記電子放出構造体とを備え、前記内部ギャップは、前記電子放出構造体と前記電子受容構造体との間において遮るもののない空間を提供し、
前記電子受容構造体は、フェースプレート、陽極および内向きの光伝導体を備え、
前記電子放出構造体は、
(a)バックプレートと、
(b)基板と、
(c)陰極と、
(d)前記光伝導体に向かって電子ビームを放出するように構成され、アレイ状に配置された複数の電界放出型電子源と、
(e)前記電界放出型電子源のアレイと前記陰極の間に位置する層状抵抗層と、
(f)ゲート電極と、
(g)前記ゲート電極を前記陰極から所定の陰極−ゲート間隔で支持する少なくとも一つのゲート電極支持構造と、を備える撮像装置。 - 前記層状抵抗層は、前記電界放出型電子源に最も近い近位抵抗層および前記電界放出型電子源からより遠い遠位抵抗層を少なくとも備え、前記近位抵抗層は第1抵抗特性を有する第1抵抗物質を含み、前記遠位抵抗層は第2抵抗特性を有する第2抵抗物質を含み、前記第1抵抗特性は前記第2の抵抗特性よりも大きい、請求項1の撮像装置。
- 前記層状抵抗層は、前記近位抵抗層と前記遠位抵抗層の間の少なくとも1つの中間抵抗層を備え、前記少なくとも1つの中間抵抗層は、前記第1抵抗特性と前記第2抵抗特性の間の抵抗特性を有する第3抵抗物質を少なくとも含む、請求項2の撮像装置。
- 前記近位抵抗層がSiOCNを含む、請求項2または請求項3の撮像装置。
- 前記遠位抵抗層がSiを含む、請求項2または請求項3の撮像装置。
- 前記遠位抵抗層が炭化ケイ素ウェーハを含む、請求項2または請求項3の撮像装置。
- 前記中間抵抗層がアモルファスシリコン炭窒化膜を含む、請求項3の撮像装置。
- 前記層状中間層は、抵抗材料を含む少なくとも一つの抵抗層と、前記抵抗材料と前記陰極の間に介在する第1バリア層とを備える、請求項1の撮像装置。
- 前記層状中間層は、抵抗材料を含む少なくとも一つの抵抗層と、前記抵抗材料と前記電界放出型電子源の間に介在する第2バリア層とを備える、請求項1または請求項8の撮像装置。
- 前記第1バリア層は、炭素リッチなシリコンカーバイド、窒素リッチなシリコン炭窒化物、アモルファスカーボンおよびそれらの組み合わせからなる群から選択される非反応性材料から選択される材料を含む、請求項1または請求項8の撮像装置。
- 前記第2バリア層は、炭素リッチなシリコンカーバイド、窒素リッチなシリコン炭窒化物、アモルファスカーボンおよびそれらの組み合わせからなる群から選択される非反応性材料から選択される材料を含む、請求項8の撮像装置。
- 前記ゲート電極支持構造は、前記陰極と前記ゲート電極との間の表面経路が、前記陰極−ゲート間隔よりも大きくなるよう構成される、請求項1の撮像装置。
- 前記ゲート電極支持構造が層状中間層を含む、請求項1の撮像装置。
- 前記層状中間層は、第1材料の少なくとも1つの層及び第2材料の少なくとも1つの層を含み、前記第1材料は第2材料より容易にエッチングされる、請求項13の撮像装置。
- 前記層状中間層は、低密度材料の少なくとも1つの層及び高密度材料の少なくとも1つの層を含む、請求項13の撮像装置。
- 前記層状中間層は、二酸化ケイ素の少なくとも1層を含む、請求項13の撮像装置。
- 前記層状中間層は、高密度の二酸化ケイ素の少なくとも1つの層及び低密度の二酸化ケイ素の少なくとも1つの層を含む、請求項13の撮像装置。
- 前記層状中間層は、二酸化ケイ素の少なくとも1つの層及び酸窒化シリコンの少なくとも1つの層を含む、請求項13の撮像装置。
- 前記ゲート電極支持構造が複数の支柱を含む、請求項1の撮像装置。
- 前記複数の支柱は、前記支柱間に規則的な支柱間隔を有するアレイに配置される、請求項19の撮像装置。
- 前記複数の支柱間の支柱間隔は、前記複数の電子源間の電子源間隔より大きい、請求項19の撮像装置。
- 前記複数の支柱は、少なくとも一つの支柱と少なくとも一つの隣接する電子源との間の支柱−電子源間隔が、前記複数の電子源間の電子源間隔よりも大きくなるように構成されている、請求項19の撮像装置。
- 前記電子放出構造体は、アレイ状に配置された複数の第1フォーカス構造をさらに備え、前記第1フォーカス構造の各々は、第1フォーカス電極を含む、請求項1の撮像装置。
- 前記第1フォーカス構造は、前記複数の電界放出型電子源の一部を含むユニットセルを囲み、前記ユニットセルはエミッタ領域を規定する、請求項23の撮像装置。
- 前記電子放出構造体は、第2フォーカス電極を含む複数の第2フォーカス構造のアレイを備える、請求項1の撮像装置。
- 電子受容構造体と電子放出構造体との間に内部ギャップが存在するよう、少なくとも1つのスペーサーによって分離された前記電子受容構造体と前記電子放出構造体とを備え、
前記電子受容構造体は、X線のターゲットである陽極を備え、
前記電子放出構造体は、
(a)バックプレートと、
(b)基板と、
(c)陰極と、
(d)アレイ状に配置され、前記陽極に向かって電子ビームを放出するように構成された複数の電界放出型電子源と、
(e)ゲート電極と、を備え、
前記内部ギャップは、前記電子放出構造体と前記電子受容構造体との間において遮るもののない空間を提供する、X線放出装置。 - 陽極が、モリブデン、ロジウムおよびタングステンから成る群のうちの一つまたはそれ以上を含む、請求項26のX線放出装置。
- 前記電子放出構造体がグリッド電極を備えていない、請求項26または請求項27のX線放出装置。
- 前記電子放出構造体は、アレイ状に配置された複数の第1フォーカス構造をさらに備え、前記第1フォーカス構造の各々は、第1フォーカス電極を含む、請求項26〜28のいずれかのX線放出装置。
- 前記第1フォーカス構造は、前記複数の電界放出型電子源の一部を含むユニットセルを囲み、前記ユニットセルはエミッタ領域を規定する、請求項29のX線放出装置。
- 前記電子放出構造体は、第2フォーカス電極を含む複数の第2フォーカス構造のアレイを備える、請求項26〜30のいずれかのX線放出装置。
- 前記電界放出型電子源がスピント型電子源である、請求項26〜31のいずれかのX線放出装置。
- 前記基板がシリコンをベースとする、請求項26〜32のいずれかのX線放出装置。
- 前記陰極、前記信号線、前記電界放出型電子源、前記第1フォーカス構造、前記第1フォーカス電極、前記第2フォーカス構造、前記第2フォーカス電極およびこれらの任意の組合せからなる群から選択された少なくとも一つの部材は、前記基板と一体である、請求項33のX線放出装置。
- 前記電子受容構造体がコリメータをさらに備える、請求項26〜34のX線放出装置。
- 前記電界放出型電子源のアレイと前記陰極との間に位置する層状抵抗層をさらに備える、請求項26のX線放出装置。
- 前記層状抵抗層は、前記電界放出型電子源に最も近い近位抵抗層および前記電界放出型電子源からより遠い遠位抵抗層を少なくとも備え、前記近位抵抗層は第1抵抗特性を有する第1抵抗物質を含み、前記遠位抵抗層は第2抵抗特性を有する第2抵抗物質を含み、前記第1抵抗特性は前記第2の抵抗特性よりも大きい、請求項36のX線放出装置。
- 前記層状抵抗層は、前記近位抵抗層と前記遠位抵抗層の間の少なくとも1つの中間抵抗層を備え、前記少なくとも1つの中間抵抗層は、前記第1抵抗特性と前記第2抵抗特性の間の抵抗特性を有する第3抵抗物質を少なくとも含む、請求項37のX線放出装置。
- 前記近位抵抗層がSiOCNを含む、請求項37または請求項38のX線放出装置。
- 前記遠位抵抗層がSiを含む、請求項37または請求項38のX線放出装置。
- 前記遠位抵抗層が炭化ケイ素ウェーハを含む、請求項37または請求項38のX線放出装置。
- 前記中間抵抗層がアモルファスシリコン炭窒化膜を含む、請求項38のX線放出装置。
- 前記層状中間層は、抵抗材料を含む少なくとも一つの抵抗層と、前記抵抗材料と前記陰極の間に介在する第1バリア層とを備える、請求項36のX線放出装置。
- 前記層状中間層は、抵抗材料を含む少なくとも一つの抵抗層と、前記抵抗材料と前記電界放出型電子源の間に介在する第2バリア層とを備える、請求項36または請求項43のX線放出装置。
- 前記第1バリア層は、炭素リッチなシリコンカーバイド、窒素リッチなシリコン炭窒化物、アモルファスカーボンおよびそれらの組み合わせからなる群から選択される非反応性材料から選択される材料を含む、請求項36または請求項43のX線放出装置。
- 前記第2バリア層は、炭素リッチなシリコンカーバイド、窒素リッチなシリコン炭窒化物、アモルファスカーボンおよびそれらの組み合わせからなる群から選択される非反応性材料から選択される材料を含む、請求項43のX線放出装置。
- 前記ゲート電極を前記陰極から所定の陰極−ゲート間隔で支持する少なくとも一つのゲート電極支持構造をさらに備える、請求項26のX線放出装置。
- 前記ゲート電極支持構造は、前記陰極と前記ゲート電極との間の表面経路が、前記陰極−ゲート間隔よりも大きくなるよう構成される、請求項47のX線放出装置。
- 前記ゲート電極支持構造が層状中間層を含む、請求項47のX線放出装置。
- 前記層状中間層は、第1材料の少なくとも1つの層及び第2材料の少なくとも1つの層を含み、前記第1材料は第2材料より容易にエッチングされる、請求項49のX線放出装置。
- 前記層状中間層は、低密度材料の少なくとも1つの層及び高密度材料の少なくとも1つの層を含む、請求項49のX線放出装置。
- 前記層状中間層は、二酸化ケイ素の少なくとも1層を含む、請求項49のX線放出装置。
- 前記層状中間層は、高密度の二酸化ケイ素の少なくとも1つの層及び低密度の二酸化ケイ素の少なくとも1つの層を含む、請求項49のX線放出装置。
- 前記層状中間層は、二酸化ケイ素の少なくとも1つの層及び酸窒化シリコンの少なくとも1つの層を含む、請求項49のX線放出装置。
- 前記ゲート電極支持構造が複数の支柱を含む、請求項47のX線放出装置。
- 前記複数の支柱は、規則的な支柱間隔を有するアレイに配置される、請求項55のX線放出装置。
- 前記複数の支柱間の支柱間隔は、前記複数の電子源間の電子源間隔より大きい、請求項55のX線放出装置。
- 前記複数の支柱は、少なくとも一つの支柱と少なくとも一つの隣接する電子源との間の支柱−電子源間隔が、前記複数の電子源間の電子源間隔よりも大きくなるように構成されている、請求項55のX線放出装置。
- 請求項1〜25のいずれかの撮像装置および請求項26〜58のX線放出装置を備え、前記撮像装置と前記X線放出装置は互いに対向しており、前記X線放出装置は前記撮像装置の前記光伝導体に向かってX線を放出するように構成される、X線撮影システム。
- 前記X線が平行光線である、請求項59のX線撮影システム。
- X線放出が前記X線放出装置のサブセットを定義する投影モジュールに制限される、請求項59または請求項60のX線撮影システム。
- キャプチャモジュールによって定義される前記撮像装置の一部は、X線の検出を可能とするために活性化され、前記キャプチャモジュールは、前記X線放出装置から放出された非散乱X線を受けるであろう前記撮像装置のエリアによって特徴付けられる、請求項61のX線撮影システム。
- 前記X線放出装置から放出された非散乱X線を受けないであろう前記撮像装置の一部が非活性化される、請求項61または請求項62のX線撮影システム。
- 1つの投影モジュールの面積よりも大きい面積にわたってX線を放出するよう、複数の投影モジュールが連続的に活性化される、請求項61〜63のいずれかのX線撮影システム。
- 該システムは、前記複数の角度で関心領域に向かってX線を放出するよう複数の投影モジュールが連続的に活性化される、断層撮影システムである、請求項61〜63のいずれかのX線撮影システム。
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